JPH0673578A - Surface treatment of work - Google Patents
Surface treatment of workInfo
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- JPH0673578A JPH0673578A JP14616193A JP14616193A JPH0673578A JP H0673578 A JPH0673578 A JP H0673578A JP 14616193 A JP14616193 A JP 14616193A JP 14616193 A JP14616193 A JP 14616193A JP H0673578 A JPH0673578 A JP H0673578A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、酸、アルカリ等の反応
性の処理液中にワークを浸漬して、ワーク表層の異物を
上記処理液と反応させて溶解、除去するワークの表面処
理方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of surface treating a work by immersing the work in a reactive treatment liquid such as acid or alkali, reacting foreign substances on the surface layer of the work with the treatment liquid to dissolve and remove the foreign matter. It is about.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ワークの表層の不要な成分やバリ
等の異物を酸或はアルカリの水溶液と反応させて溶解、
除去する表面処理方法が知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, unnecessary components on the surface of a workpiece and foreign substances such as burrs are dissolved by reacting with an aqueous solution of acid or alkali,
Surface treatment methods for removing are known.
【０００３】例えば、タングステン−コバルト合金から
なる超硬チップは、単体のタングステン及びコバルトの
金属粉末をバインダー等と共に適当な割合で混合したの
ち、焼結して得られるが、焼結により合金化した粒子の
間隙に焼結されない単体のコバルトや上記バインダー等
の粉末が残存する傾向がある。上記超硬チップではその
表層にこのような単体のコバルトや上記バインダー等の
粉末が残存すると所期の物性が得られないことがあるの
で、上記超硬チップは焼結後に１％程度の希硝酸が供給
された処理槽に１０分程度浸漬し、超硬チップ表層部の
コバルトやバインダー等の粉末を上記希硝酸と反応させ
て溶解、除去することにより表面処理されている。For example, a cemented carbide tip made of a tungsten-cobalt alloy can be obtained by mixing a single metal powder of tungsten and cobalt with a binder and the like in an appropriate ratio and then sintering the mixture. Unsintered elemental cobalt and powders such as the above binders tend to remain in the gaps between the particles. In the above cemented carbide tip, if powder of such a simple substance of cobalt or the above binder remains on the surface layer, the desired physical properties may not be obtained. Therefore, the cemented carbide tip should have a diluted nitric acid content of about 1% after sintering. The surface treatment is carried out by immersing the powder in a surface layer portion of the cemented carbide tip, such as cobalt and a binder, with the dilute nitric acid to dissolve and remove the powder, by immersing the powder in a treatment tank supplied with the above.
【０００４】ところが、上記表面処理方法では上記超硬
チップ表層部のコバルトやバインダー等の粉末を完全に
溶解させるために処理時間を長くすると、超硬チップを
構成するタングステン−コバルト合金自体も部分的に酸
に侵され、その部分で強度が低減することがある。However, in the above-mentioned surface treatment method, if the treatment time is lengthened in order to completely dissolve the powder of cobalt, binder, etc. in the surface layer of the cemented carbide tip, the tungsten-cobalt alloy itself constituting the cemented carbide tip is partially formed. It may be affected by acid and its strength may be reduced.
【０００５】一方、表面に異物が付着していたり、バリ
が形成されているワークを、底部に超音波振動子が取着
された超音波処理槽に供給された水中にワークを浸漬
し、該超音波振動子から上記水に超音波を放射して、上
記異物やバリを除去する超音波洗浄方法が知られてい
る。On the other hand, a work having foreign matter adhered to its surface or burrs is dipped in water supplied to an ultrasonic treatment tank having an ultrasonic vibrator attached to the bottom, An ultrasonic cleaning method is known in which ultrasonic waves are emitted from an ultrasonic vibrator to the water to remove the foreign matter and burrs.
【０００６】そこで、処理時間を短縮するために、上記
超音波処理槽に酸或はアルカリの水溶液を供給し、上記
超硬チップ等のワークを上記酸或はアルカリの水溶液に
浸漬し、超音波振動子から該水溶液に超音波を放射し
て、該ワーク表層の異物を酸或はアルカリの水溶液と反
応させて溶解、除去することが試みられている。このよ
うにすることにより、上記ワーク表面に超音波が作用し
て上記異物やバリの一部を除去し、その残余と上記酸或
はアルカリの水溶液とが反応するので、表面処理が促進
されるものと考えられる。Therefore, in order to shorten the processing time, an aqueous solution of acid or alkali is supplied to the ultrasonic treatment tank, the work such as the cemented carbide tip is immersed in the aqueous solution of acid or alkali, and ultrasonic waves are applied. Attempts have been made to radiate ultrasonic waves from the vibrator to the aqueous solution to cause the foreign matter on the surface layer of the work to react with the aqueous solution of acid or alkali to dissolve and remove it. By doing so, ultrasonic waves act on the surface of the work to remove a part of the foreign matter and burrs, and the residue reacts with the aqueous solution of acid or alkali, so that the surface treatment is promoted. It is considered to be something.
【０００７】しかしながら、上記酸或はアルカリの水溶
液に超音波を放射すると、音圧の変化により上記水溶液
中にキャビテーションを生じたときに、上記水溶液に溶
存している気体が上記キャビテーション中で気化して気
泡を発生する。上記気泡が発生すると、該気泡内部の気
体が周囲の水圧に抗して圧壊されにくくなるので、上記
異物やバリの除去に有用な衝撃波が生じにくくなるとい
う不都合がある。また、衝撃波が生じても、上記気泡が
緩衝作用をなして、上記衝撃波が有効に作用しなくなる
という不都合がある。However, when ultrasonic waves are radiated to the aqueous solution of acid or alkali, when cavitation occurs in the aqueous solution due to change in sound pressure, the gas dissolved in the aqueous solution is vaporized in the cavitation. Generate bubbles. When the bubbles are generated, the gas inside the bubbles is less likely to be crushed against the surrounding water pressure, so that there is a disadvantage that a shock wave useful for removing the foreign matter and burrs is less likely to occur. Further, even if a shock wave is generated, the bubbles function as a buffer, and the shock wave does not act effectively.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明はワー
ク表層の異物を反応性の処理液と反応させて溶解するこ
とにより表面処理を行う際に、処理時間を短縮して、し
かも均一で優れた品質の表面処理を行うことができる表
面処理方法を提供することを目的とする。Therefore, according to the present invention, when the surface treatment is carried out by reacting and dissolving the foreign matter on the surface layer of the work with the reactive treatment liquid, the treatment time is shortened, and the treatment is uniform and excellent. It is an object of the present invention to provide a surface treatment method capable of performing surface treatment of excellent quality.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明のワークの表面処
理方法は、上記目的を達成するために、底部に超音波振
動子が取着された超音波処理槽に供給された反応性の処
理液中にワークを浸漬し、該超音波振動子から該処理液
に超音波を放射して、該ワーク表層の異物を該処理液と
反応させて溶解、除去する表面処理方法において、該処
理液中の溶存気体を除去して脱気する脱気手段を設け、
該脱気手段により脱気された処理液を該超音波処理槽に
供給することを特徴とする。In order to achieve the above object, the method for surface treatment of a work according to the present invention is a treatment of the reactivity supplied to an ultrasonic treatment tank having an ultrasonic vibrator attached to the bottom. In a surface treatment method of immersing a work in a liquid and irradiating the treatment liquid with ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator, foreign matter on the surface layer of the work is dissolved and removed by reacting with the treatment liquid. Provided with a degassing means for removing the dissolved gas inside and degassing,
The treatment liquid deaerated by the deaeration means is supplied to the ultrasonic treatment tank.
【００１０】また、本発明のワークの表面処理方法は、
上記超音波洗浄槽に槽内の処理液を該超音波処理槽外に
流出させる処理液排出手段を設け、該処理液排出手段の
下流に上記脱気手段を設け、該脱気手段により脱気され
た処理液を該超音波処理槽に供給する処理液供給手段を
設け、脱気された処理液を該超音波処理槽に循環させる
ことを特徴とする。The surface treatment method for a workpiece according to the present invention is
The ultrasonic cleaning tank is provided with a processing liquid discharging means for causing the processing liquid in the tank to flow out of the ultrasonic processing tank, the degassing means is provided downstream of the processing liquid discharging means, and degassed by the degassing means. A treatment liquid supply means for supplying the treated treatment liquid to the ultrasonic treatment tank is provided, and the degassed treatment liquid is circulated in the ultrasonic treatment tank.
【００１１】本発明のワークの表面処理方法では、上記
反応性の処理液は溶存酸素量が０．０１〜５ｐｐｍにな
るように脱気されていることが好ましい。溶存酸素量が
５ｐｐｍ以上であるときには、上記気泡の発生を抑制す
る効果が十分に得られず、また０．０１ｐｐｍ以下にし
てもそれ以上の効果は認められない。尚、上記処理液に
溶解している気体は、具体的には空気であるが、空気中
の気体の組成は略一定であるので、溶存酸素量により溶
存気体の総量を代表させて示している。In the work surface treatment method of the present invention, it is preferable that the reactive treatment liquid is degassed so that the dissolved oxygen amount becomes 0.01 to 5 ppm. When the amount of dissolved oxygen is 5 ppm or more, the effect of suppressing the generation of bubbles is not sufficiently obtained, and even when it is 0.01 ppm or less, no further effect is recognized. The gas dissolved in the treatment liquid is specifically air, but since the composition of the gas in the air is substantially constant, the total amount of dissolved gas is represented by the amount of dissolved oxygen. .
【００１２】上記反応性の処理液は溶存酸素量が０．１
〜５ｐｐｍになるように脱気されていることがさらに好
ましい。上記処理液は反応性を有し、上記ワークは上記
処理液との反応により表面が処理されるので、上記処理
液は超音波洗浄の場合ほど高度の脱気を必要としない。
従って、溶存酸素量が上記範囲になるように脱気されて
いればよく、液の管理を容易に行うことができる。The reactive treatment liquid has a dissolved oxygen content of 0.1.
It is further preferable that the gas is degassed to be about 5 ppm. Since the treatment liquid has reactivity and the surface of the work is treated by the reaction with the treatment liquid, the treatment liquid does not require a high degree of degassing as in the case of ultrasonic cleaning.
Therefore, it is only necessary to degas so that the dissolved oxygen amount falls within the above range, and it is possible to easily manage the liquid.
【００１３】上記反応性の処理液としては、酸或はアル
カリの水溶液を使用する。上記酸の水溶液としては希硝
酸を挙げることができ、上記アルカリの水溶液としては
水酸化ナトリウム水溶液を挙げることができる。上記処
理液の濃度は、上記ワーク表層の異物と反応して溶解で
きる濃度であればよい。An aqueous solution of acid or alkali is used as the reactive treatment liquid. The aqueous solution of the acid may be dilute nitric acid, and the aqueous solution of the alkali may be an aqueous solution of sodium hydroxide. The concentration of the treatment liquid may be any concentration as long as it reacts with and dissolves foreign matter on the surface layer of the work.
【００１４】上記脱気手段としては、複数の中空糸状気
体分離膜を該気体分離膜の中空部に上記処理液を流通可
能に収容する気体分離膜モジュールと、該気体分離膜モ
ジュール内を減圧して該気体分離膜の内外に気圧差を形
成する減圧手段とからなるものが用いられる。As the degassing means, a gas separation membrane module for accommodating a plurality of hollow fiber gas separation membranes in the hollow portion of the gas separation membrane so that the treatment liquid can flow therethrough, and decompressing the inside of the gas separation membrane module. And a pressure reducing means for forming a pressure difference between the inside and outside of the gas separation membrane.
【００１５】本発明のワークの表面処理方法では、酸或
はアルカリの水溶液のような反応性の処理液を使用する
ので、継続して表面処理を行うと、上記気体分離膜が劣
化されることがある。そこで、上記脱気手段は、上記処
理液による劣化を防止するために、上記処理液を導入す
る密封槽と該密封槽内を減圧する減圧手段とからなるも
のが好ましい。In the surface treatment method for a work of the present invention, since a reactive treatment liquid such as an acid or alkali aqueous solution is used, continuous gas treatment may deteriorate the gas separation membrane. There is. Therefore, it is preferable that the degassing means comprises a sealed tank for introducing the processing liquid and a depressurizing means for depressurizing the inside of the sealed tank in order to prevent deterioration by the processing liquid.
【００１６】[0016]
【作用】本発明のワークの表面処理方法によれば、ワー
ク表層の異物と反応する処理液が脱気されているので、
該処理液に超音波を放射したときに気泡の発生が抑制さ
れ、しかもキャビテーションの内部が殆ど真空であるの
で該キャビテーションが周囲の水圧により容易に圧壊さ
れ、強力な衝撃波を発生する。この結果、上記衝撃波に
より該ワーク表層の異物の大部分が除去され、残余の異
物が上記処理液と反応して溶解、除去される。According to the work surface treatment method of the present invention, since the treatment liquid that reacts with the foreign matter on the surface layer of the work is degassed,
Generation of bubbles is suppressed when ultrasonic waves are radiated to the treatment liquid, and since the inside of the cavitation is almost vacuum, the cavitation is easily crushed by the surrounding water pressure and a strong shock wave is generated. As a result, most of the foreign matter on the surface layer of the work is removed by the shock wave, and the remaining foreign matter reacts with the treatment liquid to be dissolved and removed.
【００１７】また、上記処理液を脱気しておくことによ
り、上記ワークが上記処理液と反応して生じる気体が上
記処理液に容易に溶解し、ワーク表面に上記気体の微泡
が付着しないので、上記反応が促進される。また、上記
超音波を放射することにより上記処理液が攪拌されるの
で、さらに上記反応が促進される。従って、上記表面処
理に要する時間が大幅に短縮されるという効果が得られ
る。By degassing the treatment liquid, the gas generated by the reaction of the work with the treatment liquid is easily dissolved in the treatment liquid, and the fine bubbles of the gas do not adhere to the surface of the work. Therefore, the above reaction is promoted. Further, since the treatment liquid is agitated by radiating the ultrasonic waves, the reaction is further promoted. Therefore, there is an effect that the time required for the surface treatment is significantly reduced.
【００１８】また、本発明のワークの表面処理方法によ
れば、上記処理液中の溶存気体を除去して脱気する脱気
手段を設け、該脱気手段により脱気された処理液を該超
音波処理槽に供給するようにしているので、該超音波処
理槽に供給された処理液が常に脱気された状態に維持さ
れる。上記処理液は、上記のように循環して使用するの
で、反応性を有する処理液の廃棄量が低減され、環境へ
の影響が低く抑えられる。Further, according to the surface treatment method for a workpiece of the present invention, a degassing means for removing the dissolved gas in the processing solution to degas is provided, and the processing solution degassed by the degassing means is provided. Since it is supplied to the ultrasonic treatment tank, the treatment liquid supplied to the ultrasonic treatment tank is always maintained in a degassed state. Since the treatment liquid is circulated and used as described above, the amount of reactive treatment liquid to be discarded can be reduced, and the influence on the environment can be suppressed to a low level.
【００１９】本発明のワークの表面処理方法では、上記
反応性の処理液をその溶存酸素量が０．０１〜５ｐｐ
ｍ、好ましくは０．１〜５ｐｐｍになるように脱気する
ことにより、上記気泡の発生が好適に抑制され、上記キ
ャビテーションが圧壊されやすくなる。また、本発明の
ワークの表面処理方法では、上記反応性の処理液は上記
範囲になるように脱気されていればよく、精密な脱気を
必要としないので、液の管理が容易になる。In the surface treatment method for a work according to the present invention, the reactive treatment liquid has a dissolved oxygen content of 0.01 to 5 pp.
By degassing so as to have m, preferably 0.1 to 5 ppm, the generation of the bubbles is suitably suppressed, and the cavitation is easily collapsed. Further, in the work surface treatment method of the present invention, it is sufficient that the reactive treatment liquid is degassed so as to fall within the above range, and precise degassing is not required, so that the management of the liquid becomes easy. .
【００２０】本発明のワークの表面処理方法では、上記
反応性の処理液として酸或はアルカリの水溶液を使用す
ることにより、ワーク表層の異物が容易に上記処理液と
反応して溶解、除去される。In the surface treatment method for a workpiece of the present invention, by using an aqueous solution of acid or alkali as the reactive treatment liquid, foreign matters on the surface layer of the work are easily dissolved and removed by reacting with the treatment liquid. It
【００２１】上記反応性の処理液を脱気するときに、上
記気体分離膜モジュールを使用する脱気手段によれば、
上記処理液を上記中空糸状気体分離膜の中空部に流通し
ながら、上記減圧手段により上記気体分離膜モジュール
内を減圧すると、上記気体分離膜の内部よりも外部の方
が低圧になり、上記処理液に溶存している気体が上記気
体分離膜を介して膜の外部に放出される。この結果、上
記気体分離膜モジュールの下流で脱気された処理液が得
られ、超音波処理槽に供給される。上記気体分離膜モジ
ュールによれば、簡単な装置で精度の高い脱気を行うこ
とができ、上記超音波処理槽中の上記処理液の溶存酸素
量を上記範囲に維持することが容易になる。According to the degassing means using the gas separation membrane module when degassing the reactive treatment liquid,
While the treatment liquid is circulated in the hollow portion of the hollow fiber-shaped gas separation membrane, when the pressure inside the gas separation membrane module is reduced by the pressure reducing means, the outside becomes lower than the inside of the gas separation membrane, and the treatment is performed. The gas dissolved in the liquid is released to the outside of the membrane through the gas separation membrane. As a result, the treatment liquid degassed downstream of the gas separation membrane module is obtained and supplied to the ultrasonic treatment tank. According to the gas separation membrane module, highly accurate degassing can be performed with a simple device, and it becomes easy to maintain the dissolved oxygen amount of the treatment liquid in the ultrasonic treatment tank within the above range.
【００２２】また、上記反応性の処理液を脱気するとき
に、上記処理液を導入する密封槽と該密封槽内を減圧す
る減圧手段とからなる脱気手段によれば、上記減圧手段
により減圧された密封槽内に上記処理液を導入すること
により、上記処理液の溶存気体が上記密封槽内の空間に
放出され、脱気された処理液が得られる。上記密封槽と
減圧手段とからなる脱気手段によれば、気体分離膜を用
いないので耐酸性、耐アルカリ性に優れ、しかも上記処
理液が十分な精度で脱気される。Further, according to the degassing means comprising the sealed tank for introducing the processing liquid and the depressurizing means for depressurizing the inside of the sealed tank when degassing the reactive processing liquid, By introducing the treatment liquid into the pressure-reduced sealed tank, the dissolved gas of the treatment liquid is released into the space inside the sealed tank, and the degassed treatment liquid is obtained. According to the degassing means including the sealed tank and the depressurizing means, since the gas separation membrane is not used, the acid treatment and the alkali resistance are excellent, and the treatment liquid is degassed with sufficient accuracy.
【００２３】[0023]
【実施例】次に、本発明の表面処理方法を添付の図面に
従って説明する。The surface treatment method of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【００２４】図１は本発明の表面処理方法に使用する装
置の一構成例を示す説明的断面図であり、図２は本発明
の表面処理方法に使用する装置の他の構成例を示す説明
的断面図である。FIG. 1 is an explanatory sectional view showing an example of the constitution of an apparatus used for the surface treatment method of the present invention, and FIG. 2 is an explanation showing another example of the constitution of an apparatus used for the surface treatment method of the present invention. FIG.
【００２５】次に、図１に示す表面処理装置１について
説明する。Next, the surface treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 will be described.
【００２６】図１示の表面処理装置１は、底部に超音波
振動子２が取着された超音波処理槽３に供給された酸或
はアルカリの水溶液（処理液）４に、洗浄用バスケット
５に収容されたワーク６を浸漬し、超音波振動子２から
処理液４に超音波を放射して、ワーク６表層の異物を処
理液４と反応させて溶解、除去するものである。超音波
処理槽３には、処理液４を超音波処理槽３外に流出させ
る排出導管７が設けられており、排出導管７の途中には
処理液ポンプ８が設けられている。排出導管７の下流に
は脱気手段９が設けられており、脱気手段９で脱気され
た処理液４は脱気手段９と超音波処理槽３とを接続する
供給導管１０を介して超音波処理槽３に供給されるよう
になっている。In the surface treatment apparatus 1 shown in FIG. 1, a cleaning basket is placed in an aqueous solution (treatment liquid) 4 of an acid or an alkali supplied to an ultrasonic treatment tank 3 having an ultrasonic transducer 2 attached to the bottom thereof. The work 6 housed in the work 5 is immersed, and ultrasonic waves are radiated from the ultrasonic transducer 2 to the treatment liquid 4 to cause foreign matter on the surface layer of the work 6 to react with the treatment liquid 4 to dissolve and remove it. The ultrasonic treatment tank 3 is provided with a discharge conduit 7 for flowing the processing liquid 4 out of the ultrasonic treatment tank 3, and a processing liquid pump 8 is provided in the middle of the discharge conduit 7. Degassing means 9 is provided downstream of the discharge conduit 7, and the treatment liquid 4 degassed by the degassing means 9 is supplied via a supply conduit 10 connecting the degassing means 9 and the ultrasonic treatment tank 3. It is adapted to be supplied to the ultrasonic treatment tank 3.
【００２７】図１示の脱気手段９は、図示しない複数の
中空糸状気体分離膜を該気体分離膜の中空部に処理液４
を流通可能に収容する気体分離膜モジュール１１と、気
体分離膜モジュール１１内を減圧して該気体分離膜の内
外に気圧差を形成する真空ポンプ１２とから構成されて
いる。The degassing means 9 shown in FIG. 1 includes a plurality of hollow fiber gas separation membranes (not shown) in the hollow portion of the gas separation membrane for treating liquid 4.
And a vacuum pump 12 that decompresses the inside of the gas separation membrane module 11 to form a pressure difference between the inside and outside of the gas separation membrane.
【００２８】次に、図１示の表面処理装置１を用いる表
面処理方法について説明する。Next, a surface treatment method using the surface treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 will be described.
【００２９】（実験例１）本実験例では、超音波処理槽
３に処理液４として０．１重量％の希硝酸を供給して、
タングステン−コバルト合金からなる超硬チップ（ワー
ク）６の表面処理を行った。(Experimental Example 1) In this experimental example, 0.1% by weight of dilute nitric acid was supplied as the treatment liquid 4 to the ultrasonic treatment tank 3,
The surface treatment of the cemented carbide tip (workpiece) 6 made of a tungsten-cobalt alloy was performed.
【００３０】上記超硬チップ６は、バインダーと混合さ
れた単体のタングステン及びコバルトの金属粉末を焼結
して得られたものであり、厚さ３ｍｍ、１５ｍｍ×１５
ｍｍの菱形の形状を有している。そして、超硬チップ６
には、焼結により合金化した粒子の間隙に焼結されない
単体のコバルトや上記バインダー等の粉末が残存してい
る。The cemented carbide tip 6 is obtained by sintering a single metal powder of tungsten and cobalt mixed with a binder, and has a thickness of 3 mm and 15 mm × 15.
It has a rhombus shape of mm. And carbide tip 6
In the powder, powders of unsintered cobalt, the binder, and the like, which are not sintered, remain in the gaps between the particles alloyed by sintering.
【００３１】処理液４は排出導管７を介して処理液ポン
プ８により１００リットル／時の流量で脱気手段９に供
給され、脱気された処理液４が供給導管１０から超音波
処理槽３に供給されている。この結果、超音波処理槽３
内の処理液４は、常に溶存酸素量が２ｐｐｍになるよう
にされている。The treatment liquid 4 is supplied to the degassing means 9 at a flow rate of 100 liters / hour by the treatment liquid pump 8 via the discharge conduit 7, and the degassed treatment liquid 4 is supplied from the supply conduit 10 to the ultrasonic treatment tank 3 Is being supplied to. As a result, the ultrasonic treatment tank 3
The treatment liquid 4 therein is always adapted to have a dissolved oxygen amount of 2 ppm.
【００３２】上記超硬チップ６の表面処理は、上記のよ
うに脱気された処理液４に、洗浄用バスケット５に収容
された超硬チップ６を浸漬し、超音波振動子２から処理
液４に２８ｋＨｚの超音波を６００ｗの出力で１ｗ／ｃ
ｍ2 の密度になるように放射することにより行った。こ
の間洗浄用バスケット５を４０ｍｍの幅で上下動させ、
超音波が超硬チップ６に均等に作用するようにした。
尚、処理液４の液温は３５℃であった。The surface treatment of the cemented carbide tip 6 is carried out by immersing the cemented carbide tip 6 contained in the cleaning basket 5 in the treatment liquid 4 degassed as described above, and applying the treatment liquid from the ultrasonic vibrator 2. 4kHz 28kHz ultrasonic wave with 600w output 1w / c
It was performed by radiating so as to have a density of m 2 . During this time, the cleaning basket 5 is moved up and down by a width of 40 mm,
The ultrasonic waves were made to act uniformly on the carbide tip 6.
The treatment liquid 4 had a liquid temperature of 35 ° C.
【００３３】上記表面処理ののち、洗浄用バスケット５
を引き上げ、洗浄用バスケット５内の超硬チップ６の上
下から純水を２分間シャワーしてリンスしたのち、８０
℃の熱風で２分間乾燥した。After the above surface treatment, the cleaning basket 5
, And then rinse with pure water by showering for 2 minutes from the top and bottom of the carbide tips 6 in the cleaning basket 5 and then rinsing
It was dried with hot air at ℃ for 2 minutes.
【００３４】この結果、超硬チップ６は、１分間の浸漬
時間でその表面が希硝酸により均一にエッチングされ、
単体のコバルトがむらなく除去されていた。尚、気体分
離膜モジュール１１は継続して６００時間使用すること
ができた。As a result, the surface of the cemented carbide tip 6 is uniformly etched with dilute nitric acid within 1 minute of immersion,
Cobalt alone was removed evenly. The gas separation membrane module 11 could be continuously used for 600 hours.
【００３５】（比較実験例１）本実験例では、超音波処
理槽３に処理液４として１重量％の希硝酸を供給し、処
理液ポンプ８を作動させず、脱気手段９による処理液４
の脱気を全く行わない以外は実験例１と同様にして、超
硬チップ６の表面処理を行った。超音波処理槽３内の処
理液４の溶存酸素量は６ｐｐｍであった。(Comparative Experimental Example 1) In this experimental example, 1% by weight of dilute nitric acid was supplied as the treatment liquid 4 to the ultrasonic treatment tank 3, the treatment liquid pump 8 was not operated, and the treatment liquid by the degassing means 9 was used. Four
The surface treatment of the cemented carbide tip 6 was performed in the same manner as in Experimental Example 1 except that the deaeration of No. 1 was not performed at all. The amount of dissolved oxygen in the treatment liquid 4 in the ultrasonic treatment tank 3 was 6 ppm.
【００３６】この結果、超硬チップ６の表面のエッチン
グのために１０分間の浸漬時間を要し、しかも超硬チッ
プ６の表面には、深くえぐられて強度が低減している部
分が認められた。上記深くえぐられた部分は、希硝酸に
よるエッチングが部分的に過剰に進行したものと考えら
れる。As a result, it took 10 minutes for the surface of the cemented carbide tip 6 to be etched, and the surface of the cemented carbide tip 6 was found to be deeply engraved and reduced in strength. It was It is considered that the deeply engraved portion is partially excessively etched by dilute nitric acid.
【００３７】（比較実験例２）本実験例では、超音波処
理槽３に処理液４として水を供給した以外は実験例１と
同様にして、超硬チップ６の表面処理を行った。この結
果、浸漬時間を１０分間としたにも係わらず、エッチン
グは全くなされておらず、超硬チップ６の表面に付着し
ている異物が超音波洗浄の効果により除去されたに過ぎ
なかった。従って合金化した粒子の間隙にある単体のコ
バルトは殆ど除去されていなかった。(Comparative Experimental Example 2) In this experimental example, the surface treatment of the cemented carbide chip 6 was performed in the same manner as in Experimental Example 1 except that water was supplied to the ultrasonic treatment tank 3 as the treatment liquid 4. As a result, despite the immersion time being 10 minutes, no etching was performed, and the foreign matter adhering to the surface of the cemented carbide tip 6 was only removed by the effect of ultrasonic cleaning. Therefore, the simple substance of cobalt in the gaps between the alloyed particles was hardly removed.
【００３８】（実験例２）本実験例では、超音波処理槽
３に処理液４として０．１重量％の水酸化ナトリウム水
溶液を供給して、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）を
収容するベースプレート（ワーク）６の表面処理を行っ
た。上記ＨＤＤのベースプレートは、アルミニウム合金
の精密ダイキャスト成形品であり、１２８ｍｍ×９６ｍ
ｍ、深さ１５ｍｍの浅い箱型の形状を有し、全体の板厚
が１．２ｍｍになるように成形されている。そして、そ
の表面には微小なバリが多数形成されている。(Experimental Example 2) In this experimental example, a 0.1 wt% sodium hydroxide aqueous solution was supplied as the treatment liquid 4 to the ultrasonic treatment bath 3 to form a base plate (work) for accommodating a hard disk drive (HDD). 6 surface treatment was performed. The base plate of the HDD is a precision die-cast molding product of aluminum alloy, 128 mm x 96 m
It has a shallow box shape with a depth of 15 mm and a depth of 15 mm, and is formed to have a total plate thickness of 1.2 mm. A large number of minute burrs are formed on the surface.
【００３９】上記ＨＤＤのベースプレート６の表面処理
は、超音波処理槽３内の処理液４の溶存酸素量が、常に
１．５ｐｐｍになるようにし、上記のように脱気された
処理液４に、洗浄用バスケット５に収容されたＨＤＤの
ベースプレート６を浸漬した以外は、実験例１と同様に
して行った。In the surface treatment of the base plate 6 of the HDD, the dissolved oxygen amount of the treatment liquid 4 in the ultrasonic treatment tank 3 is always 1.5 ppm, and the treatment liquid 4 degassed as described above is used. The same procedure as in Experimental Example 1 was performed except that the HDD base plate 6 housed in the cleaning basket 5 was immersed.
【００４０】この結果、ＨＤＤのベースプレート６は、
１分間の浸漬時間でその表面が水酸化ナトリウム水溶液
により均一にエッチングされ、微小なバリが全て溶解、
除去されていた。尚、気体分離膜モジュール１１は継続
して１２００時間使用することができた。As a result, the base plate 6 of the HDD is
The surface is uniformly etched with an aqueous solution of sodium hydroxide within 1 minute of immersion time, and all minute burrs are dissolved.
Had been removed. The gas separation membrane module 11 could be continuously used for 1200 hours.
【００４１】（比較実験例３）本実験例では、超音波処
理槽３に処理液４として１重量％の水酸化ナトリウム水
溶液を供給し、処理液ポンプ８を作動させず、脱気手段
９による処理液４の脱気を全く行わない以外は実験例１
と同様にして、ＨＤＤのベースプレート６の表面処理を
行った。超音波処理槽３内の処理液４の溶存酸素量は６
ｐｐｍであった。(Comparative Experimental Example 3) In this experimental example, a 1 wt% sodium hydroxide aqueous solution was supplied to the ultrasonic treatment tank 3 as the treatment liquid 4, the treatment liquid pump 8 was not operated, and the degassing means 9 was used. Experimental Example 1 except that the treatment liquid 4 was not degassed at all
The surface treatment of the base plate 6 of the HDD was performed in the same manner as in. The amount of dissolved oxygen in the treatment liquid 4 in the ultrasonic treatment tank 3 is 6
It was ppm.
【００４２】この結果、ＨＤＤのベースプレート６の表
面のエッチングのために１０分間の浸漬時間を要し、し
かもＨＤＤのベースプレート６の表面には、部分的に水
酸化ナトリウム水溶液によるエロージョンが認められ
た。上記エロージョンは、水酸化ナトリウム水溶液によ
るエッチングが部分的に過剰に進行したものと考えられ
る。As a result, it took 10 minutes for the surface of the HDD base plate 6 to be etched, and the surface of the HDD base plate 6 was partially eroded by the aqueous sodium hydroxide solution. It is considered that the above-mentioned erosion is caused by partial excessive progress of etching with the aqueous sodium hydroxide solution.
【００４３】（比較実験例４）本実験例では、超音波処
理槽３に処理液４として水を供給した以外は実験例２と
同様にして、ＨＤＤのベースプレート６の表面処理を行
った。この結果、浸漬時間を１０分間としたにも係わら
ず、エッチングは全くなされておらず、ＨＤＤのベース
プレート６の表面の微小なバリの一部が超音波洗浄の効
果により除去されたに過ぎなかった。(Comparative Experimental Example 4) In this experimental example, the surface treatment of the base plate 6 of the HDD was performed in the same manner as in Experimental Example 2 except that water was supplied to the ultrasonic treatment bath 3 as the treatment liquid 4. As a result, even though the immersion time was set to 10 minutes, etching was not performed at all, and only a part of the minute burr on the surface of the base plate 6 of the HDD was removed by the effect of ultrasonic cleaning. .
【００４４】次に、図２に示す表面処理装置２１につい
て説明する。Next, the surface treatment device 21 shown in FIG. 2 will be described.
【００４５】図２示の表面処理装置２１は、底部に超音
波振動子２が取着された超音波処理槽３に供給された酸
或はアルカリの水溶液（処理液）４に、洗浄用バスケッ
ト５に収容されたワーク６を浸漬し、超音波振動子２か
ら処理液４に超音波を放射して、ワーク６表層の異物を
処理液４と反応させて溶解、除去するものである。超音
波処理槽３には、処理液４を超音波処理槽３外に流出さ
せる排出導管７が設けられており、排出導管７の途中に
は処理液排出ポンプ２２が設けられている。排出導管７
の下流には脱気手段２３が設けられており、排出導管７
は電磁弁２４を介して脱気手段２３に接続されている。
脱気手段２３と超音波洗浄槽３とは供給導管１０により
接続されている。供給導管１０の途中には処理液供給ポ
ンプ２５が設けられており、供給導管１０は電磁弁２６
を介して処理液供給ポンプ２５に接続されている。The surface treatment apparatus 21 shown in FIG. 2 has a cleaning basket in which an aqueous solution of an acid or an alkali (treatment solution) 4 is supplied to an ultrasonic treatment tank 3 having an ultrasonic transducer 2 attached to the bottom thereof. The work 6 housed in the work 5 is immersed, and ultrasonic waves are radiated from the ultrasonic transducer 2 to the treatment liquid 4 to cause foreign matter on the surface layer of the work 6 to react with the treatment liquid 4 to dissolve and remove it. The ultrasonic treatment tank 3 is provided with a discharge conduit 7 for flowing the processing liquid 4 out of the ultrasonic treatment tank 3, and a processing liquid discharge pump 22 is provided in the middle of the discharge conduit 7. Discharge conduit 7
Degassing means 23 is provided downstream of the exhaust pipe 7
Is connected to the degassing means 23 via a solenoid valve 24.
The degassing means 23 and the ultrasonic cleaning tank 3 are connected by the supply conduit 10. A treatment liquid supply pump 25 is provided in the middle of the supply conduit 10, and the supply conduit 10 includes a solenoid valve 26.
It is connected to the processing liquid supply pump 25 via.
【００４６】図２示の脱気手段２３は、処理液４を導入
する密封槽２７と、密封槽２７内を減圧する真空ポンプ
２８とから構成されている。密封槽２７には導入された
処理液４の水位を検知するレベルセンサ２９が設けられ
ており、レベルセンサ２９は電磁弁２４，２６に電気的
に接続されている。The degassing means 23 shown in FIG. 2 comprises a sealed tank 27 for introducing the treatment liquid 4 and a vacuum pump 28 for reducing the pressure inside the sealed tank 27. The sealed tank 27 is provided with a level sensor 29 that detects the water level of the introduced treatment liquid 4, and the level sensor 29 is electrically connected to the solenoid valves 24 and 26.
【００４７】脱気手段２３によれば、レベルセンサ２９
により密封槽２７の処理液４の水位の下限が検知される
と、電磁弁２４が開放されると共に電磁弁２６が閉鎖さ
れ、真空ポンプ２８により減圧にされている密封槽２７
内に処理液４が導入される。処理液４は、減圧にされて
いる密封槽２７内に導入されることにより、溶存気体が
密封槽２７内の空間に放出されて、脱気される。そし
て、レベルセンサ２９により密封槽２７の処理液４の水
位の上限が検知されると、電磁弁２４が閉鎖されると共
に電磁弁２６が開放され、脱気された処理液４が処理液
供給ポンプ２５により密封槽２７から排出されて、供給
導管１０を介して超音波処理槽３に供給されるようにな
っている。According to the deaeration means 23, the level sensor 29
When the lower limit of the water level of the treatment liquid 4 in the sealed tank 27 is detected by the electromagnetic valve 24, the electromagnetic valve 26 is opened and the electromagnetic valve 26 is closed, and the sealed tank 27 is depressurized by the vacuum pump 28.
The treatment liquid 4 is introduced therein. The treatment liquid 4 is introduced into the pressure-reduced sealed tank 27, whereby the dissolved gas is released into the space inside the sealed tank 27 and degassed. When the level sensor 29 detects the upper limit of the water level of the processing liquid 4 in the sealed tank 27, the electromagnetic valve 24 is closed and the electromagnetic valve 26 is opened, so that the degassed processing liquid 4 is supplied to the processing liquid supply pump. It is adapted to be discharged from the sealed tank 27 by 25 and supplied to the ultrasonic treatment tank 3 via the supply conduit 10.
【００４８】次に、図２示の表面処理装置２１を用いる
表面処理方法について説明する。Next, a surface treatment method using the surface treatment apparatus 21 shown in FIG. 2 will be described.
【００４９】（実験例３）本実験例では、超音波処理槽
３に処理液４として１０重量％の希硝酸を供給して、実
験例１で用いたものと同じ超硬チップ（ワーク）６の表
面処理を行った。(Experimental Example 3) In this experimental example, 10% by weight of dilute nitric acid was supplied to the ultrasonic treatment tank 3 as the treatment liquid 4, and the same cemented carbide tip (workpiece) 6 as that used in Experimental Example 1 was used. Was surface-treated.
【００５０】処理液４は処理液排出ポンプ２２により排
出導管７を介して断続的に脱気手段２３に供給され、脱
気された処理液４が処理液供給ポンプ２５により供給導
管１０を介して断続的に超音波処理槽３に供給されてい
る。この結果、超音波処理槽３内の処理液４は、常に溶
存酸素量が２ｐｐｍになるようにされている。The processing liquid 4 is intermittently supplied to the degassing means 23 by the processing liquid discharge pump 22 via the discharge conduit 7, and the degassed processing liquid 4 is supplied by the processing liquid supply pump 25 via the supply conduit 10. The ultrasonic treatment tank 3 is intermittently supplied. As a result, the treatment liquid 4 in the ultrasonic treatment tank 3 is always made to have a dissolved oxygen amount of 2 ppm.
【００５１】上記超硬チップ６の表面処理は、上記のよ
うに脱気された処理液４に、洗浄用バスケット５に収容
された超硬チップ６を浸漬し、超音波振動子２から処理
液４に２８ｋＨｚの超音波を６００ｗの出力で１ｗ／ｃ
ｍ2 の密度になるように放射することにより行った。こ
の間洗浄用バスケット５を４０ｍｍの幅で上下動させ、
超音波が超硬チップ６に均等に作用するようにした。
尚、処理液４の液温は３５℃であった。The surface treatment of the cemented carbide tip 6 is carried out by immersing the cemented carbide tip 6 contained in the cleaning basket 5 in the treatment liquid 4 degassed as described above, and treating the ultrasonic transducer 2 with the treatment liquid. 4kHz 28kHz ultrasonic wave with 600w output 1w / c
It was performed by radiating so as to have a density of m 2 . During this time, the cleaning basket 5 is moved up and down by a width of 40 mm,
The ultrasonic waves were made to act uniformly on the carbide tip 6.
The treatment liquid 4 had a liquid temperature of 35 ° C.
【００５２】上記表面処理ののち、洗浄用バスケット５
を引き上げ、洗浄用バスケット５内の超硬チップ６の上
下から純水を２分間シャワーしてリンスしたのち、８０
℃の熱風で２分間乾燥した。After the above surface treatment, the cleaning basket 5
, And then rinse with pure water by showering for 2 minutes from the top and bottom of the carbide tips 6 in the cleaning basket 5 and then rinsing
It was dried with hot air at ℃ for 2 minutes.
【００５３】この結果、超硬チップ６は、３０秒間の浸
漬時間でその表面が希硝酸により均一にエッチングさ
れ、単体のコバルトがむらなく除去されていた。尚、上
記浸漬時間は確実を期するために要した時間であり、実
際にはさらに短時間で均一なエッチングが完了してい
る。また、脱気手段２３は希硝酸に侵されにくいので、
継続して６００時間以上使用しても異常は認められなか
った。As a result, the surface of the cemented carbide tip 6 was uniformly etched by dilute nitric acid within a dipping time of 30 seconds, and cobalt as a simple substance was removed evenly. The immersion time is a time required for ensuring certainty, and in reality, uniform etching is completed in a shorter time. Further, since the degassing means 23 is not easily attacked by dilute nitric acid,
No abnormality was observed even after continuous use for 600 hours or more.
【００５４】（実験例４）本実験例では、超音波処理槽
３に処理液４として１０重量％の水酸化ナトリウム水溶
液を供給して、実験例２で用いたものと同じＨＤＤのベ
ースプレート（ワーク）６の表面処理を行った。(Experimental Example 4) In this experimental example, a 10 wt% sodium hydroxide aqueous solution was supplied as the treatment liquid 4 to the ultrasonic treatment tank 3, and the same HDD base plate (workpiece) used in Experimental Example 2 was prepared. ) No. 6 surface treatment was performed.
【００５５】上記ＨＤＤのベースプレート６の表面処理
は、超音波処理槽３内の処理液４の溶存酸素量が、常に
１．５ｐｐｍになるようにし、上記のように脱気された
処理液４に、洗浄用バスケット５に収容されたＨＤＤの
ベースプレート６を浸漬した以外は、実験例３と同様に
して行った。In the surface treatment of the base plate 6 of the HDD, the dissolved oxygen amount of the treatment liquid 4 in the ultrasonic treatment tank 3 is constantly 1.5 ppm, and the treatment liquid 4 degassed as described above is used. The same procedure as in Experimental Example 3 was performed except that the HDD base plate 6 housed in the cleaning basket 5 was immersed.
【００５６】この結果、超硬チップ６は、３０秒間の浸
漬時間でその表面が水酸化ナトリウム水溶液により均一
にエッチングされ、微小なバリが全て溶解、除去されて
いた。尚、上記浸漬時間は確実を期するために要した時
間であり、実際にはさらに短時間で均一なエッチングが
完了している。また、脱気手段２３は水酸化ナトリウム
に侵されにくいので、継続して１２００時間以上使用し
ても異常は認められなかった。As a result, the surface of the cemented carbide tip 6 was uniformly etched by the sodium hydroxide aqueous solution in the immersion time of 30 seconds, and all minute burrs were dissolved and removed. The immersion time is a time required for ensuring certainty, and in reality, uniform etching is completed in a shorter time. Further, since the degassing means 23 is less likely to be attacked by sodium hydroxide, no abnormality was found even after continuous use for 1200 hours or more.
【００５７】次に、各実験例の表面処理結果を下記表１
にまとめて示す。Next, the surface treatment results of each experimental example are shown in Table 1 below.
Are shown together.
【００５８】[0058]
【表１】 [Table 1]
【００５９】表１から、本発明の表面処理方法によれ
ば、反応性の処理液を脱気しない場合に比較してワーク
と処理液との反応を、より低濃度の処理液を用い短時間
で、しかも均一に行うことができることが明らかであ
る。また、上記反応性の処理液に変えて水を使用すると
きには上記処理液と同等の脱気を行っても、ワークと上
記処理液とが反応しないので、超音波洗浄の効果しか得
られず、表面処理が不十分になることが明らかである。From Table 1, according to the surface treatment method of the present invention, the reaction between the work and the treatment liquid is shorter than that in the case where the reactive treatment liquid is not degassed, by using the treatment liquid having a lower concentration. It is clear that this can be done uniformly. Further, when water is used instead of the reactive treatment liquid, even if degassing equivalent to the treatment liquid is performed, since the work and the treatment liquid do not react, only the effect of ultrasonic cleaning can be obtained. It is clear that the surface treatment becomes insufficient.
【００６０】また、密封槽と真空ポンプとからなる脱気
手段を用いる場合（実験例３、実験例４）には、気体分
離膜モジュールと真空ポンプとからなる脱気手段を用い
る場合（実験例１、実験例２）に比較して、高濃度の処
理液を使用することができて処理時間を短縮することが
できると共に、長時間継続して処理することができるこ
とが明らかである。When using a degassing means consisting of a sealed tank and a vacuum pump (Experimental Examples 3 and 4), using a degassing means consisting of a gas separation membrane module and a vacuum pump (Experimental Example) It is clear that, as compared with 1 and Experimental Example 2), a treatment liquid having a high concentration can be used, the treatment time can be shortened, and the treatment can be continued for a long time.
【００６１】[0061]
【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
のワークの表面処理方法によれば、ワーク表層の異物と
反応する処理液が脱気されているので、該処理液に超音
波を放射したときにキャビテーションの圧壊により強力
な衝撃波を発生させることができる。この結果、上記衝
撃波により該ワーク表層の異物の大部分を除去すること
ができ、残余の異物を上記処理液と反応させて溶解、除
去するので、従来より低濃度の処理液で、しかも短時間
で処理することができる。As is clear from the above, according to the surface treatment method for a workpiece of the present invention, since the treatment liquid that reacts with the foreign matter on the surface layer of the work is degassed, ultrasonic waves are applied to the treatment liquid. When radiated, a strong shock wave can be generated by crushing cavitation. As a result, most of the foreign matter on the surface layer of the work can be removed by the shock wave, and the remaining foreign matter is reacted with the treatment solution to dissolve and remove it. Can be processed with.
【００６２】また、上記処理液を脱気しておくことによ
り、上記ワークが上記処理液と反応して生じる気体が上
記処理液に容易に溶解し、ワーク表面に上記気体の微泡
が付着しないので、上記反応を促進することができる。
また、上記超音波を放射することにより上記処理液が攪
拌されるので、さらに上記反応を促進することができ、
上記表面処理に要する時間を大幅に短縮することができ
る。By degassing the treatment liquid, the gas generated by the reaction of the work with the treatment liquid is easily dissolved in the treatment liquid, and the gas fine bubbles do not adhere to the surface of the work. Therefore, the above reaction can be promoted.
Further, since the treatment liquid is agitated by radiating the ultrasonic waves, it is possible to further promote the reaction,
It is possible to significantly reduce the time required for the surface treatment.
【００６３】また、本発明のワークの表面処理方法によ
れば、上記処理液中の溶存気体を除去して脱気する脱気
手段を設け、該脱気手段により脱気された処理液を該超
音波処理槽に供給するようにしているので、該超音波処
理槽に供給された処理液が常に脱気された状態に維持す
ることができると共に、上記処理液を上記のように循環
して使用することにより、反応性を有する処理液の廃棄
量を低減することができ、環境への影響を低く抑えるこ
とができる。Further, according to the surface treatment method for a work of the present invention, a degassing means for removing the dissolved gas in the processing solution to degas is provided, and the processing solution degassed by the degassing means is Since it is supplied to the ultrasonic treatment tank, the processing liquid supplied to the ultrasonic treatment tank can always be maintained in a degassed state, and the processing liquid can be circulated as described above. By using it, it is possible to reduce the amount of the reactive processing liquid to be discarded, and it is possible to suppress the influence on the environment to a low level.
【００６４】本発明のワークの表面処理方法では、上記
反応性の処理液をその溶存酸素量が０．０１〜５ｐｐ
ｍ、好ましくは０．１〜５ｐｐｍになるように脱気する
ことにより、上記気泡の発生が抑制され、キャビテーシ
ョンの圧壊により強力な衝撃波を得ることができる。ま
た、上記反応性の処理液は上記範囲になるように脱気さ
れていればよいので、容易に液の管理を行うことができ
る。In the surface treatment method for a work according to the present invention, the reactive treatment liquid has a dissolved oxygen content of 0.01 to 5 pp.
By degassing to m, preferably 0.1 to 5 ppm, generation of the bubbles is suppressed, and a strong shock wave can be obtained by crushing cavitation. Further, since the reactive treatment liquid may be degassed so as to fall within the above range, the liquid can be easily managed.
【００６５】本発明のワークの表面処理方法では、上記
反応性の処理液として酸或はアルカリの水溶液を使用す
ることにより、ワーク表層の異物が容易に上記処理液と
反応して溶解、除去することができる。In the surface treatment method for a work of the present invention, by using an aqueous solution of acid or alkali as the reactive treatment liquid, foreign matter on the surface layer of the work easily reacts with the treatment liquid to be dissolved and removed. be able to.
【００６６】上記反応性の処理液の脱気は、上記気体分
離膜モジュールを使用する脱気手段により、簡単な装置
で精度の高い脱気を行うことができる。The reactive processing liquid can be degassed with high precision by a simple device by the degassing means using the gas separation membrane module.
【００６７】また、上記反応性の処理液の脱気は、上記
処理液を導入する密封槽と該密封槽内を減圧する減圧手
段とからなる脱気手段により、酸或はアルカリに劣化さ
れる虞れがないので、長期間に亘って十分な精度で脱気
を行うことができ、しかも上記気体分離膜モジュールを
使用する脱気手段より高濃度の処理液の脱気を行うこと
ができる。The degassing of the reactive processing liquid is deteriorated to acid or alkali by the degassing means consisting of a sealed tank for introducing the processing liquid and a depressurizing means for depressurizing the inside of the sealed tank. Since there is no fear, it is possible to perform degassing with sufficient accuracy for a long period of time, and it is possible to degas the processing liquid having a higher concentration than the degassing means using the gas separation membrane module.
【図１】本発明の表面処理方法に使用する装置の一構成
例を示す説明的断面図。FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration example of an apparatus used for a surface treatment method of the present invention.
【図２】本発明の表面処理方法に使用する装置の他の構
成例を示す説明的断面図。FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing another configuration example of an apparatus used for the surface treatment method of the present invention.
２…超音波振動子、 ３…超音波洗浄槽、 ４…反応性
の処理液、６…ワーク、 ７…処理液排出手段、 ９，
２３…脱気手段、１０…処理液供給手段。2 ... Ultrasonic vibrator, 3 ... Ultrasonic cleaning tank, 4 ... Reactive processing liquid, 6 ... Work piece, 7 ... Processing liquid discharge means, 9,
23 ... Deaeration means, 10 ... Treatment liquid supply means.
Claims (8)
理槽に供給された反応性の処理液中にワークを浸漬し、
該超音波振動子から該処理液に超音波を放射して、該ワ
ーク表層の異物を該処理液と反応させて溶解、除去する
表面処理方法において、 該処理液中の溶存気体を除去して脱気する脱気手段を設
け、該脱気手段により脱気された処理液を該超音波処理
槽に供給することを特徴とする表面処理方法。1. A work is immersed in a reactive treatment liquid supplied to an ultrasonic treatment tank having an ultrasonic vibrator attached to its bottom,
In a surface treatment method in which ultrasonic waves are radiated from the ultrasonic oscillator to the treatment liquid to cause foreign matters on the surface layer of the work to react with the treatment liquid to dissolve and remove, the dissolved gas in the treatment liquid is removed. A surface treatment method comprising providing a deaeration means for deaeration and supplying the treatment liquid deaerated by the deaeration means to the ultrasonic treatment tank.
波処理槽外に流出させる処理液排出手段を設け、該処理
液排出手段の下流に上記脱気手段を設け、該脱気手段に
より脱気された処理液を該超音波処理槽に供給する処理
液供給手段を設け、脱気された処理液を該超音波処理槽
に循環させることを特徴とする請求項１記載の表面処理
方法。2. The ultrasonic cleaning tank is provided with a processing liquid discharging means for causing the processing liquid in the tank to flow out of the ultrasonic processing tank, and the degassing means is provided downstream of the processing liquid discharging means. The treatment liquid supply means for supplying the treatment liquid degassed by the gasifying means to the ultrasonic treatment tank is provided, and the degassed treatment liquid is circulated in the ultrasonic treatment tank. Surface treatment method.
１〜５ｐｐｍになるように脱気されていることを特徴と
する請求項１記載の表面処理方法。3. The reactive treatment liquid has a dissolved oxygen content of 0.0.
The surface treatment method according to claim 1, wherein the surface treatment is performed by degassing so as to be 1 to 5 ppm.
〜５ｐｐｍになるように脱気されていることを特徴とす
る請求項１記載の表面処理方法。4. The reactive processing liquid has a dissolved oxygen content of 0.1.
The surface treatment method according to claim 1, wherein the surface treatment method is deaeration so that the concentration becomes -5 ppm.
とを特徴とする請求項１記載の表面処理方法。5. The surface treatment method according to claim 1, wherein the reactive treatment liquid is an aqueous solution of an acid.
あることを特徴とする請求項１記載の表面処理方法。6. The surface treatment method according to claim 1, wherein the reactive treatment liquid is an aqueous alkali solution.
膜を該気体分離膜の中空部に上記処理液を流通可能に収
容する気体分離膜モジュールと、該気体分離膜モジュー
ル内を減圧して該気体分離膜の内外に気圧差を形成する
減圧手段とからなることを特徴とする請求項１及び２記
載の表面処理方法。7. A gas separation membrane module in which the degassing means accommodates a plurality of hollow fiber gas separation membranes in the hollow portion of the gas separation membrane so that the treatment liquid can flow, and the inside of the gas separation membrane module is depressurized. 3. The surface treatment method according to claim 1, further comprising a decompression means for forming a pressure difference between the inside and the outside of the gas separation membrane.
封槽と該密封槽内を減圧する減圧手段とからなることを
特徴とする請求項１及び２記載の表面処理方法。8. The surface treatment method according to claim 1, wherein the degassing means comprises a sealed tank for introducing the treatment liquid and a depressurizing means for depressurizing the inside of the sealed tank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14616193A JPH0673578A (en) | 1992-06-25 | 1993-06-17 | Surface treatment of work |
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|---|---|---|---|
| JP4-191684 | 1992-06-25 | ||
| JP19168492 | 1992-06-25 | ||
| JP14616193A JPH0673578A (en) | 1992-06-25 | 1993-06-17 | Surface treatment of work |
Publications (1)
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Family Applications (1)
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| JP14616193A Pending JPH0673578A (en) | 1992-06-25 | 1993-06-17 | Surface treatment of work |
Country Status (1)
| Country | Link |
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