JP2021195576A - Production method and production apparatus of metal nanoparticle - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液相法で合成される金属ナノ粒子の製造方法および製造装置に関する。 The present invention relates to a method and an apparatus for producing metal nanoparticles synthesized by a liquid phase method.
金属組成物からなる粒子であって、平均粒径が0.5μm未満である粒子は、金属ナノ粒子と呼ばれている。金属ナノ粒子は、バルク金属とは異なる物理的・化学的特性を有することから、例えば、導電性ペーストや透明導電膜などの電極材料、高密度記録材料、触媒材料、インクジェット用インク材料、はんだ材料、電子回路基板の用途の様々な工業材料に利用されている。例えば、金属ナノ粒子は、微細な粒子径からもたらされる高い焼結性を有し、この金属ナノ粒子を構成する金属の融点よりもはるかに低い500℃以下といった比較的に低温度で粒子間が焼結することが確認されている。また、得られる焼結体の構造的強度は、その金属の融点付近まで保たれることが期待される。金属ナノ粒子を構成する金属としては、Agが代表であり、その他にAu、Cu、Ni等が挙げられる(例えば、特許文献1参照。)。 Particles made of a metal composition having an average particle size of less than 0.5 μm are called metal nanoparticles. Since metal nanoparticles have different physical and chemical properties from bulk metals, for example, electrode materials such as conductive pastes and transparent conductive films, high-density recording materials, catalyst materials, ink materials for inkjet, and solder materials. , Used in various industrial materials for electronic circuit board applications. For example, metal nanoparticles have a high sinterability resulting from a fine particle size, and the particles are separated from each other at a relatively low temperature such as 500 ° C. or lower, which is much lower than the melting point of the metal constituting the metal nanoparticles. It has been confirmed that it sinters. Further, it is expected that the structural strength of the obtained sintered body is maintained up to near the melting point of the metal. As the metal constituting the metal nanoparticles, Ag is a typical example, and Au, Cu, Ni and the like can be mentioned (see, for example, Patent Document 1).
金属ナノ粒子は、一般に、有機物質で覆われている。室温下においては、粒子を被覆している有機物質が金属ナノ粒子の自己凝集を防止し、金属ナノ粒子は独立分散した形態を維持している。また、この金属ナノ粒子は、有機−金属複合ナノ粒子として被接合部材表面に供給され、所定の温度に加熱されて焼成されると、有機物質が分解・除去され、金属ナノ粒子の活性な表面が露出して低温焼結機能が発現し、金属ナノ粒子同士が互いに接合すると同時に被接合部材の表面とも接合する。 Metal nanoparticles are generally covered with an organic substance. At room temperature, the organic material covering the particles prevents the self-aggregation of the metal nanoparticles, and the metal nanoparticles maintain their independently dispersed morphology. Further, these metal nanoparticles are supplied to the surface of the member to be joined as organic-metal composite nanoparticles, and when they are heated to a predetermined temperature and fired, the organic substances are decomposed and removed, and the active surface of the metal nanoparticles is obtained. Is exposed and the low-temperature sintering function is exhibited, and the metal nanoparticles are bonded to each other and at the same time bonded to the surface of the member to be bonded.
金属ナノ粒子の合成法には、熱CVD(化学気相成長)法やアーク放電などにより合成する気相法と金属塩水溶液と還元補助剤とを混合して金属塩水溶液を還元する還元法など液中で合成する液相法とがある。前述のアーク放電を用いた方法では少なくともわずかな酸素が金属ナノ粒子表面に接し、金属ナノ粒子表面が酸化して焼結が阻害されるという問題がある。一方、液相法の場合には、周辺の酸素との接触を避けることができ、表面の酸化を抑制することができ、金属塊に対して超音波キャビテーションによって破砕してなる金属ナノ粒子が記載されている(例えば、特許文献2参照。)。 The methods for synthesizing metal nanoparticles include a thermal CVD (chemical vapor deposition) method, a vapor phase method for synthesizing by arc discharge, and a reduction method in which a metal salt aqueous solution and a reduction aid are mixed to reduce the metal salt aqueous solution. There is a liquid phase method that synthesizes in liquid. The above-mentioned method using an arc discharge has a problem that at least a small amount of oxygen comes into contact with the surface of the metal nanoparticles, and the surface of the metal nanoparticles is oxidized to inhibit sintering. On the other hand, in the case of the liquid phase method, metal nanoparticles that can avoid contact with surrounding oxygen, suppress surface oxidation, and crush metal lumps by ultrasonic cavitation are described. (See, for example, Patent Document 2).
この超音波キャビテーションの工業活用としては、半導体ウェハや基板等の表面からパーティクルを除去する超音波洗浄装置が多い(例えば、特許文献3参照。)。
すなわち、超音波処理槽に処理液と基板を投入し、処理液に超音波振動を与えることで処理液中に微小な気泡を発生させ、気泡が崩壊するときの衝撃力により基板表面のパーティクルを除去する。超音波キャビテーションで金属ナノ粒子を作製するためには、キャビテーションの数を増加させながら、キャビテーションの衝撃力を増加させる必要がある。
As an industrial use of this ultrasonic cavitation, there are many ultrasonic cleaning devices that remove particles from the surface of semiconductor wafers, substrates, etc. (see, for example, Patent Document 3).
That is, the treatment liquid and the substrate are put into the ultrasonic treatment tank, and ultrasonic vibration is applied to the treatment liquid to generate minute bubbles in the treatment liquid, and the particles on the surface of the substrate are generated by the impact force when the bubbles collapse. Remove. In order to produce metal nanoparticles by ultrasonic cavitation, it is necessary to increase the impact force of cavitation while increasing the number of cavitation.
しかしながら、従来の超音波処理装置では、超音波処理槽の圧力を高圧状態とすることでキャビテーションの衝撃力を増加させることは可能であるが、微小な気泡が圧力により消失してしまい、キャビテーションの数が減少し、金属ナノ粒子の作製効率が低いという問題がある。 However, in the conventional ultrasonic processing device, although it is possible to increase the impact force of cavitation by setting the pressure of the ultrasonic processing tank to a high pressure state, minute bubbles disappear due to the pressure, and cavitation occurs. There is a problem that the number is reduced and the production efficiency of metal nanoparticles is low.
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、高効率に金属ナノ粒子を作製する金属ナノ粒子の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a method and an apparatus for producing metal nanoparticles for producing metal nanoparticles with high efficiency.
本発明に係る金属ナノ粒子の製造方法は、
金属組成物の一次粒子を第一の槽に収容された第一の溶媒中に供給する工程と、
前記一次粒子に超音波を照射して金属ナノ粒子を生成する工程と、
を含み、
前記一次粒子に超音波を照射して金属ナノ粒子を生成する工程は、
前記第一の槽の圧力を制御する工程と、
超音波を照射している間の前記第一の溶媒の溶存気体濃度を検知する工程と、
予め作成した溶存気体濃度と金属ナノ粒子の生成量との関係を示すテーブルを使用し、前記検知する工程によって検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲に制御する工程と、
を含み、
前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲に制御する工程は、
i)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲内である場合には、引き続き超音波を照射し、
ii)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲の下限値よりも低い場合には、ファインバブルを供給し前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲にし、
iii)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲の上限値よりも高い場合には、脱気することで前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲にする。
The method for producing metal nanoparticles according to the present invention is as follows.
The step of supplying the primary particles of the metal composition into the first solvent contained in the first tank, and
The process of irradiating the primary particles with ultrasonic waves to generate metal nanoparticles, and
Including
The step of irradiating the primary particles with ultrasonic waves to generate metal nanoparticles is
The process of controlling the pressure in the first tank and
The step of detecting the dissolved gas concentration of the first solvent while irradiating with ultrasonic waves, and
Using a table showing the relationship between the dissolved gas concentration prepared in advance and the amount of metal nanoparticles produced, the dissolved gas concentration of the first solvent detected by the detection step is within the dissolved gas concentration control range shown in the table. The process to control and
Including
The step of controlling the dissolved gas concentration of the first solvent within the dissolved gas concentration control range shown in the table is
i) If the detected dissolved gas concentration of the first solvent is within the dissolved gas concentration control range shown in the table, continue to irradiate ultrasonic waves.
ii) When the detected dissolved gas concentration of the first solvent is lower than the lower limit of the dissolved gas concentration control range shown in the table, a fine bubble is supplied and the dissolved gas concentration of the first solvent is determined in the table. Set the dissolved gas concentration control range as shown in
iii) When the detected dissolved gas concentration of the first solvent is higher than the upper limit of the dissolved gas concentration control range shown in the table, the dissolved gas concentration of the first solvent is determined by degassing in the table. Set to the dissolved gas concentration control range shown in.
本発明に係る金属ナノ粒子の製造装置は、
金属組成物の一次粒子と第一の溶媒とを収容するための第一の槽と、
前記第一の槽が収容され、第二の溶媒を前記第一の槽の周囲に収容するための第二の槽と、
前記第二の溶媒を介して前記第一の溶媒に超音波を伝搬させるための超音波振動子と、
前記第一の槽内の圧力を制御するための圧力制御部と、
前記第一の溶媒の溶存気体濃度を検知し、制御するための溶存気体濃度制御部と、
前記第一の溶媒にファインバブルを供給するためのファインバブル生成装置と、
を備える。
The apparatus for producing metal nanoparticles according to the present invention is
A first tank for accommodating the primary particles of the metal composition and the first solvent,
A second tank for accommodating the first tank and accommodating the second solvent around the first tank,
An ultrasonic transducer for propagating ultrasonic waves to the first solvent via the second solvent, and
A pressure control unit for controlling the pressure in the first tank,
A dissolved gas concentration control unit for detecting and controlling the dissolved gas concentration of the first solvent, and
A fine bubble generator for supplying fine bubbles to the first solvent, and
To prepare for.
以上のように、本発明に係る金属ナノ粒子の製造方法および製造装置によれば、10nm〜500nmの粒径の金属ナノ粒子を優れた生産効率で得ることが可能である。 As described above, according to the method and apparatus for producing metal nanoparticles according to the present invention, it is possible to obtain metal nanoparticles having a particle size of 10 nm to 500 nm with excellent production efficiency.
第1の態様に係る金属ナノ粒子の製造方法は、
金属組成物の一次粒子を第一の槽に収容された第一の溶媒中に供給する工程と、
前記一次粒子に超音波を照射して金属ナノ粒子を生成する工程と、
を含み、
前記一次粒子に超音波を照射して金属ナノ粒子を生成する工程は、
前記第一の槽の圧力を制御する工程と、
超音波を照射している間の前記第一の溶媒の溶存気体濃度を検知する工程と、
予め作成した溶存気体濃度と金属ナノ粒子の生成量との関係を示すテーブルを使用し、前記検知する工程によって検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲に制御する工程と、
を含み、
前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲に制御する工程は、
i)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲内である場合には、引き続き超音波を照射し、
ii)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲の下限値よりも低い場合には、ファインバブルを供給し前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲にし、
iii)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲の上限値よりも高い場合には、脱気することで前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲にする。
The method for producing metal nanoparticles according to the first aspect is
The step of supplying the primary particles of the metal composition into the first solvent contained in the first tank, and
The process of irradiating the primary particles with ultrasonic waves to generate metal nanoparticles, and
Including
The step of irradiating the primary particles with ultrasonic waves to generate metal nanoparticles is
The process of controlling the pressure in the first tank and
The step of detecting the dissolved gas concentration of the first solvent while irradiating with ultrasonic waves, and
Using a table showing the relationship between the dissolved gas concentration prepared in advance and the amount of metal nanoparticles produced, the dissolved gas concentration of the first solvent detected by the detection step is within the dissolved gas concentration control range shown in the table. The process to control and
Including
The step of controlling the dissolved gas concentration of the first solvent within the dissolved gas concentration control range shown in the table is
i) If the detected dissolved gas concentration of the first solvent is within the dissolved gas concentration control range shown in the table, continue to irradiate ultrasonic waves.
ii) When the detected dissolved gas concentration of the first solvent is lower than the lower limit of the dissolved gas concentration control range shown in the table, a fine bubble is supplied and the dissolved gas concentration of the first solvent is determined in the table. Set the dissolved gas concentration control range as shown in
iii) When the detected dissolved gas concentration of the first solvent is higher than the upper limit of the dissolved gas concentration control range shown in the table, the dissolved gas concentration of the first solvent is determined by degassing in the table. Set to the dissolved gas concentration control range shown in.
第2の態様に係る金属ナノ粒子の製造方法は、上記第1の態様において、供給する前記ファインバブルのサイズが10nmから100μmであってもよい。 In the method for producing metal nanoparticles according to the second aspect, the size of the fine bubbles supplied may be 10 nm to 100 μm in the first aspect.
第3の態様に係る金属ナノ粒子の製造方法は、上記第1の態様において、供給する前記ファインバブルのサイズが20nm〜1μmであってもよい。 In the method for producing metal nanoparticles according to the third aspect, the size of the fine bubbles supplied may be 20 nm to 1 μm in the first aspect.
第4の態様に係る金属ナノ粒子の製造装置は、金属組成物の一次粒子と第一の溶媒とを収容するための第一の槽と、
前記第一の槽が収容され、第二の溶媒を前記第一の槽の周囲に収容するための第二の槽と、
前記第二の溶媒を介して前記第一の溶媒に超音波を伝搬させるための超音波振動子と、
前記第一の槽内の圧力を制御するための圧力制御部と、
前記第一の溶媒の溶存気体濃度を検知し、制御するための溶存気体濃度制御部と、
前記第一の溶媒にファインバブルを供給するためのファインバブル供給部と、
を備える。
The apparatus for producing metal nanoparticles according to the fourth aspect includes a first tank for accommodating the primary particles of the metal composition and the first solvent.
A second tank for accommodating the first tank and accommodating the second solvent around the first tank,
An ultrasonic transducer for propagating ultrasonic waves to the first solvent via the second solvent, and
A pressure control unit for controlling the pressure in the first tank,
A dissolved gas concentration control unit for detecting and controlling the dissolved gas concentration of the first solvent, and
A fine bubble supply unit for supplying fine bubbles to the first solvent, and
To prepare for.
以下、実施の形態に係る金属ナノ粒子の製造方法及び製造装置について、図面を参照しながら説明するが、本発明はこれら実施の形態に限定されない。また、図面において実質的に同一の部材については同一の符号を付している。 Hereinafter, the method and apparatus for producing metal nanoparticles according to the embodiment will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these embodiments. Further, in the drawings, substantially the same members are designated by the same reference numerals.
(実施の形態1)
<金属ナノ粒子の製造装置>
図1は、実施の形態1に係る金属ナノ粒子の製造装置の構成を示す概略図である。
金属ナノ粒子の製造装置100は、第一の槽101と、第二の槽103と、超音波振動子105と、圧力制御部106と、溶存気体濃度制御部107と、ファインバブル供給部108と、を備える。第一の槽101において、金属組成物の一次粒子110と第一の溶媒102を収容する。第二の槽103において、第一の槽101が収容され、第二の溶媒104を第一の槽101の周囲にて収容する。超音波振動子105によって第二の溶媒104を介して第一の溶媒102に超音波を伝搬させる。圧力制御部106によって、第一の槽101内の圧力を制御する。溶存気体濃度制御部107によって第一の溶媒102の溶存気体濃度を検知し、制御する。ファインバブル供給部108によって第一の溶媒102のファインバブル化した気体を供給する。
(Embodiment 1)
<Metal nanoparticles manufacturing equipment>
FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of a metal nanoparticles manufacturing apparatus according to the first embodiment.
The metal
この金属ナノ粒子の製造装置100において、超音波振動子から印加された超音波が第二の槽内の第二の溶媒から第一の槽に伝搬し、第一の溶媒中で発生する超音波キャビテーションとして第一の溶媒中の一次粒子に作用することで金属ナノ粒子を生成することができる。
この金属ナノ粒子の製造装置によれば、超音波振動子は、第二の槽内の第二の溶媒に超音波振動を与えるように設置される。超音波振動は第二の溶媒を通して、第一の槽から第一の溶媒に伝搬し、第一の溶媒中で超音波キャビテーションを発生させる。
第一の溶媒中の溶存気体濃度は溶存気体制御装置によって一定の濃度範囲に制御される。適切な濃度範囲は予め作成した金属ナノ粒子生成量と溶存気体濃度の関係から導出され、溶存気体濃度が減少した場合には、予めファインバブル化した微小気泡を第一の溶媒中に供給することで、高圧環境下の超音波処理チャンバ内においても超音波キャビテーションの数を減少させることなく、直径10nm〜500nmの金属ナノ粒子を優れた生産効率で得ることができる。
In the metal
According to this metal nanoparticle manufacturing apparatus, the ultrasonic transducer is installed so as to apply ultrasonic vibration to the second solvent in the second tank. The ultrasonic vibration propagates from the first tank to the first solvent through the second solvent, causing ultrasonic cavitation in the first solvent.
The concentration of the dissolved gas in the first solvent is controlled within a certain concentration range by the dissolved gas controller. The appropriate concentration range is derived from the relationship between the amount of metal nanoparticles produced in advance and the concentration of dissolved gas, and when the concentration of dissolved gas decreases, fine-bubbled microbubbles are supplied into the first solvent. Therefore, metal nanoparticles having a diameter of 10 nm to 500 nm can be obtained with excellent production efficiency without reducing the number of ultrasonic cavitations even in an ultrasonic treatment chamber under a high pressure environment.
<金属ナノ粒子の製造方法>
図2は、実施の形態1に係る金属ナノ粒子の製造方法を示すフローチャートである。図2を用いて、製造方法を説明する。
本実施の形態1に係る金属ナノ粒子の製造方法は、以下の各工程を含む。
(1)超音波キャビテーションにより製造する金属ナノ粒子111の生成量と溶存気体濃度との関係を示すテーブルを作成し、溶存気体濃度の制御範囲の下限値と上限値を決定する。
(2)第一の槽101に第一の溶媒102と原料となる金属組成物の一次粒子110を供給する。
(3)第二の槽103に第一の槽101を収容し、第二の溶媒104を供給する。
(4)超音波キャビテーションを一次粒子110の表面に作用させる。
(5)以上の結果、一次粒子110から金属ナノ粒子111が生成される。
<Manufacturing method of metal nanoparticles>
FIG. 2 is a flowchart showing a method for producing metal nanoparticles according to the first embodiment. The manufacturing method will be described with reference to FIG.
The method for producing metal nanoparticles according to the first embodiment includes the following steps.
(1) Create a table showing the relationship between the amount of
(2) The first solvent 102 and the
(3) The
(4) Ultrasonic cavitation is applied to the surface of the
(5) As a result of the above,
この際、つまり、上述の(3)、(4)のフロー中に、溶存気体濃度制御部107により第一の溶媒102中の溶存気体濃度を検知し、常に上述の(1)で決定した溶存気体濃度の下限値と上限値との範囲内に溶存気体濃度を制御する。溶存気体濃度が制御範囲の上限を超える場合には、溶存気体濃度制御部107の脱気機能によって溶存気体濃度を低下させる。また、溶存気体濃度が下限を超える場合には、ファインバブル112を供給することで、溶存気体濃度を上昇させる。このように第一の溶媒102中の溶存気体濃度を常に一定の濃度範囲に制御することで、超音波キャビテーションが過不足なく、強度が最大化され、優れた生産効率を実現することができる。さらに好ましい条件下では常に一定の生産効率を実現できる場合がある。
以下、より詳細に説明する。
At this time, that is, during the flow of the above-mentioned (3) and (4), the dissolved gas
Hereinafter, a more detailed description will be given.
<金属ナノ粒子の製造方法の詳細>
(1)第一の槽に第一の溶媒と原料となる金属組成物の一次粒子を供給する。
まず、金属ナノ粒子111の原料となる金属組成物の一次粒子110を準備する。一次粒子110は、Sn、Ag、Cu、Sb、Bi、In、Auから選ばれた少なくとも1種類の元素を含む金属であればよく、さらにそれら金属からなる金属酸化物でもよい。また、金属ナノ粒子111を効率よく発生させるためには、一次粒子110は10μm〜1000μm程度の寸法が最も好ましい。10μm未満の粒子径では、超音波キャビテーションの衝撃波によって弾かれてしまい、金属ナノ粒子111の生成効率が低くなる。また、1000μmを超える粒子径では一次粒子110の体積当たりの表面積が小さくなり、超音波キャビテーションによって作用される確率が低くなり、結果として生成効率が低くなる。
<Details of manufacturing method of metal nanoparticles>
(1) The first solvent and the primary particles of the metal composition as a raw material are supplied to the first tank.
First, the
第一の溶媒102としては、後述する超音波振動子105から発生する超音波の媒体として機能し、効率よくキャビテーションを発生させることができる方が望ましい。例えば、水や有機溶剤(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール)などが挙げられる。また酸性やアルカリ性の溶媒を用いることで、化学的作用により金属ナノ粒子111に機能を付与することも可能である。
It is desirable that the first solvent 102 functions as a medium for ultrasonic waves generated from the
第一の槽101は、超音波振動子105からの超音波振動を第二の溶媒104から第一の溶媒102へ効率的に伝搬しうるように、厚さおよび材質が選択される。第一の槽101の材質は、ガラス、石英、セラミクス、金属(SUS、チタン、銅)、樹脂(PP、PET、テフロン(登録商標)系樹脂)などが挙げられる。第一の槽101の厚さは、例えば1.0mm以下、代表的には0.3mm以上、0.7mm以下である。
第一の槽101は、第一の溶媒102と一次粒子110とを収容した後、圧力制御のために密閉される。
第一の槽101には、圧力制御部106、溶存気体濃度制御部107、ファインバブル供給部108につながる経路が設けられている。
The thickness and material of the
The
The
(2)第二の槽に第一の槽を収容し、第二の溶媒を供給する。
次に、第二の槽103に第一の槽101を収容し、第二の溶媒104を供給する。第二の溶媒104は、超音波振動を第一の溶媒102に高効率で伝搬することが望ましい。例えば水や有機溶剤(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール)などが挙げられる。
また、第一の溶媒102に超音波振動を高効率で伝搬するために、第二の溶媒104の溶存気体濃度が低いことが望ましく、脱気処理を行うことが望ましい。
また、第一の溶媒102に超音波振動を高効率で伝搬し、超音波振動による発熱によって振動子の特性を劣化させないために、第二の溶媒104の温度は低い方が望ましく、20℃以下が望ましい。より望ましくは10℃以下である。
(2) The first tank is housed in the second tank, and the second solvent is supplied.
Next, the
Further, in order to propagate the ultrasonic vibration to the first solvent 102 with high efficiency, it is desirable that the concentration of the dissolved gas in the second solvent 104 is low, and it is desirable to perform the degassing treatment.
Further, in order to propagate the ultrasonic vibration to the first solvent 102 with high efficiency and not to deteriorate the characteristics of the vibrator due to the heat generated by the ultrasonic vibration, it is desirable that the temperature of the second solvent 104 is low, and the temperature is 20 ° C. or lower. Is desirable. More preferably, it is 10 ° C. or lower.
超音波振動子105は、一般的に超音波発振器からの高周波電力を受けて振動し、かかる振動により超音波を発生する部材を言う。本実施の形態において、超音波振動子105には、第2の液状媒体中で適切な周波数の超音波を発生させ得る限り、任意のものを使用でき、フランジ型や投込み型等を含み得る市販の超音波振動子105を利用してよい。例えば、図1ではフランジ型としている。
第二の槽103の材質、厚みは超音波振動が第一の溶媒102に効率よく伝搬することを考慮する必要があるが、著しい減衰や反射が無い場合は特に限定されず、任意の適切な厚さおよび材質等で構成されうる。
なお、図1に記載はないが、第二の溶媒104の溶存気体濃度を下げる脱気装置や第二の溶媒104の温度を制御する温度制御循環装置が第二の槽103に付与されている方が望ましい。
The
It is necessary to consider that the ultrasonic vibration efficiently propagates to the first solvent 102 in the material and thickness of the
Although not shown in FIG. 1, a degassing device for lowering the dissolved gas concentration of the second solvent 104 and a temperature control circulation device for controlling the temperature of the second solvent 104 are provided in the
(3)超音波キャビテーションを一次粒子表面に作用させる。
次に、超音波振動子105を動作させ、超音波キャビテーションを一次粒子110の表面に作用させる。
超音波振動子105の振動により発生した縦波は、上述した各媒体の内部を伝搬し第一の溶媒102の内部にその部分と密の部分を短時間で交互に発生させる。疎の部分では圧力が低下し、圧力が飽和水蒸気圧より低くなると、第一の溶媒102の液中に微小な気泡が発生する。密な部分では、第一の溶媒102の圧力が高くなるため、気泡が収縮し、再び疎の周囲の溶存気体が気泡内に流れ込み気泡が膨張する。このように気泡が膨張と収縮とを繰り返した後の収縮時に気泡は内圧に耐えきれなくなり崩壊する。このような超音波による気泡の生成と崩壊とが超音波キャビテーションであり、超音波キャビテーションによる衝撃波、より詳細には気泡が崩壊する瞬間の衝撃波が、一次粒子110の表面に作用して、金属ナノ粒子111を生成させる。
(3) Ultrasonic cavitation is applied to the surface of the primary particle.
Next, the
The longitudinal wave generated by the vibration of the
超音波振動子105の周波数は、低周波の方が超音波キャビテーションの衝撃波が大きくなるため、金属ナノ粒子111を効率よく発生させることができる。このため、周波数としては、15kHz〜100kHzが好ましく、20kHz〜30kHzが最も好ましい。100kHzを超える高周波では、衝撃波が小さくなり金属ナノ粒子111の発生が乏しくなる。
As for the frequency of the
金属ナノ粒子111に照射する超音波は高出力の方が振動波の振幅を大きくすることができ、気泡を成長させる作用が強くなり、気泡崩壊時の衝撃波が大きくなる。このため、超音波出力は300W〜1200Wが最も好ましく、200W〜2000Wが好ましい。200W未満の低出力では、衝撃波が小さくなり金属ナノ粒子111の発生が乏しくなる。また、1200Wを超える高出力については、超音波振動装置の価格が急激に高くなるため、金属ナノ粒子の製造装置における超音波出力の上限は1200Wが望ましい。
When the ultrasonic wave irradiating the
ここで、溶存気体濃度の制御範囲の下限値、上限値について説明する。
金属ナノ粒子111の生成量は、一次粒子110に作用する超音波キャビテーションの数と超音波キャビテーションの衝撃力とにより決定される。溶存気体濃度が高い第一の溶媒102に超音波を照射した場合、超音波キャビテーションで生成される微小な気泡の数が多くなる。しかし、微小な気泡の数が多すぎる場合には気泡同士が同一化し、サイズの大きな気泡となり、超音波の伝搬が阻害され、衝撃波の強度が低下してしまう。よって、溶存気体濃度が高すぎる場合には、金属ナノ粒子111の生成量が目標値よりも低下する。また、溶存気体濃度が低い第一の溶媒102に超音波を照射した場合、超音波キャビテーションで生成される微小な気泡の数が少なくなるため、溶存気体濃度が低すぎる場合には、金属ナノ粒子111の生成量が目標値よりも低下する。よって、金属ナノ粒子111の生成目標値に対して第一の溶媒102の溶存気体濃度の制御範囲を下限値と上限値とで制御することが金属ナノ粒子111を効率よく生成するために重要となる。
Here, the lower limit value and the upper limit value of the control range of the dissolved gas concentration will be described.
The amount of
図3は、第一の溶媒102の溶存気体濃度と金属ナノ粒子111の生成量との関係を示す図である。図3は、Sn−58mass%Biの金属ナノ粒子111を得た際の実験結果であり、目標の金属ナノ粒子111の生成量を500g/hとしている。通常、大気中で保管されている第一の溶媒102における溶存気体濃度は約5mg/Lであるが、この状態に超音波を照射した場合、目標の生成量に到達しない。そこで、溶存気体濃度制御部107の脱気機能により第一の溶媒102における溶存気体濃度を下げ、溶存気体濃度の制御範囲の上限値(L2)以下に制御することが必要となる。実験では溶存気体濃度を4.2mg/Lまで下げることで目標の金属ナノ粒子111の生成量に到達する。実験を継続すると、超音波の照射による超音波キャビテーションによって第一の溶媒102の溶存気体濃度が低下する。第一の溶媒102の溶存気体濃度が減少し、1.8mg/Lを超えると、目標の生成量に到達しない。そこで、ファインバブル112を第一の溶媒102に供給することで、溶存気体濃度を上昇させることで、目標とする金属ナノ粒子111の生成量に達する。このように目標とする金属ナノ粒子111の生成量を安定的に実現するには、第一の溶媒102の溶存気体濃度の下限値(L1)、上限値(L2)を決定し、
下限値(L1)<第一の溶媒102の溶存気体濃度<上限値(L2)
となるように制御することが重要である。
なお、上記溶存気体濃度の具体的な数値は事例であり、用いる溶媒、圧力、温度によって異なる。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the dissolved gas concentration of the first solvent 102 and the amount of
Lower limit value (L1) <Dissolved gas concentration of first solvent 102 <Upper limit value (L2)
It is important to control so that.
The specific numerical value of the dissolved gas concentration is an example and varies depending on the solvent, pressure and temperature used.
また、前述の通り、超音波キャビテーションの衝撃力は金属ナノ粒子111の生成量に相関がある。超音波キャビテーションの崩壊時の圧力は、周囲の圧力に相関があるので、第一の槽101の圧力が高くなると、超音波キャビテーションの気泡の崩壊時の衝撃力が高くなり、金属ナノ粒子111の生成量が上昇する。このため、第一の槽101の内部の圧力を圧力制御部106により高圧下にすることで、超音波キャビテーションの崩壊時の圧力すなわち衝撃力を大きくすることができる。圧力は0.1MPa〜100MPaが好ましく、0.1MPa〜1MPaが最も好ましい。高圧下の方がキャビテーションの崩壊時の衝撃力を大きくすることが可能であるが、高圧に耐えうる装置構成とする必要があり、金属ナノ粒子の製造装置における第一の槽101の圧力の上限は1MPaが望ましい。
Further, as described above, the impact force of ultrasonic cavitation has a correlation with the amount of
第一の槽101の圧力を高圧下とした場合に、超音波キャビテーションで発生する気泡は大気圧下より減少する。このため、超音波キャビテーション崩壊時の衝撃力が大きくなっても、キャビテーションの数が減少し、結果として金属ナノ粒子111の生成効率が向上しない。そのため、本実施の形態1に係る金属ナノ粒子の製造装置100では、溶存気体濃度制御部107およびファインバブル供給部108を設けている。すなわち、超音波振動子105を動作させ、金属ナノ粒子111を生成させている間の第一の溶媒102の溶存気体濃度を測定する。測定した溶存気体濃度が上限値を超える場合には、溶存気体濃度制御部107の脱気機能にて、溶存気体濃度を下げる。また、測定した溶存気体濃度が下限値を超える場合には、ファインバブル供給部108からファインバブル化した気体を供給する。これにより溶存気体濃度を上昇させることができる。予めファインバブル化した気体を供給することにより、高圧下で気泡の生成が困難な状況においても、超音波によるキャビテーションの崩壊の数を増加させることが可能となる。ファインバブル供給部108から供給されるバブルの寸法は10nm〜100μmが好ましく、数十nm〜1μmが最も好ましい。
なお、ファインバブル112の生成方法は特に限定せず、旋回液流式や加圧溶解式、微細孔式など、どの方式であっても同様の効果を得ることができる。
When the pressure of the
The method for generating the
なお、図1において超音波振動子105は一台であるが、金属ナノ粒子111の生成量を多くするために複数台設置しても構わない。また、図1において超音波振動子105は第二の槽103の下部に設置されているが、金属ナノ粒子111の生成量を多くするため、横方向に設置して超音波を照射しても構わない。
Although one
(4)金属ナノ粒子が形成される。
上述までの超音波キャビテーションによって得られる金属ナノ粒子111は、例えば直径10nmから10μm、好ましくは10nm〜1μmであり、10nm〜500nmが最も好ましい。なお、ここで、金属ナノ粒子111の粒径は個々の粒子の粒径をいうものであり、金属ナノ粒子111の粒径および特定の範囲の粒径を有する金属ナノ粒子111の体積割合は、金属ナノ粒子111の粒子径分布をレーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置あるいは動的光散乱粒子径分布測定装置で測定することにより求めることができる。
(4) Metal nanoparticles are formed.
The
<効果>
実施の形態1に係る金属ナノ粒子製造方法および金属ナノ粒子製造装置によれば、第一の溶媒中の溶存気体濃度は溶存気体制御装置によって一定の濃度範囲に制御される。適切な濃度範囲は予め作成した金属ナノ粒子生成量と溶存気体濃度の関係から導出され、溶存気体濃度が減少した場合には、予めファインバブル化した微小気泡を第一の溶媒中に供給することで、高圧環境下の超音波処理チャンバ内においても超音波キャビテーションの数を減少させることなく、10nm〜500nmの粒径を有する金属ナノ粒子を、優れた生産効率で得ることができる。さらに好ましい条件下では常に一定の生産効率を実現できる場合がある。
<Effect>
According to the metal nanoparticle production method and the metal nanoparticle production apparatus according to the first embodiment, the concentration of the dissolved gas in the first solvent is controlled within a certain concentration range by the dissolved gas control apparatus. The appropriate concentration range is derived from the relationship between the amount of metal nanoparticles produced in advance and the concentration of dissolved gas, and when the concentration of dissolved gas decreases, fine-bubbled microbubbles are supplied into the first solvent. Therefore, metal nanoparticles having a particle size of 10 nm to 500 nm can be obtained with excellent production efficiency without reducing the number of ultrasonic cavitations even in an ultrasonic treatment chamber under a high pressure environment. Further, under favorable conditions, it may always be possible to achieve a constant production efficiency.
(実施の形態2)
<金属ナノ粒子の製造装置>
図4は、実施の形態2に係る金属ナノ粒子の製造装置200の構成を示す概略図である。本実施の形態2においては、金属ナノ粒子を連続式で製造することができる。金属ナノ粒子の製造方法および製造装置に関し、特段説明のない限り、上述した実施の形態1と同様の説明が当てはまる。
この金属ナノ粒子製造装置200においては、原料となる金属組成物の一次粒子の供給部220および第一の溶媒の供給部221と、第一の槽201に収容されている第一の溶媒202の量の検出部と、生成された金属ナノ粒子211を第一の溶媒202とともに回収するためのポンプ222と、生成された金属ナノ粒子211を分級する分級部223と、生成された金属ナノ粒子211の粒度分布を測定する測定部224と、生成された金属ナノ粒子211を回収する回収部225と、金属ナノ粒子211とともに回収された溶媒を再利用するための循環部と、をさらに備える。
(Embodiment 2)
<Metal nanoparticles manufacturing equipment>
FIG. 4 is a schematic view showing the configuration of the metal
In the metal
<金属ナノ粒子の製造方法>
実施の形態2では、実施の形態1に係る金属ナノ粒子の製造方法を連続式に行うものである。すなわち、以下の各工程を行う。
(1)第一の槽201に、原料となる金属組成物の一次粒子210と、第一の溶媒202とを自動で供給する。
(2)所定の圧力、超音波出力で超音波キャビテーションを一次粒子210の表面に作用させる。
(3)生成された金属ナノ粒子211を第一の槽201から回収し、金属ナノ粒子211を所定の粒径となるように分級し、粒度分布測定を行い回収する。
(4)生成された金属ナノ粒子211とともに回収された溶媒を循環させ、再度第一の槽201に戻す。
この際、上述の(2)においては、実施の形態1と同様の説明が当てはまる。また上述の(2)〜(4)において、第一の槽201に収容された第一の溶媒202は、第一の溶媒202の検出部により常に検知され、第一の溶媒の量が不足した場合は、第一の溶媒の供給部221から供給される。また上述の(2)〜(4)において、第一の槽201に収容された一次粒子210から生成された金属ナノ粒子211は、粒度分布を測定する測定部224により減少量が算出され、必要量を一次粒子の供給部220から供給される。
<Manufacturing method of metal nanoparticles>
In the second embodiment, the method for producing the metal nanoparticles according to the first embodiment is continuously performed. That is, each of the following steps is performed.
(1) The
(2) Ultrasonic cavitation is applied to the surface of the
(3) The generated
(4) The recovered solvent is circulated together with the generated
At this time, in the above-mentioned (2), the same description as in the first embodiment applies. Further, in the above-mentioned (2) to (4), the first solvent 202 contained in the
<金属ナノ粒子の製造方法の詳細>
(1)第一の槽に、原料となる金属組成物の一次粒子と、第一の溶媒を自動で供給する。
まず、金属ナノ粒子211の原料となる金属組成物の一次粒子210を準備する。一次粒子210は、Sn、Ag、Cu、Sb、Bi、In、Auから選ばれた少なくとも1種類の元素を含む金属であればよく、さらにそれら金属からなる金属酸化物でもよい。また、金属ナノ粒子211を効率よく発生させるためには、一次粒子210は、10μm〜1000μm程度の粒子径が最も好ましい。10μm未満の粒子径では、超音波キャビテーションの衝撃波によって弾かれてしまい、金属ナノ粒子211の生成効率が低くなる。また、1000μmを超える粒子径では一次粒子210の体積当たりの表面積が小さくなり、超音波キャビテーションによって作用される確率が低くなり、結果として生成効率が低くなる。
<Details of manufacturing method of metal nanoparticles>
(1) The primary particles of the metal composition as a raw material and the first solvent are automatically supplied to the first tank.
First, the
第一の溶媒202としては、後述する超音波振動子205から発生する超音波の媒体として機能し、効率よくキャビテーションを発生させることができる方が望ましい。例えば、水や有機溶剤(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール)などが挙げられる。また酸性やアルカリ性の溶媒を用いることで、化学的作用により金属ナノ粒子211に機能を付与することも可能である。
一次粒子の供給部220は任意の方式でよく、特に限定するものではない。例えば、乾燥した状態の一次粒子210を供給するためのホッパー等で同様な効果が得られる。
第一の溶媒の供給部221は任意の方式でよく、特に限定するものではない。例えば、第一の溶媒202を保管したタンクから、任意の量を供給できるポンプで同様な効果が得られる。
It is desirable that the first solvent 202 functions as a medium for ultrasonic waves generated from the
The
The
(2)所定の圧力、超音波出力で超音波キャビテーションを一次粒子の表面に作用させる
次に、第一の槽201に供給された一次粒子210の表面に所定の条件で超音波キャビテーションを作用させるが、実施の形態1と同様であり、説明を省略する。
(2) Applying ultrasonic cavitation to the surface of the primary particles at a predetermined pressure and ultrasonic output Next, ultrasonic cavitation is applied to the surface of the
(3)生成された金属ナノ粒子を第一の槽から回収し、金属ナノ粒子を所定の粒径となるように分級し、粒度分布を測定し回収する。
生成された金属ナノ粒子211は、例えば直径10nmから10μm、好ましくは10nm〜1μmであり、20nm〜500nmが最も好ましい。生成された金属ナノ粒子211は第一の溶媒202の中で浮遊しているため、第一の槽201の第一の溶媒202の中に設置された配管からポンプ等により抽出することが可能である。
(3) The generated metal nanoparticles are collected from the first tank, the metal nanoparticles are classified so as to have a predetermined particle size, and the particle size distribution is measured and collected.
The generated
抽出された金属ナノ粒子211は、まず分級部223に搬送されて所定の粒径に分けられる。分級部223に必要な粒径のみが、次の粒度分布を測定する測定部224に搬送され、さらに金属ナノ粒子回収部225にて回収される。
The extracted
なお、分級部223の分級方式は、任意の方式でよく、特に限定するものではない。例えば、遠心力方式や磁力を用いる方式などによって同様の効果を得ることができる。
なお、金属ナノ粒子211の粒度分布を測定する測定部224は、特に方式を限定するものではなく、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定部あるいは動的光散乱粒子径分布測定部を用いることで同様の効果を得ることができる。
なお、金属ナノ粒子211の回収部225は、任意の方式でよく、特に限定するものではない。例えば回収容器として樹脂製のタンク等を用意することで、同様の効果を得ることができる。
The classification method of the
The measuring
The
(4)生成された金属ナノ粒子とともに回収された第一の溶媒を循環させ、再度第一の槽に戻す。
生成された金属ナノ粒子211とともに分級部223にて分けられた第一の溶媒202は、循環用の配管を通して、供給側の配管に到達し、再び第一の槽201に供給される。このとき、分級部223から供給配管までの間にろ過装置等により、分級機にて回収されなかった金属ナノ粒子211と第一の溶媒202とを分離することにより、第一の溶媒202のみを供給配管に到達させることが可能となる。なお、ろ過の方式は任意の方式でよく、限定するものでない。例えば多孔質のフィルターを介したろ過装置等により同様の効果を得ることができる。
(4) The recovered first solvent is circulated together with the generated metal nanoparticles and returned to the first tank again.
The first solvent 202 separated by the
<効果>
実施の形態2における金属ナノ粒子製造方法および金属ナノ粒子製造装置によれば、10nm〜500nmの粒径を有する金属ナノ粒子を、常に一定の優れた生産効率で連続して得ることができる。
<Effect>
According to the method for producing metal nanoparticles and the apparatus for producing metal nanoparticles according to the second embodiment, metal nanoparticles having a particle size of 10 nm to 500 nm can be continuously continuously obtained with a constant excellent production efficiency.
なお、本開示においては、前述した様々な実施の形態及び/又は実施例のうちの任意の実施の形態及び/又は実施例を適宜組み合わせることを含むものであり、それぞれの実施の形態及び/又は実施例が有する効果を奏することができる。 It should be noted that the present disclosure includes appropriately combining any of the various embodiments and / or embodiments described above, and the respective embodiments and / or embodiments. The effects of the examples can be achieved.
本発明に係る金属ナノ粒子製造方法および金属ナノ粒子製造装置によれば、10nm〜500nmの粒径を有する金属ナノ粒子を、常に一定の優れた生産効率で連続して得ることができる。得られた金属ナノ粒子は、電子回路基板に電子部品を実装(はんだ付け)するために用いられているソルダーペーストに含まれるはんだ粒子として利用可能であるが、これに限定されない。 According to the method for producing metal nanoparticles and the apparatus for producing metal nanoparticles according to the present invention, metal nanoparticles having a particle size of 10 nm to 500 nm can be continuously continuously obtained with a constant excellent production efficiency. The obtained metal nanoparticles can be used as solder particles contained in the solder paste used for mounting (soldering) electronic components on an electronic circuit board, but the particles are not limited thereto.
100 金属ナノ粒子の製造装置
101 第一の槽
102 第一の溶媒
103 第二の槽
104 第二の溶媒
105 超音波振動子
106 圧力制御部
107 溶存気体濃度制御部
108 ファインバブル供給部
110 一次粒子
111 金属ナノ粒子
112 ファインバブル
200 金属ナノ粒子の製造装置
201 第一の槽
202 第一の溶媒
205 超音波振動子
210 金属生成物の一次粒子
211 金属ナノ粒子
220 一次粒子の供給部
221 第一の溶媒の供給部
222 ポンプ
223 分級部
224 粒度分布を測定する測定部
225 回収部
100 Equipment for producing
Claims (4)
前記一次粒子に超音波を照射して金属ナノ粒子を生成する工程と、
を含み、
前記一次粒子に超音波を照射して金属ナノ粒子を生成する工程は、
前記第一の槽の圧力を制御する工程と、
超音波を照射している間の前記第一の溶媒の溶存気体濃度を検知する工程と、
予め作成した溶存気体濃度と金属ナノ粒子の生成量との関係を示すテーブルを使用し、前記検知する工程によって検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲に制御する工程と、
を含み、
前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲に制御する工程は、
i)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲内である場合には、引き続き超音波を照射し、
ii)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲の下限値よりも低い場合には、ファインバブルを供給し前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲にし、
iii)検知した前記第一の溶媒の溶存気体濃度が前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲の上限値よりも高い場合には、脱気することで前記第一の溶媒の溶存気体濃度を前記テーブルに示す溶存気体濃度制御範囲にする、
金属ナノ粒子の製造方法。 The step of supplying the primary particles of the metal composition into the first solvent contained in the first tank, and
The process of irradiating the primary particles with ultrasonic waves to generate metal nanoparticles, and
Including
The step of irradiating the primary particles with ultrasonic waves to generate metal nanoparticles is
The process of controlling the pressure in the first tank and
The step of detecting the dissolved gas concentration of the first solvent while irradiating with ultrasonic waves, and
Using a table showing the relationship between the dissolved gas concentration prepared in advance and the amount of metal nanoparticles produced, the dissolved gas concentration of the first solvent detected by the detection step is within the dissolved gas concentration control range shown in the table. The process to control and
Including
The step of controlling the dissolved gas concentration of the first solvent within the dissolved gas concentration control range shown in the table is
i) If the detected dissolved gas concentration of the first solvent is within the dissolved gas concentration control range shown in the table, continue to irradiate ultrasonic waves.
ii) When the detected dissolved gas concentration of the first solvent is lower than the lower limit of the dissolved gas concentration control range shown in the table, a fine bubble is supplied and the dissolved gas concentration of the first solvent is determined in the table. Set the dissolved gas concentration control range as shown in
iii) When the detected dissolved gas concentration of the first solvent is higher than the upper limit of the dissolved gas concentration control range shown in the table, the dissolved gas concentration of the first solvent is determined by degassing in the table. Set to the dissolved gas concentration control range shown in
Method for manufacturing metal nanoparticles.
前記第一の槽が収容され、第二の溶媒を前記第一の槽の周囲に収容するための第二の槽と、
前記第二の溶媒を介して前記第一の溶媒に超音波を伝搬させるための超音波振動子と、
前記第一の槽内の圧力を制御するための圧力制御部と、
前記第一の溶媒の溶存気体濃度を検知し、制御するための溶存気体濃度制御部と、
前記第一の溶媒にファインバブルを供給するためのファインバブル供給部と、
を備える、金属ナノ粒子の製造装置。 A first tank for accommodating the primary particles of the metal composition and the first solvent,
A second tank for accommodating the first tank and accommodating the second solvent around the first tank,
An ultrasonic transducer for propagating ultrasonic waves to the first solvent via the second solvent, and
A pressure control unit for controlling the pressure in the first tank,
A dissolved gas concentration control unit for detecting and controlling the dissolved gas concentration of the first solvent, and
A fine bubble supply unit for supplying fine bubbles to the first solvent, and
A device for producing metal nanoparticles.
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