JPH07101519B2 - 光ヘッド装置 - Google Patents

光ヘッド装置

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JPH07101519B2
JPH07101519B2 JP62251025A JP25102587A JPH07101519B2 JP H07101519 B2 JPH07101519 B2 JP H07101519B2 JP 62251025 A JP62251025 A JP 62251025A JP 25102587 A JP25102587 A JP 25102587A JP H07101519 B2 JPH07101519 B2 JP H07101519B2
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哲雄 細美
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスクあるいは光カードなど、光もしく
は光磁気媒体上に記憶される光学情報を記録・再生する
光ピックアップヘッド装置に関する。
従来の技術 高密度・大容量の記憶媒体として、ピット状パターンを
用いる光メモリ技術は、ディジタルオーディオディス
ク,ビデオディスク,文書ファイルディスク,さらには
データファイルと用途を拡張しつつ、実用化されてきて
いる。ミクロンオーダに絞られた光ビームを介して情報
の記録再生が高い信頼性のもとに首尾よく遂行されるメ
カニズムは、ひとえにその光情報をピックアップする構
成、とりわけその光学系に因っている。光ピックアップ
ヘッド装置(以下OPUと略す)の基本的な機能は、
(i)回折限界の微小スポットを形成する集光性、(i
i)前記光学系の焦点制御とピット信号検出、および(i
ii)同トラッキング制御の3種類に大別される。これら
は目的,用途に応じて、各種の光学系ならびに光電変換
検出方式の組合せによって実現されている。第8図は、
従来のOPUの一例を示す模式図である。通常TE00モード
で発振する半導体レーザ光源1からの発散波面(電場:
水平偏波)をコリメートレンズ2で平行ビームとし、偏
光ビームスプリッタ109で左方の四分の一波長板(1/4λ
板)11に選択反射する。1/4λ板を通過した円偏光波面
は、集光レンズ系3で大略1μm程度のスポットに絞ら
れ、光記憶媒体面4上に到達し、ピット状パターン40を
照射する。媒体面6で反射・回折された光束は、再び集
光レンズ系3を逆に進んで四分の一波長板11を通過する
と垂直偏波の平行ビームとなり、偏光ビームスプリッタ
10を透過してプリズムハーフミラー12で2方向に分割さ
れる。一方の反射光は集光レンズ20、ならびに非点収差
を付与する円柱状レンズ13を通って四分割フォトディテ
クタ14に入射し、焦点制御信号に変換される。他方の透
過光は、ファーフィールドパターンのまま、トラッキン
グ制御信号検出用の二分割フォトディテクタ7に入る。
ここで、1/4λ板11は、偏光ビームスプリッタ10と組合
わせることによって、光量の利用効率を高めることと同
時に、半導体レーザへの戻り方を抑圧して、信号光成分
に不要なノイズが増加しないための工夫である。しか
し、再生専用ディスクのOPUでは、光量設計に余裕があ
り、1/4λ板と偏光ビームスプリッタを省くことが可能
であり、とくに小型化,低価格化のためには、部品の省
略,複合化が計られている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、再生専用OPUにおいても、ビーム分割手
段、非点収差あるいはナイフエッジ法などによる焦点制
御手段、またトラッキング制御手段を独立、もしくは結
合して構成する必要がある。そのために従来用いられて
きた光学部品は、ビームスプリッタ,レンズ,プリズム
等いずれも大量に製作・組立・調整することは容易でな
く、小型化,低価格化,量産性,高信頼性の面で問題が
あった。
これらの問題が生じる共通の理由として、第1に高精度
の平面あるいは非球面を要する光学部品は、多くの工程
を経て初めて所望の加工が実現されるのでプレス手段等
を用いるが如き生産が一般に困難であること、第2に多
数の部品を組み合わせて所定の総合性能を発揮させるた
めには、組立・調整にも多くの時間と複雑な検査・測定
装置を要すること、第3に部品の小型化に限界があると
ころから、全光学系の小型化にも大きな制約があった。
これらの問題を部分的に解決する方法として、たとえ
ば、第8図のコリメートレンズ2(あるいは20)をフレ
ネルレンズで構成し、金型を用いてプレス加工成形する
技術が開発されてきている。しかし、これは部品点数の
削減にはならず、面数がより多い部品であるプリズム形
ビームスプリッタなどは置き換えられないまま残され
る。また、加工精度の限界からもっとも高性能な集光を
要求されるレンズ3も代替され得ない。
上述の理由は、複合機能を有する光学素子を導入するこ
とにより解決されるとして、第7図に示すごときホログ
ラム素子16を集光レンズ3に接近させて配置する試みも
最近報告されている。((1)木村,小野,須釜,太
田;61年秋季 応用物理学会予稿集,30p−ZE−1,p.227
(1986)。(2)同;第22回微小光学研究会講演論文;v
ol.4(1986)p.38)従来、ホログラム記録に適した波長
域(λ1:400〜500nm)で素子を作成し、OPU光源として
適する近赤外あるいは赤色レーザ(λ2:〜800nm,633n
m)で再生すると、ホログラムのレンズ作用に対して顕
著な収差が発生し、その補正が困難であった。そこで、
ホログラム素子は、同図aに示すような光学系を用いて
2点P1,P2と参照光源Rとの干渉縞(実際にはホログラ
ム面の片側半分には波面230と231、残る片面に波面230
と232との干渉縞)をξ−η面で形成した、いわゆるレ
ンズレスフーリェ変換ホログラム系の考え方で設計され
ており、同図bのごとくして「ウェッジプリズム法」あ
るいは「ダブルナイフエッジ法」と等価な効果を有する
ようにホログラム素子16は161と162の部分に2分割した
形で、電子ビーム描画によって実現される。同図cは光
検出器15上での光スポットを模式的に示してる。こうす
ると、確かに使用する光源1の設計波長λに限って
は、無収差のホログラムレンズが作成でき、しかも、光
源の若干のスペクトル幅の変動に対する収差がビーム検
出器(フォトディテクタ)15の光電変換面上に現われて
も、4分割光電変換面151,152,153,154を用いたプッシ
ュプル法で変動を実用上支障ない範囲に押えることが可
能となる。しかし、第7図の素子16の微細パターンは電
子ビーム描画にて形成するのが好都合であるが、電子ビ
ーム描画が可能な素子16のパターンは、格子や双曲線形
状のような単純パターンの場合に限定され、もっと一般
のホログロム系を精度よく形成する技術は全く開示され
ていない。また従来方式の光学系では一般に第7図cか
らもわかる如く、ビームに対する光検出器15の位置精度
は数ミクロンのオーダを要求される問題もあった。
本発明は、OPUの焦点ならびにトラッキング制御を安定
に実現する単純な回折素子を用いた光ヘッド装置を提供
するものであり、電子ビーム描画とか特定波長での記録
再生といった制約を課することなく、もっと一般的な光
学原理に立脚したホログラム素子を用いて簡単化された
光学系を構成可能ならしめる。
従来開示されているピックアップ用ホログラム素子と本
発明になる回折(ホログラム)素子との相違について
は、以下の説明で順次、具体的に明らかにされる通りで
あるが、ここで、特に複合機能の面から見た従来素子の
制約と本発明の目的とするところを対比して要約してお
こう。
(1) 入射・反射光分離手段として両者とも機能する
が、焦点誤差ならびにトラッキング誤差検出に用いられ
る光ビームとして従来のホログラム素子は、「ウェッジ
プリズム法」によっており、この光学系をホログラム系
で構成する限りでは、光源から出射する光ビームが往路
のホログラムで回折され、対物レンズで集光された複数
スポットのビームを、無視できないパワー密度でディス
ク上に結像してしまう。回折光成分を抑圧するために
(i)ホログラムの搬送波周波数を高くして対物レンズ
開口でのケラレを大きくする、(ii)ホログラム素子と
対物レンズとの間隔を大きくして同様の効果を高くす
る、(iii)ホログラムの回折効率を低く押えるといっ
た方法が考えられるが、(i)は光源の波長変動の影響
を大きくして光検出系の信頼性を損い、(ii)は装置の
小型化を困難とし、(iii)は信号検出のS/N比を低く
し、また記録再生用の光ヘッドとしての機能達成を難し
くする。本発明ではファールフィールドで焦点誤差検出
可能な構成によって上記の問題を解決している。
(2) 従来ホログラム素子は、集束パワーとしてのレ
ンズ機能を極力抑えた「レンズレスフーリェ変換型ホロ
グロム」として構成されたが、ピックアップ光源の設計
波長λからのわずかな波長ずれ(Δλ=±20nm)に対し
てもフォーカスオフセットを生じ、半導体レーザのロッ
トによる波長ずれを調整するためにフォトディテクタを
光軸方向に位置調整するめんどうな工程を設ける必要が
あった。本発明では、回折素子に長焦点のフレネルゾー
ンプレートを用いるが、集束パワーは別のレンズに依る
ので光源波長変動に伴う焦点位置変動はわずかであり、
しかもファーフィールドでの差動検出方式によって安定
な信号検出が可能である。
(3) 光検出器の調整に関して、従来方式はホログラ
ム系の有無を問わず、光電変換面内ならびに光軸方向の
位置精度を厳しく要求された。前者で5〜10ミクロン程
度、後者は数十ミクロンのオーダが必要とされる場合が
多い。本発明では光検出器の調整精度を緩和可能として
極めて簡単な調整工程もしくは無調整での光ヘッド製作
を実現しようとするものである。
問題点を解決するための手段 本発明は上述の問題点を解決するために、半導体レーザ
の如きコヒーレント光源と、コヒーレントビームを微小
スポットに収束する光学系と、軸外方向に複数波面を生
成する回折素子を組合わせることによって、所定形状で
比較的大面積の光電変換面上に所望のビーム制御用なら
びに再生情報を得られる構成を備えたものである。前記
回折素子としては、もっとも単純な構成としては第1の
軸はずしフレネルゾーンプレート(off−axis Fresnel
zone plate)およびこれと等しい焦点距離を有する第2
の軸はずしフレネルゾーンプレートを所定光軸間距離を
与えて重畳した形態によって実現される。また、さらに
望ましい構成としては、レンズフーリェ変換ホログラム
によって目的とする同様の波面を正確に生成しうる。
作用 本発明では2焦点を生成する回折素子に弱いレンズ作用
を持たせて集光(あるいはコリメート)レンズ系と合成
して用いるので、フォーカシング誤差信号はディスクに
集光したビームのファーフィールドで差動光検出され
る。
すなわち、2つのフレネルゾーンプレートが弱い凸レン
ズならびに弱い凹レンズとして作用することにより、差
動光検出器の前後面に各々集光するビームが生成され、
フォーカシング誤差は光検出面上の2つのビームサイズ
の差異として検出可能となる。
この構成によって、光学系ならびに光検出器の調整制度
が緩和される。
本発明ではまた、単純な形態の2ビームをファーフィー
ルドで検出する構成であるので、(iii)光検出器の領
域分割方向(境界線)が回折素子からの0次回折光収束
点を中心とする放射状方向にほゞ沿う如く設計すること
によって光源の波長変動、もしくはマルチスペクトル成
分に対する信号劣化を容易に回避できる。
実施例 第1図は、本発明の一実施例によるOPU装置の概略構成
を示す。同図aにおいて、1は赤外領域あるいはこの領
域よりも短波長域のコヒーレントビームを発する半導体
レーザ(たとえば波長λ800nm)、2はコリメート
レンズ(焦点距離fc20mm)、3は集光用の対物レン
ズ、4は光記憶媒体(光ディスク)であって、光源1か
ら発したビームはコリメートレンズ2で平行ビームとさ
れ、レンズ3でディスク4上に集光される。このとき回
折素子6は軸外2焦点回折素子であってレンズ2,3の間
に介在して、往路ではその0次透過光がディスク4に集
光されることになる。42は基板、41は保護膜である。デ
ィスク4上で反射されたビームは復路で再びレンズ3を
通過してほゞ平行光とされた後回折素子6に入射して、
0次透過光の他に軸外に焦点の異なる2波面61,62を生
成する。反射型でなく透過型ディスクにおいても以下の
構成は全く同様に適用される。前記2波面はコリメート
レンズ2によって収束され、0次透過光の収束点(光源
1の発光点10)を含んでレンズ2の光軸に垂直な面111
とは前後する位置の2面に各々焦点を結ぶ。5は光を受
けるディテクタで検出器51,52よりなる。各焦点面と面1
11との間隔はδ=δ=δと設計するが、たとえば非
点収差法での非点隔差に比べδ+δは1桁程度大き
くとれるのでδ≠δとなってもその誤差は従来より
大幅に許容される。
同図bは面111に配置された第1および第2の光検出器5
1,52と発光点10の関係を示している。図中、光検出器5
1,52の光電変換面での入射ビームは610,620のごとくな
り、発光点を通る直線X−X′上に並ぶ。
第2図は本発明の別の実施例を示す概念図である。第1
実施例では透過型回折素子を用いているのに対し、本実
施例では反射型ホログラム素子66を使って、光軸をα
90゜として折曲げている。またコリメートレンズを使用
せず対物レンズ系30だけで結像光学系を構成して、小型
化を計り、部品点数をより少なくしている。
第3図は本発明の更に別の実施例を説明したもので、先
の2例と異なる点は、光源1からの往路とは分離された
復路で制御ビームを得られるように偏光ビームスプリッ
タ109と波長板9を設けていること、および第3のフォ
トディテクタ7によってトラッキング検出を別途行なう
構成としたことである。ここで波長板9は、偏光ビーム
スプリッタ10との性能バランスを容易にする目的でλ/5
程度の設計とし、戻り光量の最適化を計って信号検出の
S/N比を極大にしている。ミラー8は光路折り曲げ用で
ある。この場合はホログラム666をブレーズ化して極大
の回折効率をもたせることができる。
さて、以上の実施例における光検出器の構成を詳しく説
明しよう。第4図は第1図bで示した光検出器51および
52の各分割領域で検出されるビーム610,620の関係を模
式的に表わしている。第4図bはディスク上に合焦点の
スポットが形成された場合で、両ビーム610,620は等し
い径,等しい光パワー密度で光電変換される。したがっ
て検出領域51,52の3分割領域の1つ510および520から
は等しい出力が検出され、その差動出力はゼロとなる。
すなわちフォーカス誤差信号FEは各領域jからの出力を
Sjと表わせば FE=S510−S520=0 第4図cではディスクへの集光スポットがデフォーカス
状態となって、回折素子6への入射光は平面波でなく、
例えば発散波となり、このため回折素子に含まれる凸レ
ンズ作用を受ける波面61の焦点は光検出器側に接近す
る。他方凹レンズ作用を受ける波面62は光検出器からさ
らに遠方の点に焦点を結ぶ。この結果、 FE=S510−S520>0 光ディスクがもし逆相に移動してデフォーカス状態とな
ると第4図aの如く、状態は対称的に逆転し FE=S510−S520<0 となる。設計例では各領域寸法として、W0=W1=W2=0.
05mm、また点10との距離をl1=1mm,l2=0.65mm、合焦点
時のビーム寸法D=0.10mmφ,δ=δ=0.4mm、た
ゞし、コリメートレンズの焦点距離をf2=20mm,レンズ
開口径を5mmφとした。
実際のディスク装置では、光ディスク面のデフォーカス
量±5μm程度に対応する光検出器面での焦点変移量±
100μ程度を主たる動作域に設計すればよく、第4図に
おけるビーム径は最大125μmφ,最小75μmφ程度の
範囲で変化することになる。
トラッキング誤差信号TEは、第1図でトラックが図面に
平行方向に向いているとすれば(第1図の情報記録面上
の凹凸はトラックに沿った信号ピットの断面を示す)、 TE=(S511+S521)−(S512+S522) を演算して得られる。TF,TEいづれについても本発明の
場合は第7図cのような場合に比べて光検出器調整精度
が大幅に緩和されることがわかる。
光源として半導体レーザを使用する場合、温度変化ある
いは電流変化による波長シフトの問題がある。本発明で
は第4図のごとく分割境界の方向がホログラムの空間搬
送波周波数の方向に一致させてあるので第4図bに破線
で示したようなビーム変移(611のビームがΔl1、621の
ビームがΔl2)を生じても支障は起らない。ビームの倍
率変化は中心波長λからλ+Δλへの変動に対して
は、両ビームとも等しく であり、ビーム径変化に伴う差動出力信号の異常はやは
り生じない。
第5図は本発明の実施例に共通して用いうる別の光検出
器配列構成を説明したものであって、第4図の場合と異
なり、第1,第2の光検出器51,52は発光点10から等距離
lにあり、かつ分割境界線が、点10から放射状に伸びる
線上に一定角度θをなして形成されている。ホログラム
の搬送波周波数の絶対値を2つのビームで等しくさせる
ことができる利点があるので、大きな波長変動を伴う光
源とともに用いる場合には、lを極小に設計して目的を
達成することができる。発光点10にほゞ一致する点100
を中心として回折素子(ホログラム)もしくは光検出器
を微小角回転(98又は99へ)することにより、ビーム位
置611,612(互いに角θだけ離れている)との調整が完
了する。
第6図は、本発明の実施例に共通して使用可能なレンズ
フーリェ変換ホログラムの記録光学系の一実施例を示す
概念図である。コヒーレントな平面波91で照明された屈
折率分布型ロッドレンズ901,902,900は所定の空間位置1
01,102,100に焦点を結び、さらにフーリェ変換レンズ9
を介して記録媒体60の上で互いに重畳され、レンズフー
リェ変換型ホログラムを形成する。レンズフーリェ変換
ホログラムの特質については、文献((3)「ホログラ
フィによる漢字メモリ」,加藤,藤戸,佐藤;画像電子
学会 研究会予稿79−04−1(1979.11.)(4)“Spec
kle reduction in holography……",M.Kato et al;アプ
ライド オプティクス(Appl.Opt.),14(1975)1093)
等に詳しく報告,解析されているように、一般画像の記
録再生光学系に適用された実績((5)「光学式漢字編
集処理システム」佐藤他;電子通信学会研究会資料,EC7
8−53(1978)47)を有するが、本発明では、ビーム制
御用手段として実用上支障ない限り、再生光学系光軸近
傍波面についてフーリェ変換が成立すればよく、ホログ
ラム素子からの波面再生に用いるレンズは、コリメート
レンズで代用できるし、あるいは単にホログラム素子を
収束球面波で照射するだけで、その集光面上に所望の再
生像を得ることが可能である。さて、第6図の記録光学
系で101,102のx軸とのz方向での間隔Δ1として設計することができる。ここでMは倍率、f1は記
録用フーリェ変換レンズ99の焦点距離、f2は再生用フー
リェ変換レンズの焦点距離に相当するもので、第1図で
はコリメートレンズ2の焦点距離、第2図ではホログラ
ムに入射する収束波の曲率半径f2である。ロッドレンズ
光軸間の距離L1,L2も第4図のl1,l2に対してML1=l1,ML
2=l2の関係にある。第1〜3図で述べた光ヘッド光学
系,光検出系との寸法的な整合をとるためには、記録用
フーリェ変換レンズの焦点距離f1を50〜100mm程度とす
るとL1,L2は1〜2mm程度となる。通常のレンズ光学系に
よっては所望のホログラムを得難いが、ロッドレンズは
径が1mm程度のものは容易に実現できる。
発明の効果 以上のように本発明になる光ヘッド装置は、光ビーム制
御に回折素子から生成される2波面を用い、かつ光ディ
スクに集光されたスポットのファーフィールドパターン
を光検出器で差動検出する構成をとることによって以下
の優れた効果をもたらすものである。
(i) 回折素子をビームスプリッタとして機能させた
従来方式では往路で生じる±1次をはじめとする高次回
折成分が光ディスクに集光するが、本発明ではデフォー
カスパターンとなるのでパワー密度は従来例に比べ2桁
以上小さくなり、不要記録ならびにサーボ動作不良を防
止できる。
(ii) 回折素子によって制御ビームを生成した場合の
弱点とされる光源の波長変動に対して、本発明では光検
出器分割線をホログラムの空間搬送波周波数方向に一致
させること、および差動型の演算出力によって問題を解
決している。
(iii) 従来一般に光検出器の位置調整は、3軸方向
について各軸とも厳しい精度を要求されたが、本発明で
はこれを大幅に緩和することができ、回折素子あるいは
光検出器の回動調整程度の簡単な工程によって高信頼度
の光ヘッド装置を製作可能である。
(iv) 本発明になる回折素子は、単純なゾーンプレー
ト型素子であって極めて高精度,高回折効率のものを容
易に大量複製可能である。
以上のごとく、本発明の光ヘッド装置は小型化,軽量
化,高信頼性,量産性,および経済性に優れた新規技術
を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す光ヘッド装置の概略構
成図、第2図は本発明の別の実施例を説明する原理説明
図、第3図は本発明の他の実施例を説明する光ヘッド装
置の概略構成図、第4図は光検出器の動作を説明した本
発明の原理図、第5図は本発明の光検出器の更に別の実
施例に関する構成概念図、第6図は本発明の回折素子を
ホログラムとして実現する記録光学系を説明する一実施
例の構成図、第7図は従来のホログラム素子を用いた光
ヘッド光学系の構成概念図、第8図は従来の光ヘッド光
学系の構成例を示す構成図である。 1……半導体レーザもしくは相当のコヒーレント光源、
2……コリメートレンズ、3……集光光学系、4……光
ディスク、5……光検出器、51……第1フォトディテク
タ、52……第2フォトディテクタ、6……回折素子、66
……反射型ホログラム素子、7……第3フォトディテク
タ、8……反射ミラー、9……1/5波長板、10……光源
発光点、11……1/4波長板、99……フーリェ変換レン
ズ、60……記録媒体、900,901,902……屈折率分布型ロ
ッドレンズ、16……従来の複合機能ホログラム素子。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−121644(JP,A) 特開 昭60−212835(JP,A) 特開 昭60−171644(JP,A) 特開 昭62−97141(JP,A) 特開 昭62−172538(JP,A) 特開 昭62−277640(JP,A)

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】コヒーレントビームもしくは準単色のビー
    ムを発する光源と、 前記コヒーレントビームもしくは準単色のビームを微小
    スポットに収束する集光光学系と、 前記光学系を介して前記コヒーレントビームもしくは準
    単色ビームが所定の光記憶媒体によって反射され、前記
    集光光学系および前記光源へ逆進する往復光路中に配置
    され、前記光学系光軸の軸外方向に同一次数で焦点が異
    なる2つの波面を生成する回折素子と、 前記往復光路の復路において、前記回折素子からの0次
    透過光の収束点と一致する前記光源の発光点から延長し
    た延長線と平行な2辺を、少なくとも1組もつ矩形受光
    部を有しており、前記2つの波面を焦点近傍の同一平面
    で各々受光する第1および第2の光検出器を備え、 前記光検出器は、前記光源の近傍に配置されており、 前記回折素子には、前記2つの波面を各々生成するため
    に、2つのフレネルゾーンプレートが全面にわたって重
    畳されており、 前記2つの波面はそれぞれ焦点が前記光検出器の前後に
    あり、 前記2つの波面の強度分布形状が、前記光検出器上でほ
    ぼ円形であることを特徴とする光ヘッド装置。
  2. 【請求項2】回折素子がフーリエ変換ホログラムである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ヘッド
    装置。
  3. 【請求項3】回折素子が反射型ホログラムであって、放
    射光源より出射するビーム方向と約45度をなしてホログ
    ラム面が設けられていることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の光ヘッド装置。
  4. 【請求項4】第1および第2の光検出器を、各々3個の
    矩形受光部で分割構成したことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の光ヘッド装置。
  5. 【請求項5】コヒーレントビームもしくは準単色のビー
    ムを発する光源と、 前記コヒーレントビームもしくは準単色のビームを微小
    スポットに収束する集光光学系と、 前記光学系を介して前記コヒーレントビームもしくは準
    単色ビームが所定の光記憶媒体によって反射され、前記
    集光光学系および前記光源へ逆進する往復光路中に配置
    され、前記光学系光軸の軸外方向に同一次数で焦点の異
    なる第1および第2の波面を生成する回折素子と、 前記往復光路の復路において、前記回折素子からの0次
    透過光の収束点と一致する前記光源の発光点から延長し
    た延長線と平行な2辺を、少なくとも1組もつ矩形受光
    部を有しており、前記2つの波面を焦点近傍の同一平面
    で各々受光する第1および第2の光検出器を備え、 前記光検出器は、前記光源の近傍に配置されており、 前記回折素子には、前記2つの波面を各々生成するため
    に、2つのフレネルゾーンプレートが全面にわたって重
    畳されており、 前記2つの波面はそれぞれ焦点が前記光検出器の前後に
    あり、 前記2つの波面の形状が前記光検出器上でほぼ円形であ
    り、 第1および第2の光検出器の矩形受光部における、前記
    光源の発光点から延長した延長線と平行な辺は、前記第
    1および第2の波面を生成する回折素子パターンの搬送
    波周波数方向に各々ほぼ一致ないし、平行する方向に設
    けられたことを特徴とする光ヘッド装置。
  6. 【請求項6】第1および第2の光検出器の矩形受光部に
    おける、光源の発光点から延長した延長線と平行な辺の
    なす角度が、90度より小さいことを特徴とする特許請求
    の範囲第5項記載の光ヘッド装置。
  7. 【請求項7】第1および第2の光検出器がフォトディテ
    クタであって、前記フォトディテクタを単一基板に集積
    したことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の光ヘ
    ッド装置。
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