JPH0621194A - 基板脱着装置 - Google Patents
基板脱着装置Info
- Publication number
- JPH0621194A JPH0621194A JP19910192A JP19910192A JPH0621194A JP H0621194 A JPH0621194 A JP H0621194A JP 19910192 A JP19910192 A JP 19910192A JP 19910192 A JP19910192 A JP 19910192A JP H0621194 A JPH0621194 A JP H0621194A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- back plate
- substrate holder
- guide rail
- lower guide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Discharge Of Articles From Conveyors (AREA)
- Separation, Sorting, Adjustment, Or Bending Of Sheets To Be Conveyed (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明の目的は、基板を脱着する間、基板の
処理面がクリーンなガスのダウンフローを受け、ゴミの
付着を減少でき、かつ、クリーンルームの設置面積を小
さくすることの可能な基板脱着装置を提供することであ
る。 【構成】この発明の基板脱着装置は、搬送機構によって
レール上を走行するキャリアと、このキャリアに垂直に
ピン結合された基板ホルダーと、この基板ホルダーに裏
板を介して取り付けられた基板と、裏板を脱着させる裏
板脱着装置と、基板ホルダーの下部と係合し、基板ホル
ダーの走行をガイドする下部ガイドレールと、この下部
ガイドレールに取り付けられた傾斜機構とを備えたもの
である。
処理面がクリーンなガスのダウンフローを受け、ゴミの
付着を減少でき、かつ、クリーンルームの設置面積を小
さくすることの可能な基板脱着装置を提供することであ
る。 【構成】この発明の基板脱着装置は、搬送機構によって
レール上を走行するキャリアと、このキャリアに垂直に
ピン結合された基板ホルダーと、この基板ホルダーに裏
板を介して取り付けられた基板と、裏板を脱着させる裏
板脱着装置と、基板ホルダーの下部と係合し、基板ホル
ダーの走行をガイドする下部ガイドレールと、この下部
ガイドレールに取り付けられた傾斜機構とを備えたもの
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は真空成膜装置に用いら
れる基板脱着装置に関するものである。
れる基板脱着装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の基板脱着装置は図５に示されてお
り、同図において、垂直に立設された基板ホルダー１に
は基板３が裏板４によって固定され、また、基板ホルダ
ー１はキャリア５によって移動される構成になってい
る。
り、同図において、垂直に立設された基板ホルダー１に
は基板３が裏板４によって固定され、また、基板ホルダ
ー１はキャリア５によって移動される構成になってい
る。
【０００３】このような基板脱着装置において、基板ホ
ルダー１を９０°回転させ、水平にすると、それに伴っ
て基板３および裏板４も水平になる。その後、基板ホル
ダー１より裏板３を取り外し、そして、基板３を基板ホ
ルダー１より脱着する。
ルダー１を９０°回転させ、水平にすると、それに伴っ
て基板３および裏板４も水平になる。その後、基板ホル
ダー１より裏板３を取り外し、そして、基板３を基板ホ
ルダー１より脱着する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の基板脱着装置
は、上記のように基板ホルダー１を９０°回転させ、水
平にしてから、基板３を基板ホルダー１より脱着してい
る。そのため、真空成膜装置のクリーンルーム（図示せ
ず）内のダウンフローを基板３の処理面が受けられず、
基板３の処理面にゴミが付着し易くなる問題が起きた。
は、上記のように基板ホルダー１を９０°回転させ、水
平にしてから、基板３を基板ホルダー１より脱着してい
る。そのため、真空成膜装置のクリーンルーム（図示せ
ず）内のダウンフローを基板３の処理面が受けられず、
基板３の処理面にゴミが付着し易くなる問題が起きた。
【０００５】また、基板ホルダー１を９０°回転させ、
水平にするようにしているので、真空成膜装置のクリー
ンルームの設置面積が大きくなる問題が起きた。
水平にするようにしているので、真空成膜装置のクリー
ンルームの設置面積が大きくなる問題が起きた。
【０００６】この発明の目的は、従来の上記問題を解決
して、基板３を脱着する間、基板の処理面がクリーンな
ガスのダウンフローを受け、ゴミの付着を減少でき、か
つ、クリーンルームの設置面積を小さくすることの可能
な基板脱着装置を提供することである。
して、基板３を脱着する間、基板の処理面がクリーンな
ガスのダウンフローを受け、ゴミの付着を減少でき、か
つ、クリーンルームの設置面積を小さくすることの可能
な基板脱着装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の基板脱着装置は、搬送機構によってレー
ル上を走行するキャリアと、このキャリアに垂直にピン
結合された基板ホルダーと、この基板ホルダーに裏板を
介して取り付けられた基板と、裏板を脱着させる裏板脱
着機構と、基板ホルダーの下部と係合し、基板ホルダー
の走行をガイドする下部ガイドレールと、この下部ガイ
ドレールに取り付けられた傾斜機構とを備えたものであ
る。
に、この発明の基板脱着装置は、搬送機構によってレー
ル上を走行するキャリアと、このキャリアに垂直にピン
結合された基板ホルダーと、この基板ホルダーに裏板を
介して取り付けられた基板と、裏板を脱着させる裏板脱
着機構と、基板ホルダーの下部と係合し、基板ホルダー
の走行をガイドする下部ガイドレールと、この下部ガイ
ドレールに取り付けられた傾斜機構とを備えたものであ
る。
【０００８】
【作用】この発明においては、処理された基板を裏板脱
着室に移送した後、傾斜機構により下部ガイドレールを
作動させると、基板ホルダーが下部ガイドレールに引っ
張られ、ピン結合のピンを支点に回転し、所定の角度に
傾斜させられる。その後、傾斜した基板ホルダーより裏
板を裏板脱着機構で取り外し、基板ホルダーに基板だけ
を取り付けた状態にする。更にその後、搬送機構によっ
てキャリアをレール上に走行させ、基板だけを取り付け
た基板ホルダーを傾斜した状態で、基板脱着室に移送さ
せ、そこで、基板を基板ホルダーより取り外す。
着室に移送した後、傾斜機構により下部ガイドレールを
作動させると、基板ホルダーが下部ガイドレールに引っ
張られ、ピン結合のピンを支点に回転し、所定の角度に
傾斜させられる。その後、傾斜した基板ホルダーより裏
板を裏板脱着機構で取り外し、基板ホルダーに基板だけ
を取り付けた状態にする。更にその後、搬送機構によっ
てキャリアをレール上に走行させ、基板だけを取り付け
た基板ホルダーを傾斜した状態で、基板脱着室に移送さ
せ、そこで、基板を基板ホルダーより取り外す。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
しながら説明する。この発明の実施例は図１および図２
に示されており、同図において、裏板脱着室１１内の上
方にはレール１２上を走行するキャリア１３が配設ら
れ、そのキャリア１３は搬送機構１４によって作動す
る。搬送機構１４はモータ１５と、そのモータ１５によ
って回転するピニオンギア１６と、そのピニオンギア１
６と歯合するラック１７とによって構成されており、ラ
ック１７はキャリア１３に固定されている。キャリア１
３にはヒンジ（ピン結合）１８を介して基板ホルダー１
９が吊下され、その基板ホルダー１９には基板２０が裏
板２１を介して取り付けられている。裏板脱着機構２２
は裏板２１と対向するように配置されている。基板ホル
ダー１９の下部には、これと係合するように下部ガイド
レール２３が配設され、この下部ガイドレール２３によ
って基板ホルダー１９の走行をガイドしている。下部ガ
イドレール２３には傾斜機構２４が取り付けられ、その
傾斜機構２４はリンク機構２５と、このリンク機構２５
を動かすシリンダー２６とによって構成されている。な
お、２７はクリーンエアーユニットであり、裏板脱着室
１１の上部から下方へクリーンエアーをダウンフローに
流すように設けられている。
しながら説明する。この発明の実施例は図１および図２
に示されており、同図において、裏板脱着室１１内の上
方にはレール１２上を走行するキャリア１３が配設ら
れ、そのキャリア１３は搬送機構１４によって作動す
る。搬送機構１４はモータ１５と、そのモータ１５によ
って回転するピニオンギア１６と、そのピニオンギア１
６と歯合するラック１７とによって構成されており、ラ
ック１７はキャリア１３に固定されている。キャリア１
３にはヒンジ（ピン結合）１８を介して基板ホルダー１
９が吊下され、その基板ホルダー１９には基板２０が裏
板２１を介して取り付けられている。裏板脱着機構２２
は裏板２１と対向するように配置されている。基板ホル
ダー１９の下部には、これと係合するように下部ガイド
レール２３が配設され、この下部ガイドレール２３によ
って基板ホルダー１９の走行をガイドしている。下部ガ
イドレール２３には傾斜機構２４が取り付けられ、その
傾斜機構２４はリンク機構２５と、このリンク機構２５
を動かすシリンダー２６とによって構成されている。な
お、２７はクリーンエアーユニットであり、裏板脱着室
１１の上部から下方へクリーンエアーをダウンフローに
流すように設けられている。
【００１０】ところで、上記裏板脱着機構２２の詳細は
図３および図４に示されており、図３は裏板２１を保持
した図を示し、図４は裏板２１の保持を解除した図を示
している。これらの図において、３１はスライドプレー
ト、３２はスライドブッシュ、３３は軸受、３４はシリ
ンダー、３５はスライドシャフト、３６はベースプレー
ト、３７は裏板ノブ、３８はフィンガー、３９はハンド
シリンダーである。
図３および図４に示されており、図３は裏板２１を保持
した図を示し、図４は裏板２１の保持を解除した図を示
している。これらの図において、３１はスライドプレー
ト、３２はスライドブッシュ、３３は軸受、３４はシリ
ンダー、３５はスライドシャフト、３６はベースプレー
ト、３７は裏板ノブ、３８はフィンガー、３９はハンド
シリンダーである。
【００１１】このような実施例においては、処理された
基板２０を裏板脱着室１１に移送した後、傾斜機構２４
により下部ガイドレール２３を作動させると、基板ホル
ダー１９が下部ガイドレール２３によって斜めにひき引
き上げられ、ヒンジ１８を支点に回転し、７°の角度に
傾斜させられる。その後、傾斜した基板ホルダー１９よ
り裏板２１を裏板脱着機構２２で取り外し、基板ホルダ
ー１９に基板２０だけを取り付けた状態にする。更にそ
の後、搬送機構１４によってキャリア１３をレール１２
上に走行させ、基板２０だけを取り付けた基板ホルダー
１９を傾斜した状態で、裏板脱着室１１と連接された基
板脱着室（図示せず）に移送させ、そこで、基板２０を
基板ホルダー１９よりロボット又は手動で取り外す。
基板２０を裏板脱着室１１に移送した後、傾斜機構２４
により下部ガイドレール２３を作動させると、基板ホル
ダー１９が下部ガイドレール２３によって斜めにひき引
き上げられ、ヒンジ１８を支点に回転し、７°の角度に
傾斜させられる。その後、傾斜した基板ホルダー１９よ
り裏板２１を裏板脱着機構２２で取り外し、基板ホルダ
ー１９に基板２０だけを取り付けた状態にする。更にそ
の後、搬送機構１４によってキャリア１３をレール１２
上に走行させ、基板２０だけを取り付けた基板ホルダー
１９を傾斜した状態で、裏板脱着室１１と連接された基
板脱着室（図示せず）に移送させ、そこで、基板２０を
基板ホルダー１９よりロボット又は手動で取り外す。
【００１２】ところで、上記実施例は、基板ホルダー１
９の傾斜角度を７°にしているが、それ以上の角度にし
てもよい。また、キャリア１３に基板ホルダー１９を吊
下する代わりに、キャリア１３の上に基板ホルダー１９
を垂直にピン結合したものであってもよい。
９の傾斜角度を７°にしているが、それ以上の角度にし
てもよい。また、キャリア１３に基板ホルダー１９を吊
下する代わりに、キャリア１３の上に基板ホルダー１９
を垂直にピン結合したものであってもよい。
【００１３】
【発明の効果】この発明は、上記のような構成をしてい
るので、基板を脱着する間、基板の処理面がクリーンな
ガスのダウンフローを受け、ゴミの付着を減少できる。
また、基板ホルダーを所定の角度に傾斜させて、基板の
脱着をするので、クリーンルームの設置面積を小さくす
ることが可能になる。
るので、基板を脱着する間、基板の処理面がクリーンな
ガスのダウンフローを受け、ゴミの付着を減少できる。
また、基板ホルダーを所定の角度に傾斜させて、基板の
脱着をするので、クリーンルームの設置面積を小さくす
ることが可能になる。
【図１】この発明の実施例の断面図
【図２】図１のＡ−Ａ矢視図
【図３】この発明の実施例に用いられる裏板脱着機構の
説明図
説明図
【図４】この発明の実施例に用いられる裏板脱着機構の
説明図
説明図
【図５】従来の基板脱着装置の説明図
１１・・・・・・裏板脱着室 １２・・・・・・レール １３・・・・・・キャリア １４・・・・・・搬送機構 １８・・・・・・ヒンジ １９・・・・・・基板ホルダー ２０・・・・・・基板 ２１・・・・・・裏板 ２２・・・・・・裏板脱着機構 ２３・・・・・・下部ガイドレール ２４・・・・・・傾斜機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須藤 哲 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内 (72)発明者 小形 英之 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技 術株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】搬送機構によってレール上を走行するキャ
リアと、このキャリアに垂直にピン結合された基板ホル
ダーと、この基板ホルダーに裏板を介して取り付けられ
た基板と、裏板を脱着させる裏板脱着機構と、基板ホル
ダーの下部と係合し、基板ホルダの走行をガイドする下
部ガイドレールと、この下部ガイドレールに取り付けら
れた傾斜機構とを備えた基板脱着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19910192A JPH0621194A (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 基板脱着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19910192A JPH0621194A (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 基板脱着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0621194A true JPH0621194A (ja) | 1994-01-28 |
Family
ID=16402145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19910192A Pending JPH0621194A (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 基板脱着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621194A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007261814A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | 可動式ガイドレールを有する真空搬送装置 |
| KR101310762B1 (ko) * | 2011-06-30 | 2013-09-25 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 이송장치 |
-
1992
- 1992-07-01 JP JP19910192A patent/JPH0621194A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007261814A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | 可動式ガイドレールを有する真空搬送装置 |
| KR101310762B1 (ko) * | 2011-06-30 | 2013-09-25 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 이송장치 |
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