JPH0625448A - 紫外線遮蔽フィルムの製造方法 - Google Patents
紫外線遮蔽フィルムの製造方法Info
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- JPH0625448A JPH0625448A JP20529691A JP20529691A JPH0625448A JP H0625448 A JPH0625448 A JP H0625448A JP 20529691 A JP20529691 A JP 20529691A JP 20529691 A JP20529691 A JP 20529691A JP H0625448 A JPH0625448 A JP H0625448A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】基材フィルムとの密着性の良好な紫外線吸収剤
のプラズマ重合膜の形成により、紫外線遮蔽性、透明性
等の性能に優れた紫外線遮蔽フィルムを製造する。 【構成】紫外線吸収剤１０ａ，１０ｂをプラズマ重合さ
せ、プラスチック基板８表面に紫外線吸収剤１０ａ，１
０ｂのプラズマ重合膜を成膜する。
のプラズマ重合膜の形成により、紫外線遮蔽性、透明性
等の性能に優れた紫外線遮蔽フィルムを製造する。 【構成】紫外線吸収剤１０ａ，１０ｂをプラズマ重合さ
せ、プラスチック基板８表面に紫外線吸収剤１０ａ，１
０ｂのプラズマ重合膜を成膜する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、紫外線遮蔽フィルム
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この
発明は、基材フィルムとの密着性の良好な紫外線吸収剤
のプラズマ重合膜の形成による、紫外線遮蔽性、透明性
等の諸性能に優れた紫外線遮蔽フィルムの製造方法に関
するものである。
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この
発明は、基材フィルムとの密着性の良好な紫外線吸収剤
のプラズマ重合膜の形成による、紫外線遮蔽性、透明性
等の諸性能に優れた紫外線遮蔽フィルムの製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】太陽光線の中で、波長約１０〜400 ｎｍ
の領域に含まれる紫外線は、波長の長い可視光線や赤外
線よりもエネルギーが大きく、たとえばプラスチックや
有機化合物などの分子結合を励起したり、切断するのと
同等の強度のエネルギーを有している。特に、短波長の
紫外線のエネルギーは大きいことが知られてもいる。こ
のため、紫外線は、たとえば化粧鋼板、看板、カラー写
真、高分子材料等の各種の工業製品を変退色させ、しか
もその強度の低下を引き起こす原因となっている。
の領域に含まれる紫外線は、波長の長い可視光線や赤外
線よりもエネルギーが大きく、たとえばプラスチックや
有機化合物などの分子結合を励起したり、切断するのと
同等の強度のエネルギーを有している。特に、短波長の
紫外線のエネルギーは大きいことが知られてもいる。こ
のため、紫外線は、たとえば化粧鋼板、看板、カラー写
真、高分子材料等の各種の工業製品を変退色させ、しか
もその強度の低下を引き起こす原因となっている。
【０００３】このような紫外線をカットし、工業製品を
保護するために、従来より、プラスチック、ガラス等の
基板表面に紫外線吸収剤を配設した紫外線遮蔽フィルム
が用いられてきている。この紫外線遮蔽フィルムは、通
常、有機系紫外線吸収剤と基材樹脂とを混合してフィル
ム化する方法、有機系紫外線吸収剤を基材フィルム表面
に塗布する方法、有機系紫外線吸収剤を溶解した溶液中
に基材フィルムを浸漬してフィルム中に紫外線吸収剤を
吸収させる方法、あるいは、無機系紫外線吸収剤と基材
樹脂とを混合してフィルム化する方法、無機系紫外線吸
収剤を基材フィルム表面に塗布する方法などにより製造
されている。
保護するために、従来より、プラスチック、ガラス等の
基板表面に紫外線吸収剤を配設した紫外線遮蔽フィルム
が用いられてきている。この紫外線遮蔽フィルムは、通
常、有機系紫外線吸収剤と基材樹脂とを混合してフィル
ム化する方法、有機系紫外線吸収剤を基材フィルム表面
に塗布する方法、有機系紫外線吸収剤を溶解した溶液中
に基材フィルムを浸漬してフィルム中に紫外線吸収剤を
吸収させる方法、あるいは、無機系紫外線吸収剤と基材
樹脂とを混合してフィルム化する方法、無機系紫外線吸
収剤を基材フィルム表面に塗布する方法などにより製造
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の紫外線遮蔽フィルムの製造方法のうち、有機
系紫外線吸収剤を使用する方法については、紫外線遮蔽
効果を得るためには、紫外線吸収剤の添加量や塗布量を
増加させなければならず、また、経時変化により、フィ
ルム表面に紫外線吸収剤がブリードし、遮蔽効果が持続
しなかったり、透明性が低下するなどという問題があっ
た。
うな従来の紫外線遮蔽フィルムの製造方法のうち、有機
系紫外線吸収剤を使用する方法については、紫外線遮蔽
効果を得るためには、紫外線吸収剤の添加量や塗布量を
増加させなければならず、また、経時変化により、フィ
ルム表面に紫外線吸収剤がブリードし、遮蔽効果が持続
しなかったり、透明性が低下するなどという問題があっ
た。
【０００５】また、無機系紫外線吸収剤を用いる場合に
は、紫外線吸収剤それ自体の透明性が良好でないため、
製造した紫外線遮蔽フィルムの透明性も半減してしまう
という欠点がある。この発明は、以上の通りの事情に鑑
みてなされたものであり、従来の紫外線遮蔽フィルムの
製造方法の欠点を解消し、紫外線吸収剤のプラズマ重合
膜の形成による新しい紫外線遮蔽フィルムの製造方法を
提供することを目的としている。
は、紫外線吸収剤それ自体の透明性が良好でないため、
製造した紫外線遮蔽フィルムの透明性も半減してしまう
という欠点がある。この発明は、以上の通りの事情に鑑
みてなされたものであり、従来の紫外線遮蔽フィルムの
製造方法の欠点を解消し、紫外線吸収剤のプラズマ重合
膜の形成による新しい紫外線遮蔽フィルムの製造方法を
提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、紫外線吸収剤をプラズマ重合さ
せ、プラスチック基板表面に紫外線吸収剤のプラズマ重
合膜を成膜することを特徴とする紫外線遮蔽フィルムの
製造方法を提供する。紫外線吸収剤は、無機系と有機系
に分類される。無機系紫外線吸収剤としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、カーボンブラック等を例示することが
できる。一方、有機系紫外線吸収剤としては、フェニル
サリシレート、p-tert- ブチルフェニルサリシレート、
p-オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸系、2,
4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オク
トキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシベン
ゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- ドデシルオキシベンゾフ
ェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフ
ェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5- スルホベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン系、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メ
チルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
-5'-tert- ブチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-
(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-5'- ジ-tert-ブチル
フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-
tert- ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリ
アゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-tert-ブチルフ
ェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキ
シ-3',5'- ジ-tert-アミノフェニル) ベンゾトリアゾー
ル等のベンゾトリアゾール系、2-エチルヘキシル-2- シ
アノ3,3'- ジフェニルアクリレート、エチル-2- シアノ
-3,3' - ジフェニルアクリレート等のシアノアクリレー
ト系などを例示することができる。
を解決するものとして、紫外線吸収剤をプラズマ重合さ
せ、プラスチック基板表面に紫外線吸収剤のプラズマ重
合膜を成膜することを特徴とする紫外線遮蔽フィルムの
製造方法を提供する。紫外線吸収剤は、無機系と有機系
に分類される。無機系紫外線吸収剤としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、カーボンブラック等を例示することが
できる。一方、有機系紫外線吸収剤としては、フェニル
サリシレート、p-tert- ブチルフェニルサリシレート、
p-オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸系、2,
4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オク
トキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシベン
ゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- ドデシルオキシベンゾフ
ェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフ
ェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5- スルホベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン系、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メ
チルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
-5'-tert- ブチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-
(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-5'- ジ-tert-ブチル
フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-
tert- ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリ
アゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-tert-ブチルフ
ェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキ
シ-3',5'- ジ-tert-アミノフェニル) ベンゾトリアゾー
ル等のベンゾトリアゾール系、2-エチルヘキシル-2- シ
アノ3,3'- ジフェニルアクリレート、エチル-2- シアノ
-3,3' - ジフェニルアクリレート等のシアノアクリレー
ト系などを例示することができる。
【０００７】この発明においては、たとえば以上に例示
される紫外線吸収剤をプラスチック基板上にプラズマ重
合により成膜し、紫外線遮蔽フィルムを製造する。プラ
スチック基板としては、たとえばポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサル
フォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン等の透明なフィルムを用いる
ことができる。これらのプラスチック基板に有機系紫外
線吸収剤単独のプラズマ重合膜、または有機系紫外線吸
収剤と無機系紫外線吸収剤とを同時にプラズマ重合させ
た、あるいはこれらの重合膜を順次積層などした複合プ
ラズマ重合膜を形成させる。
される紫外線吸収剤をプラスチック基板上にプラズマ重
合により成膜し、紫外線遮蔽フィルムを製造する。プラ
スチック基板としては、たとえばポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサル
フォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン等の透明なフィルムを用いる
ことができる。これらのプラスチック基板に有機系紫外
線吸収剤単独のプラズマ重合膜、または有機系紫外線吸
収剤と無機系紫外線吸収剤とを同時にプラズマ重合させ
た、あるいはこれらの重合膜を順次積層などした複合プ
ラズマ重合膜を形成させる。
【０００８】また、この発明においては、有機バインダ
ー成分を使用してもよい。たとえばアクリル系、含弗素
系化合物等の透明膜形成物質をバインダーとし、これを
用いて同時にプラズマ重合してもよい。さらにまた、い
ずれの場合にも、密着性の向上のために成膜に先立っ
て、プラスチック基板表面にプラズマボンバード処理を
施してもよい。
ー成分を使用してもよい。たとえばアクリル系、含弗素
系化合物等の透明膜形成物質をバインダーとし、これを
用いて同時にプラズマ重合してもよい。さらにまた、い
ずれの場合にも、密着性の向上のために成膜に先立っ
て、プラスチック基板表面にプラズマボンバード処理を
施してもよい。
【０００９】プラズマ重合膜をプラスチック基板に形成
させる際には、たとえば図１に示したような真空容器
（１）内にたとえばコイル電極等（４）の誘導結合型電
極または容量結合型電極を設けた高周波励起式のイオン
プレーティング装置を用いることができる。プラズマ重
合に際しては、真空ポンプ（１２）により排気管（２）
を介して排気した減圧雰囲気下において、たとえばアル
ゴン、窒素等の非重合性の無機ガスをガス導入バルブ
（３）を介して真空容器（１）内に導入し、かつ電極
（４）に高周波電源（６）より高周波電圧を印加して放
電を発生させる。また、蒸発源（９ａ）（９ｂ）に充填
した有機系紫外線吸収剤（１０ａ）および無機系紫外線
吸収剤（１０ｂ）を抵抗加熱電源（１１）からの電圧印
加により、各々、加熱蒸発させ、プラズマ励起して、基
板支持台（７）に支持されたプラスチック基板（８）上
にその重合薄膜を成膜する。この場合、プラスチック基
板（８）への紫外線吸収剤（１０ａ）（１０ｂ）のプラ
ズマ重合は、１０-2〜１０-5torrのガス圧で行うことが
好ましい。ガス圧が１０-2torrより高いと、加速粒子
（イオンおよび電子）のエネルギーが小さくなり、加速
粒子の総数が多いにもかかわらず均一な膜が生成しな
い。一方、１０-5torrよりガス圧が低いと、加速粒子の
エネルギーは大きくなるものの、プラスチック基板
（８）に到達する加速粒子の総数が少なくなり、成膜速
度が低下する。
させる際には、たとえば図１に示したような真空容器
（１）内にたとえばコイル電極等（４）の誘導結合型電
極または容量結合型電極を設けた高周波励起式のイオン
プレーティング装置を用いることができる。プラズマ重
合に際しては、真空ポンプ（１２）により排気管（２）
を介して排気した減圧雰囲気下において、たとえばアル
ゴン、窒素等の非重合性の無機ガスをガス導入バルブ
（３）を介して真空容器（１）内に導入し、かつ電極
（４）に高周波電源（６）より高周波電圧を印加して放
電を発生させる。また、蒸発源（９ａ）（９ｂ）に充填
した有機系紫外線吸収剤（１０ａ）および無機系紫外線
吸収剤（１０ｂ）を抵抗加熱電源（１１）からの電圧印
加により、各々、加熱蒸発させ、プラズマ励起して、基
板支持台（７）に支持されたプラスチック基板（８）上
にその重合薄膜を成膜する。この場合、プラスチック基
板（８）への紫外線吸収剤（１０ａ）（１０ｂ）のプラ
ズマ重合は、１０-2〜１０-5torrのガス圧で行うことが
好ましい。ガス圧が１０-2torrより高いと、加速粒子
（イオンおよび電子）のエネルギーが小さくなり、加速
粒子の総数が多いにもかかわらず均一な膜が生成しな
い。一方、１０-5torrよりガス圧が低いと、加速粒子の
エネルギーは大きくなるものの、プラスチック基板
（８）に到達する加速粒子の総数が少なくなり、成膜速
度が低下する。
【００１０】高周波電源（６）としては、通常、数百Ｋ
Ｈｚ〜数十ＭＨｚの周波数のものを用いることができ、
13.56 ＭＨｚが好適なものとして例示される。また、高
周波電力としては、１０〜200 Ｗの範囲を例示すること
ができる。また、プラスチック基板（８）上へプラズマ
重合した紫外線吸収剤（１０ａ）（１０ｂ）の重合膜の
膜厚については特に制限はないが、通常、500 〜5000Å
の厚さにおいて、光線透過率が最高となるものを適宜に
選択することが好ましい。
Ｈｚ〜数十ＭＨｚの周波数のものを用いることができ、
13.56 ＭＨｚが好適なものとして例示される。また、高
周波電力としては、１０〜200 Ｗの範囲を例示すること
ができる。また、プラスチック基板（８）上へプラズマ
重合した紫外線吸収剤（１０ａ）（１０ｂ）の重合膜の
膜厚については特に制限はないが、通常、500 〜5000Å
の厚さにおいて、光線透過率が最高となるものを適宜に
選択することが好ましい。
【００１１】
【実施例】以下実施例を示し、この発明の紫外線遮蔽フ
ィルムの製造方法についてさらに詳しく説明する。 実施例１ 図１に例示したイオンプレーティング装置を用いて、ポ
リエチレンテレフタレエート（ＰＥＴ）フィルムに紫外
線吸収剤のプラズマ重合膜を以下に示した工程により成
膜した。 まず、ＰＥＴフィルムを真空容器（１）内の
基板支持台（７）にセット、次いで、排気管（２）に接
続した真空ポンプ（１２）で装置内を１×１０-6torr以
下に減圧した。この後に、ガス導入バルブ（３）を開放
してアルゴンガスを導入し、雰囲気圧を１×１０-4torr
に調整して放電させた。そして、ガス圧１×１０-3tor
r，高周波電力５０Ｗの条件で、抵抗加熱式の蒸発源
（９ａ）に充填した有機系紫外線吸収剤の2-(2'-ヒドロ
キシ-5'-tert- オクチルフェニル) ベンゾトリアゾール
のプラズマ重合膜をＰＥＴフィルム表面に１０秒間で成
膜させた。膜厚を繰り返し反射干渉計により測定したと
ころ、1200Åであった。
ィルムの製造方法についてさらに詳しく説明する。 実施例１ 図１に例示したイオンプレーティング装置を用いて、ポ
リエチレンテレフタレエート（ＰＥＴ）フィルムに紫外
線吸収剤のプラズマ重合膜を以下に示した工程により成
膜した。 まず、ＰＥＴフィルムを真空容器（１）内の
基板支持台（７）にセット、次いで、排気管（２）に接
続した真空ポンプ（１２）で装置内を１×１０-6torr以
下に減圧した。この後に、ガス導入バルブ（３）を開放
してアルゴンガスを導入し、雰囲気圧を１×１０-4torr
に調整して放電させた。そして、ガス圧１×１０-3tor
r，高周波電力５０Ｗの条件で、抵抗加熱式の蒸発源
（９ａ）に充填した有機系紫外線吸収剤の2-(2'-ヒドロ
キシ-5'-tert- オクチルフェニル) ベンゾトリアゾール
のプラズマ重合膜をＰＥＴフィルム表面に１０秒間で成
膜させた。膜厚を繰り返し反射干渉計により測定したと
ころ、1200Åであった。
【００１２】このようにして得られた紫外線遮蔽フィル
ムについて、その紫外線遮蔽効果を分光光度計を用いて
200 〜900 ｎｍの領域で連続的に光線透過率を測定し、
高分子材料の紫外線劣化波長の目安となる350 ，380 ｎ
ｍおよび可視光領域での透視性の目安となる550 ｎｍに
おける光線透過率を求めた。また、ヘーズメータによ
り、ヘーズ値（ＪＩＳ Ｋ−6714）を求めた。
ムについて、その紫外線遮蔽効果を分光光度計を用いて
200 〜900 ｎｍの領域で連続的に光線透過率を測定し、
高分子材料の紫外線劣化波長の目安となる350 ，380 ｎ
ｍおよび可視光領域での透視性の目安となる550 ｎｍに
おける光線透過率を求めた。また、ヘーズメータによ
り、ヘーズ値（ＪＩＳ Ｋ−6714）を求めた。
【００１３】さらに、ＰＥＴフィルムと紫外線吸収剤の
プラズマ重合膜との密着性を碁盤目試験（ＪＩＳ Ｋ−
5400）のセローテープ剥離により検定した。以上の測定
結果をまとめたものが表１である。後述する比較例との
対比からも明らかなように、波長350 ｎｍおよび380 ｎ
ｍにおける紫外光の透過率は、1.6 ％および36.2％と著
しく低下しており、紫外線遮蔽効果に優れていることが
確認された。また、波長550 ｎｍでの可視光の透過率お
よびヘーズ値は比較例と同程度であり、良好な透明性を
有していた。形成したプラズマ重合膜と基材フィルムと
の密着性は良好であった。
プラズマ重合膜との密着性を碁盤目試験（ＪＩＳ Ｋ−
5400）のセローテープ剥離により検定した。以上の測定
結果をまとめたものが表１である。後述する比較例との
対比からも明らかなように、波長350 ｎｍおよび380 ｎ
ｍにおける紫外光の透過率は、1.6 ％および36.2％と著
しく低下しており、紫外線遮蔽効果に優れていることが
確認された。また、波長550 ｎｍでの可視光の透過率お
よびヘーズ値は比較例と同程度であり、良好な透明性を
有していた。形成したプラズマ重合膜と基材フィルムと
の密着性は良好であった。
【００１４】実施例２ 実施例１と同様にして、成膜時間１５秒で成膜した。こ
の時の膜厚は1330Åであった。光線透過率は、表１に示
した通り極めて優れていた。 実施例３ 実施例１と同様に、真空容器（１）内の雰囲気圧を１×
１０-4torrに調整し、導入したアルゴンガスを放電させ
た後に、抵抗加熱式蒸発源（９ａ）に充填した有機系紫
外線吸収剤である2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチル
フェニル) ベンゾトリアゾールと、もう一つの蒸発源
（９ｂ）に充填した無機系紫外線吸収剤ＺｎＯとをガス
圧１×１０-3torr，Ｏ2 圧７×１０-4torr、高周波電力
５０Ｗの条件で１０分間、ＰＥＴフィルム表面にプラズ
マ重合させた。
の時の膜厚は1330Åであった。光線透過率は、表１に示
した通り極めて優れていた。 実施例３ 実施例１と同様に、真空容器（１）内の雰囲気圧を１×
１０-4torrに調整し、導入したアルゴンガスを放電させ
た後に、抵抗加熱式蒸発源（９ａ）に充填した有機系紫
外線吸収剤である2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチル
フェニル) ベンゾトリアゾールと、もう一つの蒸発源
（９ｂ）に充填した無機系紫外線吸収剤ＺｎＯとをガス
圧１×１０-3torr，Ｏ2 圧７×１０-4torr、高周波電力
５０Ｗの条件で１０分間、ＰＥＴフィルム表面にプラズ
マ重合させた。
【００１５】得られた紫外線遮蔽フィルムについて、実
施例１と同一の測定を行った。その結果を表１に併せて
示した。後述する比較例との対比からも明らかなよう
に、この発明の方法により製造した紫外線遮蔽フィルム
の性能は、従来品よりも優れていることが確認された。
なお、紫外線吸収剤の膜厚は、2100Åであった。
施例１と同一の測定を行った。その結果を表１に併せて
示した。後述する比較例との対比からも明らかなよう
に、この発明の方法により製造した紫外線遮蔽フィルム
の性能は、従来品よりも優れていることが確認された。
なお、紫外線吸収剤の膜厚は、2100Åであった。
【００１６】実施例４ 実施例１と同様に、真空容器（１）内の雰囲気圧を１×
１０-4torrに調整し、導入したアルゴンガスを放電させ
た後に、抵抗加熱式蒸発源（９ａ）に充填した有機系紫
外線吸収剤の2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチルフェ
ニル) ベンゾトリアゾールをガス圧１×１０-3torr，高
周波電力５０Ｗの条件で２分間、ＰＥＴフィルム表面に
プラズマ重合させた。次いで、このプラズマ重合膜の上
に、もう一つの蒸発源（９ｂ）に充填した無機系紫外線
吸収剤ＺｎＯをガス圧１×１０-3torr（Ｏ2 圧），高周
波電力100 Ｗの条件で１０分間で成膜した。
１０-4torrに調整し、導入したアルゴンガスを放電させ
た後に、抵抗加熱式蒸発源（９ａ）に充填した有機系紫
外線吸収剤の2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチルフェ
ニル) ベンゾトリアゾールをガス圧１×１０-3torr，高
周波電力５０Ｗの条件で２分間、ＰＥＴフィルム表面に
プラズマ重合させた。次いで、このプラズマ重合膜の上
に、もう一つの蒸発源（９ｂ）に充填した無機系紫外線
吸収剤ＺｎＯをガス圧１×１０-3torr（Ｏ2 圧），高周
波電力100 Ｗの条件で１０分間で成膜した。
【００１７】得られた紫外線遮蔽フィルムについて、実
施例１と同一の測定を行った。その結果を表１に併せて
示した。後述する比較例との対比からも明らかなよう
に、この発明の方法により製造した紫外線遮蔽フィルム
の性能は、従来品よりも優れていることが確認された。
なお、紫外線吸収剤の膜厚は、1550Åであった。
施例１と同一の測定を行った。その結果を表１に併せて
示した。後述する比較例との対比からも明らかなよう
に、この発明の方法により製造した紫外線遮蔽フィルム
の性能は、従来品よりも優れていることが確認された。
なお、紫外線吸収剤の膜厚は、1550Åであった。
【００１８】比較例１ ポリエステル系樹脂〔東洋紡（株）バイロン200〕に対
し、有機系紫外線吸収剤 2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert-オ
クチルフェニル）ベンゾトリアゾールを１wt％添加し、
トルエン／メチルエチルケトンの混合溶剤にて溶解した
溶液を厚さ100μｍのＰＥＴフィルムにメイヤーバーに
て塗工した。
し、有機系紫外線吸収剤 2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert-オ
クチルフェニル）ベンゾトリアゾールを１wt％添加し、
トルエン／メチルエチルケトンの混合溶剤にて溶解した
溶液を厚さ100μｍのＰＥＴフィルムにメイヤーバーに
て塗工した。
【００１９】このようにして製造した紫外線遮蔽フィル
ムについて、波長350ｎｍ、380ｎｍおよび550ｎｍにお
ける光線透過率の測定と、ヘーズの測定を行った。この
結果を表１に併せて示した。紫外光における光線透過率
が高く、紫外線遮蔽効果は低かった。乾燥後の紫外線吸
収剤の塗工厚みも３μｍと、実施例１〜４の膜厚よりも
１０倍以上厚かった。
ムについて、波長350ｎｍ、380ｎｍおよび550ｎｍにお
ける光線透過率の測定と、ヘーズの測定を行った。この
結果を表１に併せて示した。紫外光における光線透過率
が高く、紫外線遮蔽効果は低かった。乾燥後の紫外線吸
収剤の塗工厚みも３μｍと、実施例１〜４の膜厚よりも
１０倍以上厚かった。
【００２０】比較例２ 有機系紫外線吸収剤2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチ
ルフェニル) ベンゾトリアゾールを５％添加した以外
は、比較例１と同様な方法で塗工し、紫外線遮蔽フィル
ムを製造した。
ルフェニル) ベンゾトリアゾールを５％添加した以外
は、比較例１と同様な方法で塗工し、紫外線遮蔽フィル
ムを製造した。
【００２１】この結果も表１に示した。紫外線遮光効果
は低かった。
は低かった。
【００２２】
【表１】
【００２３】もちろんこの発明は、以上の例によって限
定されるものではない。プラスチック基板および紫外線
吸収剤の種類、放電および反応条件等の細部については
様々な態様が可能であることはいうまでもない。
定されるものではない。プラスチック基板および紫外線
吸収剤の種類、放電および反応条件等の細部については
様々な態様が可能であることはいうまでもない。
【００２４】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、可視光領域の透過率が基材フィルムと同程度で、
膜厚が塗工タイプに比べて１／１０以下程度と薄く、し
かも紫外線遮蔽効果の良好な紫外線吸収剤のプラズマ重
合膜形成による紫外線遮蔽フィルムが得られる。
って、可視光領域の透過率が基材フィルムと同程度で、
膜厚が塗工タイプに比べて１／１０以下程度と薄く、し
かも紫外線遮蔽効果の良好な紫外線吸収剤のプラズマ重
合膜形成による紫外線遮蔽フィルムが得られる。
【図１】この発明の紫外線遮蔽フィルムの製造方法に用
いることのできるイオンプレーティング装置を例示した
断面図である。
いることのできるイオンプレーティング装置を例示した
断面図である。
１ 真空容器 ２ 排気管 ３ ガス導入バルブ ４ コイル電極 ５ マッチングボックス ６ 高周波電源 ７ 基板支持台 ８ プラスチック基板 ９ａ，９ｂ 蒸発源 １０ａ 有機系紫外線吸収剤 １０ｂ 無機系紫外線吸収剤 １１ 抵抗加熱電源 １２ 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂牛 登 栃木県宇都宮市平出工業団地27番地２号 王子化工株式会社商品研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 紫外線吸収剤をプラズマ重合させ、プラ
スチック基板表面に紫外線吸収剤のプラズマ重合膜を成
膜することを特徴とする紫外線遮蔽フィルムの製造方
法。 - 【請求項２】 有機系紫外線吸収剤の単独または有機系
紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤との複合したプラズ
マ重合膜を成膜する請求項１の製造方法。 - 【請求項３】 高周波励起型イオンプレーティングによ
り紫外線吸収剤のプラズマ重合膜を成膜する請求項１の
製造方法。 - 【請求項４】 １０-2〜１０-5torrのガス圧範囲内でプ
ラズマ重合させる請求項１、２または３の製造方法。 - 【請求項５】 紫外線吸収剤のプラズマ重合膜の膜厚を
500 〜5000Åの範囲内とする請求項１、２、３または４
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20529691A JP3266625B2 (ja) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | 紫外線遮蔽フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20529691A JP3266625B2 (ja) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | 紫外線遮蔽フィルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625448A true JPH0625448A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3266625B2 JP3266625B2 (ja) | 2002-03-18 |
Family
ID=16504620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20529691A Expired - Fee Related JP3266625B2 (ja) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | 紫外線遮蔽フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3266625B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055471A1 (en) * | 1998-04-27 | 1999-11-04 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the preparation of uv protective coatings by plasma-enhanced deposition |
| WO2007123225A1 (ja) | 2006-04-24 | 2007-11-01 | Astellas Pharma Inc | オキサジアゾリジンジオン化合物 |
-
1991
- 1991-08-15 JP JP20529691A patent/JP3266625B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055471A1 (en) * | 1998-04-27 | 1999-11-04 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the preparation of uv protective coatings by plasma-enhanced deposition |
| WO2007123225A1 (ja) | 2006-04-24 | 2007-11-01 | Astellas Pharma Inc | オキサジアゾリジンジオン化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3266625B2 (ja) | 2002-03-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |