JPH0625010Y2 - ウエハの受渡し機構 - Google Patents
ウエハの受渡し機構Info
- Publication number
- JPH0625010Y2 JPH0625010Y2 JP13647388U JP13647388U JPH0625010Y2 JP H0625010 Y2 JPH0625010 Y2 JP H0625010Y2 JP 13647388 U JP13647388 U JP 13647388U JP 13647388 U JP13647388 U JP 13647388U JP H0625010 Y2 JPH0625010 Y2 JP H0625010Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- lever
- pin
- rod
- delivery mechanism
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Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この考案による受渡し機構は、半導体の製造工程でウエ
ハの上面に形成した電子回路の検査を行なうプローバに
おいて、ウエハを載物用テーブルに搬入、搬出する機構
に係るものである。
ハの上面に形成した電子回路の検査を行なうプローバに
おいて、ウエハを載物用テーブルに搬入、搬出する機構
に係るものである。
〈従来技術〉 プローバにおいて、ウエハを搬送するときウエハの上面
には多数の回路が作られているので、この上面に接触す
ることは望ましくない。またウエハは割れ易い材質で作
られているので静かに取扱う必要があり、かつ予じめ方
向を決められて送り込まれてくるので、その姿勢をその
ままウエハテーブルに移す必要がある。そこで従来技術
の一つとして、ベルヌーイチャックと呼ばれる吸着装置
によりウエハの外周を持って保持し、移送する方法が取
られてきた。しかしこの方法は、ウエハの上面を吸引し
て操作するので望ましくないとされている。
には多数の回路が作られているので、この上面に接触す
ることは望ましくない。またウエハは割れ易い材質で作
られているので静かに取扱う必要があり、かつ予じめ方
向を決められて送り込まれてくるので、その姿勢をその
ままウエハテーブルに移す必要がある。そこで従来技術
の一つとして、ベルヌーイチャックと呼ばれる吸着装置
によりウエハの外周を持って保持し、移送する方法が取
られてきた。しかしこの方法は、ウエハの上面を吸引し
て操作するので望ましくないとされている。
また一部には、ウエハを下から支える方式が採用されて
いるが、テーブルに置くときの機構が複雑で高価につく
欠点がある。
いるが、テーブルに置くときの機構が複雑で高価につく
欠点がある。
〈本考案の問題解決方法〉 第1図によって本考案の構成の概要を示す。ウエハ3を
Aに示すようにベルト搬送機構2に載せ、さらに搬送機
構2を右方向に移動させる。Bにおいて載物用テーブル
1の直上まで正確に、かつ静かに運ぶ。このとき搬送機
構2はその中央部においてウエハ3を支えている。また
搬送機構の搬出入に邪魔にならない位置に、テーブル1
を貫通して複数本の、上下動できるピン4を上昇させ、
ウエハを下から支えて、搬送機構から浮かせる。次にC
の段階で搬送機構を左に移し、ピン4を下げ、Dでウエ
ハ3をテーブル1の上に静かに置く。本考案はピン4の
上下動機構に係るものである。なお従来方法ではウエハ
の下面を吸着保持して、テーブル上に搬送する方法があ
るが、このときにもテーブルを貫通するピン4で吸着保
持機構からウエハを受け取り、テーブル面に下げる。ま
た、プローバ天井から下向きに設置されているウエハ回
路の検査用触針と、ウエハの回路端子を接触させるため
の上下動機構をテーブルが有しており、本考案において
は、その上下動機構の一部を利用してピン4の上下運動
を行う。
Aに示すようにベルト搬送機構2に載せ、さらに搬送機
構2を右方向に移動させる。Bにおいて載物用テーブル
1の直上まで正確に、かつ静かに運ぶ。このとき搬送機
構2はその中央部においてウエハ3を支えている。また
搬送機構の搬出入に邪魔にならない位置に、テーブル1
を貫通して複数本の、上下動できるピン4を上昇させ、
ウエハを下から支えて、搬送機構から浮かせる。次にC
の段階で搬送機構を左に移し、ピン4を下げ、Dでウエ
ハ3をテーブル1の上に静かに置く。本考案はピン4の
上下動機構に係るものである。なお従来方法ではウエハ
の下面を吸着保持して、テーブル上に搬送する方法があ
るが、このときにもテーブルを貫通するピン4で吸着保
持機構からウエハを受け取り、テーブル面に下げる。ま
た、プローバ天井から下向きに設置されているウエハ回
路の検査用触針と、ウエハの回路端子を接触させるため
の上下動機構をテーブルが有しており、本考案において
は、その上下動機構の一部を利用してピン4の上下運動
を行う。
〈実施例〉 第2図において、テーブル1の中心軸5が固定部ベース
6の中に垂直に差し込まれる。また、固定部にはモータ
7が横向きに取り付けられ、そのモータ軸8には偏心カ
ム9が取り付けられている。テーブルの中心軸5の下端
はベアリングを介してカム9と係合している。モータ軸
8の他端には、第3図に示す形状のレバー10を取り付
ける。レバー10の先端には、固定部ベース6を貫通
し、垂直方向に上下動可能な垂直ロッド11の下端を接
触させる。このときロッド11は上下動はできるが、回
転はできないように取り付ける。垂直ロッド11の頂部
にリング12を固定する。リング12に複数本のピン4
を設置する。ピン4は偏心カム9の回転に同期し、ロッ
ド11・リング12を介して、上下動できるよう構成さ
れている。すなわち、第3図に示すように偏心カム9の
偏心量が最大の時、レバー10は水平位置(b位置)に
あり、そのときのピン4の先端は第2図に示すようにテ
ーブル1の上面より突出しないよう構成されている。さ
らに、レバー10はモータ7の回転によりb位置からc
位置まで旋回することができ、そのときのピン4の先端
はテーブル1の上面より突出するよう構成されている。
6の中に垂直に差し込まれる。また、固定部にはモータ
7が横向きに取り付けられ、そのモータ軸8には偏心カ
ム9が取り付けられている。テーブルの中心軸5の下端
はベアリングを介してカム9と係合している。モータ軸
8の他端には、第3図に示す形状のレバー10を取り付
ける。レバー10の先端には、固定部ベース6を貫通
し、垂直方向に上下動可能な垂直ロッド11の下端を接
触させる。このときロッド11は上下動はできるが、回
転はできないように取り付ける。垂直ロッド11の頂部
にリング12を固定する。リング12に複数本のピン4
を設置する。ピン4は偏心カム9の回転に同期し、ロッ
ド11・リング12を介して、上下動できるよう構成さ
れている。すなわち、第3図に示すように偏心カム9の
偏心量が最大の時、レバー10は水平位置(b位置)に
あり、そのときのピン4の先端は第2図に示すようにテ
ーブル1の上面より突出しないよう構成されている。さ
らに、レバー10はモータ7の回転によりb位置からc
位置まで旋回することができ、そのときのピン4の先端
はテーブル1の上面より突出するよう構成されている。
以上の構成において、モータ7が回転して偏心カム9
が、第3図のa〜b間を旋回すると、テーブル1が偏心
カム9に同期して上下動する。テーブル1上に載置され
たウエハの各チップの電極は、図示しない検出用触針に
接触し、連続して各チップの電気的特性を測定し良否の
判定を行う。この時レバー10も同時にb位置まで旋回
し、垂直ロッド11が上昇するが、ピン4の先端はテー
ブル1の上面より突出しないので、上記測定に支障をき
たすことはない。ウエハ上の全てのチップの測定が完了
すると、モータ7によりレバー10がb位置からc位置
に旋回し、それに伴ってロッド11、リング12を介し
てピン4がテーブル1の上面より突出し、測定を終えた
ウエハをテーブル1より浮上させる。この時、第1図に
おいてベルト搬送機構2が前進してウエハ3を受け取
る。次いでレバー10がc位置からb位置方向へ旋回
し、ピン4が後退し、支えられていたウエハがベルト搬
送機構に受渡されて搬送される。
が、第3図のa〜b間を旋回すると、テーブル1が偏心
カム9に同期して上下動する。テーブル1上に載置され
たウエハの各チップの電極は、図示しない検出用触針に
接触し、連続して各チップの電気的特性を測定し良否の
判定を行う。この時レバー10も同時にb位置まで旋回
し、垂直ロッド11が上昇するが、ピン4の先端はテー
ブル1の上面より突出しないので、上記測定に支障をき
たすことはない。ウエハ上の全てのチップの測定が完了
すると、モータ7によりレバー10がb位置からc位置
に旋回し、それに伴ってロッド11、リング12を介し
てピン4がテーブル1の上面より突出し、測定を終えた
ウエハをテーブル1より浮上させる。この時、第1図に
おいてベルト搬送機構2が前進してウエハ3を受け取
る。次いでレバー10がc位置からb位置方向へ旋回
し、ピン4が後退し、支えられていたウエハがベルト搬
送機構に受渡されて搬送される。
新たに測定すべきウエハがベルト搬送機構によりテーブ
ル1上に搬入されてくると、レバー10がc位置まで旋
回し、ピン4の先端がテーブル1上より突出してウエハ
を受け取る。
ル1上に搬入されてくると、レバー10がc位置まで旋
回し、ピン4の先端がテーブル1上より突出してウエハ
を受け取る。
次いでベルト搬送機構が後退して、レバー10がb位置
方向へ旋回して、ピン4が後退しウエハはテーブル1上
に載置されて、測定状態になる。
方向へ旋回して、ピン4が後退しウエハはテーブル1上
に載置されて、測定状態になる。
このようにして、測定のためにテーブルを上下させる機
構を利用してウエハ受渡し用のピンの上下動を容易に行
うことができる。
構を利用してウエハ受渡し用のピンの上下動を容易に行
うことができる。
〈効果〉 本考案に係る受渡し機構は、テーブルが備えている上下
動用モータ機構を使用するため、従来のピンの上下動機
構を付加されるテーブルと比較して構成部品が少なく、
製品費用を安くすることができる。
動用モータ機構を使用するため、従来のピンの上下動機
構を付加されるテーブルと比較して構成部品が少なく、
製品費用を安くすることができる。
さらにテーブル重量を軽くすることができるためテーブ
ルの位置決め速度が速くなり、検査工程の時間短縮が可
能となる。
ルの位置決め速度が速くなり、検査工程の時間短縮が可
能となる。
第1図は本考案が使用される状態の説明図、第2図は本
考案の構成を示す断面図、第3図は部分的側面図 1……ウエハテーブル 2……搬送機構 3……ウエハ 4……支持ピン 5……中心軸 7……テーブル上下駆動用モータ 10……レバー 11……垂直ロッド 12……リング
考案の構成を示す断面図、第3図は部分的側面図 1……ウエハテーブル 2……搬送機構 3……ウエハ 4……支持ピン 5……中心軸 7……テーブル上下駆動用モータ 10……レバー 11……垂直ロッド 12……リング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 B 7377−4M // B65G 47/52 C 8010−3F
Claims (1)
- 【請求項1】半導体ウエハの電気的特性を測定するため
のプロービングマシンにおいて、 前記半導体ウエハを載置するテーブルと、 固定ベースに垂直に差し込まれた前記テーブルの中心軸
下端部にベアリングを介して係合されたテーブルの上下
駆動用モータ軸に接続された偏心カムと、 前記モータ軸の他端に設けられたレバーと、 該レバーを介し上下動するロッドと、 該ロッドの頂部と結合され、前記テーブルを貫通し、ウ
エハを支える複数本のピンを設置したリングから構成さ
れるウエハ受渡し機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13647388U JPH0625010Y2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | ウエハの受渡し機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13647388U JPH0625010Y2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | ウエハの受渡し機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0258334U JPH0258334U (ja) | 1990-04-26 |
JPH0625010Y2 true JPH0625010Y2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=31397018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13647388U Expired - Fee Related JPH0625010Y2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | ウエハの受渡し機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0625010Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164423A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハリフト装置を備えたウェーハ保持装置 |
JP4745040B2 (ja) * | 2005-12-05 | 2011-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
JP6562305B2 (ja) * | 2015-12-03 | 2019-08-21 | 日本電気硝子株式会社 | 板ガラスの製造方法及び製造装置 |
-
1988
- 1988-10-19 JP JP13647388U patent/JPH0625010Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0258334U (ja) | 1990-04-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |