JPH0648858Y2 - ウエハ収納容器 - Google Patents
ウエハ収納容器Info
- Publication number
- JPH0648858Y2 JPH0648858Y2 JP1985054634U JP5463485U JPH0648858Y2 JP H0648858 Y2 JPH0648858 Y2 JP H0648858Y2 JP 1985054634 U JP1985054634 U JP 1985054634U JP 5463485 U JP5463485 U JP 5463485U JP H0648858 Y2 JPH0648858 Y2 JP H0648858Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- stocker
- dummy
- storage container
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Packaging Frangible Articles (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、イオン注入装置、イオン蒸着薄膜形成装
置、イオンビームエッチング装置等のイオン加工装置に
用いられて、処理前後のウエハを収納しておくウエハ収
納容器に関する。
置、イオンビームエッチング装置等のイオン加工装置に
用いられて、処理前後のウエハを収納しておくウエハ収
納容器に関する。
ウエハを処理する際に、ウエハ収納容器としてのカセッ
ト及びストッカーの両方を用いるウエハハンドリング方
法が同一出願人によって別途提案されている。
ト及びストッカーの両方を用いるウエハハンドリング方
法が同一出願人によって別途提案されている。
それを第４図及び第５図を参照して簡単に説明する。こ
の例は大気中でウエハハンドリングを行うものであり、
大気中に、複数枚のウエハ２を収納可能な着脱式のカセ
ット６と、上段に複数枚のダミーウエハ2dとその下段に
複数枚のウエハ２を収納可能なストッカー８とが２組設
けられている。また、処理すべきウエハ２等が複数枚装
着される回転式のディスク４は、ウエハ２等の着脱の際
には図のように真空中から大気中に引き出される。そし
て、カセット６、ストッカー８からのウエハ２等の出し
入れ、搬送及びディスク４に対する着脱は、可逆転式の
搬送ベルト10、12等を用いて行われる。その際、カセッ
ト６及びストッカー８は、昇降機構16及び18によってそ
れぞれ段階的に昇降させられ、搬送ベルト12も昇降機構
20によって昇降させられる。
の例は大気中でウエハハンドリングを行うものであり、
大気中に、複数枚のウエハ２を収納可能な着脱式のカセ
ット６と、上段に複数枚のダミーウエハ2dとその下段に
複数枚のウエハ２を収納可能なストッカー８とが２組設
けられている。また、処理すべきウエハ２等が複数枚装
着される回転式のディスク４は、ウエハ２等の着脱の際
には図のように真空中から大気中に引き出される。そし
て、カセット６、ストッカー８からのウエハ２等の出し
入れ、搬送及びディスク４に対する着脱は、可逆転式の
搬送ベルト10、12等を用いて行われる。その際、カセッ
ト６及びストッカー８は、昇降機構16及び18によってそ
れぞれ段階的に昇降させられ、搬送ベルト12も昇降機構
20によって昇降させられる。
ウエハハンドリングの一例を説明すると、未処理のウエ
ハ２を収納したカセット６を装置に装着し、当該カセッ
ト６からウエハ２を取り出して、それをストッカー８内
に予め収納されているダミーウエハ2dの下段に全て移し
替えてカセット６を一旦空にする。次いでストッカー８
の最下段からウエハ２を搬出してディスク４に順次装着
し、その後ディスク４を高真空の処理室（図示省略）内
に入れて、ウエハ２に対してイオン注入等の処理を行
う。この時、ディスク４に供給するウエハ２が不足する
場合は、ダミーウエハ2dを供給する。そして処理後のウ
エハ２は、ストッカー８の空間を通過してカセット６内
の元の位置に回収され、またダミーウエハ2dを使用した
場合、当該ダミーウエハ2dはストッカー８内の元の位置
に回収される。
ハ２を収納したカセット６を装置に装着し、当該カセッ
ト６からウエハ２を取り出して、それをストッカー８内
に予め収納されているダミーウエハ2dの下段に全て移し
替えてカセット６を一旦空にする。次いでストッカー８
の最下段からウエハ２を搬出してディスク４に順次装着
し、その後ディスク４を高真空の処理室（図示省略）内
に入れて、ウエハ２に対してイオン注入等の処理を行
う。この時、ディスク４に供給するウエハ２が不足する
場合は、ダミーウエハ2dを供給する。そして処理後のウ
エハ２は、ストッカー８の空間を通過してカセット６内
の元の位置に回収され、またダミーウエハ2dを使用した
場合、当該ダミーウエハ2dはストッカー８内の元の位置
に回収される。
上記において用いられているストッカー８は、第６図及
び第７図に示すように、上下方向に延びる側板81a、81b
に、ウエハ２またはダミーウエハ2dの端部をそれぞれ乗
せるようにほぼ同レベルで対向して水平方向に延びる一
対の棚82a、82bを複数段（例えばウエハ２用として25
段、更にダミーウエハ2d用として９段）設けて成る。カ
セット６も、ウエハ２の出し入れが一方側のみである点
を除けば、ストッカー８とほぼ同様の構造をしている。
び第７図に示すように、上下方向に延びる側板81a、81b
に、ウエハ２またはダミーウエハ2dの端部をそれぞれ乗
せるようにほぼ同レベルで対向して水平方向に延びる一
対の棚82a、82bを複数段（例えばウエハ２用として25
段、更にダミーウエハ2d用として９段）設けて成る。カ
セット６も、ウエハ２の出し入れが一方側のみである点
を除けば、ストッカー８とほぼ同様の構造をしている。
上述のようにカセット６、ストッーカー８は、ウエハハ
ンドリングに際して、昇降機構16、18によって昇降・停
止を何度も繰り返される。その際の振動は通常僅かでは
あるけれども、それが長時間続くとウエハ、即ちウエハ
２やダミーウエハ2dがカセット６やストッカー８内で徐
々に水平方向に移動し（第６図の２点鎖線で示したウエ
ハ２（またはダミーウエハ2d）参照）、ついにはそれら
から脱落する恐れがある。特に、ストッカー８内のダミ
ーウエハ2dは、ハンドリング条件によっては非常に長時
間（場合によっては全く）使用されずにストッカー８内
に収納されたままになるので、脱落の恐れは大きい。
ンドリングに際して、昇降機構16、18によって昇降・停
止を何度も繰り返される。その際の振動は通常僅かでは
あるけれども、それが長時間続くとウエハ、即ちウエハ
２やダミーウエハ2dがカセット６やストッカー８内で徐
々に水平方向に移動し（第６図の２点鎖線で示したウエ
ハ２（またはダミーウエハ2d）参照）、ついにはそれら
から脱落する恐れがある。特に、ストッカー８内のダミ
ーウエハ2dは、ハンドリング条件によっては非常に長時
間（場合によっては全く）使用されずにストッカー８内
に収納されたままになるので、脱落の恐れは大きい。
従ってこの考案は、振動によるウエハの脱落を防止でき
るようなウエハ収納容器を提供することを主たる目的と
する。
るようなウエハ収納容器を提供することを主たる目的と
する。
この考案のウエハ収納容器は、上述した一対の棚の１段
以上に、ウエハの端部を納める窪みであってウエハの搬
出入方向に長い長円形状をしたものをそれぞれ設け、か
つこの窪みの底面を内下がりに傾斜させていることを特
徴とする。
以上に、ウエハの端部を納める窪みであってウエハの搬
出入方向に長い長円形状をしたものをそれぞれ設け、か
つこの窪みの底面を内下がりに傾斜させていることを特
徴とする。
棚に設けられた窪みにウエハの端部がそれぞれ納まるの
で、振動による当該ウエハの脱落は防止される。
で、振動による当該ウエハの脱落は防止される。
上述したようにウエハ収納容器としてのカセットとスト
ッカーとはほぼ同様の構造をしているため、以下におい
てもストッカーを例に実施例を説明する。第１図はこの
考案の一実施例に係るストッカーにウエハを収納した状
態を示す平面図であり、第２図は第１図の線II−IIに沿
う部分断面図であり、第３図（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞ
れ、第１図のストッカーを部分的に示す正面図、平面図
及び左側面図である。第６図及び第７図と同等部分には
同一符号を付してその説明を省略する。
ッカーとはほぼ同様の構造をしているため、以下におい
てもストッカーを例に実施例を説明する。第１図はこの
考案の一実施例に係るストッカーにウエハを収納した状
態を示す平面図であり、第２図は第１図の線II−IIに沿
う部分断面図であり、第３図（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞ
れ、第１図のストッカーを部分的に示す正面図、平面図
及び左側面図である。第６図及び第７図と同等部分には
同一符号を付してその説明を省略する。
このストッカー80においては、前述した棚82a、82bに、
ウエハ、例えばウエハ２またはダミーウエハ2dの端部を
それぞれ納める窪み83a、83bをそれぞれ設けている。窪
み83a、83bの端部の形状は、例えばウエハ２またはダミ
ーウエハ2dの端部の形状に対応した円弧状とする。その
大きさは、ウエハ２またはダミーウエハ2dの停止位置誤
差分を見込んでウエハ２またはダミーウエハ2dの端部の
寸法より大きめにしておくのが好ましい。即ち、窪み83
a、83bは、第１図および第３図に示すように、ウエハ２
またはダミーウエハ2dの搬出入方向に長い長円形状とし
て、ウエハ２またはダミーウエハ2dの搬送方向に対して
遊び（余裕）を持たせる。またその深さは、例えばウエ
ハ２またはダミーウエハ2dの厚み程度とする。また、窪
み83a、83bの底面は、第２図および第３図に示すよう
に、内下がりに傾斜させておくのが好ましい。
ウエハ、例えばウエハ２またはダミーウエハ2dの端部を
それぞれ納める窪み83a、83bをそれぞれ設けている。窪
み83a、83bの端部の形状は、例えばウエハ２またはダミ
ーウエハ2dの端部の形状に対応した円弧状とする。その
大きさは、ウエハ２またはダミーウエハ2dの停止位置誤
差分を見込んでウエハ２またはダミーウエハ2dの端部の
寸法より大きめにしておくのが好ましい。即ち、窪み83
a、83bは、第１図および第３図に示すように、ウエハ２
またはダミーウエハ2dの搬出入方向に長い長円形状とし
て、ウエハ２またはダミーウエハ2dの搬送方向に対して
遊び（余裕）を持たせる。またその深さは、例えばウエ
ハ２またはダミーウエハ2dの厚み程度とする。また、窪
み83a、83bの底面は、第２図および第３図に示すよう
に、内下がりに傾斜させておくのが好ましい。
上述のようなストッカー80においては、棚82a、82bに設
けられた窪み83a、83bにウエハ２またはダミーウエハ2d
の端部がそれぞれ納まるため、長時間の振動等でウエハ
２またはダミーウエハ2dが水平方向に移動したとして
も、その端面が窪み83a、83bの端部に当たりそれ以上移
動することはない（第１図の２点鎖線で示すウエハ２
（またはダミーウエハ2d）参照）。従ってウエハ２また
はダミーウエハ2dがストッカー80から脱落することはな
い。
けられた窪み83a、83bにウエハ２またはダミーウエハ2d
の端部がそれぞれ納まるため、長時間の振動等でウエハ
２またはダミーウエハ2dが水平方向に移動したとして
も、その端面が窪み83a、83bの端部に当たりそれ以上移
動することはない（第１図の２点鎖線で示すウエハ２
（またはダミーウエハ2d）参照）。従ってウエハ２また
はダミーウエハ2dがストッカー80から脱落することはな
い。
また、窪み83a、83bを上記のような長円形状にしたの
で、ウエハ２またはダミーウエハ2dの搬送の停止位置に
バラツキが生じてもその端部が支障無く窪み83a、83bに
納まり、従ってウエハ２またはダミーウエハ2dを確実に
収納することができる。換言すれば、窪み83a、83bを設
けても、ウエハ搬送手段に対して厳しい停止位置精度を
要求しなくて済むので、ウエハ搬送手段の制御が楽にな
る。
で、ウエハ２またはダミーウエハ2dの搬送の停止位置に
バラツキが生じてもその端部が支障無く窪み83a、83bに
納まり、従ってウエハ２またはダミーウエハ2dを確実に
収納することができる。換言すれば、窪み83a、83bを設
けても、ウエハ搬送手段に対して厳しい停止位置精度を
要求しなくて済むので、ウエハ搬送手段の制御が楽にな
る。
また、窪み83a、83bの底面を内下がりに傾斜させたの
で、ウエハ２またはダミーウエハ2dは接触点に近い形で
その上に乗るようになり、従って窪みの底面が水平であ
る場合に比べて接触面積が減るので、ウエハ２またはダ
ミーウエハ2dに対するゴミの付着が少なくなる。その結
果例えば、ゴミによるウエハ２の汚染が少なくなる他、
ウエハ２またはダミーウエハ2dに付着したゴミが次工程
に搬送されることも少なくなる。また真空チャックやア
ーム等でウエハ２をその表面（処理面）を下向きにして
収納するような場合は、その表面に対するゴミの付着が
少なくなる効果は一層大きくなる。
で、ウエハ２またはダミーウエハ2dは接触点に近い形で
その上に乗るようになり、従って窪みの底面が水平であ
る場合に比べて接触面積が減るので、ウエハ２またはダ
ミーウエハ2dに対するゴミの付着が少なくなる。その結
果例えば、ゴミによるウエハ２の汚染が少なくなる他、
ウエハ２またはダミーウエハ2dに付着したゴミが次工程
に搬送されることも少なくなる。また真空チャックやア
ーム等でウエハ２をその表面（処理面）を下向きにして
収納するような場合は、その表面に対するゴミの付着が
少なくなる効果は一層大きくなる。
尚、上述のような窪み83a、83bは、必ずしも全段の棚82
a、82bに設ける必要はなく、比較的長時間ウエハ２また
はダミーウエハ2dを収納しておく段にのみ設けても良
い。例えば、ダミーウエハ2dは前述のように長時間収納
されたままになることが多いので、ダミーウエハ2dを収
納する段にのみ設けても良い。
a、82bに設ける必要はなく、比較的長時間ウエハ２また
はダミーウエハ2dを収納しておく段にのみ設けても良
い。例えば、ダミーウエハ2dは前述のように長時間収納
されたままになることが多いので、ダミーウエハ2dを収
納する段にのみ設けても良い。
以上においてはストッカーを例にこの考案を説明した
が、前述したカセットにおいても上述のストッカーと同
様の構造にすれば、そこに収納しているウエハ２の脱落
を防止できることは勿論である。
が、前述したカセットにおいても上述のストッカーと同
様の構造にすれば、そこに収納しているウエハ２の脱落
を防止できることは勿論である。
また、この考案のウエハ収納容器は、上述のようなウエ
ハハンドリング方法にのみ用いられるものではない。
ハハンドリング方法にのみ用いられるものではない。
以上のようにこの考案によれば、棚に設けた窪みによっ
て、振動によるウエハの脱落を防止することができる。
しかも、窪みを長円形状にしたので、ウエハの搬送の停
止位置にバラツキが生じても、ウエハの端部が支障無く
窪みに納まり、従ってウエハを確実に収納することがで
きる。また、窪みの底面を内下がりに傾斜させたので、
ウエハは点接触に近い形でその上に乗るようになり、従
ってウエハに対するゴミの付着が少なくなる。
て、振動によるウエハの脱落を防止することができる。
しかも、窪みを長円形状にしたので、ウエハの搬送の停
止位置にバラツキが生じても、ウエハの端部が支障無く
窪みに納まり、従ってウエハを確実に収納することがで
きる。また、窪みの底面を内下がりに傾斜させたので、
ウエハは点接触に近い形でその上に乗るようになり、従
ってウエハに対するゴミの付着が少なくなる。
第１図は、この考案の一実施例に係るストッカーにウエ
ハを収納した状態を示す平面図である。第２図は、第１
図の線II−IIに沿う部分断面図である。第３図（Ａ）〜
（Ｃ）は、それぞれ、第１図のストッカーを部分的に示
す正面図、平面図及び左側面図である。第４図は、この
考案の背景を成すウエハハンドリング方法を説明するた
めのエンドステーションの概略平面図である。第５図
は、第４図の線Ｖ−Ｖに沿う概略断面図である。第６図
は、先行技術に係るストッカーにウエハを収納した状態
を示す平面図である。第７図は、第６図の線VII−VIIに
沿う部分断面図である。 ２……ウエハ、2d……ダミーウエハ、80……実施例に係
るストッカー、81a,81b……側板、82a,82b……棚、83a,
83b……窪み。
ハを収納した状態を示す平面図である。第２図は、第１
図の線II−IIに沿う部分断面図である。第３図（Ａ）〜
（Ｃ）は、それぞれ、第１図のストッカーを部分的に示
す正面図、平面図及び左側面図である。第４図は、この
考案の背景を成すウエハハンドリング方法を説明するた
めのエンドステーションの概略平面図である。第５図
は、第４図の線Ｖ−Ｖに沿う概略断面図である。第６図
は、先行技術に係るストッカーにウエハを収納した状態
を示す平面図である。第７図は、第６図の線VII−VIIに
沿う部分断面図である。 ２……ウエハ、2d……ダミーウエハ、80……実施例に係
るストッカー、81a,81b……側板、82a,82b……棚、83a,
83b……窪み。
Claims (1)
- 【請求項１】ウエハの端部をそれぞれ乗せるように対向
した一対の棚を複数段有するウエハ収納容器において、
当該一対の棚の１段以上に、ウエハの端部を納める窪み
であってウエハの搬出入方向に長い長円形状をしたもの
をそれぞれ設け、かつこの窪みの底面を内下がりに傾斜
させていることを特徴とするウエハ収納容器。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985054634U JPH0648858Y2 (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | ウエハ収納容器 |
| US06/819,253 US4759681A (en) | 1985-01-22 | 1986-01-16 | End station for an ion implantation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985054634U JPH0648858Y2 (ja) | 1985-04-11 | 1985-04-11 | ウエハ収納容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61171252U JPS61171252U (ja) | 1986-10-24 |
| JPH0648858Y2 true JPH0648858Y2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=30576567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985054634U Expired - Lifetime JPH0648858Y2 (ja) | 1985-01-22 | 1985-04-11 | ウエハ収納容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648858Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0751517Y2 (ja) * | 1988-04-12 | 1995-11-22 | ローム株式会社 | リードフレーム用マガジン |
| JP2013089845A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハカセット |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60226134A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-11 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置 |
-
1985
- 1985-04-11 JP JP1985054634U patent/JPH0648858Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61171252U (ja) | 1986-10-24 |
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