JPH0625448A - Production of ultraviolet-barrier film - Google Patents
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- JPH0625448A JPH0625448A JP20529691A JP20529691A JPH0625448A JP H0625448 A JPH0625448 A JP H0625448A JP 20529691 A JP20529691 A JP 20529691A JP 20529691 A JP20529691 A JP 20529691A JP H0625448 A JPH0625448 A JP H0625448A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、紫外線遮蔽フィルム
の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この
発明は、基材フィルムとの密着性の良好な紫外線吸収剤
のプラズマ重合膜の形成による、紫外線遮蔽性、透明性
等の諸性能に優れた紫外線遮蔽フィルムの製造方法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an ultraviolet shielding film. More specifically, the present invention relates to a method for producing an ultraviolet shielding film having excellent performances such as ultraviolet shielding property and transparency by forming a plasma-polymerized film of an ultraviolet absorbent having good adhesion to a base film. Is.
【０００２】[0002]
【従来の技術】太陽光線の中で、波長約１０〜400 ｎｍ
の領域に含まれる紫外線は、波長の長い可視光線や赤外
線よりもエネルギーが大きく、たとえばプラスチックや
有機化合物などの分子結合を励起したり、切断するのと
同等の強度のエネルギーを有している。特に、短波長の
紫外線のエネルギーは大きいことが知られてもいる。こ
のため、紫外線は、たとえば化粧鋼板、看板、カラー写
真、高分子材料等の各種の工業製品を変退色させ、しか
もその強度の低下を引き起こす原因となっている。2. Description of the Related Art A wavelength of about 10 to 400 nm in sunlight
The ultraviolet light included in the region has a larger energy than visible light or infrared light having a long wavelength, and has an energy intensity equivalent to that of exciting or cutting a molecular bond such as plastic or an organic compound. In particular, it is known that short-wavelength ultraviolet light has a large energy. For this reason, ultraviolet rays cause discoloration and fading of various industrial products such as decorative steel plates, signboards, color photographs, and polymer materials, and also cause a decrease in their strength.
【０００３】このような紫外線をカットし、工業製品を
保護するために、従来より、プラスチック、ガラス等の
基板表面に紫外線吸収剤を配設した紫外線遮蔽フィルム
が用いられてきている。この紫外線遮蔽フィルムは、通
常、有機系紫外線吸収剤と基材樹脂とを混合してフィル
ム化する方法、有機系紫外線吸収剤を基材フィルム表面
に塗布する方法、有機系紫外線吸収剤を溶解した溶液中
に基材フィルムを浸漬してフィルム中に紫外線吸収剤を
吸収させる方法、あるいは、無機系紫外線吸収剤と基材
樹脂とを混合してフィルム化する方法、無機系紫外線吸
収剤を基材フィルム表面に塗布する方法などにより製造
されている。In order to block such ultraviolet rays and protect industrial products, an ultraviolet shielding film having an ultraviolet absorber provided on the surface of a substrate such as plastic or glass has been conventionally used. This ultraviolet shielding film is usually a method of forming a film by mixing an organic ultraviolet absorber and a base resin, a method of applying the organic ultraviolet absorber to the surface of the base film, and dissolving the organic ultraviolet absorber. A method of immersing a base material film in a solution to absorb the ultraviolet absorbent in the film, or a method of mixing the inorganic ultraviolet absorbent and a base resin to form a film, and the inorganic ultraviolet absorbent as a base material. It is manufactured by a method such as coating on the film surface.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の紫外線遮蔽フィルムの製造方法のうち、有機
系紫外線吸収剤を使用する方法については、紫外線遮蔽
効果を得るためには、紫外線吸収剤の添加量や塗布量を
増加させなければならず、また、経時変化により、フィ
ルム表面に紫外線吸収剤がブリードし、遮蔽効果が持続
しなかったり、透明性が低下するなどという問題があっ
た。However, among the conventional methods for producing an ultraviolet light shielding film, the method using an organic ultraviolet light absorbing agent is described in order to obtain an ultraviolet light shielding effect. It is necessary to increase the addition amount and the coating amount, and there is a problem that the ultraviolet absorber bleeds on the surface of the film due to a change with time, the shielding effect does not continue, and the transparency decreases.
【０００５】また、無機系紫外線吸収剤を用いる場合に
は、紫外線吸収剤それ自体の透明性が良好でないため、
製造した紫外線遮蔽フィルムの透明性も半減してしまう
という欠点がある。この発明は、以上の通りの事情に鑑
みてなされたものであり、従来の紫外線遮蔽フィルムの
製造方法の欠点を解消し、紫外線吸収剤のプラズマ重合
膜の形成による新しい紫外線遮蔽フィルムの製造方法を
提供することを目的としている。When an inorganic ultraviolet absorber is used, the transparency of the ultraviolet absorber itself is not good,
There is a drawback in that the transparency of the manufactured ultraviolet shielding film is also halved. The present invention has been made in view of the above circumstances, eliminates the drawbacks of the conventional method for producing an ultraviolet shielding film, a new method for producing an ultraviolet shielding film by forming a plasma polymerized film of an ultraviolet absorber, It is intended to be provided.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、紫外線吸収剤をプラズマ重合さ
せ、プラスチック基板表面に紫外線吸収剤のプラズマ重
合膜を成膜することを特徴とする紫外線遮蔽フィルムの
製造方法を提供する。紫外線吸収剤は、無機系と有機系
に分類される。無機系紫外線吸収剤としては、酸化亜
鉛、酸化チタン、カーボンブラック等を例示することが
できる。一方、有機系紫外線吸収剤としては、フェニル
サリシレート、p-tert- ブチルフェニルサリシレート、
p-オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸系、2,
4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オク
トキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシベン
ゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- ドデシルオキシベンゾフ
ェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフ
ェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5- スルホベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン系、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メ
チルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
-5'-tert- ブチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-
(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-5'- ジ-tert-ブチル
フェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-
tert- ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリ
アゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-tert-ブチルフ
ェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキ
シ-3',5'- ジ-tert-アミノフェニル) ベンゾトリアゾー
ル等のベンゾトリアゾール系、2-エチルヘキシル-2- シ
アノ3,3'- ジフェニルアクリレート、エチル-2- シアノ
-3,3' - ジフェニルアクリレート等のシアノアクリレー
ト系などを例示することができる。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is characterized in that an ultraviolet absorbent is plasma-polymerized to form a plasma-polymerized film of the ultraviolet absorbent on the surface of a plastic substrate. A method for manufacturing an ultraviolet shielding film is provided. Ultraviolet absorbers are classified into inorganic type and organic type. Examples of the inorganic ultraviolet absorber include zinc oxide, titanium oxide, carbon black and the like. On the other hand, as the organic UV absorber, phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate,
Salicylic acid compounds such as p-octylphenyl salicylate, 2,
4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2 Benzophenone series such as -hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy
-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2-
(2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-
tert-Butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2' -Hydroxy-3 ', 5'-di-tert-aminophenyl) benzotriazoles such as benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano 3,3'-diphenyl acrylate, ethyl-2-cyano
Examples thereof include cyanoacrylates such as -3,3'-diphenylacrylate.
【０００７】この発明においては、たとえば以上に例示
される紫外線吸収剤をプラスチック基板上にプラズマ重
合により成膜し、紫外線遮蔽フィルムを製造する。プラ
スチック基板としては、たとえばポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサル
フォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン等の透明なフィルムを用いる
ことができる。これらのプラスチック基板に有機系紫外
線吸収剤単独のプラズマ重合膜、または有機系紫外線吸
収剤と無機系紫外線吸収剤とを同時にプラズマ重合させ
た、あるいはこれらの重合膜を順次積層などした複合プ
ラズマ重合膜を形成させる。In the present invention, for example, the ultraviolet absorber exemplified above is formed on a plastic substrate by plasma polymerization to produce an ultraviolet shielding film. As the plastic substrate, for example, a transparent film of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, polyether ether ketone, polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene, polyvinyl chloride, polypropylene or the like can be used. A plasma polymerized film of an organic UV absorber alone on these plastic substrates, or a composite plasma polymerized film obtained by simultaneously plasma polymerizing an organic UV absorber and an inorganic UV absorber, or sequentially laminating these polymer films. To form.
【０００８】また、この発明においては、有機バインダ
ー成分を使用してもよい。たとえばアクリル系、含弗素
系化合物等の透明膜形成物質をバインダーとし、これを
用いて同時にプラズマ重合してもよい。さらにまた、い
ずれの場合にも、密着性の向上のために成膜に先立っ
て、プラスチック基板表面にプラズマボンバード処理を
施してもよい。Further, in the present invention, an organic binder component may be used. For example, a transparent film forming substance such as an acrylic compound or a fluorine-containing compound may be used as a binder, and this may be used to simultaneously perform plasma polymerization. Furthermore, in any case, in order to improve the adhesiveness, the plastic substrate surface may be subjected to plasma bombardment treatment prior to film formation.
【０００９】プラズマ重合膜をプラスチック基板に形成
させる際には、たとえば図１に示したような真空容器
（１）内にたとえばコイル電極等（４）の誘導結合型電
極または容量結合型電極を設けた高周波励起式のイオン
プレーティング装置を用いることができる。プラズマ重
合に際しては、真空ポンプ（１２）により排気管（２）
を介して排気した減圧雰囲気下において、たとえばアル
ゴン、窒素等の非重合性の無機ガスをガス導入バルブ
（３）を介して真空容器（１）内に導入し、かつ電極
（４）に高周波電源（６）より高周波電圧を印加して放
電を発生させる。また、蒸発源（９ａ）（９ｂ）に充填
した有機系紫外線吸収剤（１０ａ）および無機系紫外線
吸収剤（１０ｂ）を抵抗加熱電源（１１）からの電圧印
加により、各々、加熱蒸発させ、プラズマ励起して、基
板支持台（７）に支持されたプラスチック基板（８）上
にその重合薄膜を成膜する。この場合、プラスチック基
板（８）への紫外線吸収剤（１０ａ）（１０ｂ）のプラ
ズマ重合は、１０-2〜１０-5torrのガス圧で行うことが
好ましい。ガス圧が１０-2torrより高いと、加速粒子
（イオンおよび電子）のエネルギーが小さくなり、加速
粒子の総数が多いにもかかわらず均一な膜が生成しな
い。一方、１０-5torrよりガス圧が低いと、加速粒子の
エネルギーは大きくなるものの、プラスチック基板
（８）に到達する加速粒子の総数が少なくなり、成膜速
度が低下する。When forming a plasma polymerized film on a plastic substrate, for example, an inductive coupling type electrode or a capacitive coupling type electrode such as a coil electrode (4) is provided in a vacuum container (1) as shown in FIG. A high frequency excitation type ion plating device can be used. In plasma polymerization, the exhaust pipe (2) is driven by the vacuum pump (12).
A non-polymerizable inorganic gas such as argon or nitrogen is introduced into the vacuum container (1) through the gas introduction valve (3) under a reduced pressure atmosphere exhausted through the chamber, and a high frequency power source is supplied to the electrode (4). From (6), a high frequency voltage is applied to generate discharge. Further, the organic ultraviolet absorber (10a) and the inorganic ultraviolet absorber (10b) filled in the evaporation sources (9a) and (9b) are heated and vaporized by applying a voltage from the resistance heating power source (11), respectively, and plasma is generated. Upon excitation, the polymerized thin film is formed on the plastic substrate (8) supported by the substrate support (7). In this case, the plasma polymerization of the ultraviolet absorbers (10a) and (10b) on the plastic substrate (8) is preferably carried out at a gas pressure of 10 -2 to 10 -5 torr. When the gas pressure is higher than 10 -2 torr, the energy of accelerating particles (ions and electrons) becomes small, and a uniform film is not formed even though the total number of accelerating particles is large. On the other hand, when the gas pressure is lower than 10 −5 torr, the energy of the accelerated particles increases, but the total number of the accelerated particles reaching the plastic substrate (8) decreases, and the film formation rate decreases.
【００１０】高周波電源（６）としては、通常、数百Ｋ
Ｈｚ〜数十ＭＨｚの周波数のものを用いることができ、
13.56 ＭＨｚが好適なものとして例示される。また、高
周波電力としては、１０〜200 Ｗの範囲を例示すること
ができる。また、プラスチック基板（８）上へプラズマ
重合した紫外線吸収剤（１０ａ）（１０ｂ）の重合膜の
膜厚については特に制限はないが、通常、500 〜5000Å
の厚さにおいて、光線透過率が最高となるものを適宜に
選択することが好ましい。The high frequency power source (6) is usually several hundred K
It is possible to use one with a frequency of Hz to several tens of MHz,
13.56 MHz is illustrated as a suitable example. Further, the high frequency power may be in the range of 10 to 200 W. Further, the film thickness of the polymer film of the ultraviolet absorbers (10a) (10b) plasma-polymerized on the plastic substrate (8) is not particularly limited, but is usually 500 to 5000Å
It is preferable to appropriately select the one having the highest light transmittance in the thickness.
【００１１】[0011]
【実施例】以下実施例を示し、この発明の紫外線遮蔽フ
ィルムの製造方法についてさらに詳しく説明する。 実施例１ 図１に例示したイオンプレーティング装置を用いて、ポ
リエチレンテレフタレエート（ＰＥＴ）フィルムに紫外
線吸収剤のプラズマ重合膜を以下に示した工程により成
膜した。 まず、ＰＥＴフィルムを真空容器（１）内の
基板支持台（７）にセット、次いで、排気管（２）に接
続した真空ポンプ（１２）で装置内を１×１０-6torr以
下に減圧した。この後に、ガス導入バルブ（３）を開放
してアルゴンガスを導入し、雰囲気圧を１×１０-4torr
に調整して放電させた。そして、ガス圧１×１０-3tor
r，高周波電力５０Ｗの条件で、抵抗加熱式の蒸発源
（９ａ）に充填した有機系紫外線吸収剤の2-(2'-ヒドロ
キシ-5'-tert- オクチルフェニル) ベンゾトリアゾール
のプラズマ重合膜をＰＥＴフィルム表面に１０秒間で成
膜させた。膜厚を繰り返し反射干渉計により測定したと
ころ、1200Åであった。EXAMPLES The following is a more detailed description of the method for producing the ultraviolet shielding film of the present invention, showing examples. Example 1 Using the ion plating apparatus illustrated in FIG. 1, a plasma-polymerized film of an ultraviolet absorber was formed on a polyethylene terephthalate (PET) film by the steps shown below. First, the PET film was set on the substrate support (7) in the vacuum container (1), and then the pressure inside the apparatus was reduced to 1 × 10 −6 torr or less by the vacuum pump (12) connected to the exhaust pipe (2). . After that, the gas introduction valve (3) is opened to introduce argon gas, and the atmospheric pressure is adjusted to 1 × 10 −4 torr.
It was adjusted to and discharged. And gas pressure 1 × 10 -3 tor
Under the conditions of r and high-frequency power of 50 W, a plasma-polymerized film of 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, an organic ultraviolet absorber, filled in a resistance heating type evaporation source (9a) was used. A film was formed on the surface of the PET film for 10 seconds. When the film thickness was repeatedly measured by a reflection interferometer, it was 1200Å.
【００１２】このようにして得られた紫外線遮蔽フィル
ムについて、その紫外線遮蔽効果を分光光度計を用いて
200 〜900 ｎｍの領域で連続的に光線透過率を測定し、
高分子材料の紫外線劣化波長の目安となる350 ，380 ｎ
ｍおよび可視光領域での透視性の目安となる550 ｎｍに
おける光線透過率を求めた。また、ヘーズメータによ
り、ヘーズ値（ＪＩＳ Ｋ−6714）を求めた。With respect to the ultraviolet shielding film thus obtained, its ultraviolet shielding effect was measured by using a spectrophotometer.
Continuously measure the light transmittance in the range of 200-900 nm,
350, 380 n, which is a guide for the wavelength of UV deterioration of polymer materials
The light transmittance at 550 nm, which is a measure of the transparency in the m and visible light regions, was determined. Moreover, the haze value (JIS K-6714) was determined by a haze meter.
【００１３】さらに、ＰＥＴフィルムと紫外線吸収剤の
プラズマ重合膜との密着性を碁盤目試験（ＪＩＳ Ｋ−
5400）のセローテープ剥離により検定した。以上の測定
結果をまとめたものが表１である。後述する比較例との
対比からも明らかなように、波長350 ｎｍおよび380 ｎ
ｍにおける紫外光の透過率は、1.6 ％および36.2％と著
しく低下しており、紫外線遮蔽効果に優れていることが
確認された。また、波長550 ｎｍでの可視光の透過率お
よびヘーズ値は比較例と同程度であり、良好な透明性を
有していた。形成したプラズマ重合膜と基材フィルムと
の密着性は良好であった。Furthermore, the adhesion between the PET film and the plasma-polymerized film of the ultraviolet absorber is checked by a cross-cut test (JIS K-
5400) was tested by peeling off the tape. Table 1 summarizes the above measurement results. As is clear from comparison with the comparative example described later, wavelengths of 350 nm and 380 n
The transmittance of ultraviolet light at m was significantly reduced to 1.6% and 36.2%, and it was confirmed that the ultraviolet ray shielding effect was excellent. In addition, the transmittance of visible light and the haze value at a wavelength of 550 nm were about the same as those of the comparative example, and had good transparency. Adhesion between the formed plasma polymerized film and the base film was good.
【００１４】実施例２ 実施例１と同様にして、成膜時間１５秒で成膜した。こ
の時の膜厚は1330Åであった。光線透過率は、表１に示
した通り極めて優れていた。 実施例３ 実施例１と同様に、真空容器（１）内の雰囲気圧を１×
１０-4torrに調整し、導入したアルゴンガスを放電させ
た後に、抵抗加熱式蒸発源（９ａ）に充填した有機系紫
外線吸収剤である2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチル
フェニル) ベンゾトリアゾールと、もう一つの蒸発源
（９ｂ）に充填した無機系紫外線吸収剤ＺｎＯとをガス
圧１×１０-3torr，Ｏ2 圧７×１０-4torr、高周波電力
５０Ｗの条件で１０分間、ＰＥＴフィルム表面にプラズ
マ重合させた。Example 2 In the same manner as in Example 1, a film was formed for 15 seconds. The film thickness at this time was 1330Å. The light transmittance was extremely excellent as shown in Table 1. Example 3 As in Example 1, the atmospheric pressure in the vacuum container (1) was set to 1 ×.
After adjusting to 10 −4 torr and discharging the introduced argon gas, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-octyl which is an organic ultraviolet absorber filled in the resistance heating evaporation source (9a). Phenyl) benzotriazole and the inorganic ultraviolet absorber ZnO filled in another evaporation source (9b) under the gas pressure of 1 × 10 −3 torr, O 2 pressure of 7 × 10 −4 torr, and high frequency power of 50 W. Plasma polymerization was performed on the PET film surface for 10 minutes.
【００１５】得られた紫外線遮蔽フィルムについて、実
施例１と同一の測定を行った。その結果を表１に併せて
示した。後述する比較例との対比からも明らかなよう
に、この発明の方法により製造した紫外線遮蔽フィルム
の性能は、従来品よりも優れていることが確認された。
なお、紫外線吸収剤の膜厚は、2100Åであった。The same measurement as in Example 1 was performed on the obtained ultraviolet shielding film. The results are also shown in Table 1. As is clear from comparison with Comparative Examples described later, it was confirmed that the performance of the ultraviolet shielding film produced by the method of the present invention was superior to that of the conventional product.
The film thickness of the ultraviolet absorber was 2100Å.
【００１６】実施例４ 実施例１と同様に、真空容器（１）内の雰囲気圧を１×
１０-4torrに調整し、導入したアルゴンガスを放電させ
た後に、抵抗加熱式蒸発源（９ａ）に充填した有機系紫
外線吸収剤の2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチルフェ
ニル) ベンゾトリアゾールをガス圧１×１０-3torr，高
周波電力５０Ｗの条件で２分間、ＰＥＴフィルム表面に
プラズマ重合させた。次いで、このプラズマ重合膜の上
に、もう一つの蒸発源（９ｂ）に充填した無機系紫外線
吸収剤ＺｎＯをガス圧１×１０-3torr（Ｏ2 圧），高周
波電力100 Ｗの条件で１０分間で成膜した。Example 4 As in Example 1, the atmospheric pressure in the vacuum vessel (1) was set to 1 ×.
After adjusting the pressure to 10 −4 torr and discharging the introduced argon gas, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-octylphenyl) which is an organic ultraviolet absorber filled in the resistance heating evaporation source (9a). ) Benzotriazole was plasma-polymerized on the surface of the PET film for 2 minutes under the conditions of gas pressure of 1 × 10 −3 torr and high frequency power of 50 W. Next, on this plasma-polymerized film, another inorganic source UV absorber ZnO filled in the evaporation source (9b) was applied under the conditions of gas pressure of 1 × 10 −3 torr (O 2 pressure) and high-frequency power of 100 W. The film was formed in minutes.
【００１７】得られた紫外線遮蔽フィルムについて、実
施例１と同一の測定を行った。その結果を表１に併せて
示した。後述する比較例との対比からも明らかなよう
に、この発明の方法により製造した紫外線遮蔽フィルム
の性能は、従来品よりも優れていることが確認された。
なお、紫外線吸収剤の膜厚は、1550Åであった。The same measurement as in Example 1 was performed on the obtained ultraviolet shielding film. The results are also shown in Table 1. As is clear from comparison with Comparative Examples described later, it was confirmed that the performance of the ultraviolet shielding film produced by the method of the present invention was superior to that of the conventional product.
The film thickness of the ultraviolet absorber was 1550Å.
【００１８】比較例１ ポリエステル系樹脂〔東洋紡（株）バイロン200〕に対
し、有機系紫外線吸収剤 2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert-オ
クチルフェニル）ベンゾトリアゾールを１wt％添加し、
トルエン／メチルエチルケトンの混合溶剤にて溶解した
溶液を厚さ100μｍのＰＥＴフィルムにメイヤーバーに
て塗工した。Comparative Example 1 1% by weight of an organic ultraviolet absorber 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole was added to a polyester resin [Vylon 200 manufactured by Toyobo Co., Ltd.],
A solution dissolved in a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone was applied to a PET film having a thickness of 100 μm with a Meyer bar.
【００１９】このようにして製造した紫外線遮蔽フィル
ムについて、波長350ｎｍ、380ｎｍおよび550ｎｍにお
ける光線透過率の測定と、ヘーズの測定を行った。この
結果を表１に併せて示した。紫外光における光線透過率
が高く、紫外線遮蔽効果は低かった。乾燥後の紫外線吸
収剤の塗工厚みも３μｍと、実施例１〜４の膜厚よりも
１０倍以上厚かった。With respect to the ultraviolet shielding film thus produced, the light transmittance at wavelengths of 350 nm, 380 nm and 550 nm and the haze were measured. The results are also shown in Table 1. The ultraviolet ray transmittance was high and the ultraviolet ray shielding effect was low. The coating thickness of the dried ultraviolet absorber was 3 μm, which was 10 times or more than the film thickness of Examples 1 to 4.
【００２０】比較例２ 有機系紫外線吸収剤2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert- オクチ
ルフェニル) ベンゾトリアゾールを５％添加した以外
は、比較例１と同様な方法で塗工し、紫外線遮蔽フィル
ムを製造した。Comparative Example 2 Coating was conducted in the same manner as in Comparative Example 1 except that 5% of 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, an organic ultraviolet absorber, was added, and ultraviolet rays were applied. A shielding film was manufactured.
【００２１】この結果も表１に示した。紫外線遮光効果
は低かった。The results are also shown in Table 1. The ultraviolet light shielding effect was low.
【００２２】[0022]
【表１】 [Table 1]
【００２３】もちろんこの発明は、以上の例によって限
定されるものではない。プラスチック基板および紫外線
吸収剤の種類、放電および反応条件等の細部については
様々な態様が可能であることはいうまでもない。Of course, the present invention is not limited to the above examples. It goes without saying that various aspects are possible in terms of details such as the types of the plastic substrate and the ultraviolet absorber, discharge and reaction conditions.
【００２４】[0024]
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、可視光領域の透過率が基材フィルムと同程度で、
膜厚が塗工タイプに比べて１／１０以下程度と薄く、し
かも紫外線遮蔽効果の良好な紫外線吸収剤のプラズマ重
合膜形成による紫外線遮蔽フィルムが得られる。As described in detail above, according to the present invention, the transmittance in the visible light region is about the same as that of the base film,
An ultraviolet shielding film can be obtained by forming a plasma-polymerized film of an ultraviolet absorber having a thin film thickness of about 1/10 or less as compared with the coating type and having a good ultraviolet shielding effect.
【図１】この発明の紫外線遮蔽フィルムの製造方法に用
いることのできるイオンプレーティング装置を例示した
断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an ion plating device that can be used in the method for manufacturing an ultraviolet shielding film of the present invention.
１ 真空容器 ２ 排気管 ３ ガス導入バルブ ４ コイル電極 ５ マッチングボックス ６ 高周波電源 ７ 基板支持台 ８ プラスチック基板 ９ａ，９ｂ 蒸発源 １０ａ 有機系紫外線吸収剤 １０ｂ 無機系紫外線吸収剤 １１ 抵抗加熱電源 １２ 真空ポンプ 1 vacuum container 2 exhaust pipe 3 gas introduction valve 4 coil electrode 5 matching box 6 high frequency power supply 7 substrate support 8 plastic substrate 9a, 9b evaporation source 10a organic ultraviolet absorber 10b inorganic ultraviolet absorber 11 resistance heating power source 12 vacuum pump
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂牛 登 栃木県宇都宮市平出工業団地27番地２号 王子化工株式会社商品研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Noboru Sakaushi No. 2 No. 2 Hiraide Industrial Park, Utsunomiya City, Tochigi Prefecture Oji Kako Co., Ltd. Product Research Laboratory
Claims (5)
スチック基板表面に紫外線吸収剤のプラズマ重合膜を成
膜することを特徴とする紫外線遮蔽フィルムの製造方
法。1. A method for producing an ultraviolet shielding film, which comprises polymerizing an ultraviolet absorber by plasma to form a plasma polymerized film of the ultraviolet absorber on the surface of a plastic substrate.
紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤との複合したプラズ
マ重合膜を成膜する請求項１の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the plasma polymerized film is formed by using an organic ultraviolet absorber alone or a composite of an organic ultraviolet absorber and an inorganic ultraviolet absorber.
り紫外線吸収剤のプラズマ重合膜を成膜する請求項１の
製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the plasma polymerized film of the ultraviolet absorber is formed by high frequency excitation type ion plating.
ラズマ重合させる請求項１、２または３の製造方法。4. The method according to claim 1, 2 or 3, wherein plasma polymerization is carried out within a gas pressure range of 10 -2 to 10 -5 torr.
500 〜5000Åの範囲内とする請求項１、２、３または４
の製造方法。5. The thickness of the plasma-polymerized film of the ultraviolet absorber
Claim 1, 2, 3 or 4 within the range of 500-5000Å
Manufacturing method.
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|---|---|---|---|
| JP20529691A JP3266625B2 (en) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | Manufacturing method of ultraviolet shielding film |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625448A true JPH0625448A (en) | 1994-02-01 |
| JP3266625B2 JP3266625B2 (en) | 2002-03-18 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3266625B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999055471A1 (en) * | 1998-04-27 | 1999-11-04 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the preparation of uv protective coatings by plasma-enhanced deposition |
| WO2007123225A1 (en) | 2006-04-24 | 2007-11-01 | Astellas Pharma Inc | Oxadiazolidinedione compound |
-
1991
- 1991-08-15 JP JP20529691A patent/JP3266625B2/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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