JPH0688913A - 光導波路 - Google Patents
光導波路Info
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- JPH0688913A JPH0688913A JP4262725A JP26272592A JPH0688913A JP H0688913 A JPH0688913 A JP H0688913A JP 4262725 A JP4262725 A JP 4262725A JP 26272592 A JP26272592 A JP 26272592A JP H0688913 A JPH0688913 A JP H0688913A
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- JP
- Japan
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- refractive index
- substrate
- core portion
- optical waveguide
- rays
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 作製が容易で、かつ光の偏光方向によってシ
ングルモードとダブルモードの切り換えが可能な光導波
路を提供する。 【構成】 基板１上には、常光線及び異常光線のいずれ
に対しても基板１より屈折率の大きい第１コア部２と、
異常光線に対してのみ基板１より屈折率の大きい第２コ
ア部３ａ，３ｂが形成されており、第１コア部２が常光
線に対するシングルモード導波路を構成し、第１コア部
２と第２コア部３ａ，３ｂを合わせた領域が異常光線に
対するダブルモード導波路を構成する。第１コア部２は
熱拡散法によって、第２コア部３ａ，３ｂはプロトン交
換法やＬｉ2 Ｏ外方拡散法によって形成される。
ングルモードとダブルモードの切り換えが可能な光導波
路を提供する。 【構成】 基板１上には、常光線及び異常光線のいずれ
に対しても基板１より屈折率の大きい第１コア部２と、
異常光線に対してのみ基板１より屈折率の大きい第２コ
ア部３ａ，３ｂが形成されており、第１コア部２が常光
線に対するシングルモード導波路を構成し、第１コア部
２と第２コア部３ａ，３ｂを合わせた領域が異常光線に
対するダブルモード導波路を構成する。第１コア部２は
熱拡散法によって、第２コア部３ａ，３ｂはプロトン交
換法やＬｉ2 Ｏ外方拡散法によって形成される。
Description
【産業上の利用分野】本発明は光導波路に関するもので
ある。
ある。
【０００１】
【従来の技術】近年、種々の分野で光導波路が注目され
ている。その理由は光導波路を用いることにより光学系
の小型・軽量化を図ることができ、また、光軸の調整が
不要になるという利点を有しているからである。
ている。その理由は光導波路を用いることにより光学系
の小型・軽量化を図ることができ、また、光軸の調整が
不要になるという利点を有しているからである。
【０００２】光導波路は、導波路（コア部）とクラッド
部の屈折率差や導波路幅、屈折率分布によって、０次モ
ードだけが励振されるシングルモード導波路と、０次と
１次の２つのモードが励振されるダブルモード導波路
と、０次、１次及び２次以上の３つ以上のモードが励振
されるマルチモード導波路とに分類される。
部の屈折率差や導波路幅、屈折率分布によって、０次モ
ードだけが励振されるシングルモード導波路と、０次と
１次の２つのモードが励振されるダブルモード導波路
と、０次、１次及び２次以上の３つ以上のモードが励振
されるマルチモード導波路とに分類される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光導波路を
種々の装置に応用する場合、光の偏光方向によりシング
ルモードになったりダブルモードになったりする光導波
路を用いることができれば、応用範囲が広がることが考
えられる。そして、そのような光導波路は複屈折現象を
示す物質を導波路材料に用いることにより可能である。
種々の装置に応用する場合、光の偏光方向によりシング
ルモードになったりダブルモードになったりする光導波
路を用いることができれば、応用範囲が広がることが考
えられる。そして、そのような光導波路は複屈折現象を
示す物質を導波路材料に用いることにより可能である。
【０００４】しかし、複屈折現象を示す物質を導波路材
料に用いた場合は、その屈折率により導波路幅をある範
囲内に精度良く納めなくてはならず、現実には作製が困
難である。
料に用いた場合は、その屈折率により導波路幅をある範
囲内に精度良く納めなくてはならず、現実には作製が困
難である。
【０００５】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、作製が容易で、かつ光の偏光方向によってシン
グルモードとダブルモードの切り換えが可能な光導波路
を提供することを目的とするものである。
であり、作製が容易で、かつ光の偏光方向によってシン
グルモードとダブルモードの切り換えが可能な光導波路
を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の光導波路は、
基板上に形成された前記基板よりも屈折率の大きいコア
部を有する光導波路において、上記の課題を達成するた
めに、前記コア部は常光線及び異常光線のいずれに対し
ても前記基板より屈折率の大きい第１コア部と、異常光
線に対してのみ前記基板より屈折率の大きい第２コア部
を備えたものである。
基板上に形成された前記基板よりも屈折率の大きいコア
部を有する光導波路において、上記の課題を達成するた
めに、前記コア部は常光線及び異常光線のいずれに対し
ても前記基板より屈折率の大きい第１コア部と、異常光
線に対してのみ前記基板より屈折率の大きい第２コア部
を備えたものである。
【０００７】請求項２の光導波路は、前記第１コア部は
常光線に対してシングルモードの導波路を構成し、前記
第１コア部と第２コア部を合わせた領域は異常光線に対
してダブルモードの導波路を構成するものである。
常光線に対してシングルモードの導波路を構成し、前記
第１コア部と第２コア部を合わせた領域は異常光線に対
してダブルモードの導波路を構成するものである。
【０００８】請求項３の光導波路は、前記基板として、
電気光学効果を有する誘電体結晶を用いたものである。
電気光学効果を有する誘電体結晶を用いたものである。
【０００９】請求項４の光導波路は、前記第１コア部は
所定の金属を前記基板中に熱拡散させることにより屈折
率を増大させる熱拡散法によって形成され、前記第２コ
ア部は前記基板を溶液中に浸漬して前記基板中のイオン
を前記溶液中のイオンと交換させることにより屈折率を
増大させるプロトン交換法、もしくは前記基板を加熱し
てＬｉ2 Ｏを前記基板外に拡散させることにより屈折率
を増大させるＬｉ2 Ｏ外拡散法によって形成されたもの
である。
所定の金属を前記基板中に熱拡散させることにより屈折
率を増大させる熱拡散法によって形成され、前記第２コ
ア部は前記基板を溶液中に浸漬して前記基板中のイオン
を前記溶液中のイオンと交換させることにより屈折率を
増大させるプロトン交換法、もしくは前記基板を加熱し
てＬｉ2 Ｏを前記基板外に拡散させることにより屈折率
を増大させるＬｉ2 Ｏ外拡散法によって形成されたもの
である。
【００１０】
【作用】電気光学効果を有する単結晶基板のうち、ニオ
ブ酸リチウム単結晶とタンタル酸リチウム単結晶は光導
波路を作製する基板として広く用いられている。ニオブ
酸リチウム基板上とタンタル酸リチウム基板上に光導波
路を作製する方法はいくつかあり、その中で熱拡散法、
プロトン交換法及びＬｉ2 Ｏ外方拡散法は広く用いられ
ている作製方法である。
ブ酸リチウム単結晶とタンタル酸リチウム単結晶は光導
波路を作製する基板として広く用いられている。ニオブ
酸リチウム基板上とタンタル酸リチウム基板上に光導波
路を作製する方法はいくつかあり、その中で熱拡散法、
プロトン交換法及びＬｉ2 Ｏ外方拡散法は広く用いられ
ている作製方法である。
【００１１】熱拡散法は、熱拡散したい材料を基板上に
堆積させておき、これを高温の炉の中で一定時間加熱す
ることにより堆積材料を基板中に拡散させて高屈折率領
域（コア部）を形成する方法である。拡散源としては、
ニオブ酸リチウム基板ではＴｉ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｕ等の遷
移金属がよく用いられ、タンタル酸リチウム基板ではＣ
ｕ、Ｔｉ、Ｎｂなどの遷移金属がよく用いられる。
堆積させておき、これを高温の炉の中で一定時間加熱す
ることにより堆積材料を基板中に拡散させて高屈折率領
域（コア部）を形成する方法である。拡散源としては、
ニオブ酸リチウム基板ではＴｉ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｕ等の遷
移金属がよく用いられ、タンタル酸リチウム基板ではＣ
ｕ、Ｔｉ、Ｎｂなどの遷移金属がよく用いられる。
【００１２】プロトン交換法は、基板を所定の溶液中に
浸して基板中のイオンを溶液中のイオンと交換すること
により基板表面近くに高屈折率領域（コア部）を形成す
る方法である。溶液としては、安息香酸、硝酸銀、ピロ
リン酸等の溶融液がよく用いられている。プロトン交換
法で作製した導波路はアニールすることにより屈折率お
よび屈折率分布を変化させることができる。
浸して基板中のイオンを溶液中のイオンと交換すること
により基板表面近くに高屈折率領域（コア部）を形成す
る方法である。溶液としては、安息香酸、硝酸銀、ピロ
リン酸等の溶融液がよく用いられている。プロトン交換
法で作製した導波路はアニールすることにより屈折率お
よび屈折率分布を変化させることができる。
【００１３】Ｌｉ2 Ｏ外方拡散法は、基板を高温に熱し
て結晶表面からＬｉ2 Ｏを外部へ放出させることにより
高屈折率領域を形成する方法である。
て結晶表面からＬｉ2 Ｏを外部へ放出させることにより
高屈折率領域を形成する方法である。
【００１４】上述した各方法のうち、熱拡散法では、常
光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の両方が
増大するが、プロトン交換法とＬｉ2 Ｏ外方拡散法では
異常光線に対する屈折率のみが増加する。
光線に対する屈折率と異常光線に対する屈折率の両方が
増大するが、プロトン交換法とＬｉ2 Ｏ外方拡散法では
異常光線に対する屈折率のみが増加する。
【００１５】従って、ニオブ酸リチウム等の基板上に熱
拡散法によって常光線と異常光線の両方に対して屈折の
高い領域（第１コア部）を形成し、更にこの熱拡散法に
よって形成された第１コア部の両側、あるいは上面の第
１コア部より幅の広い領域にプロトン交換法（アニール
工程を含む）、もしくはＬｉ2 Ｏ外方拡散によって異常
光線に対してのみ屈折率の高い領域（第２コア部）を形
成すれば、常光線に対してと異常光線に対してとで、導
波路となる領域（基板に対して屈折率の高い領域）を異
ならせることができる。
拡散法によって常光線と異常光線の両方に対して屈折の
高い領域（第１コア部）を形成し、更にこの熱拡散法に
よって形成された第１コア部の両側、あるいは上面の第
１コア部より幅の広い領域にプロトン交換法（アニール
工程を含む）、もしくはＬｉ2 Ｏ外方拡散によって異常
光線に対してのみ屈折率の高い領域（第２コア部）を形
成すれば、常光線に対してと異常光線に対してとで、導
波路となる領域（基板に対して屈折率の高い領域）を異
ならせることができる。
【００１６】この際、第１及び第２コア部の屈折率、屈
折率分布を適宜調整することによって、第１コア部を常
光線に対するシングルモード導波路とし、第１コア部と
第２コア部を合わせた領域を異常光線に対するダブルモ
ード導波路とすることができる。即ち、光の偏光方向に
よって、シングルモードとなったり、ダブルモードとな
ったりする光導波路を作製することが可能である。
折率分布を適宜調整することによって、第１コア部を常
光線に対するシングルモード導波路とし、第１コア部と
第２コア部を合わせた領域を異常光線に対するダブルモ
ード導波路とすることができる。即ち、光の偏光方向に
よって、シングルモードとなったり、ダブルモードとな
ったりする光導波路を作製することが可能である。
【００１７】なお、屈折率及び屈折率分布の調整は、上
述した熱処理やプロトン交換等の処理の時間・温度、ア
ニール処理の温度・時間、熱拡散やプロトン交換を行う
領域の大きさ等の条件を適宜選択することによって行う
ことができる。
述した熱処理やプロトン交換等の処理の時間・温度、ア
ニール処理の温度・時間、熱拡散やプロトン交換を行う
領域の大きさ等の条件を適宜選択することによって行う
ことができる。
【００１８】
【実施例】図１は本発明の第１実施例による光導波路の
構成を示す模式的な断面図である。図において、ニオブ
酸リチウム基板１上には、Ｔｉの熱拡散によって形成さ
れた常光線及び異常光線のいずれに対しても屈折率が高
い第１コア部２と、その両側にプロトン交換後アニール
することによって形成された異常光線に対してのみ屈折
率が高い第２コア部３ａ，３ｂが設けられている。そし
て、第１コア部２は、常光線に対してシングルモードの
導波路を構成し、第１コア部２と第２コア部３ａ，３ｂ
を合わせた領域は異常光線に対してダブルモードの導波
路を構成するように屈折率分布が調整されている。
構成を示す模式的な断面図である。図において、ニオブ
酸リチウム基板１上には、Ｔｉの熱拡散によって形成さ
れた常光線及び異常光線のいずれに対しても屈折率が高
い第１コア部２と、その両側にプロトン交換後アニール
することによって形成された異常光線に対してのみ屈折
率が高い第２コア部３ａ，３ｂが設けられている。そし
て、第１コア部２は、常光線に対してシングルモードの
導波路を構成し、第１コア部２と第２コア部３ａ，３ｂ
を合わせた領域は異常光線に対してダブルモードの導波
路を構成するように屈折率分布が調整されている。
【００１９】以下、図２を参照して、図１の光導波路の
作製方法を説明する。まず、図２（ａ）はＴｉ拡散後の
状態を示す断面図である。第１コア部２はニオブ酸リチ
ウム基板１上にＴｉの導波路パターンを成膜した後、加
熱することにより形成される。この第１コア部２は、常
光線に対する屈折率も異常光線に対する屈折率も増大
し、常光線の導波光に対しても異常光線の導波光に対し
てもシングルモードとなるように作製されている。本実
施例における第１コア部２の屈折率の増加量は常光線、
異常光線とも６×１０-3程度である。
作製方法を説明する。まず、図２（ａ）はＴｉ拡散後の
状態を示す断面図である。第１コア部２はニオブ酸リチ
ウム基板１上にＴｉの導波路パターンを成膜した後、加
熱することにより形成される。この第１コア部２は、常
光線に対する屈折率も異常光線に対する屈折率も増大
し、常光線の導波光に対しても異常光線の導波光に対し
てもシングルモードとなるように作製されている。本実
施例における第１コア部２の屈折率の増加量は常光線、
異常光線とも６×１０-3程度である。
【００２０】次に、図２（ｂ）はプロトン交換後の状態
を示す断面図である。プロトン交換（プロトン交換源：
安息香酸）は第１コア部２の両側の領域１３ａ，１３ｂ
に対して行われる。このプロトン交換部分１３ａ，１３
ｂは異常光線に対する屈折率のみが増大し、その増加量
は１．３×１０-1程度である。
を示す断面図である。プロトン交換（プロトン交換源：
安息香酸）は第１コア部２の両側の領域１３ａ，１３ｂ
に対して行われる。このプロトン交換部分１３ａ，１３
ｂは異常光線に対する屈折率のみが増大し、その増加量
は１．３×１０-1程度である。
【００２１】続いて、図２（ｃ）はアニール後の状態を
示す断面図である。アニールによりプロトン交換部分１
３ａ，１３ｂは横方向と深さ方向に広がり（第２コア部
３ａ，３ｂ）、屈折率が変化する。この際、アニールの
条件は、第１コア部２と第２コア部３ａ，３ｂの屈折率
の変化量がほぼ等しくなるように設定する。
示す断面図である。アニールによりプロトン交換部分１
３ａ，１３ｂは横方向と深さ方向に広がり（第２コア部
３ａ，３ｂ）、屈折率が変化する。この際、アニールの
条件は、第１コア部２と第２コア部３ａ，３ｂの屈折率
の変化量がほぼ等しくなるように設定する。
【００２２】さてここで、上記のようにして作製された
図１の光導波路の屈折分布について説明する。図３は常
光線に対して屈折率が増大している領域（即ち第１コア
部）２を示した図であり、常光線の導波光に対してはシ
ングルモード導波路となっている。
図１の光導波路の屈折分布について説明する。図３は常
光線に対して屈折率が増大している領域（即ち第１コア
部）２を示した図であり、常光線の導波光に対してはシ
ングルモード導波路となっている。
【００２３】一方、図４は異常光線に対して屈折率が増
大している領域４（即ち第１コア部２と第２コア部３
ａ，３ｂを合わせた領域）を示した図であり、異常光線
の導波光に対してダブルモード導波路となっている。
大している領域４（即ち第１コア部２と第２コア部３
ａ，３ｂを合わせた領域）を示した図であり、異常光線
の導波光に対してダブルモード導波路となっている。
【００２４】次に、図５は本発明の第２実施例による光
導波路の構成を示す模式的な断面図である。図におい
て、ニオブ酸リチウム基板２１上には、Ｔｉの熱拡散に
よって形成された常光線及び異常光線のいずれに対して
も屈折率が高い第１コア部２２と、プロトン交換後アニ
ールすることによって形成された異常光線に対してのみ
屈折率が高い第２コア部２３が設けられている。本実施
例では、第２コア部は第１コア部２２上に重ねて第１コ
ア部２２よりも広い幅で形成されており、第１コア部２
２は常光線に対してシングルモードの導波路を構成し、
第１コア部２２との重複部分を含む第２コア部２３は異
常光線に対してダブルモードの導波路を構成するように
屈折率分布が調整されている。
導波路の構成を示す模式的な断面図である。図におい
て、ニオブ酸リチウム基板２１上には、Ｔｉの熱拡散に
よって形成された常光線及び異常光線のいずれに対して
も屈折率が高い第１コア部２２と、プロトン交換後アニ
ールすることによって形成された異常光線に対してのみ
屈折率が高い第２コア部２３が設けられている。本実施
例では、第２コア部は第１コア部２２上に重ねて第１コ
ア部２２よりも広い幅で形成されており、第１コア部２
２は常光線に対してシングルモードの導波路を構成し、
第１コア部２２との重複部分を含む第２コア部２３は異
常光線に対してダブルモードの導波路を構成するように
屈折率分布が調整されている。
【００２５】以下、図６を参照して、図５の光導波路の
作製方法を説明する。まず、図６（ａ）はＴｉ拡散後の
状態を示す断面図である。図において、第１コア部２２
はニオブ酸リチウム基板２１上にＴｉの導波路パターン
を成膜し、加熱することにより形成される。第１コア部
２２は常光線に対する屈折率も異常光線に対する屈折率
も増大し、常光線の導波光に対しても異常光線の導波光
に対してもシングルモードであるように作製されてい
る。屈折率の増加量は常光線、異常光線とも６×１０-3
程度である。
作製方法を説明する。まず、図６（ａ）はＴｉ拡散後の
状態を示す断面図である。図において、第１コア部２２
はニオブ酸リチウム基板２１上にＴｉの導波路パターン
を成膜し、加熱することにより形成される。第１コア部
２２は常光線に対する屈折率も異常光線に対する屈折率
も増大し、常光線の導波光に対しても異常光線の導波光
に対してもシングルモードであるように作製されてい
る。屈折率の増加量は常光線、異常光線とも６×１０-3
程度である。
【００２６】次に、図６（ｂ）はプロトン交換後の状態
を示す断面図である。プロトン交換部分３３（プロトン
交換源：安息香酸）は第１コア部２２上に重なるよう
に、かつ第１コア部２２よりも幅が広くなるように設け
られている。プロトン交換部分３３は異常光線に対する
屈折率のみが増大し、その増加量は１．３×１０-1程度
である。
を示す断面図である。プロトン交換部分３３（プロトン
交換源：安息香酸）は第１コア部２２上に重なるよう
に、かつ第１コア部２２よりも幅が広くなるように設け
られている。プロトン交換部分３３は異常光線に対する
屈折率のみが増大し、その増加量は１．３×１０-1程度
である。
【００２７】続いて、図２（ｃ）はアニール後の状態を
示す断面図である。アニールによりプロトン交換部分３
３は横方向と深さ方向に広がり（第２コア部２３）、屈
折率が変化する。この際、アニールの条件は、アニール
後の第２コア部２３の屈折率の変化量が第１コア部２２
の屈折率の変化量とほぼ等しくなるように設定される。
示す断面図である。アニールによりプロトン交換部分３
３は横方向と深さ方向に広がり（第２コア部２３）、屈
折率が変化する。この際、アニールの条件は、アニール
後の第２コア部２３の屈折率の変化量が第１コア部２２
の屈折率の変化量とほぼ等しくなるように設定される。
【００２８】上記のようにして作製された図５の光導波
路において、第１コア部２２が常光線に対するシングル
モード導波路を構成し、第１コア部との重複部分を含む
第２コア部２３が異常光線に対するダブルモード導波路
を構成する。即ち、本実施例の光導波路も第１実施例と
同様に、光の偏光方向によって、シングルモードとなっ
たり、ダブルモードとなったりするように構成されてい
る。
路において、第１コア部２２が常光線に対するシングル
モード導波路を構成し、第１コア部との重複部分を含む
第２コア部２３が異常光線に対するダブルモード導波路
を構成する。即ち、本実施例の光導波路も第１実施例と
同様に、光の偏光方向によって、シングルモードとなっ
たり、ダブルモードとなったりするように構成されてい
る。
【００２９】なお、上記の各実施例では、基板としてニ
オブ酸リチウム基板を用いているが、これに限定される
ものではないことは言うまでもなく、例えば、タンタル
酸リチウム等の電気光学効果を有する単結晶基板を用い
ることができる。
オブ酸リチウム基板を用いているが、これに限定される
ものではないことは言うまでもなく、例えば、タンタル
酸リチウム等の電気光学効果を有する単結晶基板を用い
ることができる。
【００３０】また、上記の各実施例では熱拡散法によっ
て第１コア部を形成する際の拡散源としてＴｉを用いて
いるが、ニオブ酸リチウム基板を用いる場合の拡散源と
しては、Ｔｉの他にＶ、Ｎｉ、Ｃｕ等の遷移金属でも良
く、タンタル酸リチウム基板を用いる場合はＣｕ、Ｔ
ｉ、Ｎｂ等の遷移金属を用いることができる。
て第１コア部を形成する際の拡散源としてＴｉを用いて
いるが、ニオブ酸リチウム基板を用いる場合の拡散源と
しては、Ｔｉの他にＶ、Ｎｉ、Ｃｕ等の遷移金属でも良
く、タンタル酸リチウム基板を用いる場合はＣｕ、Ｔ
ｉ、Ｎｂ等の遷移金属を用いることができる。
【００３１】また、上記の各実施例ではプロトン交換法
によって形成される第２コア部のプロトン交換源として
安息香酸を用いているが、この他、ピロリン酸、硝酸銀
等を用いることができる。
によって形成される第２コア部のプロトン交換源として
安息香酸を用いているが、この他、ピロリン酸、硝酸銀
等を用いることができる。
【００３２】更に上記の各実施例では、異常光線に対し
てのみ屈折率を増加させる方法としてプロトン交換法を
用いているが、これに代えてＬｉ2 Ｏ外方拡散法を採用
することもできる。
てのみ屈折率を増加させる方法としてプロトン交換法を
用いているが、これに代えてＬｉ2 Ｏ外方拡散法を採用
することもできる。
【００３３】
【発明の効果】以上のように本発明では、常光線及び異
常光線のいずれに対しても基板より屈折率の大きい第１
コア部と、異常光線に対してのみ前記基板より屈折率の
大きい第２コア部とを組み合わせて光導波路を構成して
いるので、導波光の偏光方向によってシングルモードと
ダブルモードを切り換えることができる。即ち、本発明
は従来にない新規な機能をもつ光導波路を提供するもの
であり、本発明による光導波路は種々の光学装置への応
用が可能である。
常光線のいずれに対しても基板より屈折率の大きい第１
コア部と、異常光線に対してのみ前記基板より屈折率の
大きい第２コア部とを組み合わせて光導波路を構成して
いるので、導波光の偏光方向によってシングルモードと
ダブルモードを切り換えることができる。即ち、本発明
は従来にない新規な機能をもつ光導波路を提供するもの
であり、本発明による光導波路は種々の光学装置への応
用が可能である。
【図１】第１実施例による光導波路の構成を示す模式的
な垂直断面である。
な垂直断面である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、第１実施例による光導波路
の作製方法を説明するための垂直断面図である。
の作製方法を説明するための垂直断面図である。
【図３】第１実施例の光導波路において常光線に対する
屈折率が増大している部分を示す垂直断面図である。
屈折率が増大している部分を示す垂直断面図である。
【図４】第１実施例の光導波路において、異常光に対す
る屈折率が増大している部分を示す垂直断面図である。
る屈折率が増大している部分を示す垂直断面図である。
【図５】第２実施例による光導波路の構成を示す模式的
な断面図である。
な断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、第２実施例の光導波路の作
製方法を説明するための垂直断面図である。
製方法を説明するための垂直断面図である。
１，２１…ニオブ酸リチウム基板、２，２２…第１コア
部、３ａ，３ｂ，２３…第２コア部、１３ａ，１３ｂ，
３３…プロトン交換部分
部、３ａ，３ｂ，２３…第２コア部、１３ａ，１３ｂ，
３３…プロトン交換部分
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に形成された前記基板よりも屈折
率の大きいコア部を有する光導波路において、 前記コア部は常光線及び異常光線のいずれに対しても前
記基板より屈折率の大きい第１コア部と、異常光線に対
してのみ前記基板より屈折率の大きい第２コア部を備え
たことを特徴とする光導波路。 - 【請求項２】 前記第１コア部は常光線に対してシング
ルモードの導波路を構成し、前記第１コア部と前記第２
コア部を合わせた領域は異常光線に対してダブルモード
の導波路を構成することを特徴とする請求項１の光導波
路。 - 【請求項３】 前記基板は電気光学効果を有する誘電体
結晶であるを特徴とする請求項１の光導波路。 - 【請求項４】 前記第１コア部は所定の金属を前記基板
中に熱拡散させることにより屈折率を増大させる熱拡散
法によって形成され、前記第２コア部は前記基板を溶液
中に浸漬して前記基板中のイオンを前記溶液中のイオン
と交換させることにより屈折率を増大させるプロトン交
換法、もしくは前記基板を加熱してＬｉ2 Ｏを前記基板
外に拡散させることにより屈折率を増大させるＬｉ2 Ｏ
外方拡散法によって形成されたことを特徴とする請求項
１の光導波路。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4262725A JPH0688913A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 光導波路 |
| PCT/JP1993/001264 WO1994006041A1 (en) | 1992-09-07 | 1993-09-07 | Optical waveguide device and optical instrument using the same |
| EP93919621A EP0620458A4 (en) | 1992-09-07 | 1993-09-07 | OPTICAL WAVEGUIDE AND OPTICAL INSTRUMENT USING THE SAME. |
| US08/232,192 US5452382A (en) | 1992-09-07 | 1994-07-25 | Optical waveguide device and optical microscope using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4262725A JPH0688913A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 光導波路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0688913A true JPH0688913A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=17379729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4262725A Pending JPH0688913A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 光導波路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0688913A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501447A (ja) * | 2003-05-29 | 2007-01-25 | ミシガン大学リージェンツ | ダブルクラッドファイバー走査型顕微鏡 |
-
1992
- 1992-09-07 JP JP4262725A patent/JPH0688913A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501447A (ja) * | 2003-05-29 | 2007-01-25 | ミシガン大学リージェンツ | ダブルクラッドファイバー走査型顕微鏡 |
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