JP2683918B2 - 情報面を光学的に走査する装置 - Google Patents
情報面を光学的に走査する装置Info
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Description
本発明は、走査ビームを放出するダイオードレーザ
と、前記走査ビームを集束させて情報面に走査スポット
を形成させる対物システムと、前記ダイオードレーザと
前記対物システムの間に配置されている複合回折グレー
ティングとを有し、そのグレーティングが、前記情報面
で反射された放射線ビームを２個の検知器対を有する放
射線検知システムに偏向させ、かつ当該放射線ビーム
を、各々のサブビームが分離された検知器対と協動する
２本のサブビームに分割させる２個のサブグレーティン
グを有する、情報面を光学的に走査する装置に関する。
と、前記走査ビームを集束させて情報面に走査スポット
を形成させる対物システムと、前記ダイオードレーザと
前記対物システムの間に配置されている複合回折グレー
ティングとを有し、そのグレーティングが、前記情報面
で反射された放射線ビームを２個の検知器対を有する放
射線検知システムに偏向させ、かつ当該放射線ビーム
を、各々のサブビームが分離された検知器対と協動する
２本のサブビームに分割させる２個のサブグレーティン
グを有する、情報面を光学的に走査する装置に関する。
予め記録されている記録担体を読み出し、又この種の
記録担体に光学的に記録を行うのに基本的に適したこの
種の装置は、米国特許明細書第4,665,310号により知ら
れている。この装置に於て、複合回折グレーティング
は、本来２個の別個の素子を必要とする、二種類の機能
を果す。第一に、このグレーティングは、情報面で反射
し対物システムを横切った放射線を、ダイオードレーザ
から放出される放射線の光路から偏向させて、その反射
放射線の光路が検知器に当たるようにさせる。第二に、
このグレーティングは、反射ビームを、集束エラー信号
（つまり、対物システムと情報面の間の焦点面のずれの
大きさと方向に関する情報）を含む信号を発生させるの
に必要とされる２本のサブビームに分割させる。各サブ
ビームは個々の検知器の対に対応し、その対からなる検
知器の出力信号の差は情報面を走査するビームのフォー
カシングの目安となる。 当該記録担体に於て、情報は情報トラックに基づいて
配置されている。もし２個のサブグレーティングの間の
境界線がトラック方向と平行に位置する場合には、各検
出器の対の出力信号の合計を決定しかつこれらの合計信
号を相互に減算することによって、走査スポットの中心
と走査される情報トラックの中心軸とのずれの大きさと
方向に関する情報を含む信号を形成することが可能とな
る。 この既知の装置の場合、所望のビームを得るために、
回折グレーティングはグレーティング周期が同じ２個の
サブグレーティングにより構成されている。ここで、第
１のサブグレーティングのグレーティング縞は第１の角
度を有し、第２のサブグレーティングのグレーティング
縞は、２個のサブグレーティングの境界線の反対側にあ
って第１の角度と等しい第２の角度を有している。回折
グレーティングは、グレーティングラインの方向を横断
する面の入射ビームを偏向させるので、一方のサブグレ
ーティングに入射する部分のビームと他方のサブグレー
ティングに入射する部分のビームには異なった方向が与
えられる。
記録担体に光学的に記録を行うのに基本的に適したこの
種の装置は、米国特許明細書第4,665,310号により知ら
れている。この装置に於て、複合回折グレーティング
は、本来２個の別個の素子を必要とする、二種類の機能
を果す。第一に、このグレーティングは、情報面で反射
し対物システムを横切った放射線を、ダイオードレーザ
から放出される放射線の光路から偏向させて、その反射
放射線の光路が検知器に当たるようにさせる。第二に、
このグレーティングは、反射ビームを、集束エラー信号
（つまり、対物システムと情報面の間の焦点面のずれの
大きさと方向に関する情報）を含む信号を発生させるの
に必要とされる２本のサブビームに分割させる。各サブ
ビームは個々の検知器の対に対応し、その対からなる検
知器の出力信号の差は情報面を走査するビームのフォー
カシングの目安となる。 当該記録担体に於て、情報は情報トラックに基づいて
配置されている。もし２個のサブグレーティングの間の
境界線がトラック方向と平行に位置する場合には、各検
出器の対の出力信号の合計を決定しかつこれらの合計信
号を相互に減算することによって、走査スポットの中心
と走査される情報トラックの中心軸とのずれの大きさと
方向に関する情報を含む信号を形成することが可能とな
る。 この既知の装置の場合、所望のビームを得るために、
回折グレーティングはグレーティング周期が同じ２個の
サブグレーティングにより構成されている。ここで、第
１のサブグレーティングのグレーティング縞は第１の角
度を有し、第２のサブグレーティングのグレーティング
縞は、２個のサブグレーティングの境界線の反対側にあ
って第１の角度と等しい第２の角度を有している。回折
グレーティングは、グレーティングラインの方向を横断
する面の入射ビームを偏向させるので、一方のサブグレ
ーティングに入射する部分のビームと他方のサブグレー
ティングに入射する部分のビームには異なった方向が与
えられる。
“CDプレーヤ”として知られている様な光学記録担体
を光学的に走査する装置を小型化する、例えばこれらの
装置の組み込みにより容易にさせる様な、必要性が増大
している。ダイオードレーザと記録担体の間の光路長が
減少することは特に重要である。もしダイオードレーザ
と回折グレーティングとの間の距離を減少させることが
出来れば、この光路長も減少させることが出来る。この
距離を減少させるとき、ダイオードレーザビームの１次
以上の回折をこのレンズシステムの瞳の外側に位置させ
ると言う要求を満たしつつ、回折グレーティングとイメ
ージングレンズシステムの間の距離も又、減少させるこ
とが出来る。この装置の組立の際には、装置の光学軸に
沿った方向のダイオードレーザと検知器との間の距離を
正確に調整出来ることが必要である。何故ならば、さも
ないと、フォーカスエラー信号に於るオフセットが発生
し走査ビームが情報面に集束しなくなるからである。 より低価格、軽量そして小型の装置を得る目的では、
例えば半導体素子メーカーにより供給される素子を利用
するのが都合がよい。その素子には、ダイオードレーザ
とフォトダイオードの形態での検知器とが組み込まれて
いて、ダイオードレーザとフォトダイオードは相互に固
定されている。当該距離が所望の距離からずれると、集
束エラー信号のオフセットが生じると言う事実に対し
て、製造上の許容誤差を考慮しておく必要がある。この
ずれの影響は、回折グレーティングとダイオードレーザ
の間の距離が小さくなるほど大きくなる。 本発明によると、ダイオードレーザとフォトダイオー
ドの間の光軸方向での距離が正確でない結果発生する走
査装置に於ける集束オフセットを補償することが可能と
なる。 米国特許第4,665,310号に明示されているように、こ
こに記載されているグレーティングは、それ以前に提案
された複合回折グレーティングに基づいて設計されてい
る。そのグレーティングは、一方のサブグレーティング
のグレーティング縞が他方のサブグレーティングのそれ
と同一の方向を有し、両者のサブグレーティングのグレ
ーティング周期が相違している２個のサブグレーティン
グから構成されている。このような複合グレーティング
からなる装置の場合、２本のサブビームは、検知面に垂
直な面内の曲線上の放射線スポットに集束される。その
結果、もし検知器の対が一平面上に位置している場合に
は、２個の放射線スポットをそれらが対応する検知器対
に対し、等しくシャープに集束させることが出来ない。
従って、一方のサブグレーティングのグレーティング縞
が他方のサブグレーティングのそれに対してある角度を
なしている様な複合回折グレーティングを有する素子に
比較して、この様な素子の場合には、集束エラー信号に
於けるオフセットがずっと早く発生する。 従って、そして又以下に述べる理由によって、本発明
は、グレーティングラインが平行である２個のサブグレ
ーティングからなる回折グレーティングにより構成され
ている装置の使用にも非常に適している。
を光学的に走査する装置を小型化する、例えばこれらの
装置の組み込みにより容易にさせる様な、必要性が増大
している。ダイオードレーザと記録担体の間の光路長が
減少することは特に重要である。もしダイオードレーザ
と回折グレーティングとの間の距離を減少させることが
出来れば、この光路長も減少させることが出来る。この
距離を減少させるとき、ダイオードレーザビームの１次
以上の回折をこのレンズシステムの瞳の外側に位置させ
ると言う要求を満たしつつ、回折グレーティングとイメ
ージングレンズシステムの間の距離も又、減少させるこ
とが出来る。この装置の組立の際には、装置の光学軸に
沿った方向のダイオードレーザと検知器との間の距離を
正確に調整出来ることが必要である。何故ならば、さも
ないと、フォーカスエラー信号に於るオフセットが発生
し走査ビームが情報面に集束しなくなるからである。 より低価格、軽量そして小型の装置を得る目的では、
例えば半導体素子メーカーにより供給される素子を利用
するのが都合がよい。その素子には、ダイオードレーザ
とフォトダイオードの形態での検知器とが組み込まれて
いて、ダイオードレーザとフォトダイオードは相互に固
定されている。当該距離が所望の距離からずれると、集
束エラー信号のオフセットが生じると言う事実に対し
て、製造上の許容誤差を考慮しておく必要がある。この
ずれの影響は、回折グレーティングとダイオードレーザ
の間の距離が小さくなるほど大きくなる。 本発明によると、ダイオードレーザとフォトダイオー
ドの間の光軸方向での距離が正確でない結果発生する走
査装置に於ける集束オフセットを補償することが可能と
なる。 米国特許第4,665,310号に明示されているように、こ
こに記載されているグレーティングは、それ以前に提案
された複合回折グレーティングに基づいて設計されてい
る。そのグレーティングは、一方のサブグレーティング
のグレーティング縞が他方のサブグレーティングのそれ
と同一の方向を有し、両者のサブグレーティングのグレ
ーティング周期が相違している２個のサブグレーティン
グから構成されている。このような複合グレーティング
からなる装置の場合、２本のサブビームは、検知面に垂
直な面内の曲線上の放射線スポットに集束される。その
結果、もし検知器の対が一平面上に位置している場合に
は、２個の放射線スポットをそれらが対応する検知器対
に対し、等しくシャープに集束させることが出来ない。
従って、一方のサブグレーティングのグレーティング縞
が他方のサブグレーティングのそれに対してある角度を
なしている様な複合回折グレーティングを有する素子に
比較して、この様な素子の場合には、集束エラー信号に
於けるオフセットがずっと早く発生する。 従って、そして又以下に述べる理由によって、本発明
は、グレーティングラインが平行である２個のサブグレ
ーティングからなる回折グレーティングにより構成され
ている装置の使用にも非常に適している。
本発明の装置の特徴は、前記装置内に配置される前記
ダイオードレーザと前記検知システムが相互に固定さ
れ、前記サブグレーティングのグレーティング周期が変
化していて、かつ前記２個のサブグレーティングの前記
グレーティング縞が曲線である点である。 グレーティング周期が変化していること及びグレーテ
ィング縞が曲線であることにより、複合グレーティング
はレンズ作用を有する。そのため、サブグレーティング
の間の境界線の方向にこのグレーティングの位置を変え
ることにより、対物システムと当該グレーティングとの
間のアセンブリのイメージング距離を、光軸方向のダイ
オードレーザとフォトダイオードの間の距離に適合させ
ることが出来る。 この発明の概念を用いると、直線のグレーティングラ
インを有する回折グレーティングを使用した時に生じる
可能性のあるコマ収差及び非点収差のようなイメージン
グエラーを修正することが可能である。この目的達成の
ためにグレーティングラインの曲りをグレーティングの
製造中に調整しても良い。 本発明による装置の第１実施例のさらに特徴とすると
ころは、前記２個のサブグレーティングの前記境界線の
領域で前記２個のサブグレーティングの前記グレーティ
ング縞が当該境界線に対し垂直で、かつ、前記２個のサ
ブグレーティングの対応する部分におけるグレーティン
グの周期とグレーティング縞の曲がりとが相違している
点である。従って両者のサブグレーティングのフォーカ
ルパワーは異なっている。 しかしながら、本発明の装置の好ましい一実施例のさ
らに特徴とするところは、サブグレーティングの対応す
る部分のグレーティング周期が同じであって、サブグレ
ーティングの対応する縞がサブグレーティングの境界線
に対して等しい角度で反対側に位置している点にある。 第１実施例と比較して、この実施例には米国特許第4,
665,310号に述べられた効果がある。 本明細書に於いては曲線のグレーティング縞を有する
回折グレーティングも、又、ホログラムと呼ぶことにす
る。1986年12月18日に日本で開催された“オプティカル
メモリ シンポジウム”でのNEC社による“多機能ホロ
グラムを用いたCDプレーヤ用のオプティカルヘッド”と
言う講演に関する刊行物には、ホログラムを光学読み取
り装置に使用する点が記載されている。このホログラム
は３つの機能を有し、それ等は、 ・ダイオードレーザビームと記録担体で反射されたビー
ムとを分離させ、 ・集束エラー検知用として後者のビームを２本のサブビ
ームに分割させ、そして ・トラッキングエラー信号を発生させることが出来る、 という機能である。 ここに述べられたホログラムはビームの入射部分を異
なった方向に偏向させる２個のサブホログラムからな
る。この刊行物は、本発明が解決方法を与えている問題
点には言及していない。何故ならば、この刊行物に於い
ては、ダイオードレーザとホログラムの軸方向の距離が
18mmであるからである。一方、この刊行物では、温度変
化によるダイオードレーザ波長の変化が検知面に形成さ
れた放射線スポットの質に与える影響の可能性が言及さ
れているのみである。複合ホログラムのフォーカルパワ
ーは実質上０であると記録されている。さらに、この刊
行物には、組立の間フォトダイオードの位置をレーザビ
ーム波長の変化に対応させる点が記載されている。この
刊行物の第１図の概略図に於ける、ホログラムの斜めの
線は、２個そのサブホログラムを区別する陰影と解すべ
きである。 本発明の装置のさらに特徴とするところは、複合回折
グレーティングがレリーフ構造を有する位相グレーティ
ングである点である。このようなグレーティングは、ア
ンプリチュードグレーティングに比較して、所望の偏向
方向でかなり高い効率を有し、さらに、マスタグレーテ
ィングから数多くのレプリカを既知の方法により低コス
トで製造することが出来ると言う効果を与えることが可
能である。この点はコンシューマ製品にグレーティング
を使用する際に特に重要となる。
ダイオードレーザと前記検知システムが相互に固定さ
れ、前記サブグレーティングのグレーティング周期が変
化していて、かつ前記２個のサブグレーティングの前記
グレーティング縞が曲線である点である。 グレーティング周期が変化していること及びグレーテ
ィング縞が曲線であることにより、複合グレーティング
はレンズ作用を有する。そのため、サブグレーティング
の間の境界線の方向にこのグレーティングの位置を変え
ることにより、対物システムと当該グレーティングとの
間のアセンブリのイメージング距離を、光軸方向のダイ
オードレーザとフォトダイオードの間の距離に適合させ
ることが出来る。 この発明の概念を用いると、直線のグレーティングラ
インを有する回折グレーティングを使用した時に生じる
可能性のあるコマ収差及び非点収差のようなイメージン
グエラーを修正することが可能である。この目的達成の
ためにグレーティングラインの曲りをグレーティングの
製造中に調整しても良い。 本発明による装置の第１実施例のさらに特徴とすると
ころは、前記２個のサブグレーティングの前記境界線の
領域で前記２個のサブグレーティングの前記グレーティ
ング縞が当該境界線に対し垂直で、かつ、前記２個のサ
ブグレーティングの対応する部分におけるグレーティン
グの周期とグレーティング縞の曲がりとが相違している
点である。従って両者のサブグレーティングのフォーカ
ルパワーは異なっている。 しかしながら、本発明の装置の好ましい一実施例のさ
らに特徴とするところは、サブグレーティングの対応す
る部分のグレーティング周期が同じであって、サブグレ
ーティングの対応する縞がサブグレーティングの境界線
に対して等しい角度で反対側に位置している点にある。 第１実施例と比較して、この実施例には米国特許第4,
665,310号に述べられた効果がある。 本明細書に於いては曲線のグレーティング縞を有する
回折グレーティングも、又、ホログラムと呼ぶことにす
る。1986年12月18日に日本で開催された“オプティカル
メモリ シンポジウム”でのNEC社による“多機能ホロ
グラムを用いたCDプレーヤ用のオプティカルヘッド”と
言う講演に関する刊行物には、ホログラムを光学読み取
り装置に使用する点が記載されている。このホログラム
は３つの機能を有し、それ等は、 ・ダイオードレーザビームと記録担体で反射されたビー
ムとを分離させ、 ・集束エラー検知用として後者のビームを２本のサブビ
ームに分割させ、そして ・トラッキングエラー信号を発生させることが出来る、 という機能である。 ここに述べられたホログラムはビームの入射部分を異
なった方向に偏向させる２個のサブホログラムからな
る。この刊行物は、本発明が解決方法を与えている問題
点には言及していない。何故ならば、この刊行物に於い
ては、ダイオードレーザとホログラムの軸方向の距離が
18mmであるからである。一方、この刊行物では、温度変
化によるダイオードレーザ波長の変化が検知面に形成さ
れた放射線スポットの質に与える影響の可能性が言及さ
れているのみである。複合ホログラムのフォーカルパワ
ーは実質上０であると記録されている。さらに、この刊
行物には、組立の間フォトダイオードの位置をレーザビ
ーム波長の変化に対応させる点が記載されている。この
刊行物の第１図の概略図に於ける、ホログラムの斜めの
線は、２個そのサブホログラムを区別する陰影と解すべ
きである。 本発明の装置のさらに特徴とするところは、複合回折
グレーティングがレリーフ構造を有する位相グレーティ
ングである点である。このようなグレーティングは、ア
ンプリチュードグレーティングに比較して、所望の偏向
方向でかなり高い効率を有し、さらに、マスタグレーテ
ィングから数多くのレプリカを既知の方法により低コス
トで製造することが出来ると言う効果を与えることが可
能である。この点はコンシューマ製品にグレーティング
を使用する際に特に重要となる。
次に添付の図面を参照して、本発明をより詳細に説明
する。 第１図は、放射線反射情報面２を有する光学記録担体
１の微小部分の接線方向の断面図である。この図は情報
面２に位置したトラック３のうちの一本を示す。この様
なトラックは、例えば、領域3aと中間領域3bがその高さ
が異なる様な、中間領域3bと交互に変化する情報領域3a
から構成されている。情報表面は、放射線源４（例え
ば、ダイオードレーザ）から放射されたビームｂにより
走査される。このビームは、１枚のレンズを線図的に示
す対物システム６により集束されて、情報面に微小な放
射線スポットＶを形成する。別のコリメータレンズを対
物システムの前方に設置することもできる。これに代え
て第１図に示されるような複合コリメータ対物システム
によりイメージングシステムを形成することも可能であ
る。記録担体を軸８の廻りに回転させることにより、ト
ラック３が走査され、読み出されたビームがこのトラッ
ク内に保持されている情報によって変調される。記録担
体と、放射線源４、対物システム６及び検知システム10
からなる読み出しユニットとを、半径方向に相互に移動
させることによって、情報面の全体を走査することが出
来る。 情報表面で反射し変調されたビームを検知するために
は、その変調されたビームを入射ビームから分離しなけ
ればならない。それ故、本発明の装置はビーム分離素子
を備えている。 例えば、１μｍのオーダの微小な情報ディテールを有
する情報構造を読み出すためには、開口数の大きい対物
システムが必要となる。この様の対物システムの焦点深
度は小さい。情報面２と対物システム６との間の距離は
焦点深度以上に変化する可能性があるので、これらの変
化を検知し、そしてこれらの変化に対応してフォーカシ
ングを補正するための手段が必要となる。この目的のた
めに、本発明の装置には、反射ビームを２本のサブビー
ムに分割させるビームスプリッタと、例えば第１の対が
第１のサブビームに対応し第２の対が第２のサブビーム
に対応している２個の検知器の対、とが設けられてい
る。この検知器の出力信号は、特に、フォーカスサーボ
信号を形成するために処理される。 1980年12月15日発行の“Neues aus der Technik"第６
号、第３頁の記事“Optische Fokusfehlerdetektion"に
記載されているように、単一の要素、つまり、透明なグ
レーティング手段によって、ビーム分離とビーム分割を
行うことが出来る。このグレーティングによって、情報
表面２で反射し対物システム６を横切って来たビーム
は、回折していないゼロオーダ、多数の第１次、及びよ
り高次のサブビームに分割される。グレーティングパラ
メータ、特にグレーティング縞の幅と中間幅との比及び
グレーティング溝の深さ及び形状は、放射線が検知シス
テムに最大限に入射するように選択される。 第２図はグレーティング９と放射線検知システム10の
第１実施例の正面斜視図である。ビームｂはグレーティ
ングの領域ではその断面が示されている。グレーティン
グ９は、ライン11で相互に隔離された２個のサブグレー
ティング12及び13から構成されている。これらのグレー
ティング縞は、中間縞16及び17によって隔離されてい
る。この実施例の場合、グレーティング縞は境界線11の
領域で同一の方向を向き、かつ境界線に対し、例えば垂
直となっている。しかしながら、サブグレーティング12
の平均グレーティング周期P1はサブグレーティング13の
平均グレーティング周期P2とは相違している。従って、
サブビームb1が回折される角度は、サブビームb2のそれ
とは相違している。このことは、検出器が存在する面で
放射線スポットV1とV2がＸ方向で相互にオフセットされ
ることを意味する。 狭い縞22及び23により分離されていて、フォトダイオ
ード18、19及び20、21からなる放射線検知器は、サブビ
ームb1及びb2の各々に関係している。ビームｂが情報表
面２に正しく集束されている場合、これらの検知器は、
サブビームb1及びb2により形成された放射線スポットV1
及びV2が、検知器18、19及び20、21に対し、各々、対照
的に位置するように、配置されている。フォーカシング
エラーが発生すると放射線スポットV1とV2は大きくな
り、そしてさらにこれらの放射線スポットは、第3a図及
び第3b図に示されるように、それらが対応する検知器の
対に対しその位置を変えてしまう。第3a図はビームｂが
情報表面２の前面に集束された状態を示し、一方第3b図
はビームｂが情報表面の後面に集束された状態を示す。 検知器18、19、20及び21の出力信号を、各々、S18、S
19、S20及びS21とするとフォーカシングエラー信号は Sf＝（S18＋S21）−（S19＋S20） となる。読み出される情報に比例した情報、つまり情報
信号Siは Si＝S18＋S19＋S20＋S21 となる。前記２個のサブグレーティング12及び13の前記
境界線11が読み出されるトラック３の方向と平行の場合
には、検知信号からトラッキングエラー信号Srを得る事
も出来る。この信号は、 Sr＝（S18＋S19）−（S20＋S21） となる。 本発明によると、２個のサブグレーティングのグレー
ティング周期は、（例えば、平均グレーティング周期の
数％のオーダで）変化している。さらに第２図に示され
るように、２個のサブグレーティングのグレーティング
縞は曲線である。従って、これらのサブグレーティング
は可変のレンズ機能を有している。グレーティング周期
が変化しているので、放射線スポットV1とV2の位置は、
グレーティング９を境界線11に沿ってずらすことによっ
て、光軸00′に平行な方向、つまりＺ方向に移動させる
ことが出来る。境界線11の方向に垂直な方向での異常
は、グレーティング縞の曲りによって最小にすることが
出来る。集積化されたレーザフォトダイオードユニッ
ト、つまり、ダイオードレーザとフォトダイオードが一
枚の基板上に相互に固定して配置され、その結果Ｚ方向
の相互距離が固定されているユニット、を用いる場合、
放射線スポットV1とV2のＺ位置を移動させる事が出来る
事は特に重要である。このダイオードレーザとフォトダ
イオードの距離は、製造誤差の影響を受け、かつ、装置
の組立の際、フォトダイオードの位置をレーザダイオー
ドに対してＺ方向にずらすことによって補正することは
出来ない。 又、Ｘ方向でのダイオードレーザと検知器の対の中心
との間の距離も製造誤差に依存する。これに対する補償
も、又、ライン11の方向にグレーティング９を移動させ
ることによって行うことが出来る。 第２図の実施例に於ては、サブグレーティング12及び
13が異なった平均グレーティング周期を有するので、サ
ブビームb1とb2がXZ面で異なった角度に回折するにも拘
らず、サブグレーティングの対応する部分のグレーティ
ング縞のグレーティングの周期と曲りに異なった変化を
与えることによってサブビームの焦点をXY面に存在させ
る事が出来る。 グレーティング縞が直線であるグレーティングに比較
して、それが曲線である回折グレーティングが有する重
要な技術的効果は、直線縞のグレーティングを用いた際
に、発生する可能性のあるコマ収差と非点収差のような
光学収差を、このグレーティングの製造の際にこれらの
異常を考慮に入れグレーティング縞の曲線にそれらを適
用させることによってこれらの異常を排除させることが
出来る事である。 第４図は、第１図の装置に使用することの出来る複合
回折グレーティングの実際の実施例の一部を示す。一方
のサブグレーティングに於いてグレーティング周期は、
例えば1.6μｍと1.8μｍの間で変化し、他方では、例え
ば2.4μｍと2.7μｍの間で変化する。この様な曲線縞を
有するグレーティングの直径は、例えば800μｍであ
る。 回折グレーティングはレリーフ構造の型の位相グレー
ティングが望ましい。このレリーフ構造に於いては、グ
レーティングの溝は中間縞の高さとは異なった高さに位
置している。この様なグレーティングの原理が第5a図に
示されている。この様なグレーティングは、グレーティ
ング14の巾W1と中間縞16の巾W2との比、及び溝の深さを
適当に選ぶことによって最適化される。さらに、溝の形
も最適化させることが出来る。第5a図に示される直方体
型の対称の形よりも、例えば鋸歯状波（第5b図）の様な
非対称の形の方が望ましい。何故ならば、この場合に
は、放射線の最大量を、例えば＋１次の様な１次のオー
ダに集中させることが出来るからである。 アンプリテュードグレーティング（白黒グレーティン
グ）も、又位相グレーティングに代えて使用し得る。こ
のグレーティングは、黒化の状態を変えて最適化させる
ことが出来る。 アンプリテュードグレーティングも位相グレーティン
グも、いわゆるマスタグレーティングから大量にコピー
することが出来る。位相グレーティングは、大量生産に
非常に適した既知のプレス技術またはレプリカ技術を使
用する事が出来るので、低コストで大量にコピーするこ
とが出来ると言う技術的効果を有する。 マスタグレーティングはホログラフ技術により得られ
ることが出来る。そのために、発散ビームを放出する放
射線源が、第２図の放射線源４の位置と放射線スポット
V1と放射線スポットV2の所望の位置に配置される。写真
プレートが第２図のグレーティング９の位置に配置され
る。先ず、プレートの半分が、放射線源４とスポットV1
の位置に置かれた放射線源から放射されたビームにより
露光される。次いで、露出されていたプレートの半分が
シールドされ、他の半分が放射線源４と放射線スポット
V2の位置の放射線源から放射されたビームにより露光さ
れる。この様にしてプレートの両半分上に形成された異
なった干渉パターンを、既知の現像及びエッチング技術
によってレリーフ構造に変換させる事が出来る。 放射線源４、回折グレーティング９及びフォトダイオ
ードの位置が決まると、サブグレーティングのパターン
を交互に計算することが可能となる。次いで例えば、電
子ビーム書き込み装置のような手段によって電子感応材
料にこれらのパターンを書き込むことが出来る。 第６図は本発明の装置の第２実施例を示す。この装置
は、グレーティング周期が同一のサブグレーティングを
有する回折グレーティング４からなる。サブグレーティ
ング12の曲線グレーティング縞14の主方向は、境界線11
に対して第１の角度をなし、一方、第２サブグレーティ
ング13の曲線グレーティング縞15の主方向は、境界線に
対して反対の側に等しい角度をなしている。サブビーム
は、主として、この主方向を横切る方向に偏向される。
従ってフォトダイオードは第２図の場合とは異なった方
向に配置されなければならない。XY面内の検出器の対の
境界線22と23は、Ｙ方向に各々平行に位置することにな
る。フォーカスエラー信号、情報信号及びトラッキング
エラー信号は、第２図について記載した方法と同様にし
て得ることが出来る。 回折グレーティングの効率、つまりグレーティングに
入射する放射線の全量に対する所望の方向に於ける放射
線回折量の比は、特にグレーティング周期に依存するの
で、第６図に示された複合回折グレーティングは第２図
のそれよりも望ましいものとなる。事実、第２図のグレ
ーティングの場合、サブグレーティングのグレーティン
グ周期が異なるので、サブビームの強度が等しくならな
くなり、トラッキングエラー信号にオフセットが生じる
ことがある。第６図に示された回折グレーティングから
なる装置に於いては、これは発生しない。 本発明は、読み取り装置の使用について説明したが、
書き込みの際の書き込み信号のフォーカシングとトラッ
キングがモニタされる様な書き込み装置又は書き込み・
読み取り装置にも使用することが出来る。ここで記載し
たフォーカスエラー検知システムは、情報表面２の特殊
な性質を使用していない。この表面が、反射性であるこ
とのみが必要で望ましい。それ故、本発明は、非常に正
確なフォーカシングが必要とされる、例えば顕微鏡の様
な分野にも用いることが出来る。この場合には、トラッ
キングエラーの検知は省略することが出来る。
する。 第１図は、放射線反射情報面２を有する光学記録担体
１の微小部分の接線方向の断面図である。この図は情報
面２に位置したトラック３のうちの一本を示す。この様
なトラックは、例えば、領域3aと中間領域3bがその高さ
が異なる様な、中間領域3bと交互に変化する情報領域3a
から構成されている。情報表面は、放射線源４（例え
ば、ダイオードレーザ）から放射されたビームｂにより
走査される。このビームは、１枚のレンズを線図的に示
す対物システム６により集束されて、情報面に微小な放
射線スポットＶを形成する。別のコリメータレンズを対
物システムの前方に設置することもできる。これに代え
て第１図に示されるような複合コリメータ対物システム
によりイメージングシステムを形成することも可能であ
る。記録担体を軸８の廻りに回転させることにより、ト
ラック３が走査され、読み出されたビームがこのトラッ
ク内に保持されている情報によって変調される。記録担
体と、放射線源４、対物システム６及び検知システム10
からなる読み出しユニットとを、半径方向に相互に移動
させることによって、情報面の全体を走査することが出
来る。 情報表面で反射し変調されたビームを検知するために
は、その変調されたビームを入射ビームから分離しなけ
ればならない。それ故、本発明の装置はビーム分離素子
を備えている。 例えば、１μｍのオーダの微小な情報ディテールを有
する情報構造を読み出すためには、開口数の大きい対物
システムが必要となる。この様の対物システムの焦点深
度は小さい。情報面２と対物システム６との間の距離は
焦点深度以上に変化する可能性があるので、これらの変
化を検知し、そしてこれらの変化に対応してフォーカシ
ングを補正するための手段が必要となる。この目的のた
めに、本発明の装置には、反射ビームを２本のサブビー
ムに分割させるビームスプリッタと、例えば第１の対が
第１のサブビームに対応し第２の対が第２のサブビーム
に対応している２個の検知器の対、とが設けられてい
る。この検知器の出力信号は、特に、フォーカスサーボ
信号を形成するために処理される。 1980年12月15日発行の“Neues aus der Technik"第６
号、第３頁の記事“Optische Fokusfehlerdetektion"に
記載されているように、単一の要素、つまり、透明なグ
レーティング手段によって、ビーム分離とビーム分割を
行うことが出来る。このグレーティングによって、情報
表面２で反射し対物システム６を横切って来たビーム
は、回折していないゼロオーダ、多数の第１次、及びよ
り高次のサブビームに分割される。グレーティングパラ
メータ、特にグレーティング縞の幅と中間幅との比及び
グレーティング溝の深さ及び形状は、放射線が検知シス
テムに最大限に入射するように選択される。 第２図はグレーティング９と放射線検知システム10の
第１実施例の正面斜視図である。ビームｂはグレーティ
ングの領域ではその断面が示されている。グレーティン
グ９は、ライン11で相互に隔離された２個のサブグレー
ティング12及び13から構成されている。これらのグレー
ティング縞は、中間縞16及び17によって隔離されてい
る。この実施例の場合、グレーティング縞は境界線11の
領域で同一の方向を向き、かつ境界線に対し、例えば垂
直となっている。しかしながら、サブグレーティング12
の平均グレーティング周期P1はサブグレーティング13の
平均グレーティング周期P2とは相違している。従って、
サブビームb1が回折される角度は、サブビームb2のそれ
とは相違している。このことは、検出器が存在する面で
放射線スポットV1とV2がＸ方向で相互にオフセットされ
ることを意味する。 狭い縞22及び23により分離されていて、フォトダイオ
ード18、19及び20、21からなる放射線検知器は、サブビ
ームb1及びb2の各々に関係している。ビームｂが情報表
面２に正しく集束されている場合、これらの検知器は、
サブビームb1及びb2により形成された放射線スポットV1
及びV2が、検知器18、19及び20、21に対し、各々、対照
的に位置するように、配置されている。フォーカシング
エラーが発生すると放射線スポットV1とV2は大きくな
り、そしてさらにこれらの放射線スポットは、第3a図及
び第3b図に示されるように、それらが対応する検知器の
対に対しその位置を変えてしまう。第3a図はビームｂが
情報表面２の前面に集束された状態を示し、一方第3b図
はビームｂが情報表面の後面に集束された状態を示す。 検知器18、19、20及び21の出力信号を、各々、S18、S
19、S20及びS21とするとフォーカシングエラー信号は Sf＝（S18＋S21）−（S19＋S20） となる。読み出される情報に比例した情報、つまり情報
信号Siは Si＝S18＋S19＋S20＋S21 となる。前記２個のサブグレーティング12及び13の前記
境界線11が読み出されるトラック３の方向と平行の場合
には、検知信号からトラッキングエラー信号Srを得る事
も出来る。この信号は、 Sr＝（S18＋S19）−（S20＋S21） となる。 本発明によると、２個のサブグレーティングのグレー
ティング周期は、（例えば、平均グレーティング周期の
数％のオーダで）変化している。さらに第２図に示され
るように、２個のサブグレーティングのグレーティング
縞は曲線である。従って、これらのサブグレーティング
は可変のレンズ機能を有している。グレーティング周期
が変化しているので、放射線スポットV1とV2の位置は、
グレーティング９を境界線11に沿ってずらすことによっ
て、光軸00′に平行な方向、つまりＺ方向に移動させる
ことが出来る。境界線11の方向に垂直な方向での異常
は、グレーティング縞の曲りによって最小にすることが
出来る。集積化されたレーザフォトダイオードユニッ
ト、つまり、ダイオードレーザとフォトダイオードが一
枚の基板上に相互に固定して配置され、その結果Ｚ方向
の相互距離が固定されているユニット、を用いる場合、
放射線スポットV1とV2のＺ位置を移動させる事が出来る
事は特に重要である。このダイオードレーザとフォトダ
イオードの距離は、製造誤差の影響を受け、かつ、装置
の組立の際、フォトダイオードの位置をレーザダイオー
ドに対してＺ方向にずらすことによって補正することは
出来ない。 又、Ｘ方向でのダイオードレーザと検知器の対の中心
との間の距離も製造誤差に依存する。これに対する補償
も、又、ライン11の方向にグレーティング９を移動させ
ることによって行うことが出来る。 第２図の実施例に於ては、サブグレーティング12及び
13が異なった平均グレーティング周期を有するので、サ
ブビームb1とb2がXZ面で異なった角度に回折するにも拘
らず、サブグレーティングの対応する部分のグレーティ
ング縞のグレーティングの周期と曲りに異なった変化を
与えることによってサブビームの焦点をXY面に存在させ
る事が出来る。 グレーティング縞が直線であるグレーティングに比較
して、それが曲線である回折グレーティングが有する重
要な技術的効果は、直線縞のグレーティングを用いた際
に、発生する可能性のあるコマ収差と非点収差のような
光学収差を、このグレーティングの製造の際にこれらの
異常を考慮に入れグレーティング縞の曲線にそれらを適
用させることによってこれらの異常を排除させることが
出来る事である。 第４図は、第１図の装置に使用することの出来る複合
回折グレーティングの実際の実施例の一部を示す。一方
のサブグレーティングに於いてグレーティング周期は、
例えば1.6μｍと1.8μｍの間で変化し、他方では、例え
ば2.4μｍと2.7μｍの間で変化する。この様な曲線縞を
有するグレーティングの直径は、例えば800μｍであ
る。 回折グレーティングはレリーフ構造の型の位相グレー
ティングが望ましい。このレリーフ構造に於いては、グ
レーティングの溝は中間縞の高さとは異なった高さに位
置している。この様なグレーティングの原理が第5a図に
示されている。この様なグレーティングは、グレーティ
ング14の巾W1と中間縞16の巾W2との比、及び溝の深さを
適当に選ぶことによって最適化される。さらに、溝の形
も最適化させることが出来る。第5a図に示される直方体
型の対称の形よりも、例えば鋸歯状波（第5b図）の様な
非対称の形の方が望ましい。何故ならば、この場合に
は、放射線の最大量を、例えば＋１次の様な１次のオー
ダに集中させることが出来るからである。 アンプリテュードグレーティング（白黒グレーティン
グ）も、又位相グレーティングに代えて使用し得る。こ
のグレーティングは、黒化の状態を変えて最適化させる
ことが出来る。 アンプリテュードグレーティングも位相グレーティン
グも、いわゆるマスタグレーティングから大量にコピー
することが出来る。位相グレーティングは、大量生産に
非常に適した既知のプレス技術またはレプリカ技術を使
用する事が出来るので、低コストで大量にコピーするこ
とが出来ると言う技術的効果を有する。 マスタグレーティングはホログラフ技術により得られ
ることが出来る。そのために、発散ビームを放出する放
射線源が、第２図の放射線源４の位置と放射線スポット
V1と放射線スポットV2の所望の位置に配置される。写真
プレートが第２図のグレーティング９の位置に配置され
る。先ず、プレートの半分が、放射線源４とスポットV1
の位置に置かれた放射線源から放射されたビームにより
露光される。次いで、露出されていたプレートの半分が
シールドされ、他の半分が放射線源４と放射線スポット
V2の位置の放射線源から放射されたビームにより露光さ
れる。この様にしてプレートの両半分上に形成された異
なった干渉パターンを、既知の現像及びエッチング技術
によってレリーフ構造に変換させる事が出来る。 放射線源４、回折グレーティング９及びフォトダイオ
ードの位置が決まると、サブグレーティングのパターン
を交互に計算することが可能となる。次いで例えば、電
子ビーム書き込み装置のような手段によって電子感応材
料にこれらのパターンを書き込むことが出来る。 第６図は本発明の装置の第２実施例を示す。この装置
は、グレーティング周期が同一のサブグレーティングを
有する回折グレーティング４からなる。サブグレーティ
ング12の曲線グレーティング縞14の主方向は、境界線11
に対して第１の角度をなし、一方、第２サブグレーティ
ング13の曲線グレーティング縞15の主方向は、境界線に
対して反対の側に等しい角度をなしている。サブビーム
は、主として、この主方向を横切る方向に偏向される。
従ってフォトダイオードは第２図の場合とは異なった方
向に配置されなければならない。XY面内の検出器の対の
境界線22と23は、Ｙ方向に各々平行に位置することにな
る。フォーカスエラー信号、情報信号及びトラッキング
エラー信号は、第２図について記載した方法と同様にし
て得ることが出来る。 回折グレーティングの効率、つまりグレーティングに
入射する放射線の全量に対する所望の方向に於ける放射
線回折量の比は、特にグレーティング周期に依存するの
で、第６図に示された複合回折グレーティングは第２図
のそれよりも望ましいものとなる。事実、第２図のグレ
ーティングの場合、サブグレーティングのグレーティン
グ周期が異なるので、サブビームの強度が等しくならな
くなり、トラッキングエラー信号にオフセットが生じる
ことがある。第６図に示された回折グレーティングから
なる装置に於いては、これは発生しない。 本発明は、読み取り装置の使用について説明したが、
書き込みの際の書き込み信号のフォーカシングとトラッ
キングがモニタされる様な書き込み装置又は書き込み・
読み取り装置にも使用することが出来る。ここで記載し
たフォーカスエラー検知システムは、情報表面２の特殊
な性質を使用していない。この表面が、反射性であるこ
とのみが必要で望ましい。それ故、本発明は、非常に正
確なフォーカシングが必要とされる、例えば顕微鏡の様
な分野にも用いることが出来る。この場合には、トラッ
キングエラーの検知は省略することが出来る。
第１図は、回折グレーティングを有する読み取り装置の
実施例を示し、 第２図は、本発明の回折グレーティングとその関連する
放射線検知システムの第１実施例の斜視図であり、 第3a図及び第3b図は、集束エラーが発生した場合の検知
器上の放射線スポットの変化を示し、 第４図は、第２図のタイプの現実のグレーティングを示
し、 第５図は、既知の回折グレーティングの断面図を示し、 第６図は、本発明の回折グレーティングとそれに関連す
る放射線検知システムの第２実施例を示す。 １……光学記録担体、２……情報面、３……トラック、
3a……情報領域、 3b……中間領域、４……放射線源、６……対物システ
ム、８……軸、 ９……グレーティング、10……検知システム、11、22、
23……境界線、 12、13……サブグレーティング、14……グレーティング
縞（溝）、 15……グレーティング縞、16、17……中間縞、 18、19、20、21……フォトダイオード。
実施例を示し、 第２図は、本発明の回折グレーティングとその関連する
放射線検知システムの第１実施例の斜視図であり、 第3a図及び第3b図は、集束エラーが発生した場合の検知
器上の放射線スポットの変化を示し、 第４図は、第２図のタイプの現実のグレーティングを示
し、 第５図は、既知の回折グレーティングの断面図を示し、 第６図は、本発明の回折グレーティングとそれに関連す
る放射線検知システムの第２実施例を示す。 １……光学記録担体、２……情報面、３……トラック、
3a……情報領域、 3b……中間領域、４……放射線源、６……対物システ
ム、８……軸、 ９……グレーティング、10……検知システム、11、22、
23……境界線、 12、13……サブグレーティング、14……グレーティング
縞（溝）、 15……グレーティング縞、16、17……中間縞、 18、19、20、21……フォトダイオード。
フロントページの続き (72)発明者 ペーター・コープス オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 アンドリアヌス・ヨハネス・デュアイヴ ゥスタイン オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (56)参考文献 特開 昭61−273749（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−220249（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】走査ビームを放出するダイオードレーザ
と、前記走査ビームを集束させて情報面に走査スポット
を形成させる対物システムと、前記ダイオードレーザと
前記対物システムの間に配置されている複合回折グレー
ティングとを有し、そのグレーティングが、前記情報面
で反射された放射線ビームを２個の検知器の対を有する
放射線検知システムに向けて偏向させ、かつ当該放射線
ビームを、各々、分離された検知器の対と協動する２本
のサブビームに分割させる２個のサブグレーティングを
有する、情報面を光学的に走査する装置に於て、 前記装置内に配置される前記ダイオードレーザと前記検
知システムが相互に固定されていて、 前記サブグレーティングのグレーティング周期が変化し
ていて、かつ 前記２個のサブグレーティングの前記グレーティング縞
が曲線である事を特徴とする情報面を光学的に走査する
装置。 - 【請求項２】前記２個のサブグレーティングの間の境界
線の領域で前記２個のサブグレーティングの前記グレー
ティング縞が当該境界線に対し垂直で、かつ、前記２個
のサブグレーティングの対応する部分に於けるグレーテ
ィングの周期とグレーティング縞の曲がりとが相違して
いる事を特徴とする請求項（１）に記載の装置。 - 【請求項３】前記２個のサブグレーティングの対応する
部分が、同じグレーティング周期を有し、かつ、前記２
個のサブグレーティングの対応する前記縞が前記２個の
サブグレーティングの間の当該境界線に対して等しい角
度で反対側に位置している事を特徴とする請求項（１）
に記載の装置。 - 【請求項４】前記複合回折グレーティングがレリーフ構
造を有する位相グレーティングである事を特徴とする請
求項（１）、（２）又は（３）に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8701749A NL8701749A (nl) | 1987-07-24 | 1987-07-24 | Inrichting voor het met optische straling aftasten van een informatievlak. |
| NL8701749 | 1988-07-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6453353A JPS6453353A (en) | 1989-03-01 |
| JP2683918B2 true JP2683918B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63178914A Expired - Fee Related JP2683918B2 (ja) | 1987-07-24 | 1988-07-18 | 情報面を光学的に走査する装置 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4829506A (ja) |
| EP (1) | EP0300570B1 (ja) |
| JP (1) | JP2683918B2 (ja) |
| KR (1) | KR970005985B1 (ja) |
| CN (1) | CN1015842B (ja) |
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| AU (1) | AU602646B2 (ja) |
| CZ (1) | CZ280821B6 (ja) |
| DE (1) | DE3875294T2 (ja) |
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| HK (1) | HK147095A (ja) |
| NL (1) | NL8701749A (ja) |
| SG (1) | SG28345G (ja) |
| SK (1) | SK278407B6 (ja) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4907847A (en) * | 1987-09-28 | 1990-03-13 | Nec Home Electronics Ltd. | Optical pickup and hologram therefor |
| US5066138A (en) * | 1988-06-16 | 1991-11-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optical head apparatus |
| US4993789A (en) * | 1988-09-15 | 1991-02-19 | Jonathan R. Biles | Dual wavelength polarization selective holographic optical element |
| US5511050A (en) * | 1988-09-21 | 1996-04-23 | Hitachi, Ltd. | Focus error detecting method and optical head using the same |
| US5049732A (en) * | 1988-10-21 | 1991-09-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical pickup device with diffraction device |
| NL8802689A (nl) * | 1988-11-03 | 1990-06-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Inrichting voor het met optische straling aftasten van een stralingsreflekterend oppervlak. |
| NL8803055A (nl) * | 1988-12-13 | 1990-07-02 | Philips Nv | Optische aftastinrichting, spiegelobjektief geschikt voor toepassing daarin en optisch inschrijf- en/of uitleesapparaat voorzien van deze aftastinrichting. |
| NL8803048A (nl) * | 1988-12-13 | 1990-07-02 | Philips Nv | Optische aftastinrichting, spiegelobjektief geschikt voor toepassing daarin en optische inschrijf- en/of uitleesapparaat voorzien van de aftastinrichting. |
| JPH06103543B2 (ja) * | 1988-12-31 | 1994-12-14 | 三星電子株式会社 | レーザピックアップ |
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