JPH0682250A - 原子間力顕微鏡 - Google Patents
原子間力顕微鏡Info
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- JPH0682250A JPH0682250A JP4237191A JP23719192A JPH0682250A JP H0682250 A JPH0682250 A JP H0682250A JP 4237191 A JP4237191 A JP 4237191A JP 23719192 A JP23719192 A JP 23719192A JP H0682250 A JPH0682250 A JP H0682250A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】外乱振動を確実に除去することが可能な原子間
力顕微鏡を提供することにある。 【構成】試料5とカンチレバ−6との間の原子間力を利
用してカンチレバ−6を撓ませる原子間力顕微鏡1にお
いて、半導体レ−ザ9と、カンチレバ−6を保持すると
ともにレ−ザ光10bを透過及び反射させるカンチレバ
−ホルダ7と、レ−ザ光10bをカンチレバ−ホルダ7
に導く光学系11と、カンチレバ−ホルダ7からの反射
光と試料5からの反射光との干渉光を検出するラインセ
ンサ13と、カンチレバ−ホルダ7からの反射光と試料
5からの反射光との干渉縞を基にカンチレバ−ホルダ7
と試料5との間隔を演算する演算制御回路とを備えた。
力顕微鏡を提供することにある。 【構成】試料5とカンチレバ−6との間の原子間力を利
用してカンチレバ−6を撓ませる原子間力顕微鏡1にお
いて、半導体レ−ザ9と、カンチレバ−6を保持すると
ともにレ−ザ光10bを透過及び反射させるカンチレバ
−ホルダ7と、レ−ザ光10bをカンチレバ−ホルダ7
に導く光学系11と、カンチレバ−ホルダ7からの反射
光と試料5からの反射光との干渉光を検出するラインセ
ンサ13と、カンチレバ−ホルダ7からの反射光と試料
5からの反射光との干渉縞を基にカンチレバ−ホルダ7
と試料5との間隔を演算する演算制御回路とを備えた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、試料とカンチ
レバ−との間の原子間力を利用して試料面の像を得る原
子間力顕鏡に関する。
レバ−との間の原子間力を利用して試料面の像を得る原
子間力顕鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、特開昭62−130320号公
報には原子間力顕微鏡(以下、AFMと称する)が開示
されている。このAFMは、探針と試料との間で作用す
る原子間力を利用し、高分解能で試料面の像を得る。
報には原子間力顕微鏡(以下、AFMと称する)が開示
されている。このAFMは、探針と試料との間で作用す
る原子間力を利用し、高分解能で試料面の像を得る。
【0003】また、特開平3−123810号公報に
は、振動などの外部ノイズの影響を除去するAFMが開
示されている。このAFMにおいては、固有振動数の等
しい二つのカンチレバ−が備えられており、両方のカン
チレバ−の変位差に基づいて、探針に作用する外乱が検
出される。
は、振動などの外部ノイズの影響を除去するAFMが開
示されている。このAFMにおいては、固有振動数の等
しい二つのカンチレバ−が備えられており、両方のカン
チレバ−の変位差に基づいて、探針に作用する外乱が検
出される。
【0004】さらに、本出願人による特願平2−314
76号明細書には、第1基板(フォトマスク)と第2基
板(鋼板)との間隔を、反射光の干渉強度を利用して測
定する技術が記載されている。
76号明細書には、第1基板(フォトマスク)と第2基
板(鋼板)との間隔を、反射光の干渉強度を利用して測
定する技術が記載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述の特開
平3−123810号公報に記載されたAFMにおいて
は、二つのカンチレバ−が備えられており、両カンチレ
バ−の変位差に基づいて外乱振動が検出される。しか
し、両カンチレバ−の位相が異なった場合には両カンチ
レバ−の振動が相互に作用し合う。したがって、結果的
には、ノイズが増し、外乱振動の検出は困難であると考
えられる。
平3−123810号公報に記載されたAFMにおいて
は、二つのカンチレバ−が備えられており、両カンチレ
バ−の変位差に基づいて外乱振動が検出される。しか
し、両カンチレバ−の位相が異なった場合には両カンチ
レバ−の振動が相互に作用し合う。したがって、結果的
には、ノイズが増し、外乱振動の検出は困難であると考
えられる。
【0006】さらに、このAFMにおいては、両カンチ
レバ−の変位を等しくするために、原子間力が一定に保
たれるよう探針を位置制御する必要がある。したがっ
て、このAFMにおいては、一定の値の原子間力しか検
出できない。本発明の目的とするところは、外乱振動を
確実に除去することが可能な原子間力顕微鏡を提供する
ことにある。
レバ−の変位を等しくするために、原子間力が一定に保
たれるよう探針を位置制御する必要がある。したがっ
て、このAFMにおいては、一定の値の原子間力しか検
出できない。本発明の目的とするところは、外乱振動を
確実に除去することが可能な原子間力顕微鏡を提供する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために本発明は、試料とカンチレバ−との間の原
子間力を利用して上記カンチレバ−を撓ませる原子間力
顕微鏡において、測定光を発する光源と、上記カンチレ
バ−を保持するとともに上記測定光を透過及び反射させ
るカンチレバ−ホルダと、上記測定光を上記カンチレバ
−ホルダに導く光学系と、上記カンチレバ−ホルダから
の反射光と上記試料からの反射光との干渉光を検出する
干渉光検出手段と、上記カンチレバ−ホルダからの反射
光と上記試料からの反射光との干渉縞を基に上記カンチ
レバ−ホルダと上記試料との間隔を演算する演算手段と
を備えたことにある。こうすることによって本発明は、
外乱振動を確実に除去できるようにしたことにある。
成するために本発明は、試料とカンチレバ−との間の原
子間力を利用して上記カンチレバ−を撓ませる原子間力
顕微鏡において、測定光を発する光源と、上記カンチレ
バ−を保持するとともに上記測定光を透過及び反射させ
るカンチレバ−ホルダと、上記測定光を上記カンチレバ
−ホルダに導く光学系と、上記カンチレバ−ホルダから
の反射光と上記試料からの反射光との干渉光を検出する
干渉光検出手段と、上記カンチレバ−ホルダからの反射
光と上記試料からの反射光との干渉縞を基に上記カンチ
レバ−ホルダと上記試料との間隔を演算する演算手段と
を備えたことにある。こうすることによって本発明は、
外乱振動を確実に除去できるようにしたことにある。
【0008】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1〜図4に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【0009】図1は本発明の一実施例を示すもので、図
中の符号1は原子間力顕微鏡(以下、AFMと称する)
である。このAFM1は匡体2内に試料台3、及び、チ
ュ−ブスキャナ型圧電素子(以下、圧電素子と称する)
4を備えており、試料台3は圧電素子4上に固定されて
いる。そして、圧電素子4は試料台3をXYZの三軸方
向に変位させ、試料台3に載置された試料5を走査す
る。
中の符号1は原子間力顕微鏡(以下、AFMと称する)
である。このAFM1は匡体2内に試料台3、及び、チ
ュ−ブスキャナ型圧電素子(以下、圧電素子と称する)
4を備えており、試料台3は圧電素子4上に固定されて
いる。そして、圧電素子4は試料台3をXYZの三軸方
向に変位させ、試料台3に載置された試料5を走査す
る。
【0010】さらに、AFM1にはカンチレバ−6が備
えられており、このカンチレバ−6は先端部に尖鋭な探
針(図示しない)を有している。図1〜図3に示すよう
に、カンチレバ−6はカンチレバ−ホルダ7によって保
持されている。カンチレバ−6の材質として光透過性の
材質、例えば透明な材質が採用されている。さらに、カ
ンチレバ−6は、先端部を斜め下方に向けて試料5上に
位置させている。そして、カンチレバ−6には、例えば
不透明な材質からなる遮光板8が垂設されている。
えられており、このカンチレバ−6は先端部に尖鋭な探
針(図示しない)を有している。図1〜図3に示すよう
に、カンチレバ−6はカンチレバ−ホルダ7によって保
持されている。カンチレバ−6の材質として光透過性の
材質、例えば透明な材質が採用されている。さらに、カ
ンチレバ−6は、先端部を斜め下方に向けて試料5上に
位置させている。そして、カンチレバ−6には、例えば
不透明な材質からなる遮光板8が垂設されている。
【0011】また、AFM1には、光源としての半導体
レ−ザ9、半導体レ−ザ9から出射された測定光として
のレ−ザ光10をカンチレバ−6へ導く光学系11、反
射光を検出する二分割式のポジション・センシティブ・
ディテクタ(以下、PSDと称する)12、及び、干渉
光検出手段としてのラインセンサ13が備えられてい
る。さらに、前記光学系11は、ビ−ムスプリッタ14
と全反射ミラ−15、及び、レンズ系16を有してい
る。
レ−ザ9、半導体レ−ザ9から出射された測定光として
のレ−ザ光10をカンチレバ−6へ導く光学系11、反
射光を検出する二分割式のポジション・センシティブ・
ディテクタ(以下、PSDと称する)12、及び、干渉
光検出手段としてのラインセンサ13が備えられてい
る。さらに、前記光学系11は、ビ−ムスプリッタ14
と全反射ミラ−15、及び、レンズ系16を有してい
る。
【0012】図1及び図2に示すように、圧電素子4、
半導体レ−ザ9、PSD12、及び、ラインセンサ13
は、演算手段としての制御演算回路17に接続されてい
る。制御演算回路17には、図2に示すように、制御回
路18、メモリ19、及び、半導体レ−ザドライバ20
が備えられている。そして、圧電素子4は制御回路18
によって制御されるとともに、PSD12及びラインセ
ンサ13の出力は制御回路18に入力される。また、こ
の制御演算回路17は表示装置21に接続されている。
つぎに、上述のAFM1の作用を説明する。
半導体レ−ザ9、PSD12、及び、ラインセンサ13
は、演算手段としての制御演算回路17に接続されてい
る。制御演算回路17には、図2に示すように、制御回
路18、メモリ19、及び、半導体レ−ザドライバ20
が備えられている。そして、圧電素子4は制御回路18
によって制御されるとともに、PSD12及びラインセ
ンサ13の出力は制御回路18に入力される。また、こ
の制御演算回路17は表示装置21に接続されている。
つぎに、上述のAFM1の作用を説明する。
【0013】まず、圧電素子4がZ方向に動作し、試料
5がカンチレバ−6に近付けられる。試料5とカンチレ
バ−6の探針との間の原子間力により、カンチレバ−6
が変形して撓む。
5がカンチレバ−6に近付けられる。試料5とカンチレ
バ−6の探針との間の原子間力により、カンチレバ−6
が変形して撓む。
【0014】一方、半導体レ−ザ9から出射されたレ−
ザ光10は、ビ−ムスプリッタ14によって二分割され
る。一方のレ−ザ光10aはカンチレバ−6へ導かれ、
カンチレバ−6に照射される。カンチレバ−6からの反
射光は、PSD12によって受光され、PSD12の出
力は制御回路18に送られる。そして、PSD12の出
力を基にして、カンチレバ−6の撓み量が求められる。
つまり、カンチレバ−12の撓み量の測定には、光てこ
方式が採用されている。
ザ光10は、ビ−ムスプリッタ14によって二分割され
る。一方のレ−ザ光10aはカンチレバ−6へ導かれ、
カンチレバ−6に照射される。カンチレバ−6からの反
射光は、PSD12によって受光され、PSD12の出
力は制御回路18に送られる。そして、PSD12の出
力を基にして、カンチレバ−6の撓み量が求められる。
つまり、カンチレバ−12の撓み量の測定には、光てこ
方式が採用されている。
【0015】圧電素子4は、制御回路18からの指示に
従って、カンチレバ−6の変形量が一定になるよう、つ
まり、カンチレバ−6に加わっている力が一定になるよ
う試料5を上下動させる。このとき、試料の上下動のた
めの制御量が制御演算回路17のメモリ19に蓄えられ
る。そして、圧電素子4がXY方向へ駆動され、試料5
が水平方向に移動する。
従って、カンチレバ−6の変形量が一定になるよう、つ
まり、カンチレバ−6に加わっている力が一定になるよ
う試料5を上下動させる。このとき、試料の上下動のた
めの制御量が制御演算回路17のメモリ19に蓄えられ
る。そして、圧電素子4がXY方向へ駆動され、試料5
が水平方向に移動する。
【0016】さらに、試料5をZ方向に移動させるため
の制御量と、XY方向に移動させるための制御量とを基
にして、試料5の表面形状が表示装置21に表示され
る。この表示結果には、試料5の表面の微細な形状が表
れる。
の制御量と、XY方向に移動させるための制御量とを基
にして、試料5の表面形状が表示装置21に表示され
る。この表示結果には、試料5の表面の微細な形状が表
れる。
【0017】半導体レ−ザ9から出射されたレ−ザ光の
うちのもう一方のレ−ザ光10bは、全反射ミラ−14
によって方向修正され、カンチレバ−ホルダ7へ向けら
れる。さらに、このレ−ザ光10bは、レンズ系16に
よって絞られ、光透過性を有するカンチレバ−ホルダ7
を透過して試料5の表面に照射される。
うちのもう一方のレ−ザ光10bは、全反射ミラ−14
によって方向修正され、カンチレバ−ホルダ7へ向けら
れる。さらに、このレ−ザ光10bは、レンズ系16に
よって絞られ、光透過性を有するカンチレバ−ホルダ7
を透過して試料5の表面に照射される。
【0018】図4に示すように、試料5からの反射光e
1 とカンチレバ−ホルダ7からの反射光e2 とが生じ、
両反射光e1 、e2 はラインセンサ13に入射する。そ
して、ラインセンサ13の出力を基にして、試料5とカ
ンチレバ−ホルダ7との間隔が測定される。
1 とカンチレバ−ホルダ7からの反射光e2 とが生じ、
両反射光e1 、e2 はラインセンサ13に入射する。そ
して、ラインセンサ13の出力を基にして、試料5とカ
ンチレバ−ホルダ7との間隔が測定される。
【0019】試料5とカンチレバ−ホルダ7の間隔は逐
次求められ、間隔の変動を基にして外乱振動が検出され
る。そして、PSD12によって検出されたカンチレバ
−6の撓み量から外乱振動の成分が除去される。つぎ
に、試料5とカンチレバ−ホルダ7との間隔の測定方法
を説明する。
次求められ、間隔の変動を基にして外乱振動が検出され
る。そして、PSD12によって検出されたカンチレバ
−6の撓み量から外乱振動の成分が除去される。つぎ
に、試料5とカンチレバ−ホルダ7との間隔の測定方法
を説明する。
【0020】図4に示すように、カンチレバ−ホルダ7
に導かれたレ−ザ光10bの一部は、カンチレバホルダ
7の表面7aで反射し、他の一部はカンチレバ−ホルダ
7の裏面7bで反射する。さらに、両面7a、7bで反
射しなかったレ−ザ光は、カンチレバ−ホルダ7を透過
し、試料5に達し、試料面5aで反射する。カンチレバ
−ホルダ7の表面7aからの反射光e3 は、遮光板8に
よって遮られる。ここで、レ−ザ光の試料面5aへの入
射角度をθとし、カンチレバ−ホルダ7の裏面7bへの
入射角度をθ´とする。
に導かれたレ−ザ光10bの一部は、カンチレバホルダ
7の表面7aで反射し、他の一部はカンチレバ−ホルダ
7の裏面7bで反射する。さらに、両面7a、7bで反
射しなかったレ−ザ光は、カンチレバ−ホルダ7を透過
し、試料5に達し、試料面5aで反射する。カンチレバ
−ホルダ7の表面7aからの反射光e3 は、遮光板8に
よって遮られる。ここで、レ−ザ光の試料面5aへの入
射角度をθとし、カンチレバ−ホルダ7の裏面7bへの
入射角度をθ´とする。
【0021】試料面5aからの反射光e1 は、カンチレ
バ−ホルダ7の裏面7b及び表面7aで屈折しながらカ
ンチレバ−ホルダ7を透過する。また、カンチレバ−ホ
ルダ7の裏面5bからの反射光e2 は、表面5aで屈折
してカンチレバ−ホルダ7を透過する。両反射光e1 、
e2 は互いに干渉し、両反射光e1 、e2 の干渉光がラ
インセンサ13に入射する。そして、ラインセンサ13
は、干渉光の強度変化に応じた電気信号を制御回路18
へ出力する。両反射光e1 、e2 が重なり合うと干渉縞
22が生じ、この干渉縞22の平均間隔Δxは以下の式
によって表される。 Δx=bλ/(2h・ tanθ・ cosθ´) …(1)
バ−ホルダ7の裏面7b及び表面7aで屈折しながらカ
ンチレバ−ホルダ7を透過する。また、カンチレバ−ホ
ルダ7の裏面5bからの反射光e2 は、表面5aで屈折
してカンチレバ−ホルダ7を透過する。両反射光e1 、
e2 は互いに干渉し、両反射光e1 、e2 の干渉光がラ
インセンサ13に入射する。そして、ラインセンサ13
は、干渉光の強度変化に応じた電気信号を制御回路18
へ出力する。両反射光e1 、e2 が重なり合うと干渉縞
22が生じ、この干渉縞22の平均間隔Δxは以下の式
によって表される。 Δx=bλ/(2h・ tanθ・ cosθ´) …(1)
【0022】ここで、bはカンチレバ−ホルダ7の裏面
7bからラインセンサ13までの距離、λはレ−ザ光1
0bの波長、及び、hは試料5とカンチレバ−ホルダ7
との間隔をそれぞれ表している。上記(1)式より、試
料5とカンチレバ−ホルダ7との間隔hは以下の(2)
式によって表される。 h=bλ/(2Δx・ tanθ・ cosθ´) …(2) この(2)式によって、試料5とカンチレバ−ホルダ7
との間隔hが求められる。
7bからラインセンサ13までの距離、λはレ−ザ光1
0bの波長、及び、hは試料5とカンチレバ−ホルダ7
との間隔をそれぞれ表している。上記(1)式より、試
料5とカンチレバ−ホルダ7との間隔hは以下の(2)
式によって表される。 h=bλ/(2Δx・ tanθ・ cosθ´) …(2) この(2)式によって、試料5とカンチレバ−ホルダ7
との間隔hが求められる。
【0023】すなわち、上述のようなAFM1において
は、試料5とカンチレバ−ホルダ7との間隔hが逐次求
められ、この間隔hを基にしてカンチレバ−ホルダ7の
振動が検出される。そして、PSD12によって検出さ
れたカンチレバ−6の撓み量から外乱振動の成分が除去
される。したがって、外乱振動を高精度に検知でき、外
乱振動を確実に除去することが可能になる。また、外乱
振動の検出を、カンチレバ−6の固有振動数に関係なく
行えるので、原子間力を任意に設定できる。
は、試料5とカンチレバ−ホルダ7との間隔hが逐次求
められ、この間隔hを基にしてカンチレバ−ホルダ7の
振動が検出される。そして、PSD12によって検出さ
れたカンチレバ−6の撓み量から外乱振動の成分が除去
される。したがって、外乱振動を高精度に検知でき、外
乱振動を確実に除去することが可能になる。また、外乱
振動の検出を、カンチレバ−6の固有振動数に関係なく
行えるので、原子間力を任意に設定できる。
【0024】なお、本実施例においては、カンチレバ−
6の撓み量の測定と、間隔hの測定とのために、一つの
半導体レ−ザ9から出力されたレ−ザ光10が二分割さ
れているが、本発明はこれに限定されるものではなく、
例えば、それぞれの測定のためにレ−ザ光源を独立に設
置してもよい。
6の撓み量の測定と、間隔hの測定とのために、一つの
半導体レ−ザ9から出力されたレ−ザ光10が二分割さ
れているが、本発明はこれに限定されるものではなく、
例えば、それぞれの測定のためにレ−ザ光源を独立に設
置してもよい。
【0025】また、本実施例では、間隔測定のためにラ
インセンサ13が用いられているが、本発明はこれに限
定されるものではなく、例えばCCDカメラ等を用いる
ことも可能である。
インセンサ13が用いられているが、本発明はこれに限
定されるものではなく、例えばCCDカメラ等を用いる
ことも可能である。
【0026】さらに、本実施例では、光てこ方式のAF
M1が説明されているが、AFM1以外の走査型プロ−
ブ顕微鏡(例えばSTM(走査型トンネル顕微鏡)等)
にも適用可能である。特に、STMのカンチレバ−の変
位検出にも、本実施例の間隔測定方法を適用することが
可能である。
M1が説明されているが、AFM1以外の走査型プロ−
ブ顕微鏡(例えばSTM(走査型トンネル顕微鏡)等)
にも適用可能である。特に、STMのカンチレバ−の変
位検出にも、本実施例の間隔測定方法を適用することが
可能である。
【0027】また、本実施例では、試料5の走査にチュ
−ブスキャナ型の圧電素子4が用いられているが、この
他にも、例えばトライポッド型やバイモルフ型の圧電素
子を適用することも可能である。そして、本発明は要旨
を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
−ブスキャナ型の圧電素子4が用いられているが、この
他にも、例えばトライポッド型やバイモルフ型の圧電素
子を適用することも可能である。そして、本発明は要旨
を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、試料とカ
ンチレバ−との間の原子間力を利用して上記カンチレバ
−を撓ませる原子間力顕微鏡において、測定光を発する
光源と、上記カンチレバ−を保持するとともに上記測定
光を透過及び反射させるカンチレバ−ホルダと、上記測
定光を上記カンチレバ−ホルダに導く光学系と、上記カ
ンチレバ−ホルダからの反射光と上記試料からの反射光
との干渉光を検出する干渉光検出手段と、上記カンチレ
バ−ホルダからの反射光と上記試料からの反射光との干
渉縞を基に上記カンチレバ−ホルダと上記試料との間隔
を演算する演算手段とを備えたことにある。したがって
本発明は、外乱振動を確実に除去できるという効果があ
る。
ンチレバ−との間の原子間力を利用して上記カンチレバ
−を撓ませる原子間力顕微鏡において、測定光を発する
光源と、上記カンチレバ−を保持するとともに上記測定
光を透過及び反射させるカンチレバ−ホルダと、上記測
定光を上記カンチレバ−ホルダに導く光学系と、上記カ
ンチレバ−ホルダからの反射光と上記試料からの反射光
との干渉光を検出する干渉光検出手段と、上記カンチレ
バ−ホルダからの反射光と上記試料からの反射光との干
渉縞を基に上記カンチレバ−ホルダと上記試料との間隔
を演算する演算手段とを備えたことにある。したがって
本発明は、外乱振動を確実に除去できるという効果があ
る。
【図1】本発明の一実施例のAFMを、カンチレバ−ホ
ルダを正面に向けて示す構成図。
ルダを正面に向けて示す構成図。
【図2】本発明の一実施例のAFMを、カンチレバ−ホ
ルダを側方に向けて示す構成図。
ルダを側方に向けて示す構成図。
【図3】(a)はカンチレバ−ホルダの先端部の正面
図、(b)はカンチレバ−ホルダの先端部の側面図。
図、(b)はカンチレバ−ホルダの先端部の側面図。
【図4】本発明の一実施例の間隔測定方法を示す説明
図。
図。
1…原子間力顕微鏡、5…試料、6…カンチレバ−、7
…カンチレバ−ホルダ、8…遮光板、9…半導体レ−ザ
(光源)、10…レ−ザ光(測定光)、11…光学系、
13…ラインセンサ(干渉光検出手段)、17…演算制
御回路(演算手段)。
…カンチレバ−ホルダ、8…遮光板、9…半導体レ−ザ
(光源)、10…レ−ザ光(測定光)、11…光学系、
13…ラインセンサ(干渉光検出手段)、17…演算制
御回路(演算手段)。
Claims (1)
- 【請求項1】 試料とカンチレバ−との間の原子間力を
利用して上記カンチレバ−を撓ませる原子間力顕微鏡に
おいて、測定光を発する光源と、上記カンチレバ−を保
持するとともに上記測定光を透過及び反射させるカンチ
レバ−ホルダと、上記測定光を上記カンチレバ−ホルダ
に導く光学系と、上記カンチレバ−ホルダからの反射光
と上記試料からの反射光との干渉光を検出する干渉光検
出手段と、上記カンチレバ−ホルダからの反射光と上記
試料からの反射光との干渉縞を基に上記カンチレバ−ホ
ルダと上記試料との間隔を演算する演算手段とを備えた
ことを特徴とする原子間力顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4237191A JPH0682250A (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | 原子間力顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4237191A JPH0682250A (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | 原子間力顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0682250A true JPH0682250A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=17011723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4237191A Pending JPH0682250A (ja) | 1992-09-04 | 1992-09-04 | 原子間力顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0682250A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009019513A1 (en) * | 2007-08-03 | 2009-02-12 | Infinitesima Ltd | Vibration compensation in probe microscopy |
JP4768852B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2011-09-07 | アイユーシーエフ−エイチワイユー(インダストリー−ユニバーシティ コーオペレーション ファウンデーション ハンヤン ユニバーシティ) | 探針顕微鏡の自動ランディング方法及びそれを用いる自動ランディング装置 |
-
1992
- 1992-09-04 JP JP4237191A patent/JPH0682250A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4768852B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2011-09-07 | アイユーシーエフ−エイチワイユー(インダストリー−ユニバーシティ コーオペレーション ファウンデーション ハンヤン ユニバーシティ) | 探針顕微鏡の自動ランディング方法及びそれを用いる自動ランディング装置 |
WO2009019513A1 (en) * | 2007-08-03 | 2009-02-12 | Infinitesima Ltd | Vibration compensation in probe microscopy |
US8220066B2 (en) | 2007-08-03 | 2012-07-10 | Infinitesima Ltd. | Vibration compensation in probe microscopy |
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