JPH0684915A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JPH0684915A
JPH0684915A JP23121492A JP23121492A JPH0684915A JP H0684915 A JPH0684915 A JP H0684915A JP 23121492 A JP23121492 A JP 23121492A JP 23121492 A JP23121492 A JP 23121492A JP H0684915 A JPH0684915 A JP H0684915A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor integrated
integrated circuit
input
blocks
output cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP23121492A
Other languages
English (en)
Inventor
Tamotsu Yoshiki
保 吉木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP23121492A priority Critical patent/JPH0684915A/ja
Publication of JPH0684915A publication Critical patent/JPH0684915A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】コア領域に配線されるバスラインを少なくし、
このコア領域にできるだけ多くのブロック等を配置して
コア領域が有効に利用でき、しかも各ブッロク間をつな
ぐバスラインのノイズの発生を極力低減する半導体集積
回路を提供する。 【構成】 周縁部に沿って入出力セル32が形成された
入出力セル領域34上に配線された電源線40に、ブロ
ック38a、38b、38c間をつなぐバスライン42
を重ねて配線した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆる階層的レイア
ウト手法によって構成された半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の構成要素のレイアウト
設計、およびそれら構成要素間の配線設計を行うにあた
り、回路の大規模化に伴ってその設計工数が飛躍的に増
大するため、回路全体を、各所定の機能を分担する複数
のブロックに分担し、これら複数のブロックそれぞれの
内部の回路構成要素の配置配線処理と、ブロックどうし
の配置配線処理とを分けて行う階層的レイアウト手法が
採用される場合がある。
【0003】図2を参照して、上記階層的レイアウト手
法を用いて構成された従来の半導体集積回路の概略構成
を説明する。図2は、従来の3層配線の半導体集積回路
の概略構成を示す平面図である。半導体集積回路10
は、周縁部に沿って形成された入出力セル12が配置さ
れた入出力セル領域14とこの入出力セル領域14に囲
まれたコア領域16とに分かれており、コア領域16に
は、各所定の回路機能を構成する複数のブロック18
a、18b、18cが隣接して配置されている。各ブロ
ック18a、18b、18cでは、コア領域16に配線
されたバスライン20により信号の送受信が行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の半導体集積
回路では複雑な回路機能を実現しようとするブロックの
数も増え、それらのブロックを結ぶバスライン20やそ
の他の信号線等の配線によりコア領域上の大きな面積が
占められてしまい、コア領域の有効利用が損なわれるこ
ととなる。また、このバスライン20に平行して配線さ
れた他の信号線とのカップリングによりノイズが発生
し、誤動作を生じる場合がある。
【0005】本発明は、上記事情に鑑み、コア領域を有
効に利用でき、しかもこれらのブロック間をつなぐ信号
線のノイズによる誤動作が極力低減される半導体集積回
路を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の半導体集積回路は、周縁部に沿って入出力セ
ルが形成された入出力セル領域と、この入出力セル領域
上に配線された電源線及び接地線と、各所定の回路機能
を構成する複数のブロックが隣接し配置されて入出力セ
ル領域に囲まれたコア領域とを備えた半導体集積回路に
おいて、電源線及び/又は接地線と重ねて配線された、
ブロック間をつなぐ信号線を備えたことを特徴とするも
のである。
【0007】
【作用】本発明の半導体集積回路では、複数のブロック
間における信号の授受は、少なくともその一部が電源線
及び/又は接地線と重ねて配線されたバスライン等の信
号線を経由して行われる。この信号線は、入出力セル領
域上に配線されているため、半導体集積回路の回路機能
を固定した場合は、従来より狭いコア領域で済むことと
となり、この結果、半導体集積回路のサイズを小型化で
きる。一方、半導体集積回路のサイズを従来と同じにし
た場合は、従来コア領域に配線されていた信号線が入出
力セル領域上に配線されたため、コア領域に一層多くの
回路機能を配置することができる。
【0008】また、電位の安定した電源線や接地線の上
に少なくとも一部の信号線が配線されているため、これ
ら電源線や接地線がシールド効果をなし、従来のように
他の信号線との間の影響が少なくなり、ノイズによる誤
動作を防止できる。
【0009】
【実施例】次に、図面を参照して本発明の半導体集積回
路の一実施例を説明する。図1は本実施例の半導体集積
回路の概略構成を示す平面図である。この半導体集積回
路30は、この半導体集積回路30の周縁部に沿って複
数の入出力セル32が形成された入出力セル領域34
と、この入出力セル領域34に囲まれたコア領域36と
に分かれており、3層配線構造となっている。
【0010】第1層のコア領域36には、各所定の回路
機能を構成する複数のブロック38a、38b、38c
が隣接して配置されている。また、第1層の入出力セル
領域34の上には絶縁膜(図示せず)を挾んで電源線4
0、接地線41が配線された第2層が形成されており、
この第2層の上には絶縁膜(図示せず)を挾んでバスラ
イン42が配線された第3層が形成されている。このバ
スライン42により、複数のブロック38a、38b、
38c相互間での信号の送受信が行われる。このバスラ
イン42は従来の半導体集積回路(図2参照)のように
コア領域に配線(図2参照)されておらず、入出力セル
領域34の上の従来何も使用されていなかったところに
配線されている。このため、半導体集積回路30の回路
機能を固定した場合は、従来より狭いコア領域とするこ
とができ、半導体集積回路のサイズを小型化できる。一
方、半導体集積回路のサイズを従来と同じにした場合
は、従来コア領域に配線されていたバス配線が入出力セ
ル領域上に配線されたため、コア領域に空きができ、こ
の空いた部分に一層多くの回路機能を搭載することがで
きる。
【0011】また、電位の安定した電源線40,接地線
41の上にバスライン42が配線されているため、従来
のように他の信号線の影響を受けることがなく、ノイズ
の影響を防止できる。尚、上記実施例ではバスライン4
2は第3層に配線されているが、第3層である必要はな
いことはもちろんである。
【0012】
【発明の効果】上記のように、発明では入出力領域上に
ブロック間をつなく、例えばバスライン等の信号線を配
置したため、空いた部分の面積を有効に使用することが
できる。また、電位が安定している電源線、接地線に重
ねて信号配線を配線することにより、ノイズの影響を防
止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の半導体集積回路の概略構成
を示す平面図である。
【図2】従来の半導体集積回路の概略構成を示す平面図
である。
【符号の説明】
30 半導体集積回路 32 入出力セル 34 入出力セル領域 36 コア領域 38a、38b、38c ブロック 40 Al電源線 42 バスライン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 周縁部に沿って入出力セルが形成された
    入出力セル領域と、該入出力セル領域上に配線された電
    源線及び接地線と、各所定の回路機能を構成する複数の
    ブロックが隣接し配置されて前記入出力セル領域に囲ま
    れたコア領域とを備えた半導体集積回路において、 前記電源線及び/又は前記接地線と重ねて配線された、
    前記ブロック間をつなぐ信号線を備えたことを特徴とす
    る半導体集積回路。
JP23121492A 1992-08-31 1992-08-31 半導体集積回路 Withdrawn JPH0684915A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23121492A JPH0684915A (ja) 1992-08-31 1992-08-31 半導体集積回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23121492A JPH0684915A (ja) 1992-08-31 1992-08-31 半導体集積回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0684915A true JPH0684915A (ja) 1994-03-25

Family

ID=16920120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23121492A Withdrawn JPH0684915A (ja) 1992-08-31 1992-08-31 半導体集積回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0684915A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6163042A (en) * 1998-07-02 2000-12-19 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit
JP2007235002A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Renesas Technology Corp 半導体装置
US7348680B2 (en) * 2002-12-23 2008-03-25 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electronic device and use thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6163042A (en) * 1998-07-02 2000-12-19 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit
US7348680B2 (en) * 2002-12-23 2008-03-25 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electronic device and use thereof
JP2007235002A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Renesas Technology Corp 半導体装置
US8242541B2 (en) 2006-03-03 2012-08-14 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
US8482038B2 (en) 2006-03-03 2013-07-09 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0650761B2 (ja) 半導体装置
KR100282973B1 (ko) 반도체장치
JPH073840B2 (ja) 半導体集積回路
JPH0519989B2 (ja)
JP3154650B2 (ja) 半導体装置
JPH0684915A (ja) 半導体集積回路
US5858817A (en) Process to personalize master slice wafers and fabricate high density VLSI components with a single masking step
JPH06283604A (ja) 半導体装置
JPS58116757A (ja) マスタスライスlsi
JPH10173156A (ja) 半導体メモリのレイアウトサイズ削減方法
JPH0590427A (ja) 半導体集積回路装置
JPH0221145B2 (ja)
JPH06101521B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPH03203363A (ja) 半導体装置
JPS63273332A (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
JP3052847B2 (ja) Lsiレイアウト方式
JPH0462953A (ja) ゲートアレー方式lsi
JPH09148545A (ja) 半導体装置
JP2002134621A (ja) マスクデータ合成方法、マスクデータ検証方法及び半導体集積装置
JP2722796B2 (ja) ゲートアレイ型集積回路
JPH0691157B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPH02125662A (ja) 集積回路
JPS60177650A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH113983A (ja) 半導体装置
JPS6182444A (ja) モノリシツクセミカスタムシステムlsi

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19991102