JPH0695038A - 超解像走査光学装置、光学装置の超解像用光源装置及び光学装置の超解像用フィルター - Google Patents

超解像走査光学装置、光学装置の超解像用光源装置及び光学装置の超解像用フィルター

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JPH0695038A
JPH0695038A JP4063761A JP6376192A JPH0695038A JP H0695038 A JPH0695038 A JP H0695038A JP 4063761 A JP4063761 A JP 4063761A JP 6376192 A JP6376192 A JP 6376192A JP H0695038 A JPH0695038 A JP H0695038A
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誠 加藤
Kenichi Kasasumi
研一 笠澄
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 シンプルな光学系により、メインローブの光
量の著しい減少を招くことなく回折限界を超える超解像
が得られるようにする。 【構成】 光源面300には、第1の光源301(位相
Φ=0)と、第1の光源301の外側且つ近傍に位置す
る第2の光源(位相Φ=π)302A,302Bと、第
2の光源302A,302Bの外側且つ近傍に位置する
第3の光源303A,303B(位相Φ=0)とが設け
られている。結像面310においては、第1の光源30
1の光源像をX1 とし、第2の光源302A,302B
の光源像をX2A,X2Bとし、第3の光源303A,30
3Bの光源像をX3A,X3Bとして示している。第1の光
源301単独の再回折像は301a(複素振幅分布)及
び301i(強度分布)のようになるが、第1、第2及
び第3の光源の光源像が重畳して得られるの再回折像
(強度分布)は320のようになり、超解像を示してい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、集光ビームを走査して
光学的に情報処理を行なう超解像走査光学装置、例えば
レーザ走査型顕微鏡、バーコードスキャナ、レーザプリ
ンター或いは光ディスク装置等、若しくは走査手段を有
しないが準コヒーレントな照明を用いる結像光学装置、
例えば半導体製造工程に用いられるステッパー光学装置
等、並びにこれらの光学装置に用いられる超解像用光源
装置及び超解像用フィルターに関する。
【0002】
【従来の技術】前記の超解像走査光学装置においては、
コヒーレントビームを微小スポットに集光して直線上或
いは面上を走査する走査手段と、走査ビームの光強度を
光電変換する変換手段とを備えており、走査光電変換光
学系においては、回折限界若しくは回折限界以下の微小
スポットを効果的に得られる構成が種々工夫されてい
る。図19は超解像を目的として提案された従来の光ピ
ックアップヘッドHの概略を示している。[“High Den
sity Optical Recording by Superresolution ”,Y.Ya
manaka,Y.Hirose,and K.Kubota,Proc.Int.Symp.on Opti
cal Memory,1989.Jap.J.of Appl.Phys.,Vol.28(1989) s
upplement 28-3,pp.197-200 ] 同図に示すように、半導体レーザ光源よりなるコヒーレ
ント光源10の発光点10aから発せられたコヒーレン
トビームは、コリメートレンズ12で平行光にされた
後、ダブルロームプリズム14で2分割され、その後、
第1のビームスプリッタ16及び第2のビームスプリッ
タ18を透過し、対物レンズ20により超解像のスポッ
トを形成されて光磁気媒体22上に集光される。復路に
おいては、第2のビームスプリッタ18で分けられたビ
ームは集光レンズ24を透過後、スリット26でサイド
ローブを遮断され、集光レンズ28、ウォラストンプリ
ズム30を透過して第1のフォトディテクター32に至
り、光電変換されて信号読取りされる。復路において第
2のビームスプリッタ18を直進し、第1のビームスプ
リッタ16で分けられた他のビームは、集光レンズ34
を透過した後、第3のビームスプリッタ36でさらに2
つに分けられて第2のフォトディテクター38又は第3
のフォトディテクター40に至り、フォーカシング及び
トラッキングのサーボ信号を検出される。尚、同図にお
いて42は第3のビームスプリッタ36を透過したビー
ムの縁部をカットするナイフエッジであり、43は対物
レンズ20を駆動させるアクチュエーターである。
【0003】図20は、図19で示した光ピックアップ
ヘッドHにおいて用いられる超解像の原理を示してい
る。すなわち、図19におけるダブルロームプリズム1
4から出射する2つのビームは、図20に示す遮光板4
4に形成された2つの開口44a,44bから出射する
ビームと等価であり、結像面46(X軸)に実線で示す
ような強度分布I(x)を形成する。尚、図21におけ
る点線は開口44a,44bが単独で存在する場合の強
度分布I0 (x)である。両開口44a,44bからの
回折像が互いに干渉する結果、実線で示すような強度分
布I(x)像が形成されることは周知の通りである。こ
の場合、開口44a,44bの形状(図19のウォラス
トンプリズム30の出射面の形状に相当する。)はスリ
ット状であっても輪帯状であってもよい。
【0004】ところで、光ディスク装置の読取り走査に
おいては、光電変換面での信号検出上の都合から実用的
にはスリットによるフィルタリングのみが可能であり、
輪帯開口による2次元的な超解像効果は使われない。す
なわち図20の結像面46に現われる2つのサイドロー
ブ(X=−X1 ,X=X1 )によるクロストークを抑圧
するために、図19に示すようなスリット26が設けら
れている。同様の超解像光学系は走査型光学顕微鏡にお
いても種々提案されており、このような光学系において
は、対物レンズ20の開口面に相当する平面にスリット
状若しくは輪帯状の開口を設け、その領域毎に所定の位
相及び振幅透過率を与えることによって、対物レンズ2
0の最大開口により決定される回折限界を超える微小ス
ポットを得ようとするものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前述のよう
に、対物レンズ20の開口面に相当する平面にスリット
状若しくは輪帯状の開口を設けると、サイドローブを或
る程度抑圧して回折限界を超える超解像を得ることがで
きる反面、結像面に至る光量が著しく低減するためメイ
ンローブの光量が減少するという問題、及びサイドロー
ブを抑圧するための開口を設けることに伴い、調整に精
度が要求されると共に余分な光路が必要になるので光学
系が複雑になるという問題があった。
【0006】前記に鑑み本発明は、シンプルな光学系に
より、メインローブの光量の著しい減少を招くことなく
回折限界を超える超解像が得られるようにすることを目
的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、請求項1の発明は、コヒーレント光源を主光源と該
主光源に対して逆位相の副光源とから構成し、主光源の
光源像のメインローブの側部と副光源の光源像のメイン
ローブとを干渉させて互いに打ち消させることにより、
主光源の光源像のメインローブの幅を縮小するものであ
る。
【0008】具体的に請求項1の発明が講じた解決手段
は、コヒーレント光源を結像光学系を介して共役面に微
小スポットとして結像させる結像手段と、前記共役面に
結像した微小スポットを走査する走査手段とを備えた超
解像走査光学装置を対象とするものであって、前記コヒ
ーレント光源は第1の光源と該第1の光源と逆位相であ
る第2の光源とを少なくとも有しており、前記第1の光
源と前記第2の光源とは前記第1の光源の前記共役面に
おける光源像のメインローブの側部に前記第2の光源の
前記共役面における光源像のメインローブが重畳する関
係にある構成とするものである。
【0009】請求項2の発明は、主光源の光源像の逆位
相成分と副光源の光源像の逆位相成分とが干渉して形成
される逆位相成分の振幅を抑圧するため、副光源と逆位
相の第2の副光源を設けるものであって、具体的には、
請求項1の構成に、前記コヒーレント光源は前記第1の
光源と同位相である第3の光源をさらに備えており、前
記第2の光源と前記第3の光源とは前記第2の光源の前
記共役面における光源像のメインローブの側部に前記第
3の光源の前記共役面における光源像のメインローブが
重畳する関係を有している構成を付加するものである。
【0010】請求項3の発明は、請求項1の発明と同じ
解決原理であって、具体的には、光学装置の超解像用光
源装置を、互いにコヒーレントな第1の光源と該第1の
光源と逆位相の第2の光源とを少なくとも備えており、
前記第1の光源が結像光学系の光軸上又は該光軸に近接
して設けられていると共に前記第2の光源は前記第1の
光源の近傍に設けられている構成とするものである。
【0011】請求項4の発明は、主光源の光源像の逆位
相成分と副光源の光源像の逆位相成分とが干渉して形成
される逆位相成分の振幅を抑圧するため、請求項3の構
成に、前記第2の光源の出力が前記第1の光源の出力よ
りも小さくなるように設定されている構成を付加するも
のである。
【0012】請求項5の発明は、請求項2の発明と同じ
原理に基づくものであって、請求項3の構成に、前記第
2の光源と互いにコヒーレントで且つ該第2の光源と逆
位相の第3の光源を、前記第2の光源の近傍であって該
第2の光源に対する前記第1の光源の反対側に備えてい
る構成を付加するものである。
【0013】請求項6の発明は、主光源の光源像の逆位
相成分と副光源の光源像の逆位相成分とが干渉して形成
される逆位相成分の振幅をいっそう抑圧するため、請求
項5の構成に、前記第2の光源の出力が前記第1の光源
の出力よりも小さく設定され、前記第3の光源の出力が
前記第2の光源の出力よりも小さく設定されている構成
を付加するものである。
【0014】請求項7の発明は、請求項1の発明と同じ
解決原理であって、具体的には、光学装置の超解像用光
源装置を、コヒーレントビームを出射するコヒーレント
光源と、該コヒーレント光源におけるコヒーレントビー
ムを出射するビーム出射部の近傍に該ビーム出射部に対
向して設けられ、前記ビーム出射部から出射されるコヒ
ーレントビームの中心領域である第1の領域に所定の位
相を与える第1の位相領域と前記ビーム出射部から出射
されるコヒーレントビームにおける前記第1の領域より
も外側の第2の領域に前記所定の位相と逆の位相を与え
る第2の位相領域とを有する位相板とを備えている構成
とするものである。
【0015】請求項8の発明は、請求項4の発明と同じ
原理に基づくものであって、請求項7の構成に、前記位
相板は、前記ビーム出射部から出射されるコヒーレント
ビームの前記第2の領域の出力を該コヒーレントビーム
の前記第1の領域の出力よりも小さくさせるという構成
を付加するものである。
【0016】請求項9の発明は、前記位相板の位相領域
の形状を限定するものであって、請求項7又は8の構成
に、前記第1の位相領域は円形に形成され、前記第2の
位相領域は輪帯状に形成されている構成を付加するもの
である。
【0017】請求項10の発明は、前記同様、位相板の
位相領域の形状を限定するものであって、請求項7又は
8の構成に、前記第1の位相領域は方形状に形成され、
前記第2の位相領域は方形枠状に形成されている構成を
付加するものである。
【0018】請求項11の発明は、請求項2の発明と同
じ原理に基づくものであって、請求項7の構成に、前記
位相板は、前記ビーム出射部から出射されるコヒーレン
トビームにおける前記第2の領域よりも外側の第3の領
域に前記第2の位相領域と逆の位相を与える第3の位相
領域を有している構成を付加するものである。
【0019】請求項12の発明は、請求項6の発明と同
じ原理に基づくものであって、請求項11の構成に、前
記位相板は、前記ビーム出射部から出射されるコヒーレ
ントビームの前記第3の領域の出力を該コヒーレントビ
ームの前記第2の領域の出力よりも小さくさせるという
構成を付加するものである。
【0020】請求項13の発明は、位相板の位相領域の
形状を限定するものであって、請求項11又は12の構
成に、前記第3の位相領域は輪帯状に形成されている構
成を付加するものである。
【0021】請求項14の発明は、前記同様、位相板の
位相領域の形状を限定するものであって、請求項11又
は12の構成に、前記第3の位相領域は方形枠状に形成
されている構成を付加するものである。
【0022】請求項15の発明は、前記の光学装置の超
解像用光源装置と等価な光学フィルターをホログラフィ
ックに実現するものであって、具体的には、光学装置の
超解像用フィルターを、互いに逆位相の波面で出射され
る第1の光源及び第2の光源を含む位相列光源の波面の
ホログラムであって、コヒーレントビームを照射して得
られる回折光を集光すると前記第1の光源により形成さ
れるメインローブの側部に前記第2の光源により形成さ
れるメインローブが重畳するようなホログラムがホログ
ラム素子の表面に記録されている構成とするものであ
る。
【0023】請求項16の発明は、請求項15の解決原
理に請求項2の原理を付加するものであって、具体的に
は、光学装置の超解像用フィルターを、互いに逆位相の
波面で出射される第1の光源及び第2の光源と、該第2
の光源と逆位相の第3の光源とを含む位相列光源の波面
のホログラムであって、コヒーレントビームを照射して
得られる回折光を集光すると前記第1の光源により形成
されるメインローブの側部に前記第2の光源により形成
されるメインローブが重畳し且つ該第2の光源により形
成されるメインローブの側部に前記第3の光源により形
成されるメインローブが重畳するようなホログラムがホ
ログラム素子の表面に記録されている構成とするもので
ある。
【0024】請求項17の発明は、前記の光学装置の超
解像用光源装置と等価な光学フィルターをコンピュータ
合成ホログラムによって実現するものであって、具体的
には、光学装置の超解像用フィルターを、互いに逆位相
の波面で出射される第1の光源及び第2の光源を含む位
相列光源の波面がインライン型のフーリエ変換ホログラ
ムとして計算されたコンピュータ合成ホログラムであっ
て、コヒーレントビームを照射して得られる回折光を集
光すると前記第1の光源により形成されるメインローブ
の側部に前記第2の光源により形成されるメインローブ
が重畳するようなコンピュータ合成ホログラムがホログ
ラム素子の表面に記録されている構成とするものであ
る。
【0025】請求項18の発明は、請求項17の解決原
理に請求項2の原理を付加するものであって、具体的に
は、光学装置の超解像用フィルターを、互いに逆位相の
波面で出射される第1の光源及び第2の光源と、該第2
の光源と逆位相の第3の光源とを含む位相列光源の波面
がインライン型のフーリエ変換ホログラムとして計算さ
れたコンピュータ合成ホログラムであって、コヒーレン
トビームを照射して得られる回折光を集光すると前記第
1の光源により形成されるメインローブの側部に前記第
2の光源により形成されるメインローブが重畳し且つ該
第2の光源により形成されるメインローブの側部に前記
第3の光源により形成されるメインローブが重畳するよ
うなコンピュータ合成ホログラムがホログラム素子の表
面に記録されている構成とするものである。
【0026】請求項19の発明は、コヒーレント光源か
ら出射されたコヒーレントビームを光ディスク記録面に
集光する超解像走査光学装置に前記の超解像用フィルタ
ーを適用するものであって、具体的には、コヒーレント
光源と、コリメートレンズを有し前記コヒーレント光源
から出射されたコヒーレントビームを光ディスク記録面
に集光する集光手段と、該集光手段の前記光ディスク記
録面に対する相対位置を制御する制御手段とを備えた超
解像走査光学装置を対象とし、前記コリメートレンズに
請求項15〜18のいずれか1項記載の光学装置の超解
像用フィルターが一体的に設けられている構成とするも
のである。
【0027】請求項20の発明は、前記同様、コヒーレ
ント光源から出射されたコヒーレントビームを光ディス
ク記録面に集光する超解像走査光学装置に前記の超解像
用フィルターを適用するものであって、具体的には、コ
ヒーレント光源と、対物レンズを有し前記コヒーレント
光源から出射されたコヒーレントビームを光ディスク記
録面に集光する集光手段と、該集光手段の前記光ディス
ク記録面に対する相対位置を制御する制御手段とを備え
た超解像走査光学装置を対象とし、前記対物レンズに請
求項15〜18のいずれか1項記載の光学装置の超解像
用フィルターが一体的に設けられている構成とするもの
である。
【0028】請求項21の発明は、コヒーレント光源か
ら出射されたコヒーレントビームをポリゴンミラーを介
して集光する超解像走査光学装置に前記の超解像用フィ
ルターを適用するものであって、具体的には、コヒーレ
ント光源と、コリメートレンズ、ポリゴンミラー及び集
光レンズを有し前記コヒーレント光源から出射されたコ
ヒーレントビームを集光する集光手段とを備えた超解像
走査光学装置を対象とし、前記コリメートレンズに請求
項15〜18のいずれか1項記載の光学装置の超解像用
フィルターが一体的に設けられている構成とするもので
ある。
【0029】請求項22の発明は、前記同様、コヒーレ
ント光源から出射されたコヒーレントビームをポリゴン
ミラーを介して集光する超解像走査光学装置に前記の超
解像用フィルターを適用するものであって、具体的に
は、コヒーレント光源と、コリメートレンズ、ポリゴン
ミラー及び集光レンズを有し前記コヒーレント光源から
出射されたコヒーレントビームを集光する集光手段とを
備えた超解像走査光学装置を対象とし、前記集光レンズ
に請求項15〜18のいずれか1項記載の光学装置の超
解像用フィルターが一体的に設けられている構成とする
ものである。
【0030】
【作用】請求項1の構成により、コヒーレント光源は第
1の光源と該第1の光源と逆位相である第2の光源とを
有しており、第1の光源と第2の光源とは第1の光源の
光源像のメインローブの側部に第2の光源の光源像のメ
インローブが重畳する関係にあるため、第1の光源の光
源像のメインローブの側部の振幅が第2の光源の光源像
のメインローブの振幅によって打ち消されることにな
り、第1の光源の光源像のメインローブの幅は縮小す
る。
【0031】請求項2の構成により、コヒーレント光源
は第1の光源と同位相である第3の光源を備え、第2の
光源と第3の光源とは第2の光源の光源像のメインロー
ブの側部に第3の光源の光源像のメインローブが重畳す
る関係を有しているため、第1の光源の光源像の位相成
分と第2の光源の光源像の逆位相成分とが干渉して形成
される波面のうち、打ち消し合わずに残った逆位相成分
が、第3の光源の光源像の正位相成分により打ち消され
るので、第1の光源の光源像と第2の光源の光源像とが
干渉して形成される強度分布のサブローブの振幅は縮小
する。
【0032】請求項3の構成により、互いにコヒーレン
トな第1の光源と該第1の光源と逆位相の第2の光源と
を備え、第1の光源が結像光学系の光軸上又は該光軸に
近接して設けられていると共に第2の光源は第1の光源
の近傍に設けられているため、請求項1の場合と同様
に、第1の光源の光源像のメインローブの側部の振幅が
第2の光源の光源像のメインローブの振幅によって打ち
消されることになり、第1の光源の光源像のメインロー
ブの幅は縮小する。
【0033】請求項4の構成により、第2の光源の出力
が第1の光源の出力よりも小さいため、第1の光源の光
源像の位相成分と第2の光源の光源像の逆位相成分とが
干渉して形成される波面のうち、打ち消し合わずに残っ
た逆位相成分の振幅が抑圧されるので、第1の光源の光
源像と第2の光源の光源像との干渉により形成される強
度分布のサブローブの振幅は縮小する。
【0034】請求項5の構成により、第2の光源と互い
にコヒーレントで且つ該第2の光源と逆位相の第3の光
源を第2の光源の近傍であって該第2の光源に対する第
1の光源の反対側に備えているため、請求項2の場合と
同様に、第1の光源の光源像と第2の光源の光源像とが
干渉して形成される波面のうち、打ち消し合わずに残っ
た強度分布のサブローブの振幅は縮小する。
【0035】請求項6の構成により、請求項4の場合と
同様の作用により、第1の光源の光源像と第2の光源の
光源像との干渉により形成される強度分布のサブローブ
の振幅はいっそう縮小する。
【0036】請求項7の構成により、コヒーレント光源
のビーム出射部の近傍に、コヒーレントビームの第1の
領域に所定の位相を与える第1の位相領域とコヒーレン
トビームにおける前記第1の領域よりも外側の第2の領
域に前記所定の位相と逆の位相を与える第2の位相領域
とを有する位相板を備えているため、第1の位相領域を
通過した光の結像のメインローブの側部の振幅が第2の
位相領域を通過した光の結像のメインローブの振幅によ
って打ち消されることになり、第1の位相領域を通過し
た光の結像のメインローブの幅は縮小する。
【0037】請求項8の構成により、位相板はコヒーレ
ントビームにおける前記第2の領域の出力を前記第1の
領域の出力よりも小さくさせるため、第2の位相領域を
通過した光の出力が第1の位相領域を通過した光の出力
よりも小さくなるので、第1の位相領域を通過した光の
結像の位相成分と第2の位相領域を通過した光の結像の
逆位相成分とが干渉して形成される波面のうち、打ち消
し合わずに残った逆位相成分の振幅が抑圧されるので、
第1の位相領域を通過した光の結像と第2の位相領域を
通過した光の結像との干渉により形成される強度分布の
サブローブの振幅は縮小する。
【0038】請求項11の構成により、位相板はコヒー
レントビームにおける前記第2の領域よりも外側の第3
の領域に前記第2の位相領域と逆の位相を与える第3の
位相領域を有しているため、第1の位相領域を通過した
光の結像の位相成分と第2の位相領域を通過した光の結
像の逆位相成分とが干渉して形成される波面のうち、打
ち消し合わずに残った逆位相成分が、第3の位相領域を
通過した光の結像の正位相成分により打ち消されるの
で、第1の位相領域を通過した光の結像と第2の位相領
域を通過した光の結像とが干渉して形成される強度分布
のサブローブの振幅は縮小する。
【0039】請求項12の構成により、請求項8の場合
と同様の作用により、第1の位相領域を通過した光の結
像と第2の位相領域を通過した光の結像との干渉により
形成される強度分布のサブローブの振幅は縮小する。
【0040】請求項15の構成により、互いに逆位相の
波面で出射される第1の光源及び第2の光源を含む位相
列光源の波面のホログラムであって、コヒーレントビー
ムを照射して得られる回折光を集光すると第1の光源に
より形成されるメインローブの側部に第2の光源により
形成されるメインローブが重畳するようなホログラムが
ホログラム素子の表面に記録されているため、請求項3
の超解像用光源装置と等価な超解像用フィルターをホロ
グラフィックに実現することができる。
【0041】請求項16の構成により、互いに逆位相の
波面で出射される第1の光源及び第2の光源と、該第2
の光源と逆位相の第3の光源とを含む位相列光源の波面
のホログラムであって、コヒーレントビームを照射して
得られる回折光を集光すると第1の光源により形成され
るメインローブの側部に第2の光源により形成されるメ
インローブが重畳し且つ該第2の光源により形成される
メインローブの側部に第3の光源により形成されるメイ
ンローブが重畳するようなホログラムがホログラム素子
の表面に記録されているため、請求項5の超解像用光源
装置と等価な超解像用フィルターをホログラフィックに
実現することができる。
【0042】請求項17の構成により、互いに逆位相の
波面で出射される第1の光源及び第2の光源を含む位相
列光源の波面がインライン型のフーリエ変換ホログラム
として計算されたコンピュータ合成ホログラムであっ
て、コヒーレントビームを照射して得られる回折光を集
光すると第1の光源により形成されるメインローブの側
部に前記第2の光源により形成されるメインローブが重
畳するようなコンピュータ合成ホログラムがホログラム
素子の表面に記録されているため、請求項3の超解像用
光源装置と等価な超解像用フィルターをコンピュータ合
成ホログラムによって実現することができる。
【0043】請求項18の構成により、互いに逆位相の
波面で出射される第1の光源及び第2の光源と、該第2
の光源と逆位相の第3の光源とを含む位相列光源の波面
がインライン型のフーリエ変換ホログラムとして計算さ
れたコンピュータ合成ホログラムであって、コヒーレン
トビームを照射して得られる回折光を集光すると第1の
光源により形成されるメインローブの側部に第2の光源
により形成されるメインローブが重畳し且つ該第2の光
源により形成されるメインローブの側部に第3の光源に
より形成されるメインローブが重畳するようなコンピュ
ータ合成ホログラムがホログラム素子の表面に記録され
ているため、請求項5の超解像用光源装置と等価な超解
像用フィルターをコンピュータ合成ホログラムによって
実現することができる。
【0044】請求項19の構成により、集光手段のコリ
メートレンズに請求項15〜18のいずれか1項記載の
光学装置の超解像用フィルターが一体的に設けられてい
るため、光源像のメインローブの光量を著しくは低減さ
せない超解像走査光学装置を簡易に実現することができ
る。
【0045】請求項20の構成により、集光手段の対物
レンズに請求項15〜18のいずれか1項記載の光学装
置の超解像用フィルターが一体的に設けられているた
め、前記同様、光源像のメインローブの光量を著しくは
低減させない超解像走査光学装置を簡易に実現すること
ができる。
【0046】請求項21の構成により、集光手段のコリ
メートレンズに請求項15〜18のいずれか1項記載の
光学装置の超解像用フィルターが一体的に設けられてい
るため、コヒーレント光源から出射されてコヒーレント
ビームをポリゴンミラーを介して集光する超解像走査光
学装置を光源像のメインローブの光量を著しくは低減さ
せることなく実現することができる。
【0047】請求項22の構成により、集光手段の集光
レンズに請求項15〜18のいずれか1項記載の光学装
置の超解像用フィルターが一体的に設けられているた
め、前記同様、コヒーレント光源から出射されてコヒー
レントビームをポリゴンミラーを介して集光する超解像
走査光学装置を光源像のメインローブの光量を著しくは
低減させることなく実現することができる。
【0048】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
【0049】図1は、本発明の第1実施例に係る超解像
走査光学装置における光ピックアップヘッド光学系の概
略構成を示している。
【0050】同図に示すように、半導体レーザのような
コヒーレント光源100からの出射光は、集光レンズ1
02により位相板104上に集束した後、コリメートレ
ンズ106を透過し、その後、偏光ビームスプリッタ1
08及び1/4波長板110を透過して対物レンズ11
2に導かれ、光ディスク114のピット面に結像する。
復路において、対物レンズ112、1/4波長板110
及び偏光ビームスプリッタ108を透過した光は、フォ
ーカシング及びトラッキング信号を検出するためのスポ
ットサイズディテクション(SSD)法及びプッシュプ
ル法を実現するサーボ信号検出用ホログラム素子(特開
昭62−251025号、特開昭62−251026号
及びUSP4,929,823を参照)116を透過し
た後、フォトディテクター118に至る。尚、同図にお
いて、120は対物レンズ112を駆動させるアクチュ
エーターである。
【0051】以上説明したコヒーレント光源100、集
光レンズ102、位相板104及びコリメートレンズ1
06により超解像用光源装置122が構成されており、
該超解像用光源装置122、偏光ビームスプリッタ10
8、1/4波長板110、対物レンズ112、サーボ信
号検出用ホログラム素子116及びフォトディテクター
118によって光ピックアップヘッド装置124が構成
されている。
【0052】図2(a)は上記位相板104の正面構造
を示し、図2(b)は図2(a)におけるII−II線の断
面構造を示し、図3は位相板104の近傍のビームウエ
イスト126(ウエイスト径:ω)の状態を示してい
る。
【0053】位相板104は輪帯状の位相構造を有して
おり、該位相板104の表面には、円形状の凸部からな
る第1の位相領域としての中心輪帯104a、該中心輪
帯104aの外側に形成される円形輪状の凹部からなる
第2の位相領域としての中間輪帯104b及び該中間輪
帯104bの外側に形成される円形輪状の凸部からなる
第3の位相領域としての外側輪帯104cがそれぞれ形
成されており、位相板104の表面における外側輪帯1
04cの外側には不透明層104dが形成されている。
中心輪帯104aと外側輪帯104cとは同じ高さに形
成されており、中心輪帯104a及び外側輪帯104c
と中間輪帯104bとの間には波長λの透過光に位相差
πを生じさせるための段差d1 が形成されている。この
段差d1は、d1 =λ/(2×(n−1))の式により
与えられる。ここで、nは位相板104の屈折率であ
る。
【0054】前記の構成により、コヒーレント光源10
0から発せられた光のうち、中間輪帯104bを透過す
る光は中心輪帯104aを透過する光と逆位相になり、
外側輪帯104bを透過する光は中間輪帯104bを透
過する光に対して逆位相になる。
【0055】図4は、本発明の第2実施例に係る超解像
走査光学装置における光ピックアップヘッド光学系の概
略構成を示しており、この光ピックアップヘッド光学系
の基本構成は、[“Recent Advances in optical picku
p head with holographic optical elements”,M.Kato
et al.,Proc. SPIE vol.1507,pp.4,ECO'91,Hologr
aphic Optics III :Principles and Applications,11-1
5 March 1991,The Hague,The Netherlands ]に示され
ている。
【0056】同図に示すように、コヒーレント光源20
0の発光点200a(半導体レーザに設けられたスリッ
ト状開口を有する活性層出射面)からの出射光は、集光
レンズ202により反射型位相板204上に集束した
後、コリメートレンズ206、第1実施例と同様のサー
ボ信号検出用ホログラム素子208を透過し、対物レン
ズ210に導かれて光ディスク212のピット面に結像
する。復路において、対物レンズ210、サーボ信号検
出用ホログラム素子208及びコリメートレンズ206
を透過した光は、フォトディテクター216に至る。
尚、同図において、216はサーボ信号検出用ホログラ
ム素子208と対物レンズ210とを駆動させるアクチ
ュエーターであり、218はコヒーレント光源200、
反射型位相板204及びフォトディテクター216を一
体的に集積化して載置せしめた基台である。
【0057】以上説明したコヒーレント光源200、集
光レンズ202、反射型位相板204、コリメートレン
ズ206及びフォトディテクター214によって集積化
された超解像光源及び信号検出装置220が構成されて
おり、該超解像光源及び信号検出装置220、サーボ信
号検出用ホログラム素子208及び対物レンズ210に
よって集積化された光ピックアップヘッド装置222が
構成されている。
【0058】このような集積化型光ピックアップヘッド
装置222においては、コヒーレント光源200を面発
光型若しくは面発光型と等価な構成にすることが装置の
小型化及び回路実装の面から有利である。
【0059】図5は上記基台218の要部構造、図6は
反射型位相板204の断面構造をそれぞれ示しており、
同図に示すように、光軸に対してほぼ45°の傾斜角を
有するように基台218に形成された傾斜面224に前
記の反射型位相板204は設けられている。反射型位相
板204の表面には、楕円形状の凸部からなる第1の位
相領域としての中心輪帯204a、該中心輪帯204a
の外側に形成される楕円輪状の凹部からなる第2の位相
領域としての中間輪帯204b及び該中間輪帯204b
の外側に形成される楕円輪状の凸部からなる第3の位相
領域としての外側輪帯204cが設けられており、反射
型位相板204の表面における外側輪帯204cの外側
部分は低反射率面204dに形成されている。中心輪帯
204aと外側輪帯204cとは同じ高さに形成されて
おり、中心輪帯204a及び外側輪帯204cと中間輪
帯204bとの間には波長λの透過光に位相差πを生じ
させるための段差d2 が形成されている。ここで段差d
2 は、d2 =(λ/2)×sin(π/4)の式で与え
られ、ほぼ0.07λになる。
【0060】この反射型位相板204においては、中心
輪帯204a、中間輪帯204b及び外側輪帯204c
により反射面が形成され、コヒーレント光源200から
発せられた光のうち、中間輪帯204bにより反射され
る光は中心輪帯204aにより反射される光と逆位相に
なり、外側輪帯104bにより反射される光は中間輪帯
104bにより反射される光と逆位相になる。
【0061】以下、前記第1及び第2実施例において示
した光ピックアップヘッド装置における超解像作用を図
7に基づいて詳しく説明する。
【0062】同図に示すように、光源面300(X軸を
図示)には、主光源となる第1の光源301(位相Φ=
0)と、第1の光源301の近傍に位置し輪帯状の第1
副光源となる第2の光源(位相Φ=π)302A及び3
02Bと、第2の光源302A及び302Bの外側且つ
近傍に位置し輪帯状の第2副光源となる第3の光源30
3A及び303B(位相Φ=0)とが設けられている。
第1、第2及び第3の光源301,302A,302
B,303A,303Bは、コリメートレンズ(第1の
フーリエ変換レンズ)306及び対物レンズ(第2のフ
ーリエ変換レンズ)308によって結像面310(X軸
を図示)にそれぞれ結像されている。尚、結像面310
においては、第1の光源301の光源像をX1 として、
第2の光源302A及び302Bの光源像をX2A及びX
2Bとして、第3の光源303A及び303Bの光源像を
3A及びX3Bとしてそれぞれ示している。
【0063】この図7においては、超解像作用を光学系
の開口面312に形成される波面で代表させた再回折光
学系をモデルとして説明しているが、この超解像作用
は、種々の走査光学系に用いられるものであり、結像光
学系の設計には容易に拡張することができる。
【0064】同図に示すように、第1の光源301単独
の再回折像は301a(複素振幅分布)及び301i
(強度分布)のようになるが、第2の光源302A及び
302Bが第1の光源301の両側に近接して第1の光
源301と逆位相πで設けられているため、第2の光源
302Aの再回折像(複素振幅分布)302aは第1の
光源301の再回折像301aと重畳され(第2の光源
302Bの再回折像は図示していないが、第2の光源3
02Aの再回折像302aと軸対象である。)、さらに
第3の光源303A及び303Bが第2の光源302A
及び302Bの両側に近接して第1の光源301と同位
相で設けられているため、第3の光源303Aの再回折
像(複素振幅分布)303aも同様にコヒーレントに重
ね合わされる(第3の光源303Bの再回折像は図示し
ていないが、第3の光源303Aの再回折像303aと
軸対象である)。このため、第1の光源301と、第2
の光源302A,302Bと、第3の光源303A,3
03Bとが互いに干渉する結果として得られるスポット
像の強度分布は概略320のように超解像を示してい
る。
【0065】次に、図8に基づいて、本発明の前記第1
及び第2実施例における位相列光源の設計例をわかり易
い数値例を与えて説明する。
【0066】第1の光源301の再回折像の複素振幅を u1 (x)=sinx/x……(1) 第2の光源302A,302Bの再回折像の複素振幅を u2A(x)=A+1×(sin(x−δ1 )/(x−δ1 ))……(2) u2B(x)=A-1×(sin(x+δ1 )/(x+δ1 ))……(3) 第3の光源303a,303Bの再回折像の複素振幅を u3A(x)=A+2×(sin(x−δ2 )/(x−δ2 ))……(4) u3B(x)=A-2×(sin(x+δ2 )/(x+δ2 ))……(5) とする。
【0067】ここでA+1,A-1,A+2,A-2は第1の光
源301の振幅を1に規格化して第2光源302A,3
02B及び第3の光源303A,303Bの相対振幅を
与えたものであり、x=(a/(λ×f))×ξであ
り、aは開口面312の開口径であり、δ1 は第2の光
源302A,302Bの複素振幅分布のピーク位置の座
標であり、δ2 は第3の光源303A,303Bの複素
振幅分布のピーク位置の座標であり、λは光源の波長で
あり、f=f2 (対物レンズ308の焦点距離であっ
て、図7を参照)、ξは結像面310の座標を実寸法で
表わしたものである。尚、図7においてf1 は集光レン
ズ306の焦点距離である。
【0068】前記(1)〜(5)式のコヒーレントな重
畳の結果得られる再回折像の複素振幅分布は u(x)=sinx/x +A+1×(sin(x−δ1 )/(x−δ1 )) +A-1×(sin(x+δ1 )/(x+δ1 )) +A+2×(sin(x−δ2 )/(x−δ2 )) +A-2×(sin(x+δ2 )/(x+δ2 ))……(6) である。
【0069】ここで、設計例として、A+1=A-1=−
0.3、A+2=A-2=0.15 δ1 =2.5rad 、δ2 =5rad として(6)式により
再回折像の強度分布320であるI1 (x)=|μ
(x)|2 …(7)を計算したものを図8にプロットし
ている。尚、図8においては、比較のため、第1の光源
301のみの場合の再回折像の強度分布301iの光軸
上のピーク値:I0 を0.73倍に揃えた分布であるI
00(x)=0.73×I0 を330として図示してい
る。
【0070】これらの計算結果から、再回折像の強度分
布320は前述の分布(第1の光源301単独の分布を
0.73倍したもの)330に比べて半値幅で1.1/
1.4(ほぼ0.79)程度に縮小されていることが理
解できる。
【0071】また、半値幅の外側に分布する光量の比率
も、第1の光源301単独の分布を0.73倍した分布
330に比べて抑圧されており、従来の単純な輪帯開口
による超解像光学系で用いられるサイドローブ抑圧のた
めのスリット光学系(図19における符号26)は不要
となる。
【0072】尚、通常の結像光学系では矩形状の開口よ
りも円形状の開口が一般的に用いられる。この場合、結
像面上に得られるスポット形状は、第1種ベッセル関数
1 (r)を用いて、u(r)=2×J1 (r)×(1/r)……(7) 但し、r=a×(1/λf)×ξで与えられ、矩形状の
開口に比べてメインローブの寸法(円形開口の場合に得
られる像は、Airyパターンと称せられ、直径:D=
1.22×a×(1/λf)×ξ)は1.22倍だけ大
きくなる(rがほぼ3.8のときにJ1 (r)=0)。
【0073】従って、超解像効果が得られる光源列の最
適配置は、円形状開口の場合と矩形状開口の場合とでは
若干異なる。一設計例として、第2の光源のメインロー
ブの中心をr=±3近傍とし、第3の光源のメインロー
ブの中心をr=±4.5近傍とし、第1の光源に対する
第2の光源の振幅比を0.3、第1の光源に対する第3
の光源の振幅比を0.15程度として半値幅で0.9倍
程度の超解像効果が得られた。
【0074】図9は光源列の配置の一例を示している。
この一配置例においては、結像面での超解像効果を極大
にし、しかも第1の光源301のメインローブのピーク
値が極大となるように、第2の光源302,302,…
及び第3の光源303,303…は非連続的(島状)に
配置されている。
【0075】図10は前記第1及び第2実施例に係る光
ピックアップヘッド装置に共通して用いることが可能な
超解像用光源装置の第1実施例の構成を、図11は図1
0におけるXI−XI線の断面構造をそれぞれ示している。
【0076】半導体レーザよりなるコヒーレント光源4
00の出射面の開口部400aに近接して位相板402
が設けられており、該位相板402には、図11に示す
ような段差が形成されている。すなわち、位相板402
の表面には、矩形状の凸部からなる第1の位相領域40
2a、該第1の位相領域402aの外側に形成される矩
形枠状の凹部からなる第2の位相領域402b及び該第
2の位相領域402bの外側に形成される矩形枠状の凸
部からなる第3の位相領域402cが設けられており、
位相板402の表面における第3の位相領域402cの
外側には不透明領域402dが形成されている。不透明
領域402dは不透明な膜で遮光してもよいが、入射光
量が実質的に少ないので無視することもできる。第1の
位相領域402aと第3の位相領域402cとは同じ高
さに形成されており、第1及び第3の位相領域402
a,402cと、第2の位相領域402bとの間には波
長λの透過光に位相差πを生じさせるための段差d3
形成されている。ここで段差d3 は、d3 =λ/(2×
(n−1))で与えられる。
【0077】従って、第1の位相領域402aを透過す
る光は図7の第1の光源301として作用し、第2の位
相領域402bを透過する光は図7の第2の光源302
A,302Bとして作用し、第3の位相領域402cを
透過する光は図7の第3の光源303A,303Bとし
て作用する。
【0078】上記のような構造の位相板402を用い、
該位相板402とコヒーレント光源400との距離Lを
適当な微小距離に設定することにより、本超解像用光源
装置を用いた走査光学系のスポット径を図7に基づいて
説明した原理によって縮小することができると共に、従
来の半導体レーザで欠点とされていた回折角広がりの不
均一性つまり図10においてβ>αとなる現象が改善さ
れ、x軸方向にも大きな広がり角α′が得られるように
なる。さらに、半導体レーザの非点収差も補正される効
果が得られる。
【0079】図12は前述の光ピックアップヘッド装置
に共通して用いることが可能な超解像用光源装置の第2
実施例の構成を示している。
【0080】同図に示すように、第2実施例に係る超解
像用光源装置は、半導体レーザ500の出射面に例えば
SiO2 よりなる位相膜を形成することにより1次元格
子状の位相領域を設けて超解像光源を実現するものであ
る。すなわち、半導体レーザ500の出射面に、半導体
レーザ500の出射開口部500aと直交する方向に延
びる凸状の第1の位相領域502a、該第1の位相領域
502aの両側に該第1の位相領域502aと平行に形
成される凹状の第2の位相領域502b、該第2の位相
領域502bの外側に該第2の位相領域502bと平行
に形成される凸状の第3の位相領域502cがそれぞれ
設けられている。第1の位相領域502aと第3の位相
領域502cとは同じ高さに形成されており、第1及び
第3の位相領域502a,502cと、第2の位相領域
502bとの間には波長λの透過光に位相差πを生じさ
せるための段差d4 が形成されている。ここで段差d4
は、d4 =λ/(2×(na −1))で与えられる。但
し、na は位相膜の屈折率である。
【0081】図13は前記第2実施例に係る超解像用光
源の変形例を示している。すなわち、例えばSiO2
りなる基板510上に、前記第1〜第3の位相領域50
2a,502b,502cと同様の作用を奏する第〜第
3の位相領域512a,512b,512cを形成し、
該基板510を半導体レーザ514の出射面に対向して
設けている。
【0082】尚、前記第1及び第2実施例に係る光ピッ
クアップヘッド装置及び超解像用光源装置においては、
副光源としては第2及び第3の光源よりなる2つの光源
が用いられる場合について説明したが、副光源の数は2
つに限定されるものではなく、さらに第4或いは第5の
光源よりなる微弱副光源列を組合わせて超解像効果並び
にサイドローブ抑圧効果を高め得ることも可能である。
【0083】図14は前記第1及び第2実施例に係る光
ピックアップヘッド装置に共通して用いることが可能で
あり、前述した超解像用光源装置を等価的に実現する超
解像用フィルターのホログラフィックな作成原理を示し
ている。
【0084】いま、図7に示した第1の光源301より
なる主光源を参照光源と見なし、図7に示した第2及び
第3の光源302A,302B,303A,303Bよ
りなる副光源列を物体光として感光面330に干渉縞を
記録する。このとき各点間の距離は、光源面300と感
光面330との距離f3 に比べて10-3オーダ(数千分
の1)の微小距離であり、一種のレンズレスフーリエ交
換ホログラム状の干渉パターンが感光面330上に得ら
れる。例えば点301と点302Aとの干渉成分及び点
301と点302Bとの干渉成分は強度分布I(ζ)と
して340のようになり、点301と点303Aとの干
渉成分及び点301と点303Bとの干渉成分は342
のようになり、いずれにしても、僅か数周期の干渉縞が
所定開口内に形成されるに過ぎないところが、従来のホ
ログラフィーと大きく異なる。
【0085】図15〜図17は、前述したホログラフィ
ーの手法で実際に超解像用ホログラフィックフィルター
を作製する方法を示している。
【0086】まず、図15に示すように、半導体レーザ
光源600から発せられたコヒーレントビームを、集光
レンズ602でピンホール604に集光して空間フィル
タリングした後、所定の位相構造を有する位相板606
に入射させ、該位相板606から距離f5 だけ離れた位
置に設けられた感光媒体608のホログラム面にホログ
ラムを作成する。
【0087】図16(a)及び(b)は超解像用フィル
ターとしての位相板606の表面に形成される輪帯状の
位相構造を示している。尚、図16(b)は図16
(a)におけるXVI−XVI線の断面図である。位相板6
06の表面には、中心部に形成された円形の凸部よりな
る中心領域606a(位相Φ=0)、該中心領域606
aの外側に形成された円形輪状の凹部よりなる第1の位
相領域606b(位相Φ=π)、該第1の位相領域60
6bの外側に形成された円形輪状の凸部よりなる第2の
位相領域606c(位相Φ=0)、該第2の位相領域6
06cの外側に形成された円形輪状の凹部よりなる第3
の位相領域606d(位相Φ=π)、該第3位相領域6
06dの外側に形成された円形輪状の凸部よりなる第4
の位相領域606e(位相Φ=0)及び該第4の位相領
域606eの外側の凸部よりなる不透明領域606fが
それぞれ設けられており、図12に基づいて説明した作
用原理によって位相板606の中心領域606aを透過
するビームが前述の参照光の作用を果す。
【0088】図17(a)及び(b)は前記位相板60
6の変形例に係る超解像用フィルターとしての位相板6
10の表面に形成される輪帯状の位相構造を示してい
る。尚、図16(b)は図16(a)におけるXVII −
XVII 線の断面図である。位相板610の表面には円形
輪状の内側凹状溝610a(外周端の半径:R1 )と外
側凹状溝610bとが形成されている。そして、内側凹
状溝610aの内側の円形領域には円形透明部よりなる
中心領域610c(直径:Δ)を除いて不透明領域が形
成され、内側凹状溝610aと外側凹状溝610bとの
間の中間領域には輪状透明部よりなる輪状領域610d
が形成されており、図14に基づいて説明した作用原理
によって位相板610の中心領域610c(位相Φ=
0)を透過するビームが前述の参照光の作用を果し、内
側凹状溝610aが第1の位相領域(位相Φ=π)を、
輪状領域610d(内周端の半径:R2 )が第2の位相
領域(位相Φ=0)を、外側凹状溝610bが第3の位
相領域(位相Φ=π)をそれぞれ構成している。
【0089】尚、前記の各領域の光量を設計値に近づけ
るための手段としてはガウス分布のレーザビームに対し
て図15における集光レンズ602と位相板606(6
10)の表面との間の距離L3 を調整する方法が簡便で
あり、さらに厳密に目的を達するためには、位相板60
6(610)の各輪帯に各々所定透過率を有する吸収膜
を設ける方法等を採用できる。
【0090】また、以上説明した本発明の各実施例を実
際に設計する際においては、(6)式でδ2 =2δ1
し、ホログラフィックフィルター作成例で図17の場合
2=2R1 とすることが好ましい。こうすることによ
ってホログラム作成結果、位相板606の第1の位相領
域606b或いは位相板610の内側凹状溝610aを
透過する光である第1副光源と、位相板606の中心領
域606a或いは位相板610の中心領域610cを透
過する光である主光源(参照光)との干渉成分から生じ
る2次高調波が生じても、それは第2副光源と主光源と
の干渉成分に等しく、超解像フィルターの透過率特性す
なわちホログラフィックフィルターの再生像特性に悪影
響を及ぼさない。
【0091】また、通常のホログラムにおいて生じる歪
項成分(distortion term )は、本発明の実施例におい
ては、参照光源の光量比を十分に強くすれば超解像フィ
ルターとしての特性に実質的な悪影響を及ぼさない範囲
に抑圧可能である。
【0092】超解像ホログラフィックフィルターを用い
る大きな効果は、個々の走査光学装置の光源面に微小
な位相板を設けることなく、別途工場内に設けたホログ
ラフィー干渉光学系によって精密なホログラフィックフ
ィルター原盤を製作し、そのレプリカを通常の各種走査
光学系(通常コリメートレンズ近傍に挿入するのが好都
合)に設置できること、さらに一度作成された超解像
ホログラフィックフィルターを照明する光学系では該ホ
ログラフィックフィルターに入射する大部分の光量が結
像面の主ビーム像形成に寄与し、サイドローブが抑圧さ
れた明るい超解像スポットを得ることができることにあ
る。後者の特長は、ホログラフィックフィルターの0次
透過光が等価値に超解像光源の主光源から発してビーム
となり、該ビームが再生された第1の副光源、第2の副
光源からのビームと干渉して所定の超解像スポットを形
成する以外、光量の大きな損失は生じない事情により了
解されよう。
【0093】図18は、前記の超解像用フィルターを、
ポリゴンミラー700を用いるレーザビームプリンター
光学系における平凸コリメートレンズ702に一体化し
て設けた実施例の概略構成を示す。尚、同図において、
704は半導体レーザよりなるコヒーレント光源、70
6は集光レンズ、708は超解像スポットである。
【0094】同図に示すように、本構成においては、超
解像用フィルターとしてのガラス若しくは樹脂よりなる
レプリカ510を平凸コリメートレンズ702の平面側
に接着している。或いはこれに代えて、平凸コリメート
レンズ702の平面側にガラス若しくはプラスチック材
料で超解像用フィルターを一体に成形して実現すること
も可能である。
【0095】前記の構成は、本発明の第1及び第2実施
例に係る光ピックアップヘッド装置における超解像用光
源装置に代えて、所定の超解像用ホログラフィックフィ
ルターを図1におけるコリメートレンズ106或いは図
4におけるコリメートレンズ206に適用することがで
きる。また、前記の構成を従来の各種走査光学系に都合
よく応用できることはもちろんである。
【0096】さらに、前記超解像ホログラフィックフィ
ルターを2枚重ねて用いることにより一層シャープな微
小スポットを形成することが可能なことは当業者にとっ
てはは明らかである。この場合、第1の超解像用ホログ
ラフィックフィルターから回折されるビームに対して、
最適の超解像スポットが第2の超解像用ホログラフィッ
クフィルターを通して得られるように該第2の超解像用
ホログラフィックフィルターを設計する必要があるが、
これはこれまで説明した本発明の原理の応用例の1つに
過ぎない。
【0097】超解像ホログラフィックフィルターは、通
常のホログラム素子に比べて極めて周期の長いわずか数
本の干渉縞を利用するものであり、これをコンピュータ
ーで精密に計算して、位相ホログラムの位相プロフィー
ルを求めること及びその結果を切削或いは研磨加工でガ
ラス或いは金型上に複製することも可能である。このよ
うにしてコリメートレンズ面に超解像用フィルターを一
体化して作成可能なことはもちろんである。
【0098】
【発明の効果】請求項1の発明に係る超解像光学装置に
よると、第1の光源のメインローブの側部に第1の光源
と逆位相の第2の光源メインローブが重畳するため、第
1の光源のメインローブの側部の振幅が第2の光源のメ
インローブの振幅によって打ち消され、第1の光源のメ
インローブの幅が縮小するので、スリット状或いは輪帯
状の開口を設けることなく回折限界を超える超解像を得
ることができる。このため、請求項1の発明によると、
シンプルな光学系によってメインローブの光量の著しい
減少を招くことなく超解像を実現することが可能にな
る。
【0099】請求項2の発明に係る超解像光学装置によ
ると、第1の光源の位相成分と第2の光源の逆位相成分
とが干渉して形成される波面のうち、打ち消し合わずに
残る逆位相成分が第3の光源の正位相成分により打ち消
されるので、第1の光源の光源像と第2の光源の光源像
とが干渉して形成される強度分布のサブローブの振幅は
縮小する。
【0100】請求項3の発明に係る走査光学装置の超解
像用光源装置によると、第1の光源のメインローブの側
部の振幅が第2の光源のメインローブの振幅によって打
ち消され、第1の光源の光源像のメインローブの幅は縮
小するため、スリット状或いは輪帯状のサイドローブ抑
圧用の開口を設けることなく回折限界を超える超解像を
得ることができるので、メインローブの光量の減少を招
くことなく超解像を実現することが可能になる。
【0101】請求項4の発明に係る走査光学装置の超解
像用光源装置によると、第2の光源の出力が第1の光源
の出力よりも小さいため、第1の光源の位相成分と第2
の光源の逆位相成分とが干渉して形成される逆位相成分
の振幅が抑圧されるので、第1の光源と第2の光源との
干渉により形成される残余の強度分布のサブローブの振
幅は縮小する。
【0102】請求項5の発明に係る走査光学装置の超解
像用光源装置によると、第1の光源の位相成分と第2の
光源の逆位相成分とが干渉して形成される波面のうち、
残余の逆位相成分が第3の光源の正位相成分により打ち
消されるので、第1の光源の光源像と第2の光源の光源
像とが干渉して形成される残余の強度分布のサブローブ
の振幅は縮小する。
【0103】請求項6の発明に係る走査光学装置の超解
像用光源装置によると、第2の光源の出力が第1の光源
の出力よりも小さく、第3の光源の出力が第2の光源の
出力よりも小さいため、第1の光源の光源像と第2の光
源の光源像との干渉により形成される強度分布のサブロ
ーブの振幅はいっそう縮小する。
【0104】請求項7の発明に係る走査光学装置の超解
像用光源装置によると、第1の位相領域を通過した光の
メインローブの側部の振幅が第2の位相領域を通過した
光のメインローブの振幅によって打ち消され、第1の位
相領域を通過した光の結像のメインローブの幅は縮小す
るため、スリット状或いは輪帯状の開口を設けることな
く回折限界を超える超解像を得ることができるので、メ
インローブの光量の著しい減少を招くことなく超解像を
実現することが可能になる。。
【0105】請求項8の発明に係る走査光学装置の超解
像用光源装置によると、第2の位相領域を通過した光の
出力が第1の位相領域を通過した光の出力よりも小さい
ため、第1の位相領域を通過した光の位相成分と第2の
位相領域を通過した光の逆位相成分とが干渉して形成さ
れる波面のうち、残余の逆位相成分の振幅が抑圧される
ので、第1及び第2の位相領域を通過した光の干渉によ
り形成される残余の強度分布のサブローブの振幅が縮小
する。
【0106】請求項11の発明に係る走査光学装置の超
解像用光源装置によると、第1の位相領域を通過した光
の位相成分と第2の位相領域を通過した光の逆位相成分
とが干渉して形成される残余の逆位相成分が、第3の位
相領域を通過した光の正位相成分により打ち消されるの
で、第1及び第2の位相領域を通過した光の干渉により
形成される強度分布のサブローブの振幅は縮小する。
【0107】請求項12の発明に係る走査光学装置の超
解像光源装置によると、第2の位相領域を通過した光の
出力が第1の位相領域を通過した光の出力よりも小さ
く、第3の位相領域を通過した光の出力が第2の位相領
域を通過した光の出力よりも小さいため、第1の位相領
域と第2の位相領域とを通過した光の干渉により形成さ
れる強度分布のサブローブの振幅はいっそう縮小する。
【0108】請求項15の発明に係る走査光学装置の超
解像用フィルターによると、コヒーレントビームを照射
して得られる回折光を集光すると第1の光源により形成
されるメインローブの側部に第2の光源により形成され
るメインローブが重畳するようなホログラムがホログラ
ム素子の表面に記録されているため、単一の点光源を用
いて請求項3の超解像用光源装置と等価な超解像を実現
することができる。
【0109】請求項16の発明に係る走査光学装置の超
解像用フィルターによると、コヒーレントビームを照射
して得られる回折光を集光すると第1の光源により形成
されるメインローブの側部に第2の光源により形成され
るメインローブが重畳し且つ該第2の光源により形成さ
れるメインローブの側部に第3の光源により形成される
メインローブが重畳するようなホログラムがホログラム
素子の表面に記録されているため、単一の点光源を用い
て請求項5の超解像用光源装置と等価な超解像を実現す
ることができる。
【0110】請求項17の発明に係る走査光学装置の超
解像用フィルターによると、コヒーレントビームを照射
して得られる回折光を集光すると第1の光源により形成
されるメインローブの側部に記第2の光源により形成さ
れるメインローブが重畳するようなコンピュータ合成ホ
ログラムホログラムがホログラム素子の表面に記録され
ているため、単一の点光源を用いて請求項3の超解像用
光源装置と等価な超解像を実現することができる。
【0111】請求項18の発明に係る走査光学装置の超
解像用フィルターによると、コヒーレントビームを照射
して得られる回折光を集光すると第1の光源により形成
されるメインローブの側部に第2の光源により形成され
るメインローブが重畳し且つ該第2の光源により形成さ
れるメインローブの側部に第3の光源により形成される
メインローブが重畳するようなコンピュータ合成ホログ
ラムがホログラム素子の表面に記録されているため、単
一の点光源を用いて請求項5の超解像用光源装置と等価
な超解像を実現することができる。
【0112】請求項19又は請求項20の発明に係る走
査光学装置の超解像用フィルターによると、集光手段の
コリメートレンズ又は対物レンズに請求項15〜18の
いずれか1項記載の光学装置の超解像用フィルターが一
体的に設けられているため、光源像のメインローブの光
量を著しくは低減させない超解像走査光学装置を単一の
点光源を用いて簡易に実現することができる。
【0113】請求項21又は22の発明に係る走査光学
装置の超解像用フィルターによると、集光手段のコリメ
ートレンズ又は集光レンズに請求項15〜18のいずれ
か1項記載の光学装置の超解像用フィルターが一体的に
設けられているため、光源像のメインローブの光量を著
しくは低減させない超解像走査光学装置を単一の点光源
を用いて簡易に実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る超解像走査光学装置
における光ピックアップヘッド光学系の概略構成図であ
る。
【図2】前記第1実施例に係る超解像走査光学装置にお
ける光ピックアップヘッド光学系に用いられる位相板を
示し、(a)はその正面図、(b)は(a)におけるII
−II線断面図である。
【図3】前記第1実施例に係る超解像走査光学装置にお
ける光ピックアップヘッド光学系に用いられる位相板の
近傍のビームウエイストを示す説明図である。
【図4】本発明の第2実施例に係る超解像走査光学装置
における光ピックアップヘッド光学系の概略構成図であ
る。
【図5】前記第2実施例に係る超解像走査光学装置にお
ける光ピックアップヘッド光学系に用いられる基台の部
分斜視図である。
【図6】前記第2実施例に係る超解像走査光学装置にお
ける光ピックアップヘッド光学系に用いられる反射型位
相板の断面図である。
【図7】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光学
装置における光ピックアップヘッド光学系の作用を説明
する説明図である。
【図8】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光学
装置における光ピックアップヘッド光学系の作用を詳細
に説明する説明図である。
【図9】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光学
装置における光ピックアップヘッド光学系に適用される
光源列の配置図である。
【図10】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用光源装置の第1実施例を示す斜
視図である。
【図11】図10におけるXI−XI線断面図である。
【図12】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用光源装置の第2実施例を示す斜
視図である。
【図13】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用光源装置の第2実施例の変形例
を示す断面図である。
【図14】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用ホログラフィックフィルターの
作用原理を説明する説明図である。
【図15】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用ホログラフィックフィルターの
作成方法を説明する説明図である。
【図16】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用ホログラフィックフィルターを
構成する位相板に形成される輪帯状位相構造を示し、
(a)はその正面図、(b)は(a)におけるXVI−X
VI線断面図である。
【図17】前記第1及び第2実施例に係る超解像走査光
学装置における超解像用ホログラフィックフィルターを
構成する位相板に形成される輪帯状位相構造の変形例を
示し、(a)はその正面図、(b)は(a)におけるX
VII −XVII 線断面図である。
【図18】前記超解像用ホログラフィックフィルターが
適用されるレーザビームプリンタ装置の概略構成図であ
る。
【図19】従来の超解像走査光学装置における光ピック
アップヘッド光学系の概略構成図である。
【図20】前記従来の超解像走査光学装置における光ピ
ックアップヘッド光学系の超解像の原理を説明する説明
図である。
【符号の説明】
100 コヒーレント光源 102 集光レンズ 104 位相板 104a 中心輪帯(第1の位相領域) 104b 中間輪帯(第2の位相領域) 104c 外側輪帯(第3の位相領域) 106 コリメートレンズ 108 偏光ビームスプリッタ 110 1/4波長板 112 対物レンズ 114 光ディスク 116 サーボ信号検出用ホログラム素子 118 フォトディテクター 122 超解像用光源装置 124 光ピックアップヘッド装置 200 コヒーレント光源 202 集光レンズ 204 反射型位相板 204a 中心輪帯(第1の位相領域) 204b 中間輪帯(第2の位相領域) 204c 外側輪帯(第3の位相領域) 206 コリメートレンズ 208 サーボ信号検出用ホログラム素子 210 対物レンズ 212 光ディスク 214 フォトディテクター 220 超解像光源及び信号検出装置 222 光ピックアップヘッド装置 301 第1の光源 301,301A,301B 第2の光源 302,302A,302B 第3の光源 400 レーザ光源(コヒーレント光源) 402 位相板 402a 第1の位相領域 402b 第2の位相領域 402c 第3の位相領域 500 半導体レーザ 502a 第1の位相領域 502b 第2の位相領域 502c 第3の位相領域 510 位相板 512a 第1の位相領域 512b 第2の位相領域 512c 第3の位相領域 514 半導体レーザ 600 半導体レーザ 602 集光レンズ 604 ピンホール 606 位相板 606a 中心領域 606b 第1の位相領域 606c 第2の位相領域 606d 第3の位相領域 606e 第4の位相領域 608 感光媒体 610 位相板 610a 内側凹状溝(第1の位相領域) 610b 外側凹状溝(第3の位相領域) 610c 中心領域 610d 輪状領域(第2の位相領域) 700 ポリゴンミラー 702 平凸コリメートレンズ 704 コヒーレント光源 706 集光レンズ 708 超解像スポット 710 レプリカ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年9月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図17
【補正方法】変更
【補正内容】
【図17】

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コヒーレント光源を結像光学系を介して
    共役面に微小スポットとして結像させる結像手段と、前
    記共役面に結像した微小スポットを走査する走査手段と
    を備えた超解像走査光学装置であって、前記コヒーレン
    ト光源は第1の光源と該第1の光源と逆位相である第2
    の光源とを少なくとも有しており、前記第1の光源と前
    記第2の光源とは前記第1の光源の前記共役面における
    光源像のメインローブの側部に前記第2の光源の前記共
    役面における光源像のメインローブが重畳する関係にあ
    ることを特徴とする超解像走査光学装置。
  2. 【請求項2】 前記コヒーレント光源は前記第1の光源
    と同位相である第3の光源をさらに備えており、前記第
    2の光源と前記第3の光源とは前記第2の光源の前記共
    役面における光源像のメインローブの側部に前記第3の
    光源の前記共役面における光源像のメインローブが重畳
    する関係を有していることを特徴とする請求項1記載の
    超解像走査光学装置。
  3. 【請求項3】 互いにコヒーレントな第1の光源と該第
    1の光源と逆位相の第2の光源とを少なくとも備えてお
    り、前記第1の光源が結像光学系の光軸上又は該光軸に
    近接して設けられていると共に前記第2の光源は前記第
    1の光源の近傍に設けられていることを特徴とする光学
    装置の超解像用光源装置。
  4. 【請求項4】 前記第2の光源の出力が前記第1の光源
    の出力よりも小さくなるように設定されていることを特
    徴とする請求項3記載の光学装置の超解像用光源装置。
  5. 【請求項5】 前記第2の光源と互いにコヒーレントで
    且つ該第2の光源と逆位相の第3の光源を、前記第2の
    光源の近傍であって該第2の光源に対する前記第1の光
    源の反対側に備えていることを特徴とする請求項3記載
    の光学装置の超解像用光源装置。
  6. 【請求項6】 前記第2の光源の出力が前記第1の光源
    の出力よりも小さく設定され、前記第3の光源の出力が
    前記第2の光源の出力よりも小さく設定されていること
    を特徴とする請求項5記載の光学装置の超解像用光源装
    置。
  7. 【請求項7】 コヒーレントビームを出射するコヒーレ
    ント光源と、該コヒーレント光源におけるコヒーレント
    ビームを出射するビーム出射部の近傍に該ビーム出射部
    に対向して設けられ、前記ビーム出射部から出射される
    コヒーレントビームの中心領域である第1の領域に所定
    の位相を与える第1の位相領域と前記ビーム出射部から
    出射されるコヒーレントビームにおける前記第1の領域
    よりも外側の第2の領域に前記所定の位相と逆の位相を
    与える第2の位相領域とを有する位相板とを備えている
    ことを特徴とする光学装置の超解像用光源装置。
  8. 【請求項8】 前記位相板は、前記ビーム出射部から出
    射されるコヒーレントビームの前記第2の領域の出力を
    該コヒーレントビームの前記第1の領域の出力よりも小
    さくさせることを特徴とする請求項7記載の光学装置の
    超解像用光源装置。
  9. 【請求項9】 前記第1の位相領域は円形に形成され、
    前記第2の位相領域は輪帯状に形成されていることを特
    徴とする請求項7又は8記載の光学装置の超解像用光源
    装置。
  10. 【請求項10】 前記第1の位相領域は方形状に形成さ
    れ、前記第2の位相領域は方形枠状に形成されているこ
    とを特徴とする請求項7又は8記載の光学装置の超解像
    用光源装置。
  11. 【請求項11】 前記位相板は、前記ビーム出射部から
    出射されるコヒーレントビームにおける前記第2の領域
    よりも外側の第3の領域に前記第2の位相領域と逆の位
    相を与える第3の位相領域を有していることを特徴とす
    る請求項7記載の光学装置の超解像用光源装置。
  12. 【請求項12】 前記位相板は、前記ビーム出射部から
    出射されるコヒーレントビームの前記第3の領域の出力
    を該コヒーレントビームの前記第2の領域の出力よりも
    小さくさせることを特徴とする請求項11記載の光学装
    置の超解像用光源装置。
  13. 【請求項13】 前記第3の位相領域は輪帯状に形成さ
    れていることを特徴とする請求項11又は12記載の光
    学装置の超解像用光源装置。
  14. 【請求項14】 前記第3の位相領域は方形枠状に形成
    されていることを特徴とする請求項11又は12記載の
    光学装置の超解像用光源装置。
  15. 【請求項15】 互いに逆位相の波面で出射される第1
    の光源及び第2の光源を含む位相列光源の波面のホログ
    ラムであって、コヒーレントビームを照射して得られる
    回折光を集光すると前記第1の光源により形成されるメ
    インローブの側部に前記第2の光源により形成されるメ
    インローブが重畳するようなホログラムがホログラム素
    子の表面に記録されていることを特徴とする光学装置の
    超解像用フィルター。
  16. 【請求項16】 互いに逆位相の波面で出射される第1
    の光源及び第2の光源と、該第2の光源と逆位相の第3
    の光源とを含む位相列光源の波面のホログラムであっ
    て、コヒーレントビームを照射して得られる回折光を集
    光すると前記第1の光源により形成されるメインローブ
    の側部に前記第2の光源により形成されるメインローブ
    が重畳し且つ該第2の光源により形成されるメインロー
    ブの側部に前記第3の光源により形成されるメインロー
    ブが重畳するようなホログラムがホログラム素子の表面
    に記録されていることを特徴とする光学装置の超解像用
    フィルター。
  17. 【請求項17】 互いに逆位相の波面で出射される第1
    の光源及び第2の光源を含む位相列光源の波面がインラ
    イン型のフーリエ変換ホログラムとして計算されたコン
    ピュータ合成ホログラムであって、コヒーレントビーム
    を照射して得られる回折光を集光すると前記第1の光源
    により形成されるメインローブの側部に前記第2の光源
    により形成されるメインローブが重畳するようなコンピ
    ュータ合成ホログラムがホログラム素子の表面に記録さ
    れていることを特徴とする光学装置の超解像用フィルタ
    ー。
  18. 【請求項18】 互いに逆位相の波面で出射される第1
    の光源及び第2の光源と、該第2の光源と逆位相の第3
    の光源とを含む位相列光源の波面がインライン型のフー
    リエ変換ホログラムとして計算されたコンピュータ合成
    ホログラムであって、コヒーレントビームを照射して得
    られる回折光を集光すると前記第1の光源により形成さ
    れるメインローブの側部に前記第2の光源により形成さ
    れるメインローブが重畳し且つ該第2の光源により形成
    されるメインローブの側部に前記第3の光源により形成
    されるメインローブが重畳するようなコンピュータ合成
    ホログラムがホログラム素子の表面に記録されているこ
    とを特徴とする光学装置の超解像用フィルター。
  19. 【請求項19】 コヒーレント光源と、コリメートレン
    ズを有し前記コヒーレント光源から出射されたコヒーレ
    ントビームを光ディスク記録面に集光する集光手段と、
    該集光手段の前記光ディスク記録面に対する相対位置を
    制御する制御手段とを備えた超解像走査光学装置であっ
    て、前記コリメートレンズに請求項15〜18のいずれ
    か1項記載の光学装置の超解像用フィルターが一体的に
    設けられていることを特徴とする超解像走査光学装置。
  20. 【請求項20】 コヒーレント光源と、対物レンズを有
    し前記コヒーレント光源から出射されたコヒーレントビ
    ームを光ディスク記録面に集光する集光手段と、該集光
    手段の前記光ディスク記録面に対する相対位置を制御す
    る制御手段とを備えた超解像走査光学装置であって、前
    記対物レンズに請求項15〜18のいずれか1項記載の
    光学装置の超解像用フィルターが一体的に設けられてい
    ることを特徴とする超解像走査光学装置。
  21. 【請求項21】 コヒーレント光源と、コリメートレン
    ズ、ポリゴンミラー及び集光レンズを有し前記コヒーレ
    ント光源から出射されたコヒーレントビームを集光する
    集光手段とを備えた超解像走査光学装置であって、前記
    コリメートレンズに請求項15〜18のいずれか1項記
    載の光学装置の超解像用フィルターが一体的に設けられ
    ていることを特徴とする超解像走査光学装置。
  22. 【請求項22】 コヒーレント光源と、コリメートレン
    ズ、ポリゴンミラー及び集光レンズを有し前記コヒーレ
    ント光源から出射されたコヒーレントビームを集光する
    集光手段とを備えた超解像走査光学装置であって、前記
    集光レンズに請求項15〜18のいずれか1項記載の光
    学装置の超解像用フィルターが一体的に設けられている
    ことを特徴とする超解像走査光学装置。
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