JPH06500419A - 種々の検査パターンを有する並列検査による半導体メモリの検査回路装置 - Google Patents

種々の検査パターンを有する並列検査による半導体メモリの検査回路装置

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JPH06500419A JP3513847A JP51384791A JPH06500419A JP H06500419 A JPH06500419 A JP H06500419A JP 3513847 A JP3513847 A JP 3513847A JP 51384791 A JP51384791 A JP 51384791A JP H06500419 A JPH06500419 A JP H06500419A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 種々の検査パターンを有する並列検査による半導体メモリの検査回路装置本発明 は、請求の範囲1および8の前文による半導体メモリを検査するための種々の検 査パターンを育する並列検査により半導体メモリを検査するための回路装置に関 する。
この形式の回路装置は!EEE会誌・固体回路線、第24巻、第5号、1989 年10月(第1184〜1190頁)のアリモトはか(三菱電機)の論文「多目 的レジスタを有する60ns 3.3Vオンリー16メガビツトドラム」から公 知である。これは、ランダムなビットパターンが多目的レジスタ(MPR)およ びメモリセルのなかに書込まれ、誤りの生起の際にアドレス指定されたワード線 を代替ワード線(冗長)に切換えるため、これらのメモリセルの読出されたビッ トパターンがMPRのビットパターンと比較器回路で比較され、また比較器出力 端の信号が配線オア演算により一括される並列ラインモード検査(LMT)のた めの回路装置である。
本発明の課題は、最小の費用で誤りのある個別メモリセルまたはメモリセル−n −)ラベルの位置発見を可能にする回路装置を提供することにある。誤りのある メモリセル−n−)ラベルの位置発見は、誤りのあるメモリセル−n−トウベル へのメモリアクセスを誤りのないメモリセル−n−トウベル(冗長アドレス)へ 切換可能にするのに役立ち得る。
この課題は、本発明によれば、請求の範囲1および8の特徴部分の構成により解 決される。
本発明により達成可能な利点は特に、本発明により構成された回路装置の場合に は公知の回路装置の場合よりも良好な誤り位置発見が可能であること、その際に 個別誤りが多重誤りから区別可能であること、また本発明による比較器回路によ り比較器回路の入力端と接続されるデータ線上にCMOSレベルを必要とせず数 10ミリボルトしか必要としないことにある。
請求の範囲2ないし7は本発明による回路装置の好ましい実施態様に間するもの である。
以下、図面により本発明を一層詳細に説明する。
第1図は本発明による回路装置の原理的な機能の仕方を説明するための半導体メ モリのブロック回路図、 第2図は4つの比較器回路を有する装置の回路図、第3図はバリティドレイヤー の形態の4つの比較器回路を有する装置の回路図、第4図は第3図中に示されて いる差動増幅器の詳細な回路図、第5図は4つの配線オア論理による比較器出力 端の一括回路図、第6図は本発明による回路装置の配線オア導線の対を有する誤 りアドレスマトリックスの回路図、 第7図は誤りアドレス信号の同時反転の際に個別誤り認識を有する誤り形式認識 回路を含んでいる本発明による回路装置の回路図、第8図は配線オア導線の対を 有する冗長アドレスマトリックスと、その後に接続されており誤りアドレス信号 の同時反転の際に個別および多重誤り認識を有する誤り形式認識回路とを含んで いる本発明による回路装置の回路図である。
第1図に示されている半導体メモリのブロック回路図には、個別メモリセルSP Zから構成されたメモリセルjlJfi S P Z Fが簡略化して示されて おり、その際に共通のワード線WLを有する個別メモリセルSPZはメモリセル −n−)ラベルN5PZにグループ化されており、また誤りの場合にはワード線 WLの冗長なメモリセル−n−トウペルRNSPZにより代替可能である0個別 メモリセル領域Zのアドレス指定はワード線WLおよびビット線により行われ、 その際にそれぞれビット線のただ1つの選択はハイアラーキデータ構造の上位の データ線DL上で可能である。メモリセル領域5PZFと上位のデータ線DLと の間のデータフローはデータ線DLi’により、また上位のデータ線DLと多数 の比較器回路MCとの間のデータフローはデータ線DLiにより可能である。多 数の比較器回路は、それらの前に接続されているレジスタREGのように、既に 半導体メモリを検査するためのオン−チップ回路装置の構成部分である。レジス タREGは場合によっては多くのnビット幅のレジスタの代表であり、またレジ スタ入力端TBP′およびレジスタ出力端TBPを有し、その際にレジスタ出力 端は多数の比較器回路MCとも上位のデータ線DLとも接続されている。多数の レジスタは場合によっては設計上の理由から、または種々の検査パターンによる 検査のために必要であり得る。多数の比較器回路MCの後に接続されている本発 明によるアドレスマトリックスAMは配線オア導線PTBの形態で比較器出力端 Mikを一括しており、またアドレスマトリックスAMの後に接続されている本 発明による誤り形式認識回路FTEはアドレス出力PTF、個別誤り出力PTS Fおよび多重誤り出力PTMFを供給する。
半導体メモリを検査するため、レジスタ入力端TBP’を介して任意の検査パタ ーンがnビット幅のレジスタREGに書込まれる。特定の検査パターンがレジス タREGに位置するならば、この検査ビットパターンはレジスタ出力端TBPか らデータ線DLおよびDLi゛を介して共通のワード線WLを有する多数のメモ リセル−n−)ラベルにコピーされる。このことが行われると、メモリ誤りに基 づいて検査ビットパターンから区別され得る多数のメモリセル−n−トウペルの ビットパターンはデータ線DLi’、DL、DLiを介して多数の比較器回路に 供給され、そこでそれらはレジスタ出力端TBPに与えられている検査ビットパ ターンと比較される。ビットパターンが検査ビットパターンから区別されると、 確実に誤りが存在する。逆推論は許容されない、なぜならば、望ましくなく選ば れた検査パターンに基づいて、たとえば隣接するメモリセルの間の短絡のような 誤りが認識されないからである。いますべての比較器出力端Mi kが配線オア 導線により一括されているとすれば、比較的粗い誤り位置発見しかワード線WL により可能でないであろう、しかし、第1図中に示されているように、多くの配 線オア導線PTBを有するアドレスマトリックスAMが比較器出力端Mikの一 括のために使用されるならば、誤りのあるメモリセル−n−)ラベルN5PZま たは誤りのある個別メモリセルSPZが位置発見され得る。配線オア導線PTB の信号から誤り形式認識回路FTEの論理供電によりそれぞれ個別誤り信号およ び多重誤り信号が形成され、また相応の出力端FTSFおよびPTMFに供給さ れる。
第2図には半導体メモリを検査するための4つの比較器回路から成る装置が示さ れており、その際にデータ線対DLiO,ON・・・DLi3.3Nはレジスタ 出力端対TPBO,ON・・・TBP3.3Nと比較可能であり、また比較器は 比較器出力端MiO・・・M+3を有する0個別の比較器回路はその際に主とし て、冒頭に記載したアリモトはかの文献中の回路装置においても使用されるコン パレータCMPから成っている。コンパレータCMPは6つのnチャネルMO3 )ランジスタ14ないし19から成っており、その際にトランジスタ14および 17から成る直列回路、データ線DLi3、およびトランジスタ15および16 から成る直列回路、データ線DLi3の反転された信号を導くデータ線DLi3 Nはトランジスタ19のゲートと接続されている。トランジスタ16のゲートは レジスタ出力端TPB3と、またトランジスタ17のゲートはレジスタ出力端T P83Nと接続されている。トランジスタ14および15の両ゲートは制御線C OMPを介して駆動され、またトランジスタ19のゲートを基準電位に接続する トランジスタ18のゲートは別の制御線ATDTPを介して駆動される。トラン ジスタ19は基準電位とpチャネルMOSトランジスタ20を介して供給電圧■ と接続されている比較器出力端Mi3との間に位置している。トランジスタ20 のゲートは、インバータ■を介して制御線ATDTPと接続されている制御線A TDTPNと接続されている。
たとえばデータ線DLi3が高電位を、従ってまたデータ線DL i 3Nが低 電位を導くと、制御線COMPが高電位を導くならば、トランジスタ19のゲー トは、レジスタ出力端TP83Nが高電位を、従ってまたレジスタ出力端TPB 3が低電位を導くときにのみ、高電位を得る。相応のことが、データ線DLi3 が低電位を、またレジスタ出力端TPB3が高い電位を導く場合にも当てはまる 。
すなわちトランジスタ19のゲートは、レジスタからの検査ビットが続出された メモリセルのビットと合致しないときにのみ、高電位を得る。トランジスタ19 はその際に導通しており、また比較器出力端Mi3は誤りの場合に低電位を得る 。
比較器回路のリセットは、制御線ATDTPが高電位を得て、それによってトラ ンジスタ18が導通状態になり、それによってトランジスタ19のゲートが低電 位を得て、またそれによりトランジスタ19を遮断状態にすることにより行われ る。インバータ■を介して制御線ATDTPNは低電位を得て、それによってト ランジスタ20は導通状態になり、また比較器出力端Mi3は定義されて高電位 を得る。
第3図には半導体メモリを検査するための本発明による回路装置の4つの比較器 回路から成る装置が示されており、その際にデータ線対DLiO,ON・・・D Li3,3Nの信号はレジスタ出力端対TPBO,ON・・・TPB3.3Nの 信号と比較可能であり、また比較器回路は比較器出力端MiO・・・Mi3を有 する0個別の比較器回路はその際に4つのnチャネルMOSトランジスタ4ない し7および差動増幅器3から成るバリティドレイヤー回路PDにより形成される 。このノ<リティドレイヤー回路においてデータ線DLi3がトランジスタ4を 介して差動増幅器3の反転入力端1に、またトランジスタ5を介して非反転入力 端2に接続可能である。相応に、データ線DLi3の反転された信号を導くデー タ線DLi3Nもトランジスタ6を介して差動増幅器3の反転入力端1に、また トランジスタ7を介して非反転入力端2に接続可能である。そのためにトランジ スタ5および6のゲートはレジスタ出力端TPB3と、またトランジスタ4およ び7のゲートはレジスタ出力端TPB3の反転された信号を導くレジスタ出力端 TP83Nと接続されている。その出力端が比較器出力端Mi3である差動増幅 器3は、制御線ATDTPNと接続されているリセット入力端を有する。
データ線DLi3が高電位を、従ってまたデータ線DLi3Nが低電位を導くと 、誤りの場合に、すなわちレジスタ出力端TPB3が低電位を、またレジスタ出 力8ItiTP83Nが低電位を導くとき、高電位はトランジスタ4を介して差 動増幅器3の反転入力端」に、また低電位はトランジスタ7を介して非反転入力 端2に到達する。差動増幅器3は誤りの場合にデータ1iDLi3の信号を反転 (回転)し、またその出力端において低電位をとる。誤りが生じないならば、ト ランジスタ5および6は導通状態になり、差動増幅器は反転せず、また差動増幅 器3の出力端M+3は高い電位をとる。
第4図には、第3図中に示されている差動増幅器が一層詳細に示されてし)る。
差動増幅器は反転入力端1、非反転入力端2、リセット入力端R1出力端Mを存 し、また3つのnチャネルMOSトランジスタ8.9および13および3つのp チャスルMOSトランジスタ10.11および12から構成されており、その際 にそれぞれトランジスタ10、Llおよび12のドレイン端子は供給電圧■と接 続されている。トランジスタ8ないし11はブリッジ回路を形成しており、その 際にトランジスタ10.11は負荷要素としての役割をする。トランジスタ8. 9のソース端子はトランジスタ13のドレイン端子と接続されており、トランジ スタ13はそのソース端子で基準電位と接続されている。トランジスタ8のゲー トは非反転入力端2と、またトランジスタJのゲートは反転入力端1と接続され ている。トランジスタ8と負荷要素としての役割をするトランジスタ10との間 の接続節点はトランジスタ10および11のゲートと接続されており、またトラ ンジスタ9と負荷要素としての役割をするトランジスタ11との間の接続節点は 増幅器出力端Mとして導き出されている。リセット入力端Rはトランジスタ13 のゲートおよびトランジスタ12のゲートと接続されており、その際にトランジ スタ12はトランジスタ11に対して並列に接続されている。
入力端1が高電位を、また入力端2が低電位を与えられると、トランジスタ9は 導通状態に、またトランジスタ8は遮断状態になり、それによって出力端Mに低 電位が生ずる0反転入力端1が低電位を、また非反転入力端2が高電位を与えら れると、トランジスタ9は遮断状態に、またトランジスタ8は導通状態になり、 それによって出力端Mに高電位が生ずる。リセットを行うためには、リセット入 力端Rが高電位から低電位に切換えられ、それによりトランジスタ13が遮断し 、また出力端Mが低抵抗で供給電圧Vと接続され、また高電位におかれる。
第5図に示されている回路図は配線オア導線による比較器出力端MOO・・・M 2Sの一括であり、その際に一層良好な誤り位置発見のために4つの配線オア導 線が設けられており、また論理供電がアリモトほか文献の場合のように導線の簡 単な接続によってではなくpチャネルスイッチングトランジスタT00・・−T 33を介して行われる。比較器出力端MOO・・・MO3はたとえば四重対を形 成しており、またトランジスタT00・・・TO3のゲートと接続されており、 これらのトランジスタはそれらのソース端子で供給電圧■と、またそれらのドレ イン端子で配線オア導線と接続されており、その際に配線オア導線はアドレス出 力端PTFOと接続されている。アドレス出力端PTFOと接続されている配線 オア導線は、ゲートで制御線ATDTPと接続されているnチャネルスイッチン グトランジスタT1により基Yst位に接続可能であり、またインバータ11を 介してアドレス出力端PTFONと接続されている。相応の仕方で、各別の四重 対MlないしM3はアドレス出力端PTF1ないしPrF3への正確に配線オア 導線と接続されており、これらの配線オア導線はそれぞれトランジスタT2ない しT4により基準電位に接続可能であり、またこれらの配線オア導線はインバー タI2ないしT4を介してアドレス出力端PTF1ないしPrF3と接続されて いる。16の比較器出力端が4つの四重対に一括されているので、16/4=4 の配線オア導線、16の2チヤネルスイツチングトランジスタ、16/4=4の nチャネルスイッチングトランジスタおよび16/4=4のインバータが必要と される。誤りは四重対レベルに至るまで位1発見可能であり、また各四重対が固 有のアドレス出力端に対応付けられているので多重誤りも一義的に対応付けられ 得る。しかし、この回路装置の決定的な欠点は、比較的多くの比較器出力端にお いて非常に多数の配線オア導線が必要とされることである。たとえば256の比 較器出力端が四重対に一括されているならば、既に256/4=−64の配線オ ア導線が必要とされる。
制御信号NIAATDTPが高電位を保つと、トランジスタlないし4は導通状 態となり、また配線オア導線は基Yst位(低)に放電し得る。その後に検査の 際にたとえば比較器出力端MOO・・・MO3の四重対のなかで1つまたはそれ 以上の誤りが生ずると、四重対MOは誤りがあり、また出力端PTFOと接続さ れている配線オア導線はトランジスタTOO・・・TO3の少なくとも1つによ り供給電圧■と接続されており、それによって出力端PTFOは高電位を受け、 またこうして誤りのある四重対MOを指示する。
第6図には半導体メモリを検査するための本発明による回路装置の誤りアドレス マトリックスが示されており、その際に比較器出力端は配線オア導線PTBm、 PTBmNの対により、誤り位置発見が個別メモリセルレベルで可能であるよう に一括される。誤りのある個別メモリセルから冗長の個別メモリセルへの切換は 非常に費用がかかるので、誤りアドレスマトリックスの形態のアドレスマトリッ クスは一線に誤り解析のためにのみ有意義である。第6図中に示されているよう に、たとえば16の比較器出力端MOO・・・M2Sが4つの四重対MO・・・ M3にグループ化され(4ビツトのワード幅を有する検査ビットパターン)、た だし個別メモリセルレヘルに結び付けられているならば、最小1d(16)=4 の対の配線オア導線PTBO2PTBON・・・PrB6、PTB3Nが誤りア ドレスを一義的にめるためにゼ・要である。配線オア導線の対はnチャネルスイ ッチングトランジスタTIA、TIB・・・T4A、T4Bを介して基準電位と 接続可能であり、その際にこれらのスイッチングトランジスタのゲートは制御線 ATDTPと接続されている。配線オア導線PTBm、PYBmNの対のそれぞ れの導線、たとえば導線PTBmは1導線であり、また他方の導線は0導線であ る。比較器出力端、たとえばMOはいま+a (16)=4のPチャネルスイッ チングトランジスタ、たとえばTooo・・・TOO3を介して、一義的に対応 付けられている2進コード、たとえば0000によりO導線PTBmNとのみ結 び付けられており、その際に結び付けは、比較器出力端が4つのpチャネルスイ ッチングトランジスタのゲートと、供給電圧■がソース端子と、また配線オア導 線がドレイン端子と接続されていることにより行われる。別の比較器出力端Mo lはその場合にたとえば2進コード0001に対応付けられており、また、比較 器出力端MOOと異なり、いまはpチャネルスイッチングトランジスタT010 のソース端子は0導線とではなく1導線と接続されており、またトランジスタT 011・・・T013のみが、トランジスタT00・・・T003のように、0 導線と接続されている。相応の仕方で、すべての比較器出力端MOO・・・M2 Sがそれらに対応付けられている2進コードによりトランジスタを介して1導線 および/または0導線と結び付けられている。
16の比較器出力端を結び付けるための誤りアドレスマトリックスに対して1d (16)−4の対の配線オア導線、2・1d(16)−8のnチャネルスイッチ ングトランジスタTIA・・・T4Dおよび16・ld (16)=64のpチ ャネルスイッチングトランジスタT000・・・T333が必要である。
制御線ATDTP上に高電位が与えられていると、nチャネルスイッチングトラ ンジスタTIA・・・74Bは導通状態となり、また、場合によりては充電され ている配線オア導線が基is電位に放電し得るので、低電位が1導線上にも0導 線上にも生ずる。たとえば比較器出力端MOIが低電位を供給すると、検査ビッ トおよび読出されたと7)が合致せず、また誤りが存在する。pチャネルスイッ チングトランジスタTOIO・・・TO13のゲートにおける低電位によりこれ らが導通状態となり、それによって1導線PTBOおよび0導線PTBIN・・ ・PT83 Nが高電位にされ、このことは誤りアドレス0001に相当する。
ooooに等しくない各誤りアドレスは、少なくとも誤りのある個別メモリセル が存在することを意味する。誤りアドレスが0000に等しいならば、このこと は、誤りのある個別メモリセルが存在しないこと、または誤りアドレス0000 を有する個別メモリセルが誤りを有することを意味する。4ビツトにより16の 状態のみが一義的にマークされ得るし、また16の個別メモリセルが誤りを有し 得るので、たとえば別のビットが誤りのない場合に対して設けられていなければ ならない0個別誤り(16の個別メモリセルのただ1つの個別メモリセルが誤り を有する)が存在することが確かめられていると、誤りアドレスは一義的に誤り のある個別メモリセルのアドレスを指示する。多くの誤りのある個別メモリセル が生ずると、誤リアドレスは個別誤りアドレスのビットごとのオア演算で生じ、 また誤りアドレスはこの場合に常に0000に等しくない。
第7図には、誤リアドレス信号の同時の反転の際に個別誤り認識を有する誤り形 式認識回路を含んでいる本発明による回路装置の回路図が示されている。その際 にたとえば4つの対の配線オア導線PTBO,PTBON・・・PTB3、PT B3Nおよび4つの対の誤りアドレス出力端PTFO,PTFON・・・PrF 3、PTF3Nに対する入力端が設けられており、その酸に配線オア導線の1つ の対PTBm、PTBmNの1つの導線、たとえばPTBmは直接に1つの対の 誤りアドレス出力端PTFm、PTFmNの1つの出力端と接続されており、ま た誤りアドレス出力端の対の他方の出力端はインバータ、たとえばIAを介して 配線オア導線の対の導線、たとえばPTBmと接続されている。配線オア導線の 対PTB3、PT83Nはたとえば回路EXINにより結び付けられており、出 力側で誤りアドレス出力端の対PTF3、PTF3Nと接続されており、またナ ンド回路NANDに対する入力信号EX3を供給する0等しい仕方で配線オア導 線の対PTBO1PTBON・・・PTB2、PTB2Nが結び付けられており 、またナンド回路NANDに対する別の入力信号EXO・・・EX2を供給する 。ナンド回路NANDの出力端はインバータを介して個別誤り出力端PTSFと 接続されており、また直接に、個別誤り出力端の反転された信号を導く出力端P TSFNと接続されている。回路EXINは、2つのインバータIA、IBおよ び3つの2重ナンド要素N1・・・N3から構成されているEXOR回路である 。導線PT83Nの信号はそのためにたとえばインバータIAにより反転された 導線PTB3の信号とナンド要素N1により論理演算され、導線PTB3の信号 はナンド要素N2により論理演算され、また両ナンド要素N1およびN2の出力 端は、出力端EX3に導線PTB3、PTB3Nの信号のEXOR論理演算を供 給する別のナンド要素N3の入力端を形成している0回路EXINの利点は、イ ンバータIAが反転された誤り出力信号の形成のために利用可能であることであ る。
アドレス形成の際に個々の配線オア導線ではなく配線オア導線の対(0および1 導線)が利用されるので、たとえば誤りなし、個別誤りおよび多重誤りのような 追加的な情報が0および1導線からの論理的結び付きにより形成され得る0個別 誤りが生ずると、低電位に充電された配線オア導線の対PTBm、PTBmNが 誤りアドレスにより部分的に高電位と接続される。誤り形式認識回路の前に接続 されているアドレスマトリックスのなかで等しい出力端がpチャネルスイッチン グトランジスタを介して0導線もしくは1導線と個別誤りアドレスにより結び付 けられる。その結果、個別誤りの場合にはすべての0導線PTBmNの信号はそ れぞれ付属の1導線の信号と異なっていなければならない、従って、個別誤りを めるため、それぞれ0導線が付属の1導線とEXOR論理演真さ供電またEXO RXOR論理演算出力端O・・・EX3)はアンド回路により一括される。なぜ ならば、このことは配線オア導線のすべての対において同時に満たされていなけ ればならないからである。
第8図には、配線オア導線の対BTPmSBPTmNと、その後に接続されてお り、誤りアドレス信号の同時の反転の際に個別および多重誤り認識を育する誤り 形式認識回路とを有する冗長マトリックスを含んでいる本発明による回路装置の 回路図が示されている。冗長アドレスマトリックスは、誤り位置発見が個別メモ リセルレベルで行われずに、誤りのあるメモリセル−n−1−ラベルのみがめら れ、また次いで冗長な誤りのないメモリセル−n−トウベルに切換可能であるこ とにより、誤りアドレスマトリックスは異なっている。たとえば第8図中に示さ れているように、256の比較器出力端M00・・・M2B5が64の四重対M O・・・M63にグループ化されており(4ビツト幅を育する検査パターン)、 また四重対として結び付けられているならば、最小+a (256/4)=6対 の配線オア導線PTBO,PTBON・−PTB5、PTE5Nが誤りアドレス をめるために必要である。配線オア導線の対はnチャネルスイッチングトランジ スタTIA、TIB・・・T6A、76Bを介して基!st位と接続可能であり 、その際にこれらのスイッチングトランジスタのゲートは制御線ATDTPと接 続されている。
配線オア導線PTBm、PTBmNの1つの対のそれぞれの導線、たとえば導線 PTBmは1導線であり、また他方の導線はONX線である。比較器出力端の四 重対、たとえばMlはいま4・ld (256/4)=24のpチャ不ルスイッ チングトランジスタT 100−=T 105、Tl 10・Tl 15、Tl 2O・T125およびT130・・・T135を介して一義的に対応付けられて いる2進コード、対応付けられている000001により個別導線PTBOおよ び5つの0導線PTBIN・・・PT85Nと結び付けられており、その際に結 び付けは、それぞれ比較器出力端がそれぞれId(256/4)=6のPチャネ ルスイッチングトランジスタのゲートと、供給電圧■がドレイン端子と、また配 線オア導線がソース端子と接続されていることにより行われる。比較器出力端の 四重対の4つの比較器出力端はそれらの共通の四重対アドレスにより同時にOお よび1導線と結び付けられている。相応の仕方ですべての比較器出力端MOOな いしM2B5は一義的に対応付けられている2進コードによりトランジスタを介 して1導線および/または0導線と結び付けられている。比較器出力端の64の 四重対を結び付けるための冗長アドレスマトリックスに対してl d (256 /4) −6対の配線オア導線、2・Id(256/4)−12のnチャネルス イッチングトランジスタTIA・・・76Bおよび256・ld (256/4 )=1536のpチャ不ルスイッチングトランジスタTOOO・・・T8355 が必要である。
冗長アドレスマトリックスの後に接続されている誤り形式認識回路は入力側で6 対の配線オア導線と接続されており、また出力側に6対の冗長アドレス出力端P TFO,PTFON・・・PrF3、PTF5Nを設けられており、その際に冗 長アドレス出力端の1つの対PTFm、PTFmNのそれぞれの導線、たとえば PTBmは接続されており、また冗長アドレス出力端の対のそれぞれ他方の出力 端はインバータを介して配線オア導線の対の他方の導線、たとえばPTBmと接 続されている0個別誤り信号を形成するため、第7図の説明で既に説明したよう に、それぞれ配線オア導線の1つの対の両導線はEXORXOR演算おり、また EX○R演算の出力端は、出力側で個別誤り出力端PTSFと接続されているア ンド演算により一括されている。2つのインバータおよび3つのナンド要素から 成るEXINのEXOR−インバータ回路は、第7図の場合のように、アドレス 出力端を反転するためのインバータ機能も1つの対の配線オア導線のEXORX OR演算する。6対の配線オア導線はEXOR−インバータ回路EXINにより EXOR演算されている。EXOR演算出力端のアンド演算は2つの二重ナンド 要素NANDIおよびNAND2により行われ、それらの出力端は二重ノア要素 N0R1により演算されており、その際にノア要素は出力側で直接に個別誤り出 力端PTSFと、またインバータを介して反転された個別誤り出力端PTSFN と接続されている。たとえば個別誤り出力端のようなただ1つの追加的な出力端 が誤リアドレスooooooが存在するか誤りなしかの決定を許すので、最小1 d(256/4)+1−7の出力端が一義的な供述に対して必要である。
必要な個別誤り認識回路に追加して、第8図に示されている誤り形式認識回路は 、場合によっては検査自動化装置の負担軽減の役割をし得る多重誤り出力端PT MFを有する。配線オア導線の1つの対のそれぞれ両導線が低信号を導くならば 、誤りなしが存在しており、配線オア導線のすべての対のそれぞれ両導線が互い に異なる信号を導くならば、少なくとも2つの誤り、少なくとも多重誤りが存在 している。その結果、配線オア導線の1つの対の両導線はそれぞれアンド要素に より結び付けられるべきであり、またアンド要素の出力端はオア要素により多重 誤り出力端に一括されるべきである。第8図に示されている回路装置ではこのこ とは、配線オア導線の1つの対のそれぞれ両導線が二重ナンド要素により結び付 けられており、二重ナンド要素の出力端が2つの三重ナンド要素NAND3およ びNAND4により結び付けられており、三重ナンド要素の出力端が二重ノア要 素により結び付けられており、その際に二重ノア要素の出力端がインバータを介 して多重誤り出力端PTMFと、また直接に反転された多重誤り出力端PTMF Nと接続されていることにより達成される。
制御線ATDTPが高電位(リセット)を与えられると、nチャネルスイノチン グトランジスタTIA・・・76Bは導通状態となり、また配線オア導線の対は 、それらが基準電位と接続されるので、低電位を受ける。リセットが行われた後 に、制御線ATDTPは低電位を受け、また比較器出力端MOO・・・M2B5 に有効な比較器結果が与えられる。誤りが比較器出力端Mlの四重対に対応付け られているメモリセル四重対のなかに生ずると、6.12.18もしくは24の トランジスタ、たとえば24のトランジスタT100DT135が導通状態とな り、また配線オア導線の対の0および1導線を、メモリセル四重対に対応付けら れているそのつどの2進コードにより供給電圧■(高電位)と接続する。たとえ ば比較器出力端MIOおよびMllが低電位(誤り)を供給すると、両方の場合 に、共通の四重対アドレスM1により、等しいOおよびl導線が高電位におかれ 、また誤り形式認識回路がこのことを個別誤りとして認識する。なぜならば、た だ1つの個別のメモリセル四重対が誤りを有するからである。しかし、たとえば 相い異なる四重対MOおよびMlに属する比較器出力端MOOおよびMIOが低 信号を供給すると、たとえばトランジスタTOOOおよびT100が導通状態と なり、またO導線PTBONも1導線PTBOも高電位を受ける。導線PTBO およびPTBONのナンド論理供電は低電位を供給し、三重ナンド要素NAND 3は出力端に高電位を供給する。なぜならば、少なくとも1つの入力端が低電位 を有し、またノア要素N0R1が低電位を供給し、このことがインバータにより 多重誤り出力端において高い電位になるからである。導線PTBOおよびPTB ONの信号がもはや異なっていないので、個別誤り認識のEXOR論理演算は低 電位を供給し、NANDIの出力端は高電位を受け、またN0R1の出力端、従 ってまたPTSFは低電位を受ける(個別誤りなし)。
上述のことは、nチャネルスイッチングトランジスタの代わりにnチャネルスイ ッチングトランジスタを、またnチャネルスイッチングトランジスタの代わりに nチャネルスイッチングトランジスタを有し、またそれらの供給電圧の極性が相 応の仕方で適合されている回路装置に対しても当てはまる。
国際調査報告 1.、、、−^17.− 訂/DE 91100685

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.種々の検査パターンを有する並列検査により半導体メモリを検査するための 回路装置であって、 任意のn−トゥベルの検査ビットが少なくとも1つのnビット幅のレジスタ(R EG)に書込み可能であり、 それぞれレジスタ(REG)内に位置しているn−トゥベルの検査ビットが半導 体メモリのデータ線(DL、DLi′)を介して共通のワード線(WL)を有す る多数のメモリセル−n−トゥベル(NSPZ)に書込み可能であり、それぞれ レジスタ(REG)内に位置しているn−トゥベルの検査ビットが多数の比較器 回路(MC)に供給可能であり、共通のワード線(WL)を有するメモリセル− n−トゥベルのビットパターンが半導体メモリのデータ線(DLi′、DL、D Li)を介して読出し可能であり、またn−トゥベルの検査ビットと多数の比較 器回路(MC)で比較可能であり、 また多数の比較器回路(MC)の比較器出力端(Mik)が配線オア導線(PT B)により一括されている回路装置において、多数の比較器回路(MC)の比較 器出力端(Mik)が配線オア導線(PTBm、PTBmN)の対によりアドレ スマトリックス(AM)に一括されており、その際に配線オア導線のそれぞれ1 つの対は1つのアドレスビットに相当しており、 配線オア導線(PTBm、PTBmN)の対のそれぞれの導線(たとえばPTB m)がアドレス出力端(PTFm)と接続されており、配線オア導線の1つの対 のそれぞれ第1の導線が0導線(PTBmN)を、また第2の導線が1導線(P TBm)を形成しており、それぞれ0導線も1導線も第1の伝導形式(n)のス イッチングトランジスタ(TlA…T6B)により基準電位にある導線に接続可 能であり、また第2の伝導形式(p)のスイッチングトランジスタ(T000… T6335)を介して0導線および/または1導線が供給零圧(V)に接続可能 であり、またこれらのスイッチングトランジスタ(T000…T6335)のゲ ートが比較器出力端(M00…M633)と接続されていることを特徴とする半 導体メモリの検査回路装置。
  2. 2.アドレスマトリックス(AM)が、誤りのある個別メモリセル(SPZ)を 位置発見するために、誤りアドレスマトリックスとして構成されており、その際 に各比較器出力端(たとえばM01)に一義的に2進コード(たとえば0001 )が対応付けられており、また供給電圧(V)が第2の伝導形式のスイッチング トランジスタ(たとえばT010…T013)を介してそのつどの2進コード( たとえば0001)に相当する1導線(たとえばPTB0)および0導線(たと えばPTB1N…PTB3N)の組み合わせに接続可能であることを特徴とする 請求の範囲1記載の回路装置。
  3. 3.アドレスマトリックス(AM)が、誤りのあるメモリセル−n−トゥベル( NSPZ)を位置発見するために、冗長アドレスマトリックスとして構成されて おり、その際に各n−トゥベルの比較器出力端(たとえばM1)に一義的に2進 コード(たとえば000001)が対応付けられており、また供給電圧(V)が 第2の伝導形式のスイッチングトランジスタ(T100…T136)を介してそ のつどの2進コード(たとえば000001)に相当する1導線(たとえばPT B0)および0導線(たとえばPTB1N…PTB5N)の組み合わせに接続可 能であることを特徴とする請求の範囲1記載の回路装置。
  4. 4.配線オア導線(PTBm、PTBmN)の対が誤り形式認識回路(FTE) の入力端と接続されていることを特徴とする請求の範囲1記載の回路装置。
  5. 5.誤り形式認識回路(FTE)が個別誤りを認識するための回路部分を含んで おり、この回路部分が配線オア導線(PTBm、PTBmN)の対をそれぞれE XOR論理演算に供給し、またEXOR論理演算の出力端が、出力側で個別誤り 出力端(PTSF)と接続されているアンド論理演算により一括されていること を特徴とする請求の範囲4記載の回路装置。
  6. 6.誤り形式認識回路(FTE)のEXOR論理演算が3つの二重ナンド要素( N1、N2およびN3)および2つのインバータ(IAおよびIB)を有する回 路(EXIN)により実現されていることを特徴とする請求の範囲5記載の回路 装置。
  7. 7.誤り形式認識回路(FTE)が多重誤りを認識するための回路部分を含んで おり、この回路部分が配線オア導線(PTBm、PTBmN)の対をそれぞれE XOR論理演算に供給し、またEXOR論理演算の出力端が、出力側で多重誤り 出力端(PTMF)と接続されているオア論理演算により一括されていることを 特徴とする請求の範囲4記載の回路装置。
  8. 8.種々の検査バクーンを有する並列検査により半導体メモリを検査するための 回路装置であって、 任意のn−トゥペルの検査ビットが少なくとも1つのnビット幅のレジスタ(R EG)に書込み可能であり、 それぞれレジスタ(REG)内に位置しているn−トゥベルの検査ビットが半導 体メモリのデータ線(DL、DLi′)を介して共通のワード線(WL)を有す る多数のメモリセル−n−トゥベル(NSPZ)に書込み可能であり、それぞれ レジスタ(REG)内に位置しているn−トゥベルの検査ビットが多数の比較器 回路(MC)に供給可能であり、共通のワード線(WL)を有するメモリセル− n−トゥベルのビットパターンが半導体メモリのデータ線(DLi′、DL、D Li)を介して読出し可能であり、またn−トゥベルの検査ビットと多数の比較 器回路(MC)で比較可能であり、 また多数の比較器回路(MC)の比較器出力端(Mik)が配線オア導線(PT B)により一括されている回路装置において、少なくとも1つの比較器回路が4 つのスイッチングトランジスタ(4、5、6、7)および1つの差動増幅器(3 )を有するパリティドレイヤー回路(PD)として構成されており、 第1のスイッチングトランジスタ(4)のゲートがレジスタ出力端対(TPB3 、3N)の第1の出力端と接続されており、またデータ線対(DLi3、3N) の第1の導線が第1のスイッチングトランジスタ(4)により差動増幅器(3) の反転入力端(1)に接続可能であり、第2のスイッチングトランジスタ(5) のゲートがレジスタ出力端対(TPB3、3N)の第2の出力端と接続されてお り、またデータ線対(DLi3、3N)の第1の導線が第2のスイッチングトラ ンジスタ(4)により差動増幅器(3)の非反転入力端(2)に接続可能であり 、第3のスイッチングトランジスタ(6)のゲートがレジスタ出力端対(TPB 3、3N)の第2の出力端と接続されており、またデータ線対(DLi3、3N )の第2の導線が第3のスイッチングトランジスタ(4)により差動増幅器(3 )の反転入力端(2)に接続可能であり、第4のスイッチングトランジスタ(7 )のゲートがレジスタ出力端対(TPB3、3N)の第1の出力端と接続されて おり、またデータ線対(DLi3、3N)の第2の導線が第4のスイッチングト ランジスタ(7)により差動増幅器(3)の非反転入力端(2)に接続可能であ り、レジスタ出力端対においてそれぞれ第2の出力端が第1の出力端の反転され た信号を、またデータ線対においてそれぞれ第2の導線が第1の導線の反転され た信号を導き、 メモリセルの検査の際に、メモリセルの書込まれた検査ビットがメモリセルの読 出されたビットと合致するならば、データ線対(DLi3、3N)の第1の導線 がレジスタ出力端対(TPB3、3N)の第2の出力端(TPB3)と等しい論 理信号を導き、 また比較器出力端(Mi3)が差動増幅器(3)の出力端と接続されていること を特徴とする半導体メモリの検査回路装置。
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