JPH0711055A - セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法 - Google Patents

セルローストリアセテートフィルム及びその製造方法

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JPH0711055A
JPH0711055A JP17738693A JP17738693A JPH0711055A JP H0711055 A JPH0711055 A JP H0711055A JP 17738693 A JP17738693 A JP 17738693A JP 17738693 A JP17738693 A JP 17738693A JP H0711055 A JPH0711055 A JP H0711055A
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JP
Japan
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cellulose triacetate
film
dope
fine particles
weight
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Application number
JP17738693A
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English (en)
Inventor
Masahiro Eto
雅弘 江藤
Kenji Uematsu
健二 植松
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】光透過性に優れ且つ滑り性においても向上した
セルローストリアセテートフィルムおよびその製造方法
を提供する。 【構成】セルローストリアセテートと、該セルロースト
リアセテート中に分散された表面にメチル基を有する微
粒子からなることを特徴とするセルローストリアセテー
トフィルムおよびその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、写真フィルム用ベー
ス、製図トレーシングフィルム、電気絶縁材料及び液晶
ディスプレーの偏光板用保護フィルムに利用されるセル
ローストリアセテートフィルム及びその製造方法に関す
る。特に、パーソナルコンピューター、ワードプロセッ
サー及びテレビ等に使用される液晶ディスプレーの偏光
板用保護フィルムに利用されるセルローストリアセテー
トフィルム及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】セルローストリアセテートフィルムは、
透明で、優れた物理的、機械的性質を有し、且つ温度湿
度変化に対する寸法変化が少なく、従来から写真フィル
ム用ベース、製図トレーシングフィルム、電気絶縁材料
などの広い分野で使用され、最近では液晶ディスプレー
の偏光板用保護フィルムとして使用されている。液晶表
示素子の偏光板に使用されるセルローストリアセテート
フィルムは、光透過性、光学的無配向性、偏光膜との良
好な接着性、優れた平面性及び紫外線を吸収し易いこと
等が要求される。さらに、自動車搭載用の液晶ディスプ
レーに使用される場合は、高湿熱下で劣化のないことや
寸法安定性に優れていることなどの良好な耐久性も要求
される。
【0003】上記セルローストリアセテートフィルム
は、光透過性及び光学的無配向性等において優れた性質
を有しているが、例えば紫外線を吸収する性質はないた
め、液晶ディスプレーの液晶の紫外線による劣化を防止
するために、液晶ディスプレーの最も外側に設けられる
偏光板の保護フィルムであるセルローストリアセテート
フィルム中に、紫外線吸収剤を添加することが一般的に
行なわれている。更に、セルローストリアセテートフィ
ルムを、液晶ディスプレーの偏光板として使用するに
は、特にフィルム表面の滑り性が要求される。即ち、偏
光膜、上記フィルムを用いて偏光板を作成する際には、
フィルムのケン化処理(親水化処理)、偏光膜とフィル
ムの接着剤による接着工程、上記フィルム上へのハード
コートのコーティング工程、さらにこれらの工程を行な
うための搬送作業などが行なわれる。そして、フィルム
表面の耐傷性が充分でない場合は、上記作業中にフィル
ム表面に傷がつき、このようなフィルムを用いた偏光板
が組み込まれた液晶ディスプレーは、致命的な表示欠陥
を有することになる。
【0004】一般に、プラスチックフィルムの耐傷性を
向上させるために、フィルム中に種々の粒子等を含有さ
せることが知られている。例えば、PET(ポリエチレ
ンテレフタレート)フィルム中に、酸化珪素、二酸化チ
タン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン
等の無機質粒子を含有させることなどが知られている
(例、特開昭54−57562号公報)。一方、セルロ
ーストリアセテートフィルムにおいては、その製造方法
について、例えば、特開昭62−37113号公報や特
開昭61−94725号公報に種々提案されているが、
それらの中には耐傷性を向上させる方法についての記載
はない。但し、写真フィルム用セルローストリアセテー
トフィルムにおいては、耐傷性を向上させる目的で、二
酸化ケイ素を含む層をフィルム表面に形成することが一
般的に行なわれている。
【0005】セルローストリアセテートのフィルムは、
例えば、結合酢酸量(酢化度)60〜62%のセルロー
ストリアセテートを可塑剤と共にメチレンクロライドと
メタノールの混合溶剤に溶解したドープを、連続的に回
転するドラムまたは移動するバンド(支持体)上に流延
し、次いで溶剤を蒸発させることからなる溶液製膜法に
より得ることができる。セルローストリアセテートフィ
ルムの耐傷性を向上させるためにも、上記PETフィル
ムに使用される二酸化ケイ素、二酸化チタン、炭酸カル
シウムを使用することができる。即ち、上記無機質粒子
を、溶剤又は溶剤と少量のセルローストリアセテートと
の溶液に分散し、得られた分散液を上記ドープと混合
し、そしてこの混合液を流延、乾燥するか、あるいは無
機質粒子をアセトン等の溶剤に分散し、これをセルロー
ストリアセテートフィルム上に塗布することにより、フ
ィルム表面に凹凸を形成して、滑り性を付与することが
できる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記無
機質粒子を用いて溶液製膜法に作製されたセルロースア
セテートフィルム中には、数十μm以上の大きさに凝集
した無機質粒子が存在しており、表面の滑り性について
は改善されるが、その大きな凝集粒子による光の散乱の
ためフィルムの光透過性が低下したり、あるいは凝集粒
子が光を遮断してディスプレーに表示欠陥をもたらすと
の問題がある。本発明者が、上記無機質粒子の凝集につ
いて検討したところ、無機質粒子を溶剤中又は溶剤とセ
ルローストリアセテートの混合液中に分散機を用いて分
散すること自体が困難であり、また仮に分散しても分散
液中で極めて凝集し易く、数十μm以上の凝集粒子の無
いセルロースアセテートフィルムを得ることは困難であ
ることが明らかとなった。更に、凝集した無機質粒子
は、ドープを濾過するためのフィルターに目詰まりを起
こすため、フィルターの交換頻度が高くなり、生産性の
低下をもたらす。あるいは、無機質粒子のうち、フィル
ターに目詰まりを起こしたものはフィルムに含有されな
いことになり、製造時機により特性の異なったフィルム
が得られるとの問題がある。
【0007】従って、本発明は、光透過性に優れ且つ滑
り性においても向上したセルローストリアセテートフィ
ルムを提供することを目的とする。また、本発明は、光
透過性に優れ且つ滑り性においても向上したセルロース
トリアセテートフィルムを有利に製造する方法を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的は、セルロース
トリアセテートと、該セルローストリアセテート中に分
散された表面にメチル基を有する微粒子からなることを
特徴とするセルローストリアセテートフィルムにより達
成することができる。
【0009】上記本発明のセルローストリアセテートフ
ィルムの好ましい態様は下記の通りである。
【0010】(1)該微粒子が、ケイ素原子を含有する
化合物(好ましくは二酸化ケイ素又は三次元の網状構造
を有するシリコーン樹脂)の微粒子からなる上記のセル
ローストリアセテートフィルム。
【0011】(2)該フィルムが、溶液流延により得ら
れるものである上記のセルローストリアセテートフィル
ム。
【0012】(3)該微粒子の平均粒子径が、0.1〜
1.0μmの範囲にある上記のセルローストリアセテー
トフィルム。
【0013】(4)該フィルムが、偏光板用の保護フィ
ルムである上記のセルローストリアセテートフィルム。
【0014】上記セルローストリアセテートフィルム
は、セルローストリアセテートを溶剤に溶解することに
より予め調製されたドープと、表面にメチル基を有する
微粒子を溶剤又は溶剤とセルローストリアセテートとの
混合溶液に分散することにより予め調製された分散液と
を混合した後、該混合液を支持体上に流延し、次いで乾
燥することからなるセルローストリアセテートフィルム
の製造方法により有利に得ることができる。
【0015】上記本発明のセルローストリアセテートフ
ィルムの製造方法の好ましい態様は下記の通りである。
【0016】(1)該混合液を支持体上に流延した後、
支持体上に形成されたフィルムを支持体より剥離して乾
燥する上記セルローストリアセテートフィルムの製造方
法。
【0017】(2)該支持体として、ドラムを使用する
上記セルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【0018】(3)該ドープと該分散液を混合した後、
直に該混合液を支持体上に流延する上記セルローストリ
アセテートフィルムの製造方法。
【0019】[発明の詳細な記述]本発明のセルロース
トリアセテートフィルムは、フィルム中に表面にメチル
基を有する微粒子が分散されたものである。
【0020】本発明のセルローストリアセテートフィル
ムに使用されるセルローストリアセテートは、公知のも
のを使用することができる。セルローストリアセテート
の酢化度は、50〜70%が好ましく、特に55〜65
%が好ましい。重量平均分子量70000〜12000
0が好ましく、特に80000〜100000が好まし
い。また、上記セルローストリアセテートは、酢酸だけ
でなく上記酢化度を満足する限り、一部プロピオン酸、
酪酸等の脂肪酸でエステル化されていても良い。あるい
は、上記セルローストリアセテートは、総量で上記酢化
度を満足する限りセルロースプロピオネート、セルロー
スブチレート等のセルロースエステル類を含んでいても
良い。
【0021】セルローストリアセテート中に分散される
表面にメチル基を有する微粒子の材料のうち、無機化合
物の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アル
ミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カ
ルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸
カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウ
ム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げる
ことができる。二酸化ケイ素、二酸化チタンおよび酸化
ジルコニウムが好ましく、特に二酸化ケイ素が好まし
い。表面にメチル基を有する無機化合物の微粒子は、例
えば、酸化ケイ素の微粒子をジクロロジメチルシランや
ビス(トリメチルシリル)アミンで処理することにより
得ることができる。二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、
アエロジルR972、R972D、R974及びR81
2(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販され
ており、使用することができる。酸化ジルコニウムの微
粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以
上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されてお
り、使用することができる。
【0022】上記表面にメチル基を有する微粒子の材料
のうち、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹
脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン
樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが
好ましく、例えば、(CH3)xSiO2-x/2(但し、xは1〜
1.2)で表わされる綱状構造を有するシリコーン樹脂
が好ましい。このようなシリコーン樹脂の微粒子は、例
えば、トスパール103、同105、同108、同12
0、同145、同3120及び同240(以上東芝シリ
コーン(株)製)の商品名で市販されており、使用する
ことができる。
【0023】上記材料の内、ケイ素原子を含有する化合
物であることが好ましく、特に二酸化ケイ素又は三次元
の網状構造を有するシリコーン樹脂あることが好まし
く、そして二酸化ケイ素であることが最も好ましい。上
記材料としての微粒子の平均粒径(一次粒子の平均粒
径)は、特に限定されないが、微粒子がフィルム中で存
在する粒径、即ち凝集していない微粒子と凝集した微粒
子の平均粒径は、0.1〜1.0μmの範囲にあること
が好ましく、特に0.1〜0.5μmの範囲が好まし
い。上記平均粒径が1.0μmを超えた場合は、光透過
性が低下し、0.1μm未満ではフィルム表面の充分な
滑り性が得られない。また、上記材料としての微粒子の
平均粒径(一次粒子の平均粒径)は0.005〜1.0
μmの範囲が好ましく、特に0.01〜0.5μmの範
囲が好ましい。さらに、上記微粒子は、セルローストリ
アセテートに対して0.005〜0.3重量%で使用さ
れることが好ましく、更に0.01〜0.1重量%で使
用されることが好ましい。
【0024】セルローストリアセテートフィルムには、
一般に可塑剤が含有されている。可塑剤の例としては、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、クレジルジフェニルホスフェート等のリン酸エステ
ル類、およびジエチルフタレート、ジメトキシエチルフ
タレート、ジメチルフタレート等のフタル酸エステルを
挙げることができる。
【0025】また、セルローストリアセテートフィルム
には、紫外線吸収剤が含有されていてもよい。紫外線吸
収剤の例としては、2,2’−ヒドロキシ−4,4’−
メトキシベンゾフェノンを挙げることができる。
【0026】本発明で使用される溶剤としては、セルロ
ーストリアセテートを溶解できる溶剤であれば何でもよ
く、また、単独で溶解できない溶剤であっても、他の溶
剤と混合することにより溶解できるものであれば使用す
ることができる。上記溶剤の例としては、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン及びシクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン及び
キシレン等の芳香族炭化水素;塩化メチル、塩化メチレ
ン(メチレンクロライド)、四塩化炭素及びトリクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素;メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール等
のアルコール;そして蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メ
チル及び酢酸エチル等のエステル類を挙げることができ
る。
【0027】一般には、メチレンクロライドとメタノー
ルの混合溶剤が使用されるが、セルローストリアセテー
トを析出させない限り(ドープ作製中あるいは後の微粒
子分散液の添加時に)、他の溶剤、例えばイソプロピル
アルコールやn−ブチルアルコールを使用しても良い。
ドープ中のセルローストリアセテートと溶剤との割合
は、重量比で10:90〜30:70の範囲が好まし
い。
【0028】次に、本発明のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法について説明する。上記製造方法は
例えば下記のように行なわれる。セルローストリアセテ
ートを、メチレンクロライドとメタノールの混合溶剤中
に溶解してドープを調製する。別に、表面にメチル基を
有する微粒子を上記混合溶剤あるいは適宜溶剤に、又は
少量のセルローストリアセテートと溶剤の混合液に分散
して分散液を調製する。分散液の粘度は、分散液の安定
性を保持するためできるだけ高いほうが好ましいが、分
散混合あるいは分散液の搬送等が容易となるように、1
0〜100cps(センチポイズ)にすることが好まし
い。上記ドープと上記分散液とを混合した後(好ましく
は直に)、該混合液を支持体(ドラム又はバンド)上に
流延し、次いで、乾燥することによりセルローストリア
セテートフィルムの製造する。混合液をドラムの支持体
上に流延した後、ドラム上に形成されたフィルムをドラ
ムより剥離して乾燥することが好ましい。
【0029】上記セルローストリアセテートフィルムの
製造方法を図1及び図2を参照しながら、更に詳しく説
明する。図1は、本発明で利用することができるセルロ
ーストリアセテートのドープと微粒子の分散液混合して
流延するまでの工程の一例を示す工程図である。溶剤1
a、セルローストリアセテート2a及び可塑剤3aをド
ープ用ミキシングタンク6に投入し、攪拌して(加熱下
に、必要に応じ加圧下に)セルローストリアセテートを
溶解させてドープを調製する。溶剤1b、セルロースト
リアセテート2b及び紫外線吸収剤5bを微粒子分散液
用ミキシングタンク12に投入し、攪拌してセルロース
トリアセテート及び紫外線吸収剤を溶解させ後、微粒子
4bを投入混合し、これを送液ポンプ11により分散機
13に移し、微粒子を充分分散させて分散液を調製し、
分散液ストックタンク14に送り、そしてこの分散液を
適宜前記ミキシングタンク6に送り、混合する。得られ
た混合液を、ドープストックタンク7に送り、適宜ドー
プフィルター8を介して流延口9に送り、流延口から混
合液(ドープ)がドラム10上に流延される。
【0030】上記図1の方法では、セルローストリアセ
テートのドープと微粒子分散液とを混合した後、ドープ
フィルター8を通過するため、粒径の大きい微粒子ある
いは凝集した微粒子はドープフィルターに詰まり易い。
このため、フィルターに詰まる微粒子が多い場合は、得
られるフィルムの滑り性を低下させることがあり、そう
でない場合であってもフィルターの交換頻度は高くなる
傾向がある。
【0031】図2は、本発明で好ましく利用することが
できるセルローストリアセテートのドープと微粒子の分
散液混合して流延するまで工程を示す工程図である。溶
剤21a、セルローストリアセテート22a及び可塑剤
23aをドープ用ミキシングタンク26に投入し、攪拌
して(加熱下に、必要に応じ加圧下に)セルローストリ
アセテートを溶解させてドープを調製し、そしてドープ
ストックタンク7に送り、貯蔵する。溶剤21b、セル
ローストリアセテート22b及び紫外線吸収剤25bを
微粒子分散液用ミキシングタンク32に投入し、攪拌し
てセルローストリアセテート及び紫外線吸収剤を溶解さ
せた後、微粒子24bを投入混合し、これを送液ポンプ
31により分散機33に移し、微粒子を充分分散させて
分散液を調製し、分散液ストックタンク34に送り、貯
蔵する。ドープストックタンク27からドープが、ドー
プフィルター28を介して送り出され、同時に分散液が
ストックタンク34から送り出される。そして、これら
が配管途中に配置されたスタチックミキサー35により
充分混合され、流延口29に送られる。流延口から混合
液(ドープ)がドラム30上に流延される。
【0032】上記図2の方法では、セルローストリアセ
テートのドープのみドープフィルター28を通過し、微
粒子分散液はドープフィルターを通過しないため、得ら
れるフィルムの滑り性を低下させることはなく、フィル
ターの交換頻度も高くはならない。更に、流延直前まで
スタチックミキサー35により混合されるので、流延の
際、ドープ混合液中の微粒子の凝集物はほとんど存在し
ないことから、滑り性等の特性において設計通りのフィ
ルムを得ることができる。
【0033】上記図1及び2において、流延口から混合
液(ドープ)がドラム上に流延された後は、ドラムが一
回転する間に流延された層を自己支持性を有する程度に
乾燥され、次いで、ドラムから剥離されて充分に乾燥さ
れた後、ドラムに巻き取られる。上記ドラムの代わりに
無端バンドを使用しても良い。
【0034】さらに、ドープあるいは分散液の調製時
に、必要に応じて、分散剤、蛍光染料、消泡剤、潤滑
剤、褪色防止剤、防腐剤等の公知の各種添加剤を用いて
も良い。
【0035】
【実施例】
[実施例1]前記図2の工程図に従って、セルロースト
リアセテートフィルムを作製した。セルローストリアセ
テート(酢化度:61%)100重量部、TPP(トリ
フェニルホスフェート)22重量部、メチレンクロライ
ド360重量部、メタノール40重量部及び1−ブタノ
ール20重量部を図2のミキシングタンク26に投入
し、加熱攪拌することにより、セルローストリアセテー
トを溶解させてドープを調製した。別に、メチレンクロ
ライド80重量部、メタノール20重量部及びセルロー
ストリアセテート3重量部を図2のミキシングタンク3
2に投入し、加熱攪拌してセルローストリアセテートを
溶解させ、さらに表面にメチル基を有する二酸化ケイ素
微粒子(商品名:アエロジルR972D、一次粒子の平
均粒径:0.016μm;日本アエロジル(株)製)
0.5重量部を投入混合し、分散機33に移して、上記
微粒子の分散液中での平均粒径が0.3μmとなるよう
に分散させて分散液を調製した。平均粒径は、下記の評
価1)の方法に従い測定した。ドープストックタンク2
7から上記調製したドープを100重量部、同時に分散
液ストックタンク34から分散液8重量部を送り出し、
そして、これらをスタチックミキサー35により充分混
合し、次いで流延口29から混合液(ドープ)をドラム
30上に流延した。その後、多数のロールを有する熱処
理装置の中を搬送することにより乾燥し、厚さ80μm
のセルローストリアセテートフィルムを作製した。
【0036】[実施例2]前記図1の工程図に従って、
セルローストリアセテートフィルムを作製した。セルロ
ーストリアセテート(酢化度:61%)100重量部、
TPP(トリフェニルホスフェート)22重量部、メチ
レンクロライド360重量部、メタノール40重量部及
び1−ブタノール20重量部を図1のミキシングタンク
6に投入し、加熱攪拌することにより、セルローストリ
アセテートを溶解させてドープを調製した。別に、メチ
レンクロライド80重量部、メタノール20重量部及び
セルローストリアセテート3重量部を図1のミキシング
タンク12に投入し、加熱攪拌してセルローストリアセ
テートを溶解させ、さらに二酸化ケイ素の微粒子(商品
名:アエロジルR972D、一次粒子の平均粒径:0.
016μm;日本アエロジル(株)製)0.5重量部を
投入混合し、分散機13に移して上記微粒子の分散液中
での平均粒径が0.3μmとなるように分散させて分散
液を調製した。そしてこの分散液を上記ドープ100重
量部に対して8重量部の割合で添加し、ミキシングタン
ク6で混合した。得られた混合液を、ドープストックタ
ンク7に送り、適宜ドープフィルター8を介して流延口
9に送り、流延口から混合液(ドープ)をドラム10上
に流延した。その後、多数のロールを有する熱処理装置
の中を搬送することにより乾燥し、厚さ80μmのセル
ローストリアセテートフィルムを作製した。
【0037】[実施例3]実施例1において、分散液を
調製する際、更に紫外線吸収剤として2,2’−ヒドロ
キシ−4,4’−メトキシベンゾフェノンを25重量部
加えた以外は実施例1と同様にしてセルローストリアセ
テートフィルムを作製した。
【0038】[実施例4]実施例1において、分散液を
調製する際にセルローストリアセテートを使用しなかっ
た以外は実施例1と同様にしてセルローストリアセテー
トフィルムを作製した。
【0039】[比較例1]実施例1において、分散液を
調製する際に、上記表面にメチル基を有する二酸化ケイ
素の微粒子(アエロジルR972D)に代えて、表面に
メチル基を持たず表面に水酸基を有する二酸化ケイ素の
微粒子(商品名:アエロジル200、一次粒子の平均粒
径:0.012μm;日本アエロジル(株)製)を使用
した以外は実施例1と同様にしてセルローストリアセテ
ートフィルムを作製した。
【0040】[比較例2]実施例2において、分散液を
調製する際に、上記表面にメチル基を有する二酸化ケイ
素の微粒子(アエロジルR972D)に代えて、表面に
メチル基を持たず表面に水酸基を有する二酸化ケイ素の
微粒子(商品名:アエロジル200、一次粒子の平均粒
径:0.012μm;日本アエロジル(株)製)を使用
した以外は実施例2と同様にしてセルローストリアセテ
ートフィルムを作製した。
【0041】[実施例5]実施例1において、分散液を
調製する際の分散時間を長くすることにより、上記表面
にメチル基を有する二酸化ケイ素の微粒子の分散液中で
の平均粒径が0.1μmとなるようにした以外は実施例
1と同様にしてセルローストリアセテートフィルムを作
製した。
【0042】[実施例6]実施例1において、分散液を
調製する際の分散時間を短くすることにより、上記表面
にメチル基を有する二酸化ケイ素の微粒子の分散液中で
の平均粒径が1.0μmとなるようにした以外は実施例
1と同様にしてセルローストリアセテートフィルムを作
製した。
【0043】上記で得られたセルローストリアセテート
フィルムについて下記の方法によりその特性を評価し
た。
【0044】1)微粒子の分散液中及びフィルム中での
平均粒径(μm) また、実施例及び比較例中の分散液を採取し、遠心式粒
度分布測定機(CAPA500、堀場製作所(株)製)
を用いて、粒度分布グラフを得た後、そのグラフから平
均粒径を求めた。
【0045】また得られたフィルムの電子顕微鏡写真を
撮影し、100粒子について粒径を測定し、その平均か
ら求めた。
【0046】2)動摩擦係数 100mm×200mmのフィルム上に75mm×10
0mmのフィルムを載せ、これを固定した台の上に載
せ、更にフィルム上にフォームラバーで覆われた200
gのおもりを載せる。おもりを水平方向に引っ張り、動
き出した時の力(F)を測定した。そして下記式より動
摩擦係数(μ)を求めた。 F=μW (W:おもりの重さ(kgf))
【0047】3)光透過率(%) 透明度測定機((株)KOTAKI製作所製)を用い
て、得られたフィルムの可視光線の透過率を測定した。
【0048】4)ドープ最大濾過量(m3/m2) 各例のドープフィルター(#63濾紙使用)の圧力損失
が4kg/cm2に達した時の濾過されたドープ量を測定し
た。
【0049】5)凝集物(個/m2) 得られたフィルム1m2の上に存在する50μm以上の凝
集物の数を数えて求めた。
【0050】上記測定結果を下記の表1に示す。
【0051】
【表1】 表1 ──────────────────────────────────── 平均粒径 動摩擦係数 光透過率 最大濾過量 凝集物 (%) (m3/m2) (個/m2) ──────────────────────────────────── 実施例1 0.3 0.51 92.5 2.0 0 実施例2 0.3 0.51 92.5 0.5 0 実施例3 0.3 0.51 92.5 2.0 0 実施例4 0.3 0.49 92.3 2.0 1 ──────────────────────────────────── 比較例1 0.3 0.47 91.5 2.0 20 比較例2 0.3 0.80 91.8 0.1 5 ──────────────────────────────────── 実施例5 0.1 0.55 92.5 −− − 実施例6 1.0 0.48 92.5 −− − ────────────────────────────────────
【0052】上記結果から明らかなように、実施例1〜
4で得られた本発明のトリアセテートフィルムは、動摩
擦係数が低く、光透過率が高く、かつ大きな凝集物の発
生がないので、滑り性が良好で、透明性に優れているこ
とが分かる。一方、比較例1で得られたトリアセテート
フィルムは、光透過率が充分に高くなく、凝集物が多
く、特に透明性に問題がある。また、比較例2で得られ
たトリアセテートフィルムは、光透過率が充分に高くな
く、かつ動摩擦係数が高く、例えば偏光板用保護フィル
ムとして満足できる性能が得られていない。
【0053】
【発明の効果】本発明のセルローストリアセテートフィ
ルムは、滑り性を向上させるために分散安定性に優れた
表面にメチル基を有する微粒子を用いているので、向上
した滑り性を示すだけでなく、光透過性においても優れ
たものである。このような滑り性と光透過性に優れたセ
ルローストリアセテートフィルムは、加工工程で傷の発
生がほとんどないため、種々な用途に有利に使用するこ
とができる。特に、偏光膜と上記フィルムを用いて偏光
板を作成する際には、接着工程、ハードコートのコーテ
ィング工程、さらにこれらの工程を行なうための搬送作
業などの種々な工程で傷つき易いことから、耐傷性に優
れ、さらに高い透明性も有している本発明のセルロース
トリアセテートフィルムは、上記偏光板用の保護フィル
ムとして有用である。また、本発明では、滑り性を向上
させるための微粒子として、分散安定性に優れた表面に
メチル基を有する微粒子を用いているので、溶液流延法
でフィルムを作製する際の、流延に使用するドープ中
で、上記微粒子は安定した分散状態を保持されることか
ら、微粒子の凝集による大きな凝集物の発生がないた
め、フィルターの目詰まりが少なく、また得られるフィ
ルム中にも透明性も向上する。従って、本発明のセルロ
ーストリアセテートフィルムの製造方法は、生産性に優
れ、且つ得られるフィルムも透明性に優れたものである
ということができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明で利用することができるセルローストリ
アセテートのドープと微粒子の分散液を混合して流延す
るまでの工程の一例を示す工程図である。
【図2】本発明で好ましく利用することができるセルロ
ーストリアセテートのドープと微粒子の分散液を混合し
て流延するまで工程の一例を示す工程図である。
【符号の説明】
1a、1b、21a、21b 溶剤 2a、2b、22a、22b セルローストリアセテー
ト 3a、23a 可塑剤 4b、24b 微粒子 5b、25b 紫外線吸収剤 6、26 ドープ用ミキシングタンク 7、27 ドープストックタンク 8、28 ドープフィルター 9、29 流延口 10、30 ドラム 11、31 送液ポンプ 12、32 微粒子分散液用ミキシングタンク 13、33 分散機 14、34 分散液ストックタンク 35 スタチックミキサー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年8月26日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0035
【補正方法】変更
【補正内容】
【0035】
【実施例】 [実施例1]前記図2の工程図に従って、セルロースト
リアセテートフィルムを作製した。セルローストリアセ
テート(酢化度:61%)100重量部、TPP(トリ
フェニルホスフェート)12重量部、メチレンクロライ
ド360重量部、メタノール40重量部及び1−ブタノ
ール20重量部を図2のミキシングタンク26に投入
し、加熱攪拌することにより、セルローストリアセテー
トを溶解させてドープを調製した。別に、メチレンクロ
ライド80重量部、メタノール20重量部及びセルロー
ストリアセテート3重量部を図2のミキシングタンク3
2に投入し、加熱攪拌してセルローストリアセテートを
溶解させ、さらに表面にメチル基を有する二酸化ケイ素
微粒子(商品名:アエロジルR972D、一次粒子の平
均粒径:0.016μm;日本アエロジル(株)製)
0.5重量部を投入混合し、分散機33に移して、上記
微粒子の分散液中での平均粒径が0.3μmとなるよう
に分散させて分散液を調製した。平均粒径は、下記の評
価1)の方法に従い測定した。ドープストックタンク2
7から上記調製したドープを100重量部、同時に分散
液ストックタンク34から分散液8重量部を送り出し、
そして、これらをスタチックミキサー35により充分混
合し、次いで流延口29から混合液(ドープ)をドラム
30上に流延した。その後、多数のロールを有する熱処
理装置の中を搬送することにより乾燥し、厚さ80μm
のセルローストリアセテートフィルムを作製した。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0036
【補正方法】変更
【補正内容】
【0036】[実施例2]前記図1の工程図に従って、
セルローストリアセテートフィルムを作製した。セルロ
ーストリアセテート(酢化度:61%)100重量部、
TPP(トリフェニルホスフェート)12重量部、メチ
レンクロライド360重量部、メタノール40重量部及
び1−ブタノール20重量部を図1のミキシングタンク
6に投入し、加熱攪拌することにより、セルローストリ
アセテートを溶解させてドープを調製した。別に、メチ
レンクロライド80重量部、メタノール20重量部及び
セルローストリアセテート3重量部を図1のミキシング
タンク12に投入し、加熱攪拌してセルローストリアセ
テートを溶解させ、さらに二酸化ケイ素の微粒子(商品
名:アエロジルR972D、一次粒子の平均粒径:0.
016μm;日本アエロジル(株)製)0.5重量部を
投入混合し、分散機13に移して上記微粒子の分散液中
での平均粒径が0.3μmとなるように分散させて分散
液を調製した。そしてこの分散液を上記ドープ100重
量部に対して8重量部の割合で添加し、ミキシングタン
ク6で混合した。得られた混合液を、ドープストックタ
ンク7に送り、適宜ドープフィルター8を介して流延口
9に送り、流延口から混合液(ドープ)をドラム10上
に流延した。その後、多数のロールを有する熱処理装置
の中を搬送することにより乾燥し、厚さ80μmのセル
ローストリアセテートフィルムを作製した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 1:00

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セルローストリアセテートと、該セルロ
    ーストリアセテート中に分散された表面にメチル基を有
    する微粒子からなることを特徴とするセルローストリア
    セテートフィルム。
  2. 【請求項2】 該微粒子が、ケイ素原子を含有する化合
    物からなる請求項1に記載のセルローストリアセテート
    フィルム。
  3. 【請求項3】 該フィルムが、偏光板用の保護フィルム
    である請求項1に記載のセルローストリアセテートフィ
    ルム。
  4. 【請求項4】 セルローストリアセテートを溶剤に溶解
    することにより予め調製されたドープと、表面にメチル
    基を有する微粒子を溶剤又は溶剤とセルローストリアセ
    テートとの混合溶液に分散することにより予め調製され
    た分散液とを混合した後、該混合液を支持体上に流延
    し、次いで乾燥することからなるセルローストリアセテ
    ートフィルムの製造方法。
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