JPH06247992A - アレンビスホスフィン オキシド - Google Patents
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-
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-
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 高い反応性を有し、かつ、白色塗料とともに
使用しても黄色化を生じない光開始剤を提供する。 【構成】 式 〔式中、R1〜R4は互いに独立して、水素原子又は
C:1〜6のアルキル、アルコキシ基又はC:5〜12
のアリール等であり、R5,R6は互いに独立してC:
1〜6のアルキル基、C:5〜10のシクロアルキル基
等であるか、又は一緒になって2〜10のCの架橋を形
成する。〕具体的には、例えば で表わされるアレンビスホスフィン オキシドが提供さ
れる。
使用しても黄色化を生じない光開始剤を提供する。 【構成】 式 〔式中、R1〜R4は互いに独立して、水素原子又は
C:1〜6のアルキル、アルコキシ基又はC:5〜12
のアリール等であり、R5,R6は互いに独立してC:
1〜6のアルキル基、C:5〜10のシクロアルキル基
等であるか、又は一緒になって2〜10のCの架橋を形
成する。〕具体的には、例えば で表わされるアレンビスホスフィン オキシドが提供さ
れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、次式
【0002】
【化2】
【0003】で表わされるアレンビスホスフィン オキ
シドに関する。式中、R1からR4はそれぞれ互いに独立
して、水素、C−原子数1〜6のアルキル、C−原子数
1〜6のアルコキシ、C−原子数5〜12のアリール、
C−原子数5〜12のアリールオキシ、又はC−原子数
7〜14のアリールアルコキシであり、R5及びR6はそ
れぞれ互いに独立してC−原子数1〜5のアルキル、C
−原子数5〜10のシクロアルキル又はC−原子数5〜
12のアリール(このそれぞれは環系に1又は2個の窒
素又はイオウ原子を有することができ、又は、環系に置
換基として1又は2個のハロゲン原子又はC−原子数1
〜6のアルキル又はC−原子数1〜6のアルコキシ基を
有することができ)又は、それぞれC−原子数1〜6の
アルコキシ、C−原子数3〜8のアルコキシアルコキ
シ、C−原子数5〜12のアリールオキシ又はC−原子
数7〜14のアリールアルコキシであるか、又はR5及
びR6は一緒になって2〜10炭素原子の架橋を形成
し、それらの炭素原子のいくつかはさらに芳香環の一部
を形成しうるものである。
シドに関する。式中、R1からR4はそれぞれ互いに独立
して、水素、C−原子数1〜6のアルキル、C−原子数
1〜6のアルコキシ、C−原子数5〜12のアリール、
C−原子数5〜12のアリールオキシ、又はC−原子数
7〜14のアリールアルコキシであり、R5及びR6はそ
れぞれ互いに独立してC−原子数1〜5のアルキル、C
−原子数5〜10のシクロアルキル又はC−原子数5〜
12のアリール(このそれぞれは環系に1又は2個の窒
素又はイオウ原子を有することができ、又は、環系に置
換基として1又は2個のハロゲン原子又はC−原子数1
〜6のアルキル又はC−原子数1〜6のアルコキシ基を
有することができ)又は、それぞれC−原子数1〜6の
アルコキシ、C−原子数3〜8のアルコキシアルコキ
シ、C−原子数5〜12のアリールオキシ又はC−原子
数7〜14のアリールアルコキシであるか、又はR5及
びR6は一緒になって2〜10炭素原子の架橋を形成
し、それらの炭素原子のいくつかはさらに芳香環の一部
を形成しうるものである。
【0004】さらに、本発明は、アレンビスホスフィン
を含む光重合可能な物質及びコーティング物質、例えば
表面コーティング又はプリント用インクとして、充填材
として、歯科用材料として、粘着剤として、又は成形
物、例えばプリント板又はレリーフプレートの製造のた
めのこれらの物質の使用に関する。
を含む光重合可能な物質及びコーティング物質、例えば
表面コーティング又はプリント用インクとして、充填材
として、歯科用材料として、粘着剤として、又は成形
物、例えばプリント板又はレリーフプレートの製造のた
めのこれらの物質の使用に関する。
【0005】
【従来の技術】エチレン性不飽和化合物の重合のための
慣用の光開始剤は、例えば、アセトフェノン及びベンゾ
フェノン誘導体のような芳香族ケトン、チオキサント
ン、ベンゾインエーテル及びベンジル ケタールであ
る。しかしながら、これらの開始剤で硬化された物質は
望ましくない黄色化を示し、このため、これらを白色顔
料の添加剤として使用することはできない。他の不利益
は、硬化された層が薄い厚さを有することである。
慣用の光開始剤は、例えば、アセトフェノン及びベンゾ
フェノン誘導体のような芳香族ケトン、チオキサント
ン、ベンゾインエーテル及びベンジル ケタールであ
る。しかしながら、これらの開始剤で硬化された物質は
望ましくない黄色化を示し、このため、これらを白色顔
料の添加剤として使用することはできない。他の不利益
は、硬化された層が薄い厚さを有することである。
【0006】例えば、ヨーロッパ特許第57474号又
は同第73413号に記載されているように、アシルホ
スフィン オキシドで改善することは可能である。
は同第73413号に記載されているように、アシルホ
スフィン オキシドで改善することは可能である。
【0007】ヨーロッパ特許第184095号に記載さ
れているビスアシルホスフィン オキシドは光重合物質
には不十分にのみ溶解し、それゆえ製造するのがむずか
しい。 一般に、極めて反応性である光開始剤に対する
需要がある。
れているビスアシルホスフィン オキシドは光重合物質
には不十分にのみ溶解し、それゆえ製造するのがむずか
しい。 一般に、極めて反応性である光開始剤に対する
需要がある。
【0008】より高度に反応性である光開始剤は、光重
合可能な物質に添加される硬化のために必要な量を減ら
すことが可能である。特に、硬化速度は又増大する反応
性とともに増加する。この利点は、今日一般的に使用さ
れている製造方法、即ち、光重合可能な物質がコンベヤ
ベルト上に置かれ、照射源の下に運ばれるという方法
においては、特に重要である。硬化時間が短くなればな
る程、コンベヤ ベルトのスピードを速くすることが可
能であり、単位時間当たりの仕事量が増加する。
合可能な物質に添加される硬化のために必要な量を減ら
すことが可能である。特に、硬化速度は又増大する反応
性とともに増加する。この利点は、今日一般的に使用さ
れている製造方法、即ち、光重合可能な物質がコンベヤ
ベルト上に置かれ、照射源の下に運ばれるという方法
においては、特に重要である。硬化時間が短くなればな
る程、コンベヤ ベルトのスピードを速くすることが可
能であり、単位時間当たりの仕事量が増加する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、極め
て高い反応性を有し、かつ、硬化された物質の黄色化を
生じない光開始剤を提供することである。
て高い反応性を有し、かつ、硬化された物質の黄色化を
生じない光開始剤を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者は、この目的は
上述したアレンビスホスフィン オキシド及びそれを光
重合可能な物質中での光開始剤として使用することによ
り達成されることを見い出した。
上述したアレンビスホスフィン オキシド及びそれを光
重合可能な物質中での光開始剤として使用することによ
り達成されることを見い出した。
【0011】一般式I中のアレンビスホスフィン オキ
シドにおいて、R1〜R4はそれぞれ互いに独立して好適
には水素、C−原子数1〜6のアルキル又はC−原子数
1〜6のアルコキシである。R1〜R4は、それぞれ、特
に好適には、水素又は数1〜6のアルキル基、C−原子
数5〜10のシクロアルキル基又はC−原子数1〜4の
アルキルである。特に、アレンビスホスフィン オキサ
イドはメシチレンから誘導され、その結果、R1〜R4の
基の1つは水素であり、残りの基は芳香環において互い
にメタ−位にあるC−原子数1〜4のアルキル、好適に
はメチルである。 R1〜R4の例は、水素並びにメチ
ル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチ
ル、アミル、n−ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、エトキシエトキシ又はフェノキシ、メ
チルフェノキシ又はベンジルオキシのようなアリールオ
キシである。
シドにおいて、R1〜R4はそれぞれ互いに独立して好適
には水素、C−原子数1〜6のアルキル又はC−原子数
1〜6のアルコキシである。R1〜R4は、それぞれ、特
に好適には、水素又は数1〜6のアルキル基、C−原子
数5〜10のシクロアルキル基又はC−原子数1〜4の
アルキルである。特に、アレンビスホスフィン オキサ
イドはメシチレンから誘導され、その結果、R1〜R4の
基の1つは水素であり、残りの基は芳香環において互い
にメタ−位にあるC−原子数1〜4のアルキル、好適に
はメチルである。 R1〜R4の例は、水素並びにメチ
ル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチ
ル、アミル、n−ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、エトキシエトキシ又はフェノキシ、メ
チルフェノキシ又はベンジルオキシのようなアリールオ
キシである。
【0012】R5及びR6は、それぞれ互いに独立して、
好適にはC−原子数1〜6のアルキル、−原子数1〜6
のアルコキシ又はC−原子数5〜12のアリールであ
る。R5及びR6は特に好適にはC−原子数1〜4のアル
コキシ又はフェニル環である。
好適にはC−原子数1〜6のアルキル、−原子数1〜6
のアルコキシ又はC−原子数5〜12のアリールであ
る。R5及びR6は特に好適にはC−原子数1〜4のアル
コキシ又はフェニル環である。
【0013】R5及びR6の可能な基の例は、エチル、イ
ソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、アミル、n−
ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニ
ル、ナフチルのようなアリール、モノ又はジクロロフェ
ニルのようなハロゲン置換アリール、メチルフェニル、
エチルフェニル、イソプロピルフェニル、tert−ブ
チルフェニル又はジメチルフェニルのようなアルキル−
置換フェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル又
はジメトキシフェニルのようなアルコキシ−置換アリー
ル、チオフェニル又はピリジルのようなS−又はN−含
有の5−又は6員環、メトキシ、エトキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ又はエトキシエトキシのようなアルコキ
シ、又はフェノキシ、メトキシフェノキシ又はベンジル
オキシのようなアリールオキシである。
ソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、アミル、n−
ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニ
ル、ナフチルのようなアリール、モノ又はジクロロフェ
ニルのようなハロゲン置換アリール、メチルフェニル、
エチルフェニル、イソプロピルフェニル、tert−ブ
チルフェニル又はジメチルフェニルのようなアルキル−
置換フェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル又
はジメトキシフェニルのようなアルコキシ−置換アリー
ル、チオフェニル又はピリジルのようなS−又はN−含
有の5−又は6員環、メトキシ、エトキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ又はエトキシエトキシのようなアルコキ
シ、又はフェノキシ、メトキシフェノキシ又はベンジル
オキシのようなアリールオキシである。
【0014】アレンビスホスフィン オキシドの例は、
1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボニル)ベンゼ
ン、1,3−ビス(ジエトキシホスホノカルボニル)ベ
ンゼン、1,3−ビス(エトキシフェニルホスホノカル
ボニル)ベンゼン、又は、その相応の1,2−又は1,
4−置換体、1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボ
ニル)−2,4,6−トリメトキシベンゼン、1,3−
ビス(ジエトキシホスホノカルボニル)−2,4,6−
トリメトキシベンゼン、1,3−ビス(エトキシフェニ
ルホスホノカルボニル)−2,4,6−トリメトキシベ
ンゼン、1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボニ
ル)−2,4,6−トリクロロベンゼン、1,3−ビス
(ジエトキシホスホノカルボニル)−2,4,6−トリ
クロロベンゼン、1,3−ビス(エトキシフェニルホス
ホノカルボニル)−2,4,6−トリクロロベンゼン、
又は次式;
1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボニル)ベンゼ
ン、1,3−ビス(ジエトキシホスホノカルボニル)ベ
ンゼン、1,3−ビス(エトキシフェニルホスホノカル
ボニル)ベンゼン、又は、その相応の1,2−又は1,
4−置換体、1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボ
ニル)−2,4,6−トリメトキシベンゼン、1,3−
ビス(ジエトキシホスホノカルボニル)−2,4,6−
トリメトキシベンゼン、1,3−ビス(エトキシフェニ
ルホスホノカルボニル)−2,4,6−トリメトキシベ
ンゼン、1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボニ
ル)−2,4,6−トリクロロベンゼン、1,3−ビス
(ジエトキシホスホノカルボニル)−2,4,6−トリ
クロロベンゼン、1,3−ビス(エトキシフェニルホス
ホノカルボニル)−2,4,6−トリクロロベンゼン、
又は次式;
【0015】
【化3】
【0016】の構造を有するものである。
【0017】アレンホスフィン オキシドの製造におい
て、次式II:
て、次式II:
【0018】
【化4】
【0019】[式中、R1〜R4は上述の意味を有する]
の化合物から出発することが可能である。化合物II
は、極めて特に好適には、メシチレン(1,3,5−ト
リメチルベンゼン)である。
の化合物から出発することが可能である。化合物II
は、極めて特に好適には、メシチレン(1,3,5−ト
リメチルベンゼン)である。
【0020】式IIの化合物は、触媒としての酸化鉄
(III)の存在下、0〜150℃、好適には50〜1
00℃、かつ0.01〜50、好適には0.5〜5バー
ルで、α−ハロアセチル ハライド、特にはα−ハロア
セチル クロリド、例えば、クロロアセチル クロリド
又はブロモアセチルクロリドと反応させることにより、
次式
(III)の存在下、0〜150℃、好適には50〜1
00℃、かつ0.01〜50、好適には0.5〜5バー
ルで、α−ハロアセチル ハライド、特にはα−ハロア
セチル クロリド、例えば、クロロアセチル クロリド
又はブロモアセチルクロリドと反応させることにより、
次式
【0021】
【化5】
【0022】のビスハロアセトフェノンに変換させるこ
とができる。この反応は溶媒の存在下又は不存在下でな
し得る。適当な溶媒の例は、ニトロベンゼン又はクロロ
ベンゼンのような芳香族化合物、ジクロロエタン又はジ
クロロメタンのようなハロゲン化アルカン、又は、ヘキ
サン又はヘプタンのようなアルカンである。
とができる。この反応は溶媒の存在下又は不存在下でな
し得る。適当な溶媒の例は、ニトロベンゼン又はクロロ
ベンゼンのような芳香族化合物、ジクロロエタン又はジ
クロロメタンのようなハロゲン化アルカン、又は、ヘキ
サン又はヘプタンのようなアルカンである。
【0023】2個のハロアセチル基を導入するために
は、1モルの化合物II当たり少くとも2モルのα−ハ
ロアセチル ハライドが使用される。
は、1モルの化合物II当たり少くとも2モルのα−ハ
ロアセチル ハライドが使用される。
【0024】出発成分は、2:1〜20:1(α−ハロ
アセチル ハライド:化合物II)で、特に好適には化
学的量論量のモル比で使用される。
アセチル ハライド:化合物II)で、特に好適には化
学的量論量のモル比で使用される。
【0025】得られた化合物IIIは、ハロホルム開裂
により、次式:
により、次式:
【0026】
【化6】
【0027】のジカルボン酸に変換させ得る。
【0028】化合物IIIのハロホルム開裂は、相転移
触媒の存在下、0〜150℃、好適には30〜80℃、
特に好適には40〜70℃かつ0.01〜50、好適に
は0.1〜5バール、特に好適には大気圧においてアル
カリ金属次亜ハロゲン酸塩溶液中で好適に実施される。
アルカリ金属次亜ハロゲン酸塩溶液は、アルカリ金属水
酸化物の溶液と塩素又は臭素のようなハロゲン、好適に
は塩素を反応させる間にその場(in situ)で製
造され得るものとして使用できる。
触媒の存在下、0〜150℃、好適には30〜80℃、
特に好適には40〜70℃かつ0.01〜50、好適に
は0.1〜5バール、特に好適には大気圧においてアル
カリ金属次亜ハロゲン酸塩溶液中で好適に実施される。
アルカリ金属次亜ハロゲン酸塩溶液は、アルカリ金属水
酸化物の溶液と塩素又は臭素のようなハロゲン、好適に
は塩素を反応させる間にその場(in situ)で製
造され得るものとして使用できる。
【0029】適当なアルカリ金属水酸化物は、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ル
ビジウム及び水酸化セシウムであり、特に好適なものは
水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムである。化合物I
IIに対するアルカリ金属次亜ハロゲン酸塩のモル比
は、広範囲に変えることができ、一般に0.8:1〜5
0:1、好適には1:1〜20:1、特に好適には1:
1〜5:1である。
チウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ル
ビジウム及び水酸化セシウムであり、特に好適なものは
水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムである。化合物I
IIに対するアルカリ金属次亜ハロゲン酸塩のモル比
は、広範囲に変えることができ、一般に0.8:1〜5
0:1、好適には1:1〜20:1、特に好適には1:
1〜5:1である。
【0030】好ましい相転移触媒は第4級塩であり、特
に、次式
に、次式
【0031】
【化7】
【0032】[式中、個々の基Rは同一又は異なって、
及び互いに独立して、それぞれ脂肪族、環式脂肪族、芳
香族又は芳香脂肪族基であり、Yは窒素、リン又はヒ素
であり、そして、Zはアニオンである]で表わされる触
媒である。好適な触媒において、Rはアルキル又はアル
コキシ、それぞれは、1〜18個、特には1〜7個の炭
素原子であるか、5〜8個の炭素原子のシクロアルキ
ル、7〜12個の炭素原子のアルアルキル、アルキルア
リール、又はフェニルである。
及び互いに独立して、それぞれ脂肪族、環式脂肪族、芳
香族又は芳香脂肪族基であり、Yは窒素、リン又はヒ素
であり、そして、Zはアニオンである]で表わされる触
媒である。好適な触媒において、Rはアルキル又はアル
コキシ、それぞれは、1〜18個、特には1〜7個の炭
素原子であるか、5〜8個の炭素原子のシクロアルキ
ル、7〜12個の炭素原子のアルアルキル、アルキルア
リール、又はフェニルである。
【0033】アニオンのZ~は、例えば、塩酸、硫酸、
リン酸のような鉱酸、ベンゼン及びp−トルエンスルホ
ン酸のようなスルホン酸、又はカルボン酸、特にモノ
−、ジ−又はトリクロロ酢酸に由来させることができ
る。
リン酸のような鉱酸、ベンゼン及びp−トルエンスルホ
ン酸のようなスルホン酸、又はカルボン酸、特にモノ
−、ジ−又はトリクロロ酢酸に由来させることができ
る。
【0034】ジカルボン酸は、次いで、
【0035】
【化8】
【0036】で表わされるビスアシル クロリドに転換
され、これは塩化チオニルとの慣用の反応により実施さ
れる。
され、これは塩化チオニルとの慣用の反応により実施さ
れる。
【0037】最後に、一般式:
【0038】
【化9】
【0039】[式中、R5及びR6は上述の意味を有し、
R7はC−原子数1〜6のアルキル、C−原子数5から
10のシクロアルキル又はC−原子数1〜6のアルコキ
シである]で表わされるホスフィンと反応させてアレン
ビスホフィンオキシドが得られる。
R7はC−原子数1〜6のアルキル、C−原子数5から
10のシクロアルキル又はC−原子数1〜6のアルコキ
シである]で表わされるホスフィンと反応させてアレン
ビスホフィンオキシドが得られる。
【0040】適当なホスフィンの例は、メチルジメトキ
シホスフィン、ブチルジメトキシホスフィン、フェニル
ジメトキシホスフィン、トリルジメトキシホスフィン、
フェニルジエトキシホスフィン、トリルジエトキシホス
フィン、フェニルジブトキシホスフィン、トリルジブト
キシホスフィン又はジメチルメトキシホスフィン、ジブ
チルメトキシホスフィン、ジメチルブトキシホスフィ
ン、ジフェニルメトキシホスフィン、ジフェニルエトキ
シホスフィン、ジフェニルプロポキシホスフィン、ジフ
ェニルイソプロポキシホスフィン、ジフェニルブトキシ
ホスフィン、又はトリメチルホスファイト、トリエチル
ホスファイト、トリプロピル ホスファイト、トリイ
ソプロピル ホスファイト及びトリブチル ホスファイ
トである。
シホスフィン、ブチルジメトキシホスフィン、フェニル
ジメトキシホスフィン、トリルジメトキシホスフィン、
フェニルジエトキシホスフィン、トリルジエトキシホス
フィン、フェニルジブトキシホスフィン、トリルジブト
キシホスフィン又はジメチルメトキシホスフィン、ジブ
チルメトキシホスフィン、ジメチルブトキシホスフィ
ン、ジフェニルメトキシホスフィン、ジフェニルエトキ
シホスフィン、ジフェニルプロポキシホスフィン、ジフ
ェニルイソプロポキシホスフィン、ジフェニルブトキシ
ホスフィン、又はトリメチルホスファイト、トリエチル
ホスファイト、トリプロピル ホスファイト、トリイ
ソプロピル ホスファイト及びトリブチル ホスファイ
トである。
【0041】ビスアシル クロリドとホスフィンの反応
は、溶媒中、例えば石油エーテル、トルエン又はシクロ
ヘキサンのような炭化水素又は炭化水素混合物、エーテ
ル又は他の慣用の不活性有機溶媒中で、又は溶媒の非存
在下、−30〜150℃、好適には10〜100℃で実
施することができる。生成物は溶媒から直接に結晶化で
き、又は、蒸発後残すことができる。
は、溶媒中、例えば石油エーテル、トルエン又はシクロ
ヘキサンのような炭化水素又は炭化水素混合物、エーテ
ル又は他の慣用の不活性有機溶媒中で、又は溶媒の非存
在下、−30〜150℃、好適には10〜100℃で実
施することができる。生成物は溶媒から直接に結晶化で
き、又は、蒸発後残すことができる。
【0042】反応においては、良好な転換率のため出発
物質の一方を過剰にすることは一般に不必要であり、出
発物質は化学量論量で使用しうる。
物質の一方を過剰にすることは一般に不必要であり、出
発物質は化学量論量で使用しうる。
【0043】アレンビスホスフィン オキシドは、光重
合性物質における光開始剤として使用しうる。
合性物質における光開始剤として使用しうる。
【0044】かかる光重合性又は照射−硬化可能な物質
は、光重合可能なエチレン系不飽和化合物を含む。
は、光重合可能なエチレン系不飽和化合物を含む。
【0045】適当な光重合可能なモノマーは、例えば、
アリール、カルボニル、アミノ、アミド、エステル、カ
ルボキシ又はシアノ基、ハロケン原子又は他のC−C二
重又はC−C三重結合により活性化されている、重合可
能なC−C二重結合を有する化合物である。これらの例
は、ビニルエーテル及びビニル エステル、スチレン、
ビニルトルエン、アクリル酸及びメタアクリル酸及びそ
れらの一価及び多価アルコールとのエステル、それらの
ニトリル又はアミド、マレイン酸エステル及びフマル酸
エステルN−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラク
タム、N−ビニルカルバゾール及びジアリル フタレー
トのようなアリル エステルである。
アリール、カルボニル、アミノ、アミド、エステル、カ
ルボキシ又はシアノ基、ハロケン原子又は他のC−C二
重又はC−C三重結合により活性化されている、重合可
能なC−C二重結合を有する化合物である。これらの例
は、ビニルエーテル及びビニル エステル、スチレン、
ビニルトルエン、アクリル酸及びメタアクリル酸及びそ
れらの一価及び多価アルコールとのエステル、それらの
ニトリル又はアミド、マレイン酸エステル及びフマル酸
エステルN−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラク
タム、N−ビニルカルバゾール及びジアリル フタレー
トのようなアリル エステルである。
【0046】光重合可能で、相対的に高い分子量の化合
物の例としては、マレイン酸、フマル酸又はイタコン酸
のようなα,β−不飽和カルボン酸、所望ならば、アジ
ピン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸又はテレフタ
ル酸のような飽和の又は芳香族ジカルボン酸、及びエチ
レン グリコール、プロピレン グルコール、ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール又はオキシアルキル化
されたビスフェノールAのようなアルカンジオールとの
混合物をペースとする不飽和ポリエステルである。
物の例としては、マレイン酸、フマル酸又はイタコン酸
のようなα,β−不飽和カルボン酸、所望ならば、アジ
ピン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸又はテレフタ
ル酸のような飽和の又は芳香族ジカルボン酸、及びエチ
レン グリコール、プロピレン グルコール、ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール又はオキシアルキル化
されたビスフェノールAのようなアルカンジオールとの
混合物をペースとする不飽和ポリエステルである。
【0047】アクリル酸又はメタアクリル酸とジグリシ
ジルエーテル、又はポリエステル(メタ)アクリレート
又はウレタン(メタ)アクリレートの反応により得られ
る(ポリ)エポキシド(メタ)アクリレートもまた重要
である。
ジルエーテル、又はポリエステル(メタ)アクリレート
又はウレタン(メタ)アクリレートの反応により得られ
る(ポリ)エポキシド(メタ)アクリレートもまた重要
である。
【0048】光重合可能な物質は、一般に、重合可能な
物質に基づいて、0.001〜20%、好適には0.1
〜5重量%の濃度で新規化合物を含有する。
物質に基づいて、0.001〜20%、好適には0.1
〜5重量%の濃度で新規化合物を含有する。
【0049】アレンビスホスフィン オキシドは、空気
中の酸素が光重合反応に与える抑制作用に拮抗する促進
剤と組み合わせることができる。
中の酸素が光重合反応に与える抑制作用に拮抗する促進
剤と組み合わせることができる。
【0050】かかる促進剤又は相乗作用剤は、例えば、
メチルジエタノールアミン、ジメチルエタノールアミ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、エチル
p−ジメチルアミノベンゾエート、ベンジルジメチル
アミン、ジメチルアミノエチルアクリレート、N−フェ
ニルグリシン、N−メチルグリシンのような第二級及び
/又は第三級アミン、及び当業者に既知の類似の化合物
である。2−クロロメチルナフタレン又は1−クロロ−
2−クロロメチルナフタレンのような脂肪族及び芳香族
ハライド又はパーオキシド及びアゾ化合物のようなフリ
ーラジカル形成剤も、硬化を促進するために使用しう
る。
メチルジエタノールアミン、ジメチルエタノールアミ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、エチル
p−ジメチルアミノベンゾエート、ベンジルジメチル
アミン、ジメチルアミノエチルアクリレート、N−フェ
ニルグリシン、N−メチルグリシンのような第二級及び
/又は第三級アミン、及び当業者に既知の類似の化合物
である。2−クロロメチルナフタレン又は1−クロロ−
2−クロロメチルナフタレンのような脂肪族及び芳香族
ハライド又はパーオキシド及びアゾ化合物のようなフリ
ーラジカル形成剤も、硬化を促進するために使用しう
る。
【0051】アレンビスホスフィン オキシドと既知の
光開始剤の混合物も使用しうる。かかる混合物が使用さ
れると、或る場合には相乗作用が観察される。
光開始剤の混合物も使用しうる。かかる混合物が使用さ
れると、或る場合には相乗作用が観察される。
【0052】特に効果的な相乗効果をもつ混合物は、芳
香族ケトン、特にベンジル ジメチルケタール、ヒドロ
キシイソブチロフェノン、ジエトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノン、2−メチルチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン及び2−クロロチオキサントン
に基づく既知の光開始剤との組み合わせから得られる。
アレンビスホスフィン オキシドを含有する新規な光
重合可能な物質は、極めて良好な保存性を有する。
香族ケトン、特にベンジル ジメチルケタール、ヒドロ
キシイソブチロフェノン、ジエトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノン、2−メチルチオキサントン、2−イソ
プロピルチオキサントン及び2−クロロチオキサントン
に基づく既知の光開始剤との組み合わせから得られる。
アレンビスホスフィン オキシドを含有する新規な光
重合可能な物質は、極めて良好な保存性を有する。
【0053】光重合可能な物質は、コーティング物質、
例えば表面コーティング又はプリントインクとして、又
は、成形品の製造、例えばプリント板、フォトレジスト
又はレリーフプレートのために使用しうる。
例えば表面コーティング又はプリントインクとして、又
は、成形品の製造、例えばプリント板、フォトレジスト
又はレリーフプレートのために使用しうる。
【0054】さらに、この光重合可能な物質は、充填剤
として使用しうる。不飽和のポリエステル又は(ポリ)
エポキシド(メタ)−アクリレートをベースとする上述
の物質は、また、この適用のためにも適当である。
として使用しうる。不飽和のポリエステル又は(ポリ)
エポキシド(メタ)−アクリレートをベースとする上述
の物質は、また、この適用のためにも適当である。
【0055】他の可能な使用は、歯科用組成物、例えば
歯科用充填物質又は義歯としての使用である。
歯科用充填物質又は義歯としての使用である。
【0056】光重合可能な物質は、さらに、溶液、又は
分散液、特に、光重合可能な化合物を含む水性分散液で
あり得る。光重合可能な物質を表面コーティングとして
使用するとき、意図された使用にとって慣用の添加剤、
例えば染料又は塗料を含むことができる。
分散液、特に、光重合可能な化合物を含む水性分散液で
あり得る。光重合可能な物質を表面コーティングとして
使用するとき、意図された使用にとって慣用の添加剤、
例えば染料又は塗料を含むことができる。
【0057】他の添加剤の例は、熱重合抑制御、レベル
化剤(levelirg agents)、充填剤及び
不活性剤(dulling agents)並びに熱又
は光化学的分解に対する安定剤である。
化剤(levelirg agents)、充填剤及び
不活性剤(dulling agents)並びに熱又
は光化学的分解に対する安定剤である。
【0058】この混合物の重合を開始させる光として使
用される照射源は、新規化合物の吸収帯域、即ち、特に
230〜450nmの間で光を放出するものである。
用される照射源は、新規化合物の吸収帯域、即ち、特に
230〜450nmの間で光を放出するものである。
【0059】低圧、中程度の圧力及び高圧の水銀ランプ
及び螢光管又はパルス管が特に適当である。
及び螢光管又はパルス管が特に適当である。
【0060】新規な光開始剤は、光重合可能な物質特に
白色の塗料の表面コーティングを黄色化することなく硬
化するために使用しうる。さらに、新規な光開始剤は高
い反応性を有する。光重合可能な物質の硬化時間は、こ
のアレンビスホスフィン オキシドの高い反応性のため
に、かなり減少する。
白色の塗料の表面コーティングを黄色化することなく硬
化するために使用しうる。さらに、新規な光開始剤は高
い反応性を有する。光重合可能な物質の硬化時間は、こ
のアレンビスホスフィン オキシドの高い反応性のため
に、かなり減少する。
【0061】
I. アレンビスホスフィン オキシドの製造
【0062】
【化10】
【0063】1,3−ビス(ジフェニルホスホノカルボ
ニル)−2,4,6−トリメチルベンゼン 第一段階において、まず、1,3,5−トリメチルベン
ゼン240g及びFe2O3160mgをとり、80℃に
加熱した。1時間かけて、合計503gのクロロアセチ
ル クロリドを添加した。添加開始直後に、触媒Fe2
O3が完全に溶解して赤色になり、同時にHClの発生
が始まった。理論量の50%のHClが発生したら、反
応混合物中への窒素の導入を開始した。
ニル)−2,4,6−トリメチルベンゼン 第一段階において、まず、1,3,5−トリメチルベン
ゼン240g及びFe2O3160mgをとり、80℃に
加熱した。1時間かけて、合計503gのクロロアセチ
ル クロリドを添加した。添加開始直後に、触媒Fe2
O3が完全に溶解して赤色になり、同時にHClの発生
が始まった。理論量の50%のHClが発生したら、反
応混合物中への窒素の導入を開始した。
【0064】ガスの発生の終了時に、反応混合物に水5
gを添加し、減圧下で蒸留を実施した。生成物の1,3
−ビス(クロロアセチル)−2,4,6−トリメチルベ
ンゼンは0.3ミリバールで140℃の沸点並びに12
9〜131℃の融点を有していた。収量は376gであ
った。
gを添加し、減圧下で蒸留を実施した。生成物の1,3
−ビス(クロロアセチル)−2,4,6−トリメチルベ
ンゼンは0.3ミリバールで140℃の沸点並びに12
9〜131℃の融点を有していた。収量は376gであ
った。
【0065】第二段階において、まず次亜塩素酸ナトリ
ウム溶液500g(活性塩素の重量として13%)、2
5%濃度の水酸化ナトリウム溶液720g及び50%濃
度の水溶液としてのジメチル−ジベンジルアンモニウム
クロリド4gをとり、50℃に加熱した。その後、
1,3−ビス(クロロアセチル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン85gを添加した、塩素ガス66gを1時
間通過させ、その後、還流温度(約105〜108℃)
で5時間撹拌した。
ウム溶液500g(活性塩素の重量として13%)、2
5%濃度の水酸化ナトリウム溶液720g及び50%濃
度の水溶液としてのジメチル−ジベンジルアンモニウム
クロリド4gをとり、50℃に加熱した。その後、
1,3−ビス(クロロアセチル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン85gを添加した、塩素ガス66gを1時
間通過させ、その後、還流温度(約105〜108℃)
で5時間撹拌した。
【0066】室温まで冷却した後、反応溶液をとり出
し、約200mlの濃塩酸でpH2にした。白色の懸濁
液を濾過し、沈澱を水250mlで2度洗い、減圧下で
80℃にて乾燥した。
し、約200mlの濃塩酸でpH2にした。白色の懸濁
液を濾過し、沈澱を水250mlで2度洗い、減圧下で
80℃にて乾燥した。
【0067】2,4,6−トリメチルベンゼン−1,3
−ジカルボン酸61.5gを得た。
−ジカルボン酸61.5gを得た。
【0068】第三段階では、まずチオニル クロリド8
5gを最初にとり、40℃に加熱した。これに45分か
かって、2,4,6−トリメチルベンゼン−1,3−ジ
カルボン酸57.3gを加えた。ガスの発生が終わるま
で、40〜50℃で撹拌を続けた。
5gを最初にとり、40℃に加熱した。これに45分か
かって、2,4,6−トリメチルベンゼン−1,3−ジ
カルボン酸57.3gを加えた。ガスの発生が終わるま
で、40〜50℃で撹拌を続けた。
【0069】残渣を減圧下で蒸留すると、1.4ミリバ
ールで113℃の沸点を有する2,4,6−トリメチル
ベンゼン−1,3−ジカルボニル ジクロリド38gが
得られた。
ールで113℃の沸点を有する2,4,6−トリメチル
ベンゼン−1,3−ジカルボニル ジクロリド38gが
得られた。
【0070】第4段階において、まず、2,4,6−ト
リメチルベンゼン−1,3−ジカルボニル ジクロリド
34.3gを80℃にした。1時間かけて、エトキシジ
フェニルフィン64.4gを添加し、この温度でさらに
1時間撹拌した。キシレン50ml及びミネラルスピリ
ット50mlを順次添加した。生成物をゆっくり冷却し
て結晶化させ、吸引濾過し、そして、減圧下で乾燥させ
た。
リメチルベンゼン−1,3−ジカルボニル ジクロリド
34.3gを80℃にした。1時間かけて、エトキシジ
フェニルフィン64.4gを添加し、この温度でさらに
1時間撹拌した。キシレン50ml及びミネラルスピリ
ット50mlを順次添加した。生成物をゆっくり冷却し
て結晶化させ、吸引濾過し、そして、減圧下で乾燥させ
た。
【0071】収量は、1.3−ビス(ジフェニルホスホ
ノカルボニル)−2,4,6−トリメチルベンゼン75
gであった(融点164〜165℃)。
ノカルボニル)−2,4,6−トリメチルベンゼン75
gであった(融点164〜165℃)。
【0072】
【化11】
【0073】1,3−ビス(エトキシフェニルホスホノ
カルボニル)−2,4,6−トリメチルベンゼン 最初の3つの段階における製造は、A)におけるように
して実施した。第4段階において、2,4,6−トリメ
チルベンゼン−1,3−ジカルボニルジクロリド53g
及びジエトキシフェニルホスフィン74gを80℃にお
いてAにおける第四段階と同様に反応させた。液体の最
終生成物107gが得られた。
カルボニル)−2,4,6−トリメチルベンゼン 最初の3つの段階における製造は、A)におけるように
して実施した。第4段階において、2,4,6−トリメ
チルベンゼン−1,3−ジカルボニルジクロリド53g
及びジエトキシフェニルホスフィン74gを80℃にお
いてAにおける第四段階と同様に反応させた。液体の最
終生成物107gが得られた。
【0074】II. 性能特性の試験 反応性の決定 以下に示す光開始剤4gを、アルコキシ化されたトリメ
チロールプロパンとアクリル酸の反応生成物をベースと
するオリゴエーテルアクリレート96g中に溶解させた
(BASFからLaromer LR 8812(登録
商標)として得られる。)。光重合可能な物質をアート
紙に50g/m2の層の厚さで施与し、30cmの距離
で高圧水銀ランプ(120w/cm)下、ベルトコンベ
ヤーで移送させた。
チロールプロパンとアクリル酸の反応生成物をベースと
するオリゴエーテルアクリレート96g中に溶解させた
(BASFからLaromer LR 8812(登録
商標)として得られる。)。光重合可能な物質をアート
紙に50g/m2の層の厚さで施与し、30cmの距離
で高圧水銀ランプ(120w/cm)下、ベルトコンベ
ヤーで移送させた。
【0075】硬化が起っているコンベヤベルトの可能な
最大可能速度は、光開始剤の反応性の尺度である。
最大可能速度は、光開始剤の反応性の尺度である。
【0076】 コンベアベルトの可能な 光開始剤 最大可能速度 [m/分] 実施例IAから 20 実施例IBから 20 比較のため 2,4,6−トリメチルベンゾイル −ジフェニルホスフィン オキシド 16 (Lucirin TPO,BASF 登録商標)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // A61K 6/083 530 7019−4C C08F 2/50 MDN 7442−4J (72)発明者 マティアス ロカイ ドイツ連邦共和国 エンケンバッハ−アル ゼンボルン グリュンシュタッター シュ トラーセ 11
Claims (1)
- 【請求項1】 次式 【化1】 [式中、基R1からR4は互いに独立して、水素原子又は
C−原子数1〜6のアルキル、アルコキシ基又はC−原
子数5〜12のアリール、C−原子数5〜12のアリー
ルオキシ−又はC−原子数7〜14のアリールアルコキ
シ基であり、R5及びR6は互いに独立してC−原子数1
〜6のアルキル基、C−原子数5〜10のシクロアルキ
ル基又はC−原子数5〜12のアリール基(これらは、
さらに環系に1又は2個の窒素又はイオウ原子を有して
もよく又は、環系に置換基として1又は2個のハロゲン
原子又はC−原子1〜6のアルキル又はC−原子1〜6
のアルコキシ基を保持してもよい)又はC−原子数1〜
6のアルコキシ、C−原子数3〜8のアルキルオキシア
ルコキシ、C−原子数5〜12のアリールオキシ又はC
−原子数7〜14のアリールアルコキシ基であるか、又
はR5及びR6は一緒になって2〜10個の炭素原子の架
橋を形成し、その際、炭素原子の幾つかはさらに芳香環
の一部であってもよい]で表わされる、アレンビスホス
フィン オキシド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4240964A DE4240964A1 (de) | 1992-12-05 | 1992-12-05 | Arenbisphosphinoxide |
DE4240964.0 | 1992-12-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06247992A true JPH06247992A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=6474468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5302778A Pending JPH06247992A (ja) | 1992-12-05 | 1993-12-02 | アレンビスホスフィン オキシド |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5410060A (ja) |
EP (1) | EP0601413B1 (ja) |
JP (1) | JPH06247992A (ja) |
CA (1) | CA2110631A1 (ja) |
DE (2) | DE4240964A1 (ja) |
ES (1) | ES2142329T3 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005529167A (ja) * | 2002-06-11 | 2005-09-29 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | モノ−およびビス−アシルホスフィンオキサイドのマルチマー形態 |
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