JPH07130005A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH07130005A JPH07130005A JP5273319A JP27331993A JPH07130005A JP H07130005 A JPH07130005 A JP H07130005A JP 5273319 A JP5273319 A JP 5273319A JP 27331993 A JP27331993 A JP 27331993A JP H07130005 A JPH07130005 A JP H07130005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- protective layer
- organic protective
- recording medium
- layers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 光学的に透明な基板上に少なくとも記録層か
らなる真空成膜層及びその上に有機保護層を具備する光
記録媒体において、好ましくは紫外線硬化樹脂からなる
該有機保護層が、２層以上に分けて形成され、必要によ
り有機保護層の最上層にフィラーを分散させ、また各層
に異なる機能を分担させる。 【効果】 該真空成膜層上に存在し得る凸状部の段差を
有機保護層の積層に伴い段々となだらかにすることがで
きるので、真空成膜層形成中に混入する異物による媒体
の外観不良を大幅に低減することができ、また、各層に
異なる機能を分担させることで有機保護層の機能を一層
高めることができる。
らなる真空成膜層及びその上に有機保護層を具備する光
記録媒体において、好ましくは紫外線硬化樹脂からなる
該有機保護層が、２層以上に分けて形成され、必要によ
り有機保護層の最上層にフィラーを分散させ、また各層
に異なる機能を分担させる。 【効果】 該真空成膜層上に存在し得る凸状部の段差を
有機保護層の積層に伴い段々となだらかにすることがで
きるので、真空成膜層形成中に混入する異物による媒体
の外観不良を大幅に低減することができ、また、各層に
異なる機能を分担させることで有機保護層の機能を一層
高めることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザーにより記録、
再生、消去が可能な光記録媒体に関し、特に、記録層形
成中に混入する異物により有機保護層表面に現われる凸
状の段差を低減し、外観不良の発生を防止するのに有効
な構造を有する光記録媒体およびその製造方法に関す
る。
再生、消去が可能な光記録媒体に関し、特に、記録層形
成中に混入する異物により有機保護層表面に現われる凸
状の段差を低減し、外観不良の発生を防止するのに有効
な構造を有する光記録媒体およびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、書き換え可能を特徴とする光磁気
ディスクが上市され、コンピューターのコード情報や画
像などのデータファイルとして応用されつつある。
ディスクが上市され、コンピューターのコード情報や画
像などのデータファイルとして応用されつつある。
【０００３】これらのディスクは、ガラスやプラスチッ
クからなる清浄な基板上に、記録層である希土類−遷移
金属のアモルファス磁性層とそれを保護する誘電体保護
層、金属放熱層等がスパッタ等により形成され、さら
に、これらの真空成膜層の上に単層の有機保護層がコー
トされた構成となっている。
クからなる清浄な基板上に、記録層である希土類−遷移
金属のアモルファス磁性層とそれを保護する誘電体保護
層、金属放熱層等がスパッタ等により形成され、さら
に、これらの真空成膜層の上に単層の有機保護層がコー
トされた構成となっている。
【０００４】ところで、これらのディスクは、欠陥が生
じないようにクリーン度の高いクリーンルーム内で製造
されている。しかしながら、いかに気をつかってディス
クを製造しても、真空成膜層を形成する過程で成膜装置
内に付着した膜が剥がれ、成膜途中にディスク上に付着
する。この膜片による欠陥が、記録再生上、交替セクタ
ー処理やＥＣＣをかければ問題とならないレベルのもの
であっても、この上に有機保護層をスピンナーを使って
コートすると増幅され凸状の外観不良となり、製造の歩
留りを低下させる原因となっていた。
じないようにクリーン度の高いクリーンルーム内で製造
されている。しかしながら、いかに気をつかってディス
クを製造しても、真空成膜層を形成する過程で成膜装置
内に付着した膜が剥がれ、成膜途中にディスク上に付着
する。この膜片による欠陥が、記録再生上、交替セクタ
ー処理やＥＣＣをかければ問題とならないレベルのもの
であっても、この上に有機保護層をスピンナーを使って
コートすると増幅され凸状の外観不良となり、製造の歩
留りを低下させる原因となっていた。
【０００５】このように従来の単層の有機保護層の場合
には、真空成膜中に基板に膜片が付着してしまうと、よ
ほど小さな膜片でない限り、有機保護層のコート後に顕
在化し、図２に示すように有機保護層表面が凸状に突出
し、外観不良となっていた。
には、真空成膜中に基板に膜片が付着してしまうと、よ
ほど小さな膜片でない限り、有機保護層のコート後に顕
在化し、図２に示すように有機保護層表面が凸状に突出
し、外観不良となっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の実情に鑑み、真空成膜層上に設けられる有機保護層
を特定の構成にすることにより、有機保護層形成前に媒
体に付着した異物を原因とする有機保護層表面に現れる
凸状外観不良の発生を大幅に低減し、更に有機保護層の
性能を総合的に向上させることを目的とする。
術の実情に鑑み、真空成膜層上に設けられる有機保護層
を特定の構成にすることにより、有機保護層形成前に媒
体に付着した異物を原因とする有機保護層表面に現れる
凸状外観不良の発生を大幅に低減し、更に有機保護層の
性能を総合的に向上させることを目的とする。
【０００７】また、本発明の他の目的は、上記特定の有
機保護層を効率的に形成することである。
機保護層を効率的に形成することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段（及び作用）】かかる目的
を達成する本発明は、光学的に透明な基板上に少なくと
も記録層からなる真空成膜層及びその上に有機保護層を
具備する光記録媒体において、該有機保護層が、２層以
上に分けて形成されていることを特徴とする光記録媒体
である。真空成膜層上に２層以上に分けて形成された有
機保護膜を備えることにより、該真空成膜層上に存在し
得る凸状部の段差を有機保護層の積層に伴い段々となだ
らかにすることができるので、真空成膜層形成中に混入
する異物による媒体の外観不良を大幅に低減することが
できる。
を達成する本発明は、光学的に透明な基板上に少なくと
も記録層からなる真空成膜層及びその上に有機保護層を
具備する光記録媒体において、該有機保護層が、２層以
上に分けて形成されていることを特徴とする光記録媒体
である。真空成膜層上に２層以上に分けて形成された有
機保護膜を備えることにより、該真空成膜層上に存在し
得る凸状部の段差を有機保護層の積層に伴い段々となだ
らかにすることができるので、真空成膜層形成中に混入
する異物による媒体の外観不良を大幅に低減することが
できる。
【０００９】また、本発明は、上記の光記録媒体におい
て、有機保護層の最上層の硬度が最下層の保護層の硬度
よりも高いことを特徴とする光記録媒体である。有機保
護層が２層以上で構成されるているから、その最下層に
比較的硬度の低い材料を用いていれば、最上層に従来は
硬度は大きいが密着性が悪いために使用できなかった材
料を用いることができるので、従来にない高い硬度の媒
体とすることができる。
て、有機保護層の最上層の硬度が最下層の保護層の硬度
よりも高いことを特徴とする光記録媒体である。有機保
護層が２層以上で構成されるているから、その最下層に
比較的硬度の低い材料を用いていれば、最上層に従来は
硬度は大きいが密着性が悪いために使用できなかった材
料を用いることができるので、従来にない高い硬度の媒
体とすることができる。
【００１０】また、本発明は、上記いずれかの光記録媒
体において、有機保護層の最上層にフィラーを分散させ
たことを特徴とする光記録媒体である。最上層にフィラ
ーを分散させることにより、該最上層表面に凹凸形状を
付けることができるので、該表面にたとえ凸状部があっ
たとしても識別できる程度まで顕在化するのを防止する
ことができ、その結果、外観不良が低減し歩留りを一層
改善することができる。
体において、有機保護層の最上層にフィラーを分散させ
たことを特徴とする光記録媒体である。最上層にフィラ
ーを分散させることにより、該最上層表面に凹凸形状を
付けることができるので、該表面にたとえ凸状部があっ
たとしても識別できる程度まで顕在化するのを防止する
ことができ、その結果、外観不良が低減し歩留りを一層
改善することができる。
【００１１】また、本発明は、上記いずれかの光記録媒
体において、有機保護層が紫外線硬化樹脂であることを
特徴とする光記録媒体である。有機保護層を用いること
により、短時間硬化が可能となるので、２層以上の有機
保護層を連続して形成することができ、作業の効率化を
図ることができる。
体において、有機保護層が紫外線硬化樹脂であることを
特徴とする光記録媒体である。有機保護層を用いること
により、短時間硬化が可能となるので、２層以上の有機
保護層を連続して形成することができ、作業の効率化を
図ることができる。
【００１２】また、本発明は、上記いずれかの光記録媒
体において、有機保護層がスピンナーにより形成された
ものであることを特徴とする光記録媒体である。スピン
ナーによる有機保護層の形成により、周方向の厚さムラ
なく保護層を形成することができるので、重心ズレのな
い安定した記録、再生が可能となる。
体において、有機保護層がスピンナーにより形成された
ものであることを特徴とする光記録媒体である。スピン
ナーによる有機保護層の形成により、周方向の厚さムラ
なく保護層を形成することができるので、重心ズレのな
い安定した記録、再生が可能となる。
【００１３】また、本発明は、上記いずれかの光記録媒
体において、光記録媒体が光磁気記録媒体であることを
特徴とする光記録媒体である。上記の光記録媒体の構
成、特に最上層の硬度を高くした構成やフィラーを分散
させた構成では、磁界変調記録方式用の媒体としたとき
に、磁気ヘッドによるキズや磁気ヘッドへの吸着が低減
するので、記録媒体の安定浮上を達成することができ
る。
体において、光記録媒体が光磁気記録媒体であることを
特徴とする光記録媒体である。上記の光記録媒体の構
成、特に最上層の硬度を高くした構成やフィラーを分散
させた構成では、磁界変調記録方式用の媒体としたとき
に、磁気ヘッドによるキズや磁気ヘッドへの吸着が低減
するので、記録媒体の安定浮上を達成することができ
る。
【００１４】また、本発明は、光学的に透明な基板上に
少なくとも記録層からなる真空成膜層及びその上に有機
保護層を設ける光記録媒体の製造において、該有機保護
層を、２層以上に分けて順次塗工することにより、光記
録媒体外表面の段差を低減することを特徴とする光記録
媒体の製造方法である。２層以上からなる有機保護層を
一層ずつ順次塗工することにより、上述した効果を奏す
る光記録媒体を容易に製造することができる。
少なくとも記録層からなる真空成膜層及びその上に有機
保護層を設ける光記録媒体の製造において、該有機保護
層を、２層以上に分けて順次塗工することにより、光記
録媒体外表面の段差を低減することを特徴とする光記録
媒体の製造方法である。２層以上からなる有機保護層を
一層ずつ順次塗工することにより、上述した効果を奏す
る光記録媒体を容易に製造することができる。
【００１５】以下、本発明を詳述する。
【００１６】本発明における光記録媒体には、基本的に
透明基板上に記録層を含む真空成膜層および有機保護層
を具備した構造を有し、真空成膜層の形成中に異物混入
の可能があり、該異物が有機保護層の形成後に外観不良
として顕在化し得るのものであればいずれも包含され
る。例えば、光磁気記録方式、相転移記録方式、Ｗ．
Ｏ．方式、ＲＯＭ方式等の光記録媒体等を挙げることが
できる。
透明基板上に記録層を含む真空成膜層および有機保護層
を具備した構造を有し、真空成膜層の形成中に異物混入
の可能があり、該異物が有機保護層の形成後に外観不良
として顕在化し得るのものであればいずれも包含され
る。例えば、光磁気記録方式、相転移記録方式、Ｗ．
Ｏ．方式、ＲＯＭ方式等の光記録媒体等を挙げることが
できる。
【００１７】本発明の特徴は、まず、該有機保護層を２
層以上に分けて形成することによって、基板に付着した
膜片等による外観不良の発生を低減するものである。か
かる手段により外観不良が解決される理由を図１を使っ
て説明する。成膜中に成膜装置内壁等から剥がれ基板５
に付着した膜片６により、真空成膜層２〜５の最上層の
放熱層５にできた真空成膜層の凸部１１の表面に、規定
の厚さの例えば１／３の厚さの第１層目の保護層７を形
成する。この時、第１層目の保護層７の表面の凸部１２
は、真空成膜層の凸部１１よりも面積が広がっている反
面、高さは低くなっている。さらに第２層目の保護層８
を積層すると、該凸部は一層面積的に広がる反面、段差
はさらに減少し、なだらかになる。このようにして有機
保護層を積層することにより、有機保護層表面の凸部は
徐々になだらかになり、最終的にはフラットになる為、
外観不良とならず、真空成膜層の凸部１１が形成された
としても歩留りを低下させることはない。また、相当に
大きな段差の凸部であっても有機保護層の層数を増加さ
せることにより、該段差を外観不良として識別されない
程度まで小さくすることができる。
層以上に分けて形成することによって、基板に付着した
膜片等による外観不良の発生を低減するものである。か
かる手段により外観不良が解決される理由を図１を使っ
て説明する。成膜中に成膜装置内壁等から剥がれ基板５
に付着した膜片６により、真空成膜層２〜５の最上層の
放熱層５にできた真空成膜層の凸部１１の表面に、規定
の厚さの例えば１／３の厚さの第１層目の保護層７を形
成する。この時、第１層目の保護層７の表面の凸部１２
は、真空成膜層の凸部１１よりも面積が広がっている反
面、高さは低くなっている。さらに第２層目の保護層８
を積層すると、該凸部は一層面積的に広がる反面、段差
はさらに減少し、なだらかになる。このようにして有機
保護層を積層することにより、有機保護層表面の凸部は
徐々になだらかになり、最終的にはフラットになる為、
外観不良とならず、真空成膜層の凸部１１が形成された
としても歩留りを低下させることはない。また、相当に
大きな段差の凸部であっても有機保護層の層数を増加さ
せることにより、該段差を外観不良として識別されない
程度まで小さくすることができる。
【００１８】上記において、単層の有機保護層の場合
に、記録再生上ほとんど問題とならないが外観不良とし
て光記録媒体表面に現れる凸状欠陥の大きさは、概ね数
μｍ〜数十μｍ程度の段差を有するものであり、その原
因となり得る異物の大きさは、概ね数十μｍ〜数百μｍ
程度の膜片である。これより大きい異物が基板に付着す
れば記録再生上支障を来すので、外観不良を問題とする
までもなく欠陥品として除去されるから本発明で対象と
する必要はない。有機保護層の厚みが同じでも、該層を
２層以上で構成することにより、外観不良となる段差を
ほとんど識別できない程度まで低減することができる。
層が１層増える毎に凸部の段差が５０％前後に低減し、
また該凸部の低面積が増加するので、１層増加するのみ
で相当の効果がある。ここで、有機保護層の厚さは、好
ましくはトータル５〜４０μｍ、さらに好ましくは７〜
２０μｍの範囲で形成される。これ以上薄いと保護層と
しての効果が得にくく、又これ以上厚くするとディスク
が反ってしまったりする。特に磁界変調記録方式の場合
には、あまり厚くすると磁気ヘッドの発生磁界強度に対
する磁性層への到達強度が低下するので、２０μｍ以下
にするのがよい。層数は、２層以上、好ましくは３〜４
層がよいが、従って、一層の厚みは２〜１０μｍ程度、
好ましくは３〜５μｍ程度がよいが、真空成膜層形成に
おいて混入する異物の大きさや混入頻度、目的とする歩
留り等により適宜選定すればよい。また、層数が多くな
れば凸状部の段差が高くともカバーできるが、作業効率
が低下するから適宜層数を選択する。２層以上であれ
ば、特に上限に制限はないが、あまりトータルの厚さを
厚くしてディスクが反ってしまわないようにする。
に、記録再生上ほとんど問題とならないが外観不良とし
て光記録媒体表面に現れる凸状欠陥の大きさは、概ね数
μｍ〜数十μｍ程度の段差を有するものであり、その原
因となり得る異物の大きさは、概ね数十μｍ〜数百μｍ
程度の膜片である。これより大きい異物が基板に付着す
れば記録再生上支障を来すので、外観不良を問題とする
までもなく欠陥品として除去されるから本発明で対象と
する必要はない。有機保護層の厚みが同じでも、該層を
２層以上で構成することにより、外観不良となる段差を
ほとんど識別できない程度まで低減することができる。
層が１層増える毎に凸部の段差が５０％前後に低減し、
また該凸部の低面積が増加するので、１層増加するのみ
で相当の効果がある。ここで、有機保護層の厚さは、好
ましくはトータル５〜４０μｍ、さらに好ましくは７〜
２０μｍの範囲で形成される。これ以上薄いと保護層と
しての効果が得にくく、又これ以上厚くするとディスク
が反ってしまったりする。特に磁界変調記録方式の場合
には、あまり厚くすると磁気ヘッドの発生磁界強度に対
する磁性層への到達強度が低下するので、２０μｍ以下
にするのがよい。層数は、２層以上、好ましくは３〜４
層がよいが、従って、一層の厚みは２〜１０μｍ程度、
好ましくは３〜５μｍ程度がよいが、真空成膜層形成に
おいて混入する異物の大きさや混入頻度、目的とする歩
留り等により適宜選定すればよい。また、層数が多くな
れば凸状部の段差が高くともカバーできるが、作業効率
が低下するから適宜層数を選択する。２層以上であれ
ば、特に上限に制限はないが、あまりトータルの厚さを
厚くしてディスクが反ってしまわないようにする。
【００１９】有機保護層の形成方法としては、スピンナ
ーによる被覆方法がディスク上に厚さを均一に形成する
ことができるので好適であるが、この他の方法であって
も上述の効果を奏するのもであれば採用することができ
る。
ーによる被覆方法がディスク上に厚さを均一に形成する
ことができるので好適であるが、この他の方法であって
も上述の効果を奏するのもであれば採用することができ
る。
【００２０】有機保護層を構成する各層の材料、組成
は、同一でもまた相違していてもよく、各層の色、硬
度、表面粗さ等トータル性能に問題とならない範囲で変
更することができる。例えば、多層有機保護膜の各層に
密着性、硬度、特に磁界変調記録方式にあっては帯電防
止、潤滑性、表面粗さ等、保護膜に必要な機能を各層に
分担させ、有機保護層のトータル性能を向上させること
ができる。
は、同一でもまた相違していてもよく、各層の色、硬
度、表面粗さ等トータル性能に問題とならない範囲で変
更することができる。例えば、多層有機保護膜の各層に
密着性、硬度、特に磁界変調記録方式にあっては帯電防
止、潤滑性、表面粗さ等、保護膜に必要な機能を各層に
分担させ、有機保護層のトータル性能を向上させること
ができる。
【００２１】本発明において使用する有機保護膜として
は、紫外線硬化樹脂（エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、シリコンアクリレート、ポリエステルア
クリレート等）、熱硬化樹脂（エポシキ、ウレタン、シ
リコン等）などの市販されている樹脂を使用できるが、
２層以上の有機保護膜を連続して形成させる為に短時間
硬化が可能で作業性にすぐれる紫外線硬化樹脂が特に優
れている。
は、紫外線硬化樹脂（エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、シリコンアクリレート、ポリエステルア
クリレート等）、熱硬化樹脂（エポシキ、ウレタン、シ
リコン等）などの市販されている樹脂を使用できるが、
２層以上の有機保護膜を連続して形成させる為に短時間
硬化が可能で作業性にすぐれる紫外線硬化樹脂が特に優
れている。
【００２２】また、有機保護層の機械的強度をアップさ
せる為、表面硬度の高い材料だけで有機保護層を形成し
ようとすると、表面硬度の高い材料は一般的に硬化収縮
率が大きく、経時劣化で有機保護膜が剥離したり、真空
成膜の膜にクラックが発生したりするので、従来は硬度
の高い材料を用いることができなかった。この様な場合
に少なくとも真空成膜層と接触する有機保護層に、硬化
収縮率が小さく、硬化後もソフトで真空成膜層の記録層
を劣化させない膜とすることにより、硬度の高い膜を最
上層に用いることが可能となり、有機保護層の表面硬度
を向上させることができるので、特に磁界変調記録方式
の媒体に使用した場合に、磁気ヘッドがヘッドクラッシ
ュしてもキズが付きにくくすることができる。
せる為、表面硬度の高い材料だけで有機保護層を形成し
ようとすると、表面硬度の高い材料は一般的に硬化収縮
率が大きく、経時劣化で有機保護膜が剥離したり、真空
成膜の膜にクラックが発生したりするので、従来は硬度
の高い材料を用いることができなかった。この様な場合
に少なくとも真空成膜層と接触する有機保護層に、硬化
収縮率が小さく、硬化後もソフトで真空成膜層の記録層
を劣化させない膜とすることにより、硬度の高い膜を最
上層に用いることが可能となり、有機保護層の表面硬度
を向上させることができるので、特に磁界変調記録方式
の媒体に使用した場合に、磁気ヘッドがヘッドクラッシ
ュしてもキズが付きにくくすることができる。
【００２３】又、図３のように最上層の有機保護層表面
に微細な凹凸を付けることによっても有機保護層表面の
凸部１２がわかりにくくなり、外観不良となりにくく、
歩留りは一層改善する。凹凸を付ける方法としては、最
上層の有機保護層にアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、窒化アル
ミ（ＡｌＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、シリカ（ＳｉＯ
2 ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ
3 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）などの微粒子（粒径
０．５〜２．０μｍ程度）を該当有機保護層当たり５〜
４０ｗｔ％、好ましくは１０〜２０ｗｔ％程度分散させ
てコートすることにより段差０．５〜１．０μｍ程度の
凹凸を作製することができる。このように表面に微細な
凹凸を付けたような光磁気ディスクは、特に磁界変調記
録方式用の媒体とした場合、表面が粗れていることによ
り、有機保護膜と磁気ヘッド用スライダーとの吸着がな
くなるので、安定浮上を達成することができる。
に微細な凹凸を付けることによっても有機保護層表面の
凸部１２がわかりにくくなり、外観不良となりにくく、
歩留りは一層改善する。凹凸を付ける方法としては、最
上層の有機保護層にアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、窒化アル
ミ（ＡｌＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、シリカ（ＳｉＯ
2 ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ
3 ）、窒化ケイ素（Ｓｉ3 Ｎ4 ）などの微粒子（粒径
０．５〜２．０μｍ程度）を該当有機保護層当たり５〜
４０ｗｔ％、好ましくは１０〜２０ｗｔ％程度分散させ
てコートすることにより段差０．５〜１．０μｍ程度の
凹凸を作製することができる。このように表面に微細な
凹凸を付けたような光磁気ディスクは、特に磁界変調記
録方式用の媒体とした場合、表面が粗れていることによ
り、有機保護膜と磁気ヘッド用スライダーとの吸着がな
くなるので、安定浮上を達成することができる。
【００２４】上述多層有機保護層の形成は公知の方法を
応用することにより実施することができる。即ち、単層
の有機保護層を形成すると同様の方法で各層を積層して
いけばよい。但し、層の積層は形成した層の形状が維持
される程度に硬化した後に次の層を被覆するようにする
必要がある。また、有機保護層形成用の溶融樹脂の粘度
は通常のものよりも低くすることやスピンナーの回転数
を高くする等、単層の有機保護層を被覆する方法に基づ
き適宜調節するとよい。
応用することにより実施することができる。即ち、単層
の有機保護層を形成すると同様の方法で各層を積層して
いけばよい。但し、層の積層は形成した層の形状が維持
される程度に硬化した後に次の層を被覆するようにする
必要がある。また、有機保護層形成用の溶融樹脂の粘度
は通常のものよりも低くすることやスピンナーの回転数
を高くする等、単層の有機保護層を被覆する方法に基づ
き適宜調節するとよい。
【００２５】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
る。 ［実施例１］次に要領で図１に示す構造を有する光ディ
スクを２００枚製造した。すなわち、直径８６ｍｍのポ
リカーボネート基板１上にスパッタ装置を用いてＳｉ3
Ｎ4の下地保護層２、ＴｂＦｅＣｏの記録層３、Ｓｉ3
Ｎ4 の干渉層４、Ａｌの反射層５を順次形成した。
る。 ［実施例１］次に要領で図１に示す構造を有する光ディ
スクを２００枚製造した。すなわち、直径８６ｍｍのポ
リカーボネート基板１上にスパッタ装置を用いてＳｉ3
Ｎ4の下地保護層２、ＴｂＦｅＣｏの記録層３、Ｓｉ3
Ｎ4 の干渉層４、Ａｌの反射層５を順次形成した。
【００２６】次に紫外線硬化樹脂（ＳＤ−１０１：大日
本インキ製）をスピンナーを使い５μｍ厚にコートし硬
化させ、第１層目の保護層７を形成した。その後、同様
の処理により第２層目の保護層８、第３層目の保護層９
を形成し、３層からなるトータル厚さ１５μｍ厚の有機
保護層１０を形成した。有機保護層表面の凸状外観検査
を行い、歩留りを評価した結果を表１に示す。 ［実施例２］第１層目の保護層を８μｍ厚、第２層目の
保護層を７μｍとし、２層からなるトータル厚さ１５μ
ｍの有機保護層を形成した以外は、実施例１と同様に光
ディスクを２００枚作成した。有機保護層表面の凸状外
観検査を行い、歩留りを評価した結果を表１に示す。 ［実施例３］図３に示す構成となるように、第３層目の
保護層にアルミナのフィラー１４（平均粒径１．０μ
ｍ）を第３層当たり２０ｗｔ％入れて保護層９’を形成
した以外は実施例１と同様に光ディスクを２００枚作成
した。第３層表面に形成された凹凸の段差は約０．８μ
ｍ程度であった。有機保護層表面の凸状外観検査を行
い、歩留りを評価した結果を表１に示す。また、ここで
良品となったサンプルを使ってＣＳＳテスト（磁界変調
記録方式の場合に、ディスク媒体停止時に磁気ヘッドを
媒体面上に接触させ、回転開始時にヘッドを浮上させる
有機保護膜のテスト方法）により記録媒体の磁界変調記
録における対応性を評価した結果、３６００ｒｐｍで１
０万回行ってもなんら問題は発生せず、磁界変調記録方
式の媒体としても使用できることが確認できた。 ［実施例４］第２層目の有機保護層に実施例３と同様の
アルミナのフィラーを２０ｗｔ％入れ有機保護層を形成
した以外は実施例２と同様に光ディスクを２００枚作成
した。有機保護層表面の凸状外観検査を行い、歩留りを
評価した結果を表１に示す。 ［比較例１］図２に示す構成となるように、有機保護層
１３を１層のみで形成した以外は実施例１と同様に光デ
ィスクを２００枚作成した。有機保護層表面の凸状外観
検査を行い、歩留りを評価した結果を表１に示す。
本インキ製）をスピンナーを使い５μｍ厚にコートし硬
化させ、第１層目の保護層７を形成した。その後、同様
の処理により第２層目の保護層８、第３層目の保護層９
を形成し、３層からなるトータル厚さ１５μｍ厚の有機
保護層１０を形成した。有機保護層表面の凸状外観検査
を行い、歩留りを評価した結果を表１に示す。 ［実施例２］第１層目の保護層を８μｍ厚、第２層目の
保護層を７μｍとし、２層からなるトータル厚さ１５μ
ｍの有機保護層を形成した以外は、実施例１と同様に光
ディスクを２００枚作成した。有機保護層表面の凸状外
観検査を行い、歩留りを評価した結果を表１に示す。 ［実施例３］図３に示す構成となるように、第３層目の
保護層にアルミナのフィラー１４（平均粒径１．０μ
ｍ）を第３層当たり２０ｗｔ％入れて保護層９’を形成
した以外は実施例１と同様に光ディスクを２００枚作成
した。第３層表面に形成された凹凸の段差は約０．８μ
ｍ程度であった。有機保護層表面の凸状外観検査を行
い、歩留りを評価した結果を表１に示す。また、ここで
良品となったサンプルを使ってＣＳＳテスト（磁界変調
記録方式の場合に、ディスク媒体停止時に磁気ヘッドを
媒体面上に接触させ、回転開始時にヘッドを浮上させる
有機保護膜のテスト方法）により記録媒体の磁界変調記
録における対応性を評価した結果、３６００ｒｐｍで１
０万回行ってもなんら問題は発生せず、磁界変調記録方
式の媒体としても使用できることが確認できた。 ［実施例４］第２層目の有機保護層に実施例３と同様の
アルミナのフィラーを２０ｗｔ％入れ有機保護層を形成
した以外は実施例２と同様に光ディスクを２００枚作成
した。有機保護層表面の凸状外観検査を行い、歩留りを
評価した結果を表１に示す。 ［比較例１］図２に示す構成となるように、有機保護層
１３を１層のみで形成した以外は実施例１と同様に光デ
ィスクを２００枚作成した。有機保護層表面の凸状外観
検査を行い、歩留りを評価した結果を表１に示す。
【００２７】上述した各実施例により得られた光ディス
クは表１に示すように、従来方式の記録媒体（比較例
１）に比べ、外観不良が低減し歩留りが向上しているこ
とがわかる。尚、有機保護層表面の凸状が欠陥を集光燈
を使い目視にて判定し歩留りを評価した。
クは表１に示すように、従来方式の記録媒体（比較例
１）に比べ、外観不良が低減し歩留りが向上しているこ
とがわかる。尚、有機保護層表面の凸状が欠陥を集光燈
を使い目視にて判定し歩留りを評価した。
【００２８】
【表１】 ［実施例５］実施例２の第１層目の保護層に、硬化後の
エンピツ硬度がＢと軟かいが反射層のＡｌに対して密着
性が良い材料（ＳＤＳ−１０１：大日本インキ製）を用
い、第２層目の保護層に、エンピツ硬度がＨと硬いがＡ
ｌに対して密着性の悪い材料（ＭＨ−７５０８：三菱レ
ーヨン製）を用いた以外は実施例２と同様に有機保護層
を形成しサンプルを作成した。この場合にも外観歩留り
向上という当初の目的が達成できるとともに、従来、硬
いけれどもＡｌに対する密着性が悪い為に使用できなか
ったような材料が使用できるようになり、材料の選択範
囲が広がるとともに、硬い、強度のある保護膜を形成で
きた。
エンピツ硬度がＢと軟かいが反射層のＡｌに対して密着
性が良い材料（ＳＤＳ−１０１：大日本インキ製）を用
い、第２層目の保護層に、エンピツ硬度がＨと硬いがＡ
ｌに対して密着性の悪い材料（ＭＨ−７５０８：三菱レ
ーヨン製）を用いた以外は実施例２と同様に有機保護層
を形成しサンプルを作成した。この場合にも外観歩留り
向上という当初の目的が達成できるとともに、従来、硬
いけれどもＡｌに対する密着性が悪い為に使用できなか
ったような材料が使用できるようになり、材料の選択範
囲が広がるとともに、硬い、強度のある保護膜を形成で
きた。
【００２９】上記の他、磁界変調記録方式に必要な帯電
防止・潤滑性を付与するために、実施例１の有機保護膜
の構成中、第１層をＳＤＳ−１０１、第２層をＳＤＳ−
１０１、第３層をＯＤ−３（日本化薬（株）製）として
同様にして光ディスクを製造したところ同様に外観歩留
りが向上し、かつ磁界変調記録方式に好適なものが得ら
れた。また、光磁気以外の記録媒体として相転移および
Ｗ．Ｏ．による記録媒体に対して同様の有機保護層を形
成したところ同様の効果が得られた。
防止・潤滑性を付与するために、実施例１の有機保護膜
の構成中、第１層をＳＤＳ−１０１、第２層をＳＤＳ−
１０１、第３層をＯＤ−３（日本化薬（株）製）として
同様にして光ディスクを製造したところ同様に外観歩留
りが向上し、かつ磁界変調記録方式に好適なものが得ら
れた。また、光磁気以外の記録媒体として相転移および
Ｗ．Ｏ．による記録媒体に対して同様の有機保護層を形
成したところ同様の効果が得られた。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、真空成膜層上に２
層以上に分けて形成された有機保護膜を備えることによ
り、該真空成膜層上に存在し得る凸状部の段差を有機保
護層の積層に伴い段々となだらかにすることができるの
で、真空成膜層形成中に混入する異物による媒体の外観
不良を大幅に低減することができる。
層以上に分けて形成された有機保護膜を備えることによ
り、該真空成膜層上に存在し得る凸状部の段差を有機保
護層の積層に伴い段々となだらかにすることができるの
で、真空成膜層形成中に混入する異物による媒体の外観
不良を大幅に低減することができる。
【００３１】また、有機保護層が２層以上で構成される
ているから、その最下層に比較的硬度の低い材料を用い
ていれば、最上層に従来は硬度は大きいが密着性が悪い
ために使用できなかった材料を用いることができるの
で、従来にない高い硬度の媒体とすることができる。
ているから、その最下層に比較的硬度の低い材料を用い
ていれば、最上層に従来は硬度は大きいが密着性が悪い
ために使用できなかった材料を用いることができるの
で、従来にない高い硬度の媒体とすることができる。
【００３２】また、最上層にフィラーを分散させること
により、該最上層表面に凹凸形状を付けることができる
ので、該表面にたとえ凸状部があったとしても識別でき
る程度まで顕在化するのを防止することができ、その結
果、外観不良が低減し歩留りを一層改善することができ
る。
により、該最上層表面に凹凸形状を付けることができる
ので、該表面にたとえ凸状部があったとしても識別でき
る程度まで顕在化するのを防止することができ、その結
果、外観不良が低減し歩留りを一層改善することができ
る。
【００３３】また、紫外線硬化樹脂を用いることによ
り、短時間硬化が可能となるので、２層以上の有機保護
層を連続して形成することができ、作業の効率化を図る
ことができる。
り、短時間硬化が可能となるので、２層以上の有機保護
層を連続して形成することができ、作業の効率化を図る
ことができる。
【００３４】また、スピンナーによる有機保護層の形成
により、周方向の厚さムラなく保護層を形成することが
できるので、重心のズレのない安定した記録、再生が可
能となる。
により、周方向の厚さムラなく保護層を形成することが
できるので、重心のズレのない安定した記録、再生が可
能となる。
【００３５】また、上記の光記録媒体の構成、特に最上
層の硬度を高くした構成やフィラーを分散させた構成で
は、磁界変調記録方式用の媒体としたときに、磁気ヘッ
ドによるキズや磁気ヘッドへの吸着が低減するので、記
録媒体の安定浮上を達成することができる。
層の硬度を高くした構成やフィラーを分散させた構成で
は、磁界変調記録方式用の媒体としたときに、磁気ヘッ
ドによるキズや磁気ヘッドへの吸着が低減するので、記
録媒体の安定浮上を達成することができる。
【００３６】また、２層以上からなる有機保護層を一層
ずつ順次塗工する方法により、上述した効果を奏する光
記録媒体を容易に製造することができる。
ずつ順次塗工する方法により、上述した効果を奏する光
記録媒体を容易に製造することができる。
【００３７】更には、多層有機保護層の各層に機能を分
担させることにより、従来の単層の有機保護膜媒体に比
べ材料の選択範囲が広がり、有機保護膜のトータル性能
を向上させることができる。
担させることにより、従来の単層の有機保護膜媒体に比
べ材料の選択範囲が広がり、有機保護膜のトータル性能
を向上させることができる。
【図１】本発明の光記録媒体の一実施例を示す部分断面
図である。
図である。
【図２】従来の光記録媒体の部分断面図である。
【図３】本発明の光記録媒体の他の実施例を示す部分断
面図である。
面図である。
１ 基板 ２ 下地保護層 ３ 記録層 ４ 干渉層 ５ 反射層（放熱層） ６ 膜片 ７ 第１層目の保護層 ８ 第２層目の保護層 ９，９’ 第３層目の保護層 １０，１０’ 本発明の有機保護層 １１ 真空成膜層の凸部 １２ 保護層表面の凸部 １３ 従来の有機保護層 １４ フィラー
Claims (7)
- 【請求項１】 光学的に透明な基板上に少なくとも記録
層からなる真空成膜層及びその上に有機保護層を具備す
る光記録媒体において、該有機保護層が、２層以上に分
けて形成されていることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１において、有機保護層の最上層
の硬度が最下層の保護層の硬度よりも高いことを特徴と
する光記録媒体。 - 【請求項３】 請求項１または２において、有機保護層
の最上層にフィラーを分散させたことを特徴とする光記
録媒体。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれか一項におい
て、有機保護層が紫外線硬化樹脂であることを特徴とす
る光記録媒体。 - 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれか一項におい
て、有機保護層がスピンナーにより形成されたものであ
ることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれか一項におい
て、光記録媒体が光磁気記録媒体であることを特徴とす
る光記録媒体。 - 【請求項７】 光学的に透明な基板上に少なくとも記録
層からなる真空成膜層及びその上に有機保護層を設ける
光記録媒体の製造において、該有機保護層を、２層以上
に分けて順次塗工することにより、光記録媒体外表面の
段差を低減することを特徴とする光記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273319A JPH07130005A (ja) | 1993-11-01 | 1993-11-01 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273319A JPH07130005A (ja) | 1993-11-01 | 1993-11-01 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07130005A true JPH07130005A (ja) | 1995-05-19 |
Family
ID=17526232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5273319A Pending JPH07130005A (ja) | 1993-11-01 | 1993-11-01 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07130005A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012035548A (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 発光媒体 |
-
1993
- 1993-11-01 JP JP5273319A patent/JPH07130005A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012035548A (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 発光媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20020021064A (ko) | 광정보 기록매체의 제조방법, 제조장치 및 광정보 기록매체 | |
| JPS61242832A (ja) | 光学的記録デイスクの製作方法 | |
| EP0723261A2 (en) | Optical recording medium and process for producing same | |
| JP3742583B2 (ja) | 光情報記録媒体、および光情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH07130005A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS6391843A (ja) | 光デイスク基板 | |
| JPS61184743A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3537701B2 (ja) | 光学記録媒体、光学記録媒体の製造方法、および、光学記録媒体の製造装置 | |
| US20040184397A1 (en) | Optical recording medium, method of producing the same and protective film-forming resin | |
| JP2765858B2 (ja) | 磁界変調型デイスク | |
| RU50036U1 (ru) | Дискообразный носитель информации | |
| JPH06187664A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH08255376A (ja) | 一体型基板を用いたｍｏｄ、ｓｄ及びその製造方法 | |
| JP2774877B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH0589518A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0831011A (ja) | 光ディスク | |
| JP2000251335A (ja) | 光情報記録媒体製造方法 | |
| JPS63244343A (ja) | 平板状情報記録担体の作製方法 | |
| JPH05303784A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH03219444A (ja) | 光ディスクの製造法 | |
| JPH07230634A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH08102104A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH02203436A (ja) | 光ディスク | |
| JPH0863811A (ja) | ディスク状記録媒体 | |
| JP2002157781A (ja) | 保護コート入射光記録媒体およびその製造方法 |