JPH08219733A - 三次元スキャナ - Google Patents
三次元スキャナInfo
- Publication number
- JPH08219733A JPH08219733A JP2564695A JP2564695A JPH08219733A JP H08219733 A JPH08219733 A JP H08219733A JP 2564695 A JP2564695 A JP 2564695A JP 2564695 A JP2564695 A JP 2564695A JP H08219733 A JPH08219733 A JP H08219733A
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- JP
- Japan
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- light
- light projecting
- dimensional scanner
- projecting
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 機械的な誤差による位置検出誤差を無くして
高精度の位置検出を行なえる三次元スキャナを提供す
る。 【構成】 一次元又は二次元配列された多数の投光点２
から順次対象物４に向けて平行なビーム光を照射可能な
投光手段１と、照射された光の対象物４による散乱光を
受光する受光素子５とを備え、対象物４に対して光を照
射走査する位置を投光点２の位置によって規定し、高い
位置精度でｘ方向位置を特定できるようにした。
高精度の位置検出を行なえる三次元スキャナを提供す
る。 【構成】 一次元又は二次元配列された多数の投光点２
から順次対象物４に向けて平行なビーム光を照射可能な
投光手段１と、照射された光の対象物４による散乱光を
受光する受光素子５とを備え、対象物４に対して光を照
射走査する位置を投光点２の位置によって規定し、高い
位置精度でｘ方向位置を特定できるようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光を対象物に照射し、
その散乱光を受光素子にて受光し、対象物に向けて照射
した光の照射位置と受光素子における受光位置とから三
角測量に基づいて対象物における光が照射された点の位
置を測定し、光の照射位置を二次元に走査することによ
って対象物の三次元形状を測定する三次元スキャナに関
するものである。
その散乱光を受光素子にて受光し、対象物に向けて照射
した光の照射位置と受光素子における受光位置とから三
角測量に基づいて対象物における光が照射された点の位
置を測定し、光の照射位置を二次元に走査することによ
って対象物の三次元形状を測定する三次元スキャナに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の三次元スキャナの一構成例を図６
を参照して説明する。光源２１からの光をガルバノミラ
ー２２で反射させ、固定鏡２３を介して対象物２４に照
射し、その散乱光を固定鏡２５を介してガルバノミラー
２２の裏面で反射させて受光素子２６にて受光するよう
に構成されている。この場合、光源２１からの光はガル
バノミラー２２の回転によってｘ方向に走査され、対象
物２４に対してｘ方向のライン状に光が照射され、ｘ方
向の各照射位置に対するｚ方向の位置が受光素子２６に
おける受光位置で測定される。そして、これをｙ方向に
走査することによって対象物の三次元形状が測定され
る。
を参照して説明する。光源２１からの光をガルバノミラ
ー２２で反射させ、固定鏡２３を介して対象物２４に照
射し、その散乱光を固定鏡２５を介してガルバノミラー
２２の裏面で反射させて受光素子２６にて受光するよう
に構成されている。この場合、光源２１からの光はガル
バノミラー２２の回転によってｘ方向に走査され、対象
物２４に対してｘ方向のライン状に光が照射され、ｘ方
向の各照射位置に対するｚ方向の位置が受光素子２６に
おける受光位置で測定される。そして、これをｙ方向に
走査することによって対象物の三次元形状が測定され
る。
【０００３】次に、他の構成例を図７を参照して説明す
る。光源３１からの光が集光レンズ３２を通ってガルバ
ノミラー３３で反射し、ハーフミラー３４で一部の光を
反射させてｘ方向検知素子３５に入射させてｘ方向の照
射位置を検知し、ハーフミラー３４を透過した光を対象
物３６に照射し、その散乱光を受光レンズ３７を介して
ｚ方向検知素子３８で受光し、その受光位置でｘ方向の
各照射位置に対するｚ方向の位置を測定するように構成
されている。
る。光源３１からの光が集光レンズ３２を通ってガルバ
ノミラー３３で反射し、ハーフミラー３４で一部の光を
反射させてｘ方向検知素子３５に入射させてｘ方向の照
射位置を検知し、ハーフミラー３４を透過した光を対象
物３６に照射し、その散乱光を受光レンズ３７を介して
ｚ方向検知素子３８で受光し、その受光位置でｘ方向の
各照射位置に対するｚ方向の位置を測定するように構成
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記い
ずれの三次元スキャナにおいても、ガルバノミラー２
２、３３にて対象物２４、３６に照射する光をｘ方向に
ライン状に走査させているため、ガルバノミラー２２、
３３の機械的ギャップ等に起因してｘ方向の位置誤差を
生じ、高精度に位置測定するためにはこのギャップによ
る位置誤差を無くす必要があるという問題があった。
ずれの三次元スキャナにおいても、ガルバノミラー２
２、３３にて対象物２４、３６に照射する光をｘ方向に
ライン状に走査させているため、ガルバノミラー２２、
３３の機械的ギャップ等に起因してｘ方向の位置誤差を
生じ、高精度に位置測定するためにはこのギャップによ
る位置誤差を無くす必要があるという問題があった。
【０００５】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、機械
的な誤差による位置検出誤差を無くして高精度の位置検
出を行なうことができる三次元スキャナを提供すること
を目的としている。
的な誤差による位置検出誤差を無くして高精度の位置検
出を行なうことができる三次元スキャナを提供すること
を目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願の第１発明の三次元
スキャナは、一次元配列された多数の投光点から順次対
象物に向けて平行なビーム光を照射可能な投光手段と、
照射された光の対象物による散乱光を受光する受光素子
とを備えたことを特徴とする。
スキャナは、一次元配列された多数の投光点から順次対
象物に向けて平行なビーム光を照射可能な投光手段と、
照射された光の対象物による散乱光を受光する受光素子
とを備えたことを特徴とする。
【０００７】又、本願の第２発明の三次元スキャナは、
上記投光点を二次元配列したことを特徴とする。
上記投光点を二次元配列したことを特徴とする。
【０００８】投光手段は、光源と、配列された多数の開
閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成る構成、又
は配列された多数の発光可能な発光手段を有する構成と
することができる。
閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成る構成、又
は配列された多数の発光可能な発光手段を有する構成と
することができる。
【０００９】好適には各発光手段が、発光素子と、光フ
ァイバと、投光レンズにて構成され、若しくは投光手段
が、発光素子アレイと投光レンズにて構成される。
ァイバと、投光レンズにて構成され、若しくは投光手段
が、発光素子アレイと投光レンズにて構成される。
【００１０】
【作用】本願の第１発明によれば、対象物に対してビー
ム光を照射走査する一方向（ｘ方向）の照射位置が一次
元配列された多数の投光点の各位置によって規定される
ので、機械的な誤差を生じる恐れがまったくなく、高い
位置精度でｘ方向位置が特定され、ｘ方向の各照射位置
毎に対象物による散乱光を受光素子で受光してその受光
位置によって対象物の各ｘ方向位置におけるもう一方向
（ｚ方向）の位置が測定される。なお、このｘ方向にラ
イン状にｚ方向位置を測定する動作をｙ方向に走査しな
がら繰り返すことにより、対象物の三次元形状が測定さ
れる。
ム光を照射走査する一方向（ｘ方向）の照射位置が一次
元配列された多数の投光点の各位置によって規定される
ので、機械的な誤差を生じる恐れがまったくなく、高い
位置精度でｘ方向位置が特定され、ｘ方向の各照射位置
毎に対象物による散乱光を受光素子で受光してその受光
位置によって対象物の各ｘ方向位置におけるもう一方向
（ｚ方向）の位置が測定される。なお、このｘ方向にラ
イン状にｚ方向位置を測定する動作をｙ方向に走査しな
がら繰り返すことにより、対象物の三次元形状が測定さ
れる。
【００１１】また、第２発明では投光点を二次元配列し
ているので、ｙ方向の走査回数を少なくできるとともに
ｙ方向の位置精度も高くなり、高速にて高精度の位置測
定が可能となる。
ているので、ｙ方向の走査回数を少なくできるとともに
ｙ方向の位置精度も高くなり、高速にて高精度の位置測
定が可能となる。
【００１２】また、投光手段を、光源と、配列された多
数の開閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成る構
成、又は配列された多数の発光可能な発光手段を有する
構成とすることにより、投光点から順次ビーム光を照射
する制御を、各投光穴の開閉制御又は各発光手段の発光
制御によって高い信頼性を持ってかつ高速にて行なうこ
とができる。
数の開閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成る構
成、又は配列された多数の発光可能な発光手段を有する
構成とすることにより、投光点から順次ビーム光を照射
する制御を、各投光穴の開閉制御又は各発光手段の発光
制御によって高い信頼性を持ってかつ高速にて行なうこ
とができる。
【００１３】また、各発光手段を発光素子と光ファイバ
と投光レンズにて構成すると、その光ファイバの先端を
配列することにより、また投光手段を発光素子アレイと
投光レンズにて構成しても、微細な測定点ピッチを容易
に確保することができる。
と投光レンズにて構成すると、その光ファイバの先端を
配列することにより、また投光手段を発光素子アレイと
投光レンズにて構成しても、微細な測定点ピッチを容易
に確保することができる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例の三次元スキャナに
ついて、図１〜図３を参照して説明する。
ついて、図１〜図３を参照して説明する。
【００１５】１は投光手段で、多数の投光点２（２1 ，
２2 ・・２i ・・２n ）が直線的に配設されている。こ
れらの投光点２は、各別に順番に開閉することができる
多数の投光穴を直線的に配設してなるスイッチ素子３に
て構成され、このスイッチ素子３の上部に、各投光穴を
通して平行なビーム光を対象物４に向けて照射する光源
（図示せず）が配設されている。また、スイッチ素子３
としては、各投光穴を電気的に開閉できる液晶やＰＬＺ
Ｔ等のスイッチング素子を適用できるが、その他機械的
又は光学的に開閉するものでもよい。また、液晶スイッ
チング素子を適用する場合、強誘電体液晶素子を用いる
ことにより高速開閉を実現することができる。
２2 ・・２i ・・２n ）が直線的に配設されている。こ
れらの投光点２は、各別に順番に開閉することができる
多数の投光穴を直線的に配設してなるスイッチ素子３に
て構成され、このスイッチ素子３の上部に、各投光穴を
通して平行なビーム光を対象物４に向けて照射する光源
（図示せず）が配設されている。また、スイッチ素子３
としては、各投光穴を電気的に開閉できる液晶やＰＬＺ
Ｔ等のスイッチング素子を適用できるが、その他機械的
又は光学的に開閉するものでもよい。また、液晶スイッ
チング素子を適用する場合、強誘電体液晶素子を用いる
ことにより高速開閉を実現することができる。
【００１６】５は、対象物４からの散乱光を受光レンズ
（図示せず）を介して受光し、その受光位置６1 ・・６
i 、６j 、・・６n を検出する受光素子である。７は照
射ビーム光、８は対象物４からの散乱光である。
（図示せず）を介して受光し、その受光位置６1 ・・６
i 、６j 、・・６n を検出する受光素子である。７は照
射ビーム光、８は対象物４からの散乱光である。
【００１７】以上の構成において、対象物４に向けて各
投光点２から順次照射ビーム光７が照射されると、対象
物４での散乱光８が受光素子５で受光される。例えば、
図１、図２において、投光点２1 から対象物４に向けて
照射ビーム光７を照射したとき、対象物４での散乱光８
が受光素子５の受光位置６i で受光される。一方、対象
物４がｚ方向に下がった位置にある場合は、散乱光８が
受光位置６j で受光される。その結果、図３に示すよう
に、対象物４のｚ方向のへこみ量ｈ1 は、式ｈ1 ∝ｈ1'
, ｈ1 ∝（６i −６j ）で表され、計算される。また、
ｘ方向の位置は投光点２の位置で特定され、対象物４の
形状が（ｘi ，ｈi ）で認識される。
投光点２から順次照射ビーム光７が照射されると、対象
物４での散乱光８が受光素子５で受光される。例えば、
図１、図２において、投光点２1 から対象物４に向けて
照射ビーム光７を照射したとき、対象物４での散乱光８
が受光素子５の受光位置６i で受光される。一方、対象
物４がｚ方向に下がった位置にある場合は、散乱光８が
受光位置６j で受光される。その結果、図３に示すよう
に、対象物４のｚ方向のへこみ量ｈ1 は、式ｈ1 ∝ｈ1'
, ｈ1 ∝（６i −６j ）で表され、計算される。また、
ｘ方向の位置は投光点２の位置で特定され、対象物４の
形状が（ｘi ，ｈi ）で認識される。
【００１８】次に、図４、図５を参照して他の実施例を
説明する。上記実施例においては、２1 〜２n の範囲の
ビーム光を対象物４に照射し、その散乱光８を受光素子
５に結像するためには、受光素子５の幅（２５０分の１
〜１０００分の１の幅）に光を収束させる必要があり、
これは光学的に見て対象物４と受光素子５の距離を大き
くする必要があり、投光手段１と受光素子５を収納する
筐体が大きくなるという不都合がある。そこで、本実施
例では、同一平面１０上に投光手段１と受光素子５を配
設したもので、投光手段１の長さ（投光点２1 〜２n の
間の距離）に対して受光素子５の長さ（２分の１〜５分
の１）に光を収束させるだけで良く、光学的に投光手段
１と受光素子５を収納する筐体を小さくすることができ
る。
説明する。上記実施例においては、２1 〜２n の範囲の
ビーム光を対象物４に照射し、その散乱光８を受光素子
５に結像するためには、受光素子５の幅（２５０分の１
〜１０００分の１の幅）に光を収束させる必要があり、
これは光学的に見て対象物４と受光素子５の距離を大き
くする必要があり、投光手段１と受光素子５を収納する
筐体が大きくなるという不都合がある。そこで、本実施
例では、同一平面１０上に投光手段１と受光素子５を配
設したもので、投光手段１の長さ（投光点２1 〜２n の
間の距離）に対して受光素子５の長さ（２分の１〜５分
の１）に光を収束させるだけで良く、光学的に投光手段
１と受光素子５を収納する筐体を小さくすることができ
る。
【００１９】また、本実施例の投光手段１は、半導体レ
ーザ１２と集光レンズ１３から成る多数の発光手段１１
と、各発光手段１１からの光を一次元配列された各投光
点２に伝送する光ファイバ１４と、光ファイバ１４の先
端を各投光点２に対応させて固定具１５と各投光点２に
配設した投光レンズ１６にて構成されている。
ーザ１２と集光レンズ１３から成る多数の発光手段１１
と、各発光手段１１からの光を一次元配列された各投光
点２に伝送する光ファイバ１４と、光ファイバ１４の先
端を各投光点２に対応させて固定具１５と各投光点２に
配設した投光レンズ１６にて構成されている。
【００２０】本実施例では投光手段１と受光素子５が同
一平面１０に位置しているので、受光素子５が投光手段
１の投光点２のｘ方向成分も感知してしまう。すなわ
ち、図５において、投光手段１の投光点２j から出た光
は、対象物４のｐ点に当たって反射し、受光素子５の６
j の位置に結像する。一方、投光点２k から出た光が対
象物４のｒ点に当たった場合は受光素子５の６k1の位置
に結像し、６j と６k1は同じ位置となる。そのため、ｚ
方向の距離は、投光点が２k の場合はＨ＋ｈ1 、投光穴
が２j の場合はＨであるにもかかわらず、両者を判別で
きない。そこで、本実施例では、距離Ｈの時の各投光点
・・２i ・・２k ・・２j ・・からの投光時の受光位置
を予め実験で求めておき、投光位置と受光位置からｚ方
向の距離を演算して求められるようにする必要がある。
例えば、ｚ方向の距離Ｈで、２i の投光位置の場合に受
光位置が６i となり、２j の投光位置の場合に受光位置
が６j になるとして、２i からの投光で受光位置が６i1
となった場合にそのｚ方向の距離をＨ＋ｈ1 と認識する
ように、α（６i −６i1）＝α・ｈ1'＝Ｈ＋ｈ1 とな
り、２j からの投光で受光位置が６j2となった場合にそ
のｚ方向の距離をＨ＋ｈ2 と認識するように、α（６j
−６j2）＝α・ｈ2'＝Ｈ＋ｈ2 となる演算式が設定され
る。
一平面１０に位置しているので、受光素子５が投光手段
１の投光点２のｘ方向成分も感知してしまう。すなわ
ち、図５において、投光手段１の投光点２j から出た光
は、対象物４のｐ点に当たって反射し、受光素子５の６
j の位置に結像する。一方、投光点２k から出た光が対
象物４のｒ点に当たった場合は受光素子５の６k1の位置
に結像し、６j と６k1は同じ位置となる。そのため、ｚ
方向の距離は、投光点が２k の場合はＨ＋ｈ1 、投光穴
が２j の場合はＨであるにもかかわらず、両者を判別で
きない。そこで、本実施例では、距離Ｈの時の各投光点
・・２i ・・２k ・・２j ・・からの投光時の受光位置
を予め実験で求めておき、投光位置と受光位置からｚ方
向の距離を演算して求められるようにする必要がある。
例えば、ｚ方向の距離Ｈで、２i の投光位置の場合に受
光位置が６i となり、２j の投光位置の場合に受光位置
が６j になるとして、２i からの投光で受光位置が６i1
となった場合にそのｚ方向の距離をＨ＋ｈ1 と認識する
ように、α（６i −６i1）＝α・ｈ1'＝Ｈ＋ｈ1 とな
り、２j からの投光で受光位置が６j2となった場合にそ
のｚ方向の距離をＨ＋ｈ2 と認識するように、α（６j
−６j2）＝α・ｈ2'＝Ｈ＋ｈ2 となる演算式が設定され
る。
【００２１】また、受光素子５を、図４に示すように、
ｚ軸の線対称として２つ配置することにより、対象物４
の傾き角に対してより精度を高めることができる。
ｚ軸の線対称として２つ配置することにより、対象物４
の傾き角に対してより精度を高めることができる。
【００２２】上記実施例では、投光手段１の投光点を一
次元配列したものを例示したが、ｘ方向とｙ方向に二次
元配列してもよい。このように二次元配列すると、ｙ方
向の走査回数を少なくできるとともにｙ方向の位置精度
も高くなり、高速にて高精度の位置測定が可能となる。
次元配列したものを例示したが、ｘ方向とｙ方向に二次
元配列してもよい。このように二次元配列すると、ｙ方
向の走査回数を少なくできるとともにｙ方向の位置精度
も高くなり、高速にて高精度の位置測定が可能となる。
【００２３】また、投光手段１としては、上記実施例で
示した光源とスイッチ素子の組合せや、半導体レーザと
光ファイバの組合せに限らず、半導体レーザアレイやＬ
ＥＤアレイと投光レンズの組合せにて構成することもで
き、また適宜光源と光ファイバと音響光学素子の組合せ
等、種々の構成を適用することができる。
示した光源とスイッチ素子の組合せや、半導体レーザと
光ファイバの組合せに限らず、半導体レーザアレイやＬ
ＥＤアレイと投光レンズの組合せにて構成することもで
き、また適宜光源と光ファイバと音響光学素子の組合せ
等、種々の構成を適用することができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明の三次元スキャナによれば、以上
の説明から明らかなように、対象物に対してビーム光を
照射走査する一方向（ｘ方向）の照射位置が一次元配列
された多数の投光点の各位置によって規定されるので、
機械的な誤差を生じる恐れがまったくなく、高い位置精
度でｘ方向位置を特定でき、従ってそのｘ方向の各照射
位置毎に対象物による散乱光を受光素子で受光すること
により、その受光位置から対象物の各ｘ方向位置におけ
るもう一方向（ｚ方向）の位置を測定できる。
の説明から明らかなように、対象物に対してビーム光を
照射走査する一方向（ｘ方向）の照射位置が一次元配列
された多数の投光点の各位置によって規定されるので、
機械的な誤差を生じる恐れがまったくなく、高い位置精
度でｘ方向位置を特定でき、従ってそのｘ方向の各照射
位置毎に対象物による散乱光を受光素子で受光すること
により、その受光位置から対象物の各ｘ方向位置におけ
るもう一方向（ｚ方向）の位置を測定できる。
【００２５】また、第２発明では投光点を二次元配列し
ているので、ｙ方向の走査回数を少なくできるとともに
ｙ方向の位置精度も高くなり、高速にて高精度の位置測
定が可能となる。
ているので、ｙ方向の走査回数を少なくできるとともに
ｙ方向の位置精度も高くなり、高速にて高精度の位置測
定が可能となる。
【００２６】また、投光手段を、光源と、配列された多
数の開閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成る構
成、又は配列された多数の発光可能な発光手段を有する
構成とすることにより、投光点から順次ビーム光を照射
する制御を、各投光穴の開閉制御又は各発光手段の発光
制御によって高い信頼性を持ってかつ高速にて行なうこ
とができる。
数の開閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成る構
成、又は配列された多数の発光可能な発光手段を有する
構成とすることにより、投光点から順次ビーム光を照射
する制御を、各投光穴の開閉制御又は各発光手段の発光
制御によって高い信頼性を持ってかつ高速にて行なうこ
とができる。
【００２７】また、各発光手段を発光素子と光ファイバ
と投光レンズにて構成すると、その光ファイバの先端を
配列することにより、また投光手段を発光素子アレイと
投光レンズにて構成しても、微細な測定点ピッチを容易
に確保することができる。
と投光レンズにて構成すると、その光ファイバの先端を
配列することにより、また投光手段を発光素子アレイと
投光レンズにて構成しても、微細な測定点ピッチを容易
に確保することができる。
【図１】本発明の第１実施例の三次元スキャナの概略構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
【図２】同実施例の正面図である。
【図３】同実施例のｚ方向の位置測定原理の説明図であ
る。
る。
【図４】本発明の第２実施例の三次元スキャナの斜視図
である。
である。
【図５】本発明の第２実施例の三次元スキャナの正面図
である。
である。
【図６】従来例の三次元スキャナの概略構成を示す斜視
図である。
図である。
【図７】他の従来例の三次元スキャナの概略構成を示す
斜視図である。
斜視図である。
１ 投光手段 ２ 投光点 ３ スイッチ素子 ４ 対象物 ５ 受光素子 １１ 発光手段 １２ 半導体レーザ（発光素子） １４ 光ファイバ １６ 投光レンズ
Claims (6)
- 【請求項１】 一次元配列された多数の投光点から順次
対象物に向けて平行なビーム光を照射可能な投光手段
と、照射された光の対象物による散乱光を受光する受光
素子とを備えたことを特徴とする三次元スキャナ。 - 【請求項２】 二次元配列された多数の投光点から順次
対象物に向けて平行なビーム光を照射可能な投光手段
と、照射された光の対象物による散乱光を受光する受光
素子とを備えたことを特徴とする三次元スキャナ。 - 【請求項３】 投光手段が、光源と、配列された多数の
開閉可能な投光穴を有するスイッチ素子から成ることを
特徴とする請求項１又は２記載の三次元スキャナ。 - 【請求項４】 投光手段が、配列された多数の発光可能
な発光手段を有することを特徴とする請求項１又は２記
載の三次元スキャナ。 - 【請求項５】 各発光手段が、発光素子と、光ファイバ
と、投光レンズとから成ることを特徴とする請求項４記
載の三次元スキャナ。 - 【請求項６】 投光手段が、発光素子アレイと投光レン
ズから成ることを特徴とする請求項４記載の三次元スキ
ャナ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2564695A JPH08219733A (ja) | 1995-02-14 | 1995-02-14 | 三次元スキャナ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2564695A JPH08219733A (ja) | 1995-02-14 | 1995-02-14 | 三次元スキャナ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08219733A true JPH08219733A (ja) | 1996-08-30 |
Family
ID=12171601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2564695A Pending JPH08219733A (ja) | 1995-02-14 | 1995-02-14 | 三次元スキャナ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08219733A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002195808A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Konica Corp | 表面変位検出装置 |
| JP2005033703A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Seiko Epson Corp | 画像処理システム、プロジェクタ、プログラム、情報記憶媒体および画像処理方法 |
| JP2018059757A (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | オムロンオートモーティブエレクトロニクス株式会社 | 投光光学系、物体検出装置 |
-
1995
- 1995-02-14 JP JP2564695A patent/JPH08219733A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002195808A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Konica Corp | 表面変位検出装置 |
| JP2005033703A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Seiko Epson Corp | 画像処理システム、プロジェクタ、プログラム、情報記憶媒体および画像処理方法 |
| US7470029B2 (en) | 2003-07-11 | 2008-12-30 | Seiko Epson Corporation | Image processing system, projector, information storage medium and image processing method |
| JP2018059757A (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | オムロンオートモーティブエレクトロニクス株式会社 | 投光光学系、物体検出装置 |
| US10551035B2 (en) | 2016-10-04 | 2020-02-04 | Omron Automotive Electronics Co., Ltd. | Projection optical system and object detection device |
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