JPH06204107A - 位置決めステージ装置 - Google Patents
位置決めステージ装置Info
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- JPH06204107A JPH06204107A JP35899392A JP35899392A JPH06204107A JP H06204107 A JPH06204107 A JP H06204107A JP 35899392 A JP35899392 A JP 35899392A JP 35899392 A JP35899392 A JP 35899392A JP H06204107 A JPH06204107 A JP H06204107A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板等を保持するトップステージの変形や変
位を防ぎ、高精度な位置合わせを行うことのできる位置
決めステージ装置を実現する。 【構成】 吸着面１ａに図示しないウエハを吸着するト
ップステージ１は、３個の圧電素子５〜８に支持され、
各圧電素子５〜７は、トップステージ１をＺ軸方向に移
動させる。各圧電素子５〜７は、その上端に設けられた
球面状の軸受面とこれに摺動自在に保持された球状体か
らなる結合装置８〜１０によってトップステージ１に結
合されており、第１の結合装置８の球状体はトップステ
ージ１に固着され、第２の結合装置９の球状体はトップ
ステージ１に沿って一方向のみに往復移動自在であり、
第３の結合装置１０の球状体はトップステージ１に沿っ
て任意の方向に往復移動自在である。
位を防ぎ、高精度な位置合わせを行うことのできる位置
決めステージ装置を実現する。 【構成】 吸着面１ａに図示しないウエハを吸着するト
ップステージ１は、３個の圧電素子５〜８に支持され、
各圧電素子５〜７は、トップステージ１をＺ軸方向に移
動させる。各圧電素子５〜７は、その上端に設けられた
球面状の軸受面とこれに摺動自在に保持された球状体か
らなる結合装置８〜１０によってトップステージ１に結
合されており、第１の結合装置８の球状体はトップステ
ージ１に固着され、第２の結合装置９の球状体はトップ
ステージ１に沿って一方向のみに往復移動自在であり、
第３の結合装置１０の球状体はトップステージ１に沿っ
て任意の方向に往復移動自在である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置、精密
加工装置および精密測定装置等において、被加工物ある
いは被測定物の位置決めを行う位置決めステージ装置に
関するものである。
加工装置および精密測定装置等において、被加工物ある
いは被測定物の位置決めを行う位置決めステージ装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体露光装置、精密加工装置
および精密測定装置等においては、被加工物あるいは被
測定物を高精度で位置決めすることのできる位置決めス
テージ装置が必要である。特に、縮小投影形の露光装置
においては、図１５に示すように、ウエハ等基板（以
下、「基板」という。）を吸着したトップステージ１０
１を、まず、縮小投影レンズ系１８１ｆの光軸（以下、
「Ｚ軸」という。）に沿った方向に往復移動させるとと
もに、前記光軸のまわりの傾斜角度を調節することで、
基板の焦点合わせを行ったのち、トップステージ１０１
を支持するＸＹステージ１０４を、Ｚ軸に垂直であり、
かつ互に直交する２軸（以下、それぞれ「Ｘ軸」および
「Ｙ軸」という。）のそれぞれの方向に沿って移動さ
せ、必要に応じてＺ軸のまわりに回動させることで、基
板と縮小投影レンズ系１８１ｆの横方向の位置合わせを
行う。次いで、基板に設けられたアライメントマークを
用いて基板の各露光領域とマスクの位置合わせが行われ
る。
および精密測定装置等においては、被加工物あるいは被
測定物を高精度で位置決めすることのできる位置決めス
テージ装置が必要である。特に、縮小投影形の露光装置
においては、図１５に示すように、ウエハ等基板（以
下、「基板」という。）を吸着したトップステージ１０
１を、まず、縮小投影レンズ系１８１ｆの光軸（以下、
「Ｚ軸」という。）に沿った方向に往復移動させるとと
もに、前記光軸のまわりの傾斜角度を調節することで、
基板の焦点合わせを行ったのち、トップステージ１０１
を支持するＸＹステージ１０４を、Ｚ軸に垂直であり、
かつ互に直交する２軸（以下、それぞれ「Ｘ軸」および
「Ｙ軸」という。）のそれぞれの方向に沿って移動さ
せ、必要に応じてＺ軸のまわりに回動させることで、基
板と縮小投影レンズ系１８１ｆの横方向の位置合わせを
行う。次いで、基板に設けられたアライメントマークを
用いて基板の各露光領域とマスクの位置合わせが行われ
る。
【０００３】トップステージ１０１は、図１４に示すよ
うに、各側面を弾性部材１２０によってＸＹステージ１
０４に連結されており、その底面は複数の圧電素子１０
９および弾性ヒンジ１１０を介してＸＹステージ１０４
に支持されている。各圧電素子１０９は、図示しない電
源によって駆動され、それぞれ個別にＺ軸方向に伸縮す
ることで、前述のように、トップステージ１０１に保持
された基板の焦点合わせを行う。
うに、各側面を弾性部材１２０によってＸＹステージ１
０４に連結されており、その底面は複数の圧電素子１０
９および弾性ヒンジ１１０を介してＸＹステージ１０４
に支持されている。各圧電素子１０９は、図示しない電
源によって駆動され、それぞれ個別にＺ軸方向に伸縮す
ることで、前述のように、トップステージ１０１に保持
された基板の焦点合わせを行う。
【０００４】また、ＸＹステージ１０４を移動させるＸ
Ｙステージ駆動装置１８０は、Ｘ軸方向にのびるｘボー
ルねじ１８０ｂおよびＹ軸方向にのびるｙボールねじ１
８０ｅと、両者を駆動するサーボモータからなり、これ
らは台盤１８１上に支持され、台盤１８１は、エアマウ
ントおよびバネを用いた吸振装置１８１ｋを介して固定
台１８１ｈに支持されている。
Ｙステージ駆動装置１８０は、Ｘ軸方向にのびるｘボー
ルねじ１８０ｂおよびＹ軸方向にのびるｙボールねじ１
８０ｅと、両者を駆動するサーボモータからなり、これ
らは台盤１８１上に支持され、台盤１８１は、エアマウ
ントおよびバネを用いた吸振装置１８１ｋを介して固定
台１８１ｈに支持されている。
【０００５】縮小投影レンズ系１８１ｆと基板の横方向
の位置合わせにおいては、トップステージ１０１に一体
的に設けられたミラー１０２によってレーザ光を反射さ
せ、その干渉縞によって基板の位置ずれを検出し、検出
された位置ずれに基づいてＸＹステージ駆動装置１８０
を駆動し、ＸＹステージ１０４を移動させることで前記
位置ずれを解消する。
の位置合わせにおいては、トップステージ１０１に一体
的に設けられたミラー１０２によってレーザ光を反射さ
せ、その干渉縞によって基板の位置ずれを検出し、検出
された位置ずれに基づいてＸＹステージ駆動装置１８０
を駆動し、ＸＹステージ１０４を移動させることで前記
位置ずれを解消する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、縮小投影レンズ系に対
する基板の焦点合わせにおいて、複数の圧電素子が個別
に駆動されるため、その駆動量が均一でない場合は、各
弾性ヒンジの変形量が不均一となり、これに伴って、各
弾性ヒンジからトップステージが受ける反力が不均一と
なり、トップステージに大きなストレスが発生し、反り
変形が生じる。加えて、トップステージとＸＹステージ
を連結する弾性部材も不均一に変形し、これによって発
生する曲げモーメントのためにトップステージが変形す
る。このようなトップステージの変形は、トップステー
ジに一体的に結合されたミラーの反射面を変形させるた
め、レーザ光による位置ずれの測定を高精度で行うこと
ができない。
の技術によれば、前述のように、縮小投影レンズ系に対
する基板の焦点合わせにおいて、複数の圧電素子が個別
に駆動されるため、その駆動量が均一でない場合は、各
弾性ヒンジの変形量が不均一となり、これに伴って、各
弾性ヒンジからトップステージが受ける反力が不均一と
なり、トップステージに大きなストレスが発生し、反り
変形が生じる。加えて、トップステージとＸＹステージ
を連結する弾性部材も不均一に変形し、これによって発
生する曲げモーメントのためにトップステージが変形す
る。このようなトップステージの変形は、トップステー
ジに一体的に結合されたミラーの反射面を変形させるた
め、レーザ光による位置ずれの測定を高精度で行うこと
ができない。
【０００７】また、基板の各露光領域を縮小投影レンズ
系の投影位置に移動させるたび毎に、横方向に移動する
ＸＹステージの反動によって台盤に横ゆれが発生し、こ
れに伴ってトップステージが移動するため、マスクと基
板の各露光領域の位置合わせの精度が著しく損われる。
従って、台盤の横ゆれが吸振装置によって吸収されるの
を待って露光を開始しなければならず、このために、露
光装置のスループットの向上が困難であった。
系の投影位置に移動させるたび毎に、横方向に移動する
ＸＹステージの反動によって台盤に横ゆれが発生し、こ
れに伴ってトップステージが移動するため、マスクと基
板の各露光領域の位置合わせの精度が著しく損われる。
従って、台盤の横ゆれが吸振装置によって吸収されるの
を待って露光を開始しなければならず、このために、露
光装置のスループットの向上が困難であった。
【０００８】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであって、基板等の位置合わせに
おいて、これを保持するトップステージの変形や横ゆれ
によって位置合わせの精度が著しく低下するのを防ぐこ
とができる位置決めステージ装置を提供することを目的
とするものである。
に鑑みてなされたものであって、基板等の位置合わせに
おいて、これを保持するトップステージの変形や横ゆれ
によって位置合わせの精度が著しく低下するのを防ぐこ
とができる位置決めステージ装置を提供することを目的
とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の位置決めステージ装置は、平板状の保持盤
と、該保持盤を支持する３個の支持手段と、これらをそ
れぞれ前記保持盤の異なる部分に結合する３個の結合手
段からなり、前記結合手段がそれぞれ前記支持手段に一
体的に設けられた球面状の軸受面と、該軸受面に回転自
在に支持された球状体と、該球状体を前記保持盤ととも
に、前記軸受面に付勢する付勢手段からなり、第１の結
合手段の球状体が前記保持盤に固着されており、第２の
結合手段の球状体が、前記保持盤に沿って所定の方向に
摺動自在であり、第３の結合手段の球状体が前記保持盤
に沿って任意の方向に往復移動自在であることを特徴と
する。
めに本発明の位置決めステージ装置は、平板状の保持盤
と、該保持盤を支持する３個の支持手段と、これらをそ
れぞれ前記保持盤の異なる部分に結合する３個の結合手
段からなり、前記結合手段がそれぞれ前記支持手段に一
体的に設けられた球面状の軸受面と、該軸受面に回転自
在に支持された球状体と、該球状体を前記保持盤ととも
に、前記軸受面に付勢する付勢手段からなり、第１の結
合手段の球状体が前記保持盤に固着されており、第２の
結合手段の球状体が、前記保持盤に沿って所定の方向に
摺動自在であり、第３の結合手段の球状体が前記保持盤
に沿って任意の方向に往復移動自在であることを特徴と
する。
【００１０】また、床または固定台に弾力的に支持され
た台盤と、これに支持された保持盤と、該保持盤を移動
させる駆動手段と、前記台盤の位置を一時的に固定する
一時固定手段からなることを特徴とする。
た台盤と、これに支持された保持盤と、該保持盤を移動
させる駆動手段と、前記台盤の位置を一時的に固定する
一時固定手段からなることを特徴とする。
【００１１】
【作用】上記装置によれば、保持盤がこれを支持する各
支持手段に対して回転自在であり、かつ任意の方向に傾
斜自在であり、さらに、第２の支持手段は保持盤に沿っ
て所定の方向に往復移動自在であり、第３の支持手段は
保持盤に沿って任意の方向に往復移動自在であるから、
各支持手段から保持盤が受ける反力が不均一であって
も、保持盤に大きなストレスが発生するおそれがない。
従って、このようなストレスによって保持盤が変形し、
保持盤に一体的に設けられたミラーの反射面の変形によ
って保持盤の位置ずれの測定値に誤差を生じ、保持盤に
保持された基板等の位置合わせの精度が低下するおそれ
はない。
支持手段に対して回転自在であり、かつ任意の方向に傾
斜自在であり、さらに、第２の支持手段は保持盤に沿っ
て所定の方向に往復移動自在であり、第３の支持手段は
保持盤に沿って任意の方向に往復移動自在であるから、
各支持手段から保持盤が受ける反力が不均一であって
も、保持盤に大きなストレスが発生するおそれがない。
従って、このようなストレスによって保持盤が変形し、
保持盤に一体的に設けられたミラーの反射面の変形によ
って保持盤の位置ずれの測定値に誤差を生じ、保持盤に
保持された基板等の位置合わせの精度が低下するおそれ
はない。
【００１２】また、床または固定台に弾力的に支持され
た台盤と、これに支持された保持盤と、該保持盤を移動
させる駆動手段と、前記台盤の位置を一時的に固定する
固定手段からなる位置決めステージ装置において、駆動
手段の駆動開始と同時か、あるいはこれよりわずかに早
く台盤の位置を一時的に固定すれば、保持盤の往復移動
によって台盤に横ゆれが発生するのを防ぐことができ
る。従って、台盤の横ゆれによる保持盤の変位によって
基板等の位置合わせの精度が損われるおそれがない。
た台盤と、これに支持された保持盤と、該保持盤を移動
させる駆動手段と、前記台盤の位置を一時的に固定する
固定手段からなる位置決めステージ装置において、駆動
手段の駆動開始と同時か、あるいはこれよりわずかに早
く台盤の位置を一時的に固定すれば、保持盤の往復移動
によって台盤に横ゆれが発生するのを防ぐことができ
る。従って、台盤の横ゆれによる保持盤の変位によって
基板等の位置合わせの精度が損われるおそれがない。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１４】図１は、一実施例を示す模式斜視図であっ
て、本実施例の位置決めステージ装置Ｅ1 の保持盤であ
るトップステージ１は後述する縮小投影レンズ系の光軸
であるＺ軸にほぼ垂直に配設され、Ｘ軸方向およびＹ軸
方向のそれぞれの位置ずれを測定するための一対のミラ
ー２，３を有する。また、トップステージ１の中心部分
には、図示しない基板であるウエハを吸着する吸着面１
ａが設けられている。トップステージ１を支持するＸＹ
ステージ４は、所定の間隔で配置された支持手段である
第１ないし第３の圧電素子５〜７を有し、これらはそれ
ぞれ、図２の（ａ）〜（ｃ）に示す結合手段である結合
装置８〜１０によってトップステージ１の裏面に結合さ
れている。
て、本実施例の位置決めステージ装置Ｅ1 の保持盤であ
るトップステージ１は後述する縮小投影レンズ系の光軸
であるＺ軸にほぼ垂直に配設され、Ｘ軸方向およびＹ軸
方向のそれぞれの位置ずれを測定するための一対のミラ
ー２，３を有する。また、トップステージ１の中心部分
には、図示しない基板であるウエハを吸着する吸着面１
ａが設けられている。トップステージ１を支持するＸＹ
ステージ４は、所定の間隔で配置された支持手段である
第１ないし第３の圧電素子５〜７を有し、これらはそれ
ぞれ、図２の（ａ）〜（ｃ）に示す結合手段である結合
装置８〜１０によってトップステージ１の裏面に結合さ
れている。
【００１５】結合装置８〜１０は、それぞれ、圧電素子
５〜７の頂部に固着された軸受部材１１〜１３と、トッ
プステージ１の裏面に固着された支持板１４〜１６と、
各軸受部材１１〜１３と各支持板１４〜１６の間に配置
された半球状の球状体である転動体１７〜１９からな
る。転動体１７〜１９は、それぞれ軸受部材１１〜１３
の半球状の軸受面１１ａ〜１３ａに回転自在に支持さ
れ、それぞれ圧電素子５〜７とトップステージ１の間に
設けられた弾性部材である引張バネ２０〜２２によっ
て、トップステージ１とともに軸受部材１１〜１３の軸
受面１１ａ〜１３ａに向って付勢されている。なお、各
引張バネ２０〜２２の一端は、圧電素子５〜７の頂部に
固着された保持部材２３〜２５に保持され、その一部は
転動体１７〜１９および支持板１４〜１６を貫通し、他
端はトップステージ１の溝１ｂ〜１ｄに設けられたピン
２６〜２８に保持されている。
５〜７の頂部に固着された軸受部材１１〜１３と、トッ
プステージ１の裏面に固着された支持板１４〜１６と、
各軸受部材１１〜１３と各支持板１４〜１６の間に配置
された半球状の球状体である転動体１７〜１９からな
る。転動体１７〜１９は、それぞれ軸受部材１１〜１３
の半球状の軸受面１１ａ〜１３ａに回転自在に支持さ
れ、それぞれ圧電素子５〜７とトップステージ１の間に
設けられた弾性部材である引張バネ２０〜２２によっ
て、トップステージ１とともに軸受部材１１〜１３の軸
受面１１ａ〜１３ａに向って付勢されている。なお、各
引張バネ２０〜２２の一端は、圧電素子５〜７の頂部に
固着された保持部材２３〜２５に保持され、その一部は
転動体１７〜１９および支持板１４〜１６を貫通し、他
端はトップステージ１の溝１ｂ〜１ｄに設けられたピン
２６〜２８に保持されている。
【００１６】前記転動体１７〜１９のうちで、第１の圧
電素子５の結合装置８の転動体１７は、支持板１４に固
着されている。第２の圧電素子６の結合装置９の転動体
１８は、支持板１５に設けられたＸ軸方向のＶ形摺動溝
１５ａに沿って摺動自在なＶ形突起１８ａを有する。第
３の圧電素子７の結合装置１０の転動体１９の図示上面
１９ａは、支持板１６の下面１６ａに対していずれの方
向にも摺動自在である。
電素子５の結合装置８の転動体１７は、支持板１４に固
着されている。第２の圧電素子６の結合装置９の転動体
１８は、支持板１５に設けられたＸ軸方向のＶ形摺動溝
１５ａに沿って摺動自在なＶ形突起１８ａを有する。第
３の圧電素子７の結合装置１０の転動体１９の図示上面
１９ａは、支持板１６の下面１６ａに対していずれの方
向にも摺動自在である。
【００１７】すなわち、各結合装置８〜１０によって圧
電素子５〜７に連結されたトップステージ１は、第１の
圧電素子５に対して回転自在であり、かつ任意の方向に
傾斜自在であり、第２の圧電素子６に対しては回転自在
であり、かつ任意の方向に傾斜自在であるとともにＸ軸
方向に往復移動自在であり、第３の圧電素子７に対して
は回転自在であり、かつ任意の方向に傾斜自在であると
ともにＸ軸およびＹ軸を含む平面内のいずれの方向にも
往復移動自在である。
電素子５〜７に連結されたトップステージ１は、第１の
圧電素子５に対して回転自在であり、かつ任意の方向に
傾斜自在であり、第２の圧電素子６に対しては回転自在
であり、かつ任意の方向に傾斜自在であるとともにＸ軸
方向に往復移動自在であり、第３の圧電素子７に対して
は回転自在であり、かつ任意の方向に傾斜自在であると
ともにＸ軸およびＹ軸を含む平面内のいずれの方向にも
往復移動自在である。
【００１８】トップステージ１の吸着面１ａに吸着され
た図示しない基板の焦点合わせは、従来例と同様に、ま
ず、各圧電素子５〜７を同量だけ駆動することによって
トップステージ１のＺ軸方向の位置決めを行い、次いで
各圧電素子５〜７の駆動量を変化させてＺ軸のまわりの
傾斜角を調節する。このとき、各転動体１７〜１９がす
べて支持板に固着されていれば、各圧電素子５〜７の駆
動量が不均一であることによって、トップステージ１に
曲げ応力が発生し、反り変形が生じるが、前述のように
トップステージ１が、第２の結合装置９の転動体１８に
対しては、Ｘ軸方向に往復移動自在であり、かつ、第３
の結合装置１０の転動体１９に対してはＸ軸およびＹ軸
を含む平面内のいずれの方向にも往復移動自在であり、
かつ各結合装置８〜１０に対して回転自在であり、かつ
任意の方向に傾斜自在であるため、このような曲げ応力
が発生するおそれはない。また、トップステージ１の側
面をＸＹステージ４に連結する弾性部材も不要であるか
ら、これらの反力による曲げ変形のおそれもない。従っ
て、各ミラー２，３の反射面がトップステージ１の変形
とともに変形するおそれはない。すなわち、各ミラー
２，３によるウエハの位置ずれの測定精度が、トップス
テージ１の変形のために損われるおそれはない。
た図示しない基板の焦点合わせは、従来例と同様に、ま
ず、各圧電素子５〜７を同量だけ駆動することによって
トップステージ１のＺ軸方向の位置決めを行い、次いで
各圧電素子５〜７の駆動量を変化させてＺ軸のまわりの
傾斜角を調節する。このとき、各転動体１７〜１９がす
べて支持板に固着されていれば、各圧電素子５〜７の駆
動量が不均一であることによって、トップステージ１に
曲げ応力が発生し、反り変形が生じるが、前述のように
トップステージ１が、第２の結合装置９の転動体１８に
対しては、Ｘ軸方向に往復移動自在であり、かつ、第３
の結合装置１０の転動体１９に対してはＸ軸およびＹ軸
を含む平面内のいずれの方向にも往復移動自在であり、
かつ各結合装置８〜１０に対して回転自在であり、かつ
任意の方向に傾斜自在であるため、このような曲げ応力
が発生するおそれはない。また、トップステージ１の側
面をＸＹステージ４に連結する弾性部材も不要であるか
ら、これらの反力による曲げ変形のおそれもない。従っ
て、各ミラー２，３の反射面がトップステージ１の変形
とともに変形するおそれはない。すなわち、各ミラー
２，３によるウエハの位置ずれの測定精度が、トップス
テージ１の変形のために損われるおそれはない。
【００１９】なお、各転動体１７〜１９は鉄系の材料で
形成し、表面はクロムまたはニッケルメッキを行い、な
めらかな摺動ができるように二硫化モリブデンを表面に
焼付けるのが望ましい。また、各軸受部材１１〜１３の
軸受面１１ａ〜１３ａにも同様の処理を行うのが望まし
い。
形成し、表面はクロムまたはニッケルメッキを行い、な
めらかな摺動ができるように二硫化モリブデンを表面に
焼付けるのが望ましい。また、各軸受部材１１〜１３の
軸受面１１ａ〜１３ａにも同様の処理を行うのが望まし
い。
【００２０】図３の（ａ）〜（ｃ）は各結合装置８〜１
０の第１の変形例を示すもので、前記転動体１７〜１９
と同様の転動体４７〜４９をそれぞれ、圧電素子３５〜
３７とトップステージ３１の間に挟持するために、前記
引張バネ２０〜２２の替わりに、それぞれリング状の永
久磁石５０ａ〜５２ａとリング状のヨーク５０ｂ〜５２
ｂを用いたものである。これらの永久磁石５０ａ〜５２
ａおよびヨーク５０ｂ〜５２ｂはそれぞれ前記軸受部材
１１〜１３と同様の軸受部材４１〜４３に固着され、前
記支持板１４〜１６と同様の支持板４４〜４６は磁性材
料で作成されている。各転動体４７〜４９は、軸受部材
４１〜４３と支持板４４〜４６の間に形成される磁気回
路の吸引力によって挟持される。なお、各転動体４７〜
４９も磁性体であれば、磁気回路の吸引力は一層増大す
る。本実施例は、引張バネを組付ける必要がないため、
トップステージと各圧電素子の組立てが容易である。
０の第１の変形例を示すもので、前記転動体１７〜１９
と同様の転動体４７〜４９をそれぞれ、圧電素子３５〜
３７とトップステージ３１の間に挟持するために、前記
引張バネ２０〜２２の替わりに、それぞれリング状の永
久磁石５０ａ〜５２ａとリング状のヨーク５０ｂ〜５２
ｂを用いたものである。これらの永久磁石５０ａ〜５２
ａおよびヨーク５０ｂ〜５２ｂはそれぞれ前記軸受部材
１１〜１３と同様の軸受部材４１〜４３に固着され、前
記支持板１４〜１６と同様の支持板４４〜４６は磁性材
料で作成されている。各転動体４７〜４９は、軸受部材
４１〜４３と支持板４４〜４６の間に形成される磁気回
路の吸引力によって挟持される。なお、各転動体４７〜
４９も磁性体であれば、磁気回路の吸引力は一層増大す
る。本実施例は、引張バネを組付ける必要がないため、
トップステージと各圧電素子の組立てが容易である。
【００２１】図４の（ａ）〜（ｃ）は各結合装置８〜１
０の第２の変形例を示すもので、前記引張バネ２０〜２
２の替わりに電磁石による磁気回路を用いたものであ
る。前記軸受部材１１〜１３と同様の軸受部材６１〜６
３のそれぞれに電磁石であるコイル７０〜７２を設ける
とともに、各軸受部材６１〜６３と各支持板６４〜６６
を磁性材料で作成し、これらによって形成される磁気回
路の吸引力によって、転動体６７〜６９をそれぞれ支持
板６４〜６６と軸受部材６１〜６３の間に挟持する。
０の第２の変形例を示すもので、前記引張バネ２０〜２
２の替わりに電磁石による磁気回路を用いたものであ
る。前記軸受部材１１〜１３と同様の軸受部材６１〜６
３のそれぞれに電磁石であるコイル７０〜７２を設ける
とともに、各軸受部材６１〜６３と各支持板６４〜６６
を磁性材料で作成し、これらによって形成される磁気回
路の吸引力によって、転動体６７〜６９をそれぞれ支持
板６４〜６６と軸受部材６１〜６３の間に挟持する。
【００２２】本変形例は、各圧電素子を駆動するとき
に、各コイルの電流を遮断するかあるいは小さくするこ
とで各転動体に働く挟持力を解除し、各結合装置内の摩
擦を低減することができる。また、各コイルの電流を小
さくしたうえで、数１００Ｈｚから数ｋＨｚの高周波の
電流を重畳して結合装置に振動を発生させると、より一
層摩擦を低減できる。あるいは、このような振動を発生
させるための専用の圧電素子を附加してもよい。
に、各コイルの電流を遮断するかあるいは小さくするこ
とで各転動体に働く挟持力を解除し、各結合装置内の摩
擦を低減することができる。また、各コイルの電流を小
さくしたうえで、数１００Ｈｚから数ｋＨｚの高周波の
電流を重畳して結合装置に振動を発生させると、より一
層摩擦を低減できる。あるいは、このような振動を発生
させるための専用の圧電素子を附加してもよい。
【００２３】次に、図５〜図７に基づいてＸＹステージ
４をＸ軸およびＹ軸のそれぞれの方向に移動させる駆動
手段であるＸＹステージ駆動装置８０と、これを支持す
る台盤８１と、その一時固定手段であるロック装置８２
について説明する。ＸＹステージ駆動装置８０は、台盤
８１に固定されたｘリニアガイド８０ａと、これに支持
されたｘボールねじ８０ｂと、これを回転させるｘサー
ボモータ８０ｃと、ｘボールねじ８０ｂの回転によって
Ｘ軸方向へ往復移動するｙリニアガイド８０ｄと、これ
に支持されたｙボールねじ８０ｅと、これを回転させる
ｙサーボモータ８０ｆからなり、ＸＹステージ４は、ｙ
ボールねじ８０ｅの回転によってｙリニアガイド８０ｄ
上をｙ軸方向へ移動され、ｘボールねじ８０ｂの回転に
よってｙリニアガイド８０ｄと共にＸ軸方向へ移動され
る。
４をＸ軸およびＹ軸のそれぞれの方向に移動させる駆動
手段であるＸＹステージ駆動装置８０と、これを支持す
る台盤８１と、その一時固定手段であるロック装置８２
について説明する。ＸＹステージ駆動装置８０は、台盤
８１に固定されたｘリニアガイド８０ａと、これに支持
されたｘボールねじ８０ｂと、これを回転させるｘサー
ボモータ８０ｃと、ｘボールねじ８０ｂの回転によって
Ｘ軸方向へ往復移動するｙリニアガイド８０ｄと、これ
に支持されたｙボールねじ８０ｅと、これを回転させる
ｙサーボモータ８０ｆからなり、ＸＹステージ４は、ｙ
ボールねじ８０ｅの回転によってｙリニアガイド８０ｄ
上をｙ軸方向へ移動され、ｘボールねじ８０ｂの回転に
よってｙリニアガイド８０ｄと共にＸ軸方向へ移動され
る。
【００２４】台盤８１は、これに固着された４本の支柱
８１ａ〜８１ｄを有し、これらの上端には、図示しない
レチクルまたはマスクを支持するマスクステージユニッ
ト８１ｅおよび縮小投影レンズ系８１ｆを支持する支持
体８１ｇが固着されており、床面に固定された固定台８
１ｈと台盤８１の間にはそれぞれバネ８１ｉおよびエア
ダンパ８１ｊからなる複数の吸振ユニット８１ｋが設け
られ、これらの吸振ユニット８１ｋは、ＸＹステージ４
に支持されたトップステージ１上のウエハの露光中に床
面からの振動がウエハや縮小投影レンズ系８１ｆあるい
はマスクステージユニット８１ｅに伝わるのを防ぐ。
８１ａ〜８１ｄを有し、これらの上端には、図示しない
レチクルまたはマスクを支持するマスクステージユニッ
ト８１ｅおよび縮小投影レンズ系８１ｆを支持する支持
体８１ｇが固着されており、床面に固定された固定台８
１ｈと台盤８１の間にはそれぞれバネ８１ｉおよびエア
ダンパ８１ｊからなる複数の吸振ユニット８１ｋが設け
られ、これらの吸振ユニット８１ｋは、ＸＹステージ４
に支持されたトップステージ１上のウエハの露光中に床
面からの振動がウエハや縮小投影レンズ系８１ｆあるい
はマスクステージユニット８１ｅに伝わるのを防ぐ。
【００２５】トップステージ１に吸着されたウエハＷの
露光を開始する際には、ウエハＷの最初の露光領域を縮
小投影レンズ系８１ｆの結像位置へ移動させるために、
ＸＹステージ４を大きく移動させなければならない。ま
た、最初の露光領域の露光、焼付け終了の後は、ＸＹス
テージ４を所定の距離だけ間欠的に移動させて、残りの
露光領域を順次縮小投影レンズ８１ｆの結像位置へ移動
させる。台盤１は前述のように吸振ユニット８１ｋによ
って弾力的に支持されており、ＸＹステージ４が台盤１
上で間欠的な移動を繰返すと、移動開始時の加速度に比
例した反力と、停止時の前記逆方向の加速度に比例した
反力のために台盤１に横ゆれが発生する。ロック装置８
２はこれを防ぐためのものであり、図６に示すように、
台盤８１に固着された支柱８１ａ〜８１ｄのうちの、Ｘ
軸方向図示左側に位置する一対の支柱８１ｃ，８１ｄに
それぞれ固着された一対のｘガイド棒８３ａ，８３ｂ
と、前記支柱８１ａ〜８１ｄのうちの、Ｙ軸方向図示上
方に位置する一対の支柱８１ｄ，８１ａにそれぞれ固着
された一対のｙガイド棒８４ａ，８４ｂと、各ｘガイド
棒８３ａ，８３ｂおよび各ｙガイド棒８４ａ，８４ｂの
それぞれの軸方向の移動を一時的に停止させるｘロック
ユニット８５ａ，８５ｂおよびｙロックユニット８６
ａ，８６ｂからなり、各ｘロックユニット８５ａ，８５
ｂおよび各ｙロックユニット８６ａ，８６ｂは、それぞ
れ固定台８１ｈと一体であるｘ固定フレーム８７ａ，８
７ｂおよびｙ固定フレーム８８ａ，８８ｂに支持されて
いる。その際、ｘガイド棒８３ａ，８３ｂおよびｙガイ
ド棒８４ａ，８４ｂはＸＹステージ４の反力が作用する
水平面上にくるように配置する。
露光を開始する際には、ウエハＷの最初の露光領域を縮
小投影レンズ系８１ｆの結像位置へ移動させるために、
ＸＹステージ４を大きく移動させなければならない。ま
た、最初の露光領域の露光、焼付け終了の後は、ＸＹス
テージ４を所定の距離だけ間欠的に移動させて、残りの
露光領域を順次縮小投影レンズ８１ｆの結像位置へ移動
させる。台盤１は前述のように吸振ユニット８１ｋによ
って弾力的に支持されており、ＸＹステージ４が台盤１
上で間欠的な移動を繰返すと、移動開始時の加速度に比
例した反力と、停止時の前記逆方向の加速度に比例した
反力のために台盤１に横ゆれが発生する。ロック装置８
２はこれを防ぐためのものであり、図６に示すように、
台盤８１に固着された支柱８１ａ〜８１ｄのうちの、Ｘ
軸方向図示左側に位置する一対の支柱８１ｃ，８１ｄに
それぞれ固着された一対のｘガイド棒８３ａ，８３ｂ
と、前記支柱８１ａ〜８１ｄのうちの、Ｙ軸方向図示上
方に位置する一対の支柱８１ｄ，８１ａにそれぞれ固着
された一対のｙガイド棒８４ａ，８４ｂと、各ｘガイド
棒８３ａ，８３ｂおよび各ｙガイド棒８４ａ，８４ｂの
それぞれの軸方向の移動を一時的に停止させるｘロック
ユニット８５ａ，８５ｂおよびｙロックユニット８６
ａ，８６ｂからなり、各ｘロックユニット８５ａ，８５
ｂおよび各ｙロックユニット８６ａ，８６ｂは、それぞ
れ固定台８１ｈと一体であるｘ固定フレーム８７ａ，８
７ｂおよびｙ固定フレーム８８ａ，８８ｂに支持されて
いる。その際、ｘガイド棒８３ａ，８３ｂおよびｙガイ
ド棒８４ａ，８４ｂはＸＹステージ４の反力が作用する
水平面上にくるように配置する。
【００２６】ＸＹステージ４が台盤８１上で前述のよう
に間欠的に移動するとき、その反力によって台盤８１に
横ゆれが発生するが、各ｘロックユニット８５ａ，８５
ｂおよび各ｙロックユニット８６ａ，８６ｂを駆動する
と、これによって、各ｘガイド棒８３ａ，８３ｂおよび
各ｙガイド棒８４ａ，８４ｂのそれぞれの軸方向の移動
が停止され、その結果、台盤８１がＸ軸方向およびＹ軸
方向に一時的に固定され、前記横ゆれを防止することが
できる。各ロックユニット８５ａ，８５ｂ，８６ａ，８
６ｂの構成は同一であるので、一方のｘロックユニット
８５ａのみについて以下に説明する。
に間欠的に移動するとき、その反力によって台盤８１に
横ゆれが発生するが、各ｘロックユニット８５ａ，８５
ｂおよび各ｙロックユニット８６ａ，８６ｂを駆動する
と、これによって、各ｘガイド棒８３ａ，８３ｂおよび
各ｙガイド棒８４ａ，８４ｂのそれぞれの軸方向の移動
が停止され、その結果、台盤８１がＸ軸方向およびＹ軸
方向に一時的に固定され、前記横ゆれを防止することが
できる。各ロックユニット８５ａ，８５ｂ，８６ａ，８
６ｂの構成は同一であるので、一方のｘロックユニット
８５ａのみについて以下に説明する。
【００２７】図７の（ａ）に示すように、一方のｘロッ
クユニット８５ａは、ｘガイド棒８３ａを挟持する一対
の回転自在な摩擦ローラ８９ａ，８９ｂと、これらを支
持する支持部材９０と、該支持部材９０をＺ軸方向に移
動自在に支持するスライド軸受装置９１からなり、該ス
ライド軸受装置９１は、一対のころ軸受９１ａ，９１ｂ
を２段に直交して配設したものである。なお、スライド
軸受装置９１は、ころ軸受の替わりに空気や油等による
静圧流体軸受を用いたものでもよい。摩擦ローラ８９
ａ，８９ｂの一方は、支持部材９０の本体９０ａに固定
された固定アーム９０ｂに保持され、他方は弾性ヒンジ
９０ｃを介して支持部材９０の本体９０ａに連結された
回動アーム９０ｄに保持され、回動アーム９０ｄは、本
体９０ａの突出部分９０ｅとの間に設けられたバネ９０
ｆによって固定アーム９０ｂの方向に付勢され、その結
果ｘガイド棒８３ａが両摩擦ローラ８９ａ，８９ｂの間
に挟持される。固定アーム９０ｂに保持された摩擦ロー
ラ８９ａの回転軸は、図７の（ｂ）に示すように、電磁
ブレーキ９２に連結され、該電磁ブレーキ９２は電磁ブ
レーキ駆動回路９３によって駆動される電磁石によりア
ーマチャを吸着し、吸着されたアーマチャの摩擦によっ
て摩擦ローラ８９ａの回転運動にブレーキをかけるもの
である。電磁ブレーキ９２が不動作であれば、両摩擦ロ
ーラ８９ａ，８９ｂは回転自在であり、従って、両者の
間に挟持されたｘ軸ガイド棒８３ａは軸方向に移動自在
であるが、電磁ブレーキ９２が作動されて一方の摩擦ロ
ーラ８９ａが回転を停止すると、ｘ軸ガイド棒８３ａは
両摩擦ローラ８９ａ，８９ｂの間に拘束され、軸方向の
移動を停止する。
クユニット８５ａは、ｘガイド棒８３ａを挟持する一対
の回転自在な摩擦ローラ８９ａ，８９ｂと、これらを支
持する支持部材９０と、該支持部材９０をＺ軸方向に移
動自在に支持するスライド軸受装置９１からなり、該ス
ライド軸受装置９１は、一対のころ軸受９１ａ，９１ｂ
を２段に直交して配設したものである。なお、スライド
軸受装置９１は、ころ軸受の替わりに空気や油等による
静圧流体軸受を用いたものでもよい。摩擦ローラ８９
ａ，８９ｂの一方は、支持部材９０の本体９０ａに固定
された固定アーム９０ｂに保持され、他方は弾性ヒンジ
９０ｃを介して支持部材９０の本体９０ａに連結された
回動アーム９０ｄに保持され、回動アーム９０ｄは、本
体９０ａの突出部分９０ｅとの間に設けられたバネ９０
ｆによって固定アーム９０ｂの方向に付勢され、その結
果ｘガイド棒８３ａが両摩擦ローラ８９ａ，８９ｂの間
に挟持される。固定アーム９０ｂに保持された摩擦ロー
ラ８９ａの回転軸は、図７の（ｂ）に示すように、電磁
ブレーキ９２に連結され、該電磁ブレーキ９２は電磁ブ
レーキ駆動回路９３によって駆動される電磁石によりア
ーマチャを吸着し、吸着されたアーマチャの摩擦によっ
て摩擦ローラ８９ａの回転運動にブレーキをかけるもの
である。電磁ブレーキ９２が不動作であれば、両摩擦ロ
ーラ８９ａ，８９ｂは回転自在であり、従って、両者の
間に挟持されたｘ軸ガイド棒８３ａは軸方向に移動自在
であるが、電磁ブレーキ９２が作動されて一方の摩擦ロ
ーラ８９ａが回転を停止すると、ｘ軸ガイド棒８３ａは
両摩擦ローラ８９ａ，８９ｂの間に拘束され、軸方向の
移動を停止する。
【００２８】図８は、ロック装置８２の制御を説明する
ブロック図、図９はその制御信号のタイミングチャート
であって、電磁ブレーキ駆動回路９３は、ＸＹステージ
駆動装置８０を駆動するサーボモータ駆動回路９４とと
もに制御手段であるコントローラ９５によって制御され
る。コントローラ９５は、図９に示すような動作プログ
ラムを設定されており、ステージ速度指令信号Ｏ1 に基
づいて、ＸＹステージ４を加速および減速させるための
モータ駆動信号Ｏ2 を発生させてサーボモータ駆動回路
９４に入力し、ＸＹステージ駆動装置８０を駆動する。
電磁ブレーキ駆動回路９３を駆動する電磁ブレーキ駆動
信号Ｏ3 は、モータ駆動信号Ｏ2 の立上がり時間よりｔ
秒だけ早く電磁ブレーキ駆動回路９３に入力され、ＸＹ
ステージ駆動装置８０の駆動終了後にｔ秒遅れて解除さ
れる。すなわち、ロック装置８２は、ＸＹステージ４が
移動を開始する前に駆動されて台盤８１を一時的に固定
し、ＸＹステージ４が移動を終えたのちに駆動を停止さ
れ、台盤８１の固定を解除する。従って、ＸＹステージ
４の移動中に台盤８１の横ゆれが発生するおそれがない
ために、露光装置の待機時間を短縮し、スループットを
向上できる。
ブロック図、図９はその制御信号のタイミングチャート
であって、電磁ブレーキ駆動回路９３は、ＸＹステージ
駆動装置８０を駆動するサーボモータ駆動回路９４とと
もに制御手段であるコントローラ９５によって制御され
る。コントローラ９５は、図９に示すような動作プログ
ラムを設定されており、ステージ速度指令信号Ｏ1 に基
づいて、ＸＹステージ４を加速および減速させるための
モータ駆動信号Ｏ2 を発生させてサーボモータ駆動回路
９４に入力し、ＸＹステージ駆動装置８０を駆動する。
電磁ブレーキ駆動回路９３を駆動する電磁ブレーキ駆動
信号Ｏ3 は、モータ駆動信号Ｏ2 の立上がり時間よりｔ
秒だけ早く電磁ブレーキ駆動回路９３に入力され、ＸＹ
ステージ駆動装置８０の駆動終了後にｔ秒遅れて解除さ
れる。すなわち、ロック装置８２は、ＸＹステージ４が
移動を開始する前に駆動されて台盤８１を一時的に固定
し、ＸＹステージ４が移動を終えたのちに駆動を停止さ
れ、台盤８１の固定を解除する。従って、ＸＹステージ
４の移動中に台盤８１の横ゆれが発生するおそれがない
ために、露光装置の待機時間を短縮し、スループットを
向上できる。
【００２９】図１０および図１１は、ロック装置８２の
制御方法の第１の変形例を示すもので、ＸＹステージ駆
動装置８０の駆動プログラムに合わせて予めコントロー
ラ９５に設定されたプログラムに基づいて電磁ブレーキ
駆動回路９３を制御する替わりに、図１０に示すよう
に、台盤８１とロック装置８２の間に設置された変位セ
ンサ９６ａの出力を微分器９６ｂによって微分すること
で常時相対速度ｖをモニタし、これをコントローラ９５
に入力して電磁ブレーキ駆動回路９３の駆動信号を発生
させるものである。
制御方法の第１の変形例を示すもので、ＸＹステージ駆
動装置８０の駆動プログラムに合わせて予めコントロー
ラ９５に設定されたプログラムに基づいて電磁ブレーキ
駆動回路９３を制御する替わりに、図１０に示すよう
に、台盤８１とロック装置８２の間に設置された変位セ
ンサ９６ａの出力を微分器９６ｂによって微分すること
で常時相対速度ｖをモニタし、これをコントローラ９５
に入力して電磁ブレーキ駆動回路９３の駆動信号を発生
させるものである。
【００３０】図１１は本変形例のモニタプログラムを示
すもので、検出された相対速度ｖの絶対値が所定の許容
値より大であると判断された場合には、電磁ブレーキ駆
動回路９３が駆動されて台盤８１がロック装置８２によ
って一時的に固定され、相対速度の絶対値が０に近づい
たと判断された場合は、電磁ブレーキ駆動回路９３の駆
動が停止されて、ロック装置８２による台盤８１の固定
が解除される。
すもので、検出された相対速度ｖの絶対値が所定の許容
値より大であると判断された場合には、電磁ブレーキ駆
動回路９３が駆動されて台盤８１がロック装置８２によ
って一時的に固定され、相対速度の絶対値が０に近づい
たと判断された場合は、電磁ブレーキ駆動回路９３の駆
動が停止されて、ロック装置８２による台盤８１の固定
が解除される。
【００３１】本変形例は、ＸＹステージ４を移動させる
ことによって台盤８１に発生する横ゆれに限らず、床や
周辺の機器の振動が台盤８１に伝わって発生する横ゆれ
等も防止できるという利点がある。
ことによって台盤８１に発生する横ゆれに限らず、床や
周辺の機器の振動が台盤８１に伝わって発生する横ゆれ
等も防止できるという利点がある。
【００３２】図１２および図１３はロック装置８２の制
御方法の第２の変形例を示すもので、第１の変形例の変
位センサ９７ａと微分器９７ｂに加えて、ＸＹステージ
駆動装置８０によって駆動されたＸＹステージ４の加速
度を直接測定してコントローラ９５に入力する加速度セ
ンサ９８を設け、これによって検出されたＸＹステージ
４の加速度αが所定の許容値を越えた場合に電磁ブレー
キ駆動回路９３の駆動信号を発生させるものである。
御方法の第２の変形例を示すもので、第１の変形例の変
位センサ９７ａと微分器９７ｂに加えて、ＸＹステージ
駆動装置８０によって駆動されたＸＹステージ４の加速
度を直接測定してコントローラ９５に入力する加速度セ
ンサ９８を設け、これによって検出されたＸＹステージ
４の加速度αが所定の許容値を越えた場合に電磁ブレー
キ駆動回路９３の駆動信号を発生させるものである。
【００３３】図１３は本変形例のモニタプログラムを示
すもので、前述のように、ＸＹステージ４の加速度αを
常時モニタし、これが所定の許容値を越えた場合に電磁
ブレーキ駆動回路９３が駆動されてロック装置８２が台
盤８１を一時的に固定し、この状態で継続的にＸＹステ
ージ４の加速度αと変位センサ９７ａと微分器９７ｂに
よる相対速度ｖをモニタし、加速度αが許容値以下にな
るとともに相対速度ｖの絶対値が０に近づいたと判断さ
れたときに電磁ブレーキ駆動回路９３の駆動を停止し
て、ロック装置８２による台盤８１の固定を解除する。
すもので、前述のように、ＸＹステージ４の加速度αを
常時モニタし、これが所定の許容値を越えた場合に電磁
ブレーキ駆動回路９３が駆動されてロック装置８２が台
盤８１を一時的に固定し、この状態で継続的にＸＹステ
ージ４の加速度αと変位センサ９７ａと微分器９７ｂに
よる相対速度ｖをモニタし、加速度αが許容値以下にな
るとともに相対速度ｖの絶対値が０に近づいたと判断さ
れたときに電磁ブレーキ駆動回路９３の駆動を停止し
て、ロック装置８２による台盤８１の固定を解除する。
【００３４】本変形例は、ＸＹステージ４を移動させる
ことによって台盤８１に発生する横ゆれに限らず、床や
周辺の機器の振動が台盤８１に伝わって発生する横ゆれ
等も防止できるうえに、加速度を直接モニタするもので
あるためロック装置の応答が極めて迅速であるという利
点を有する。
ことによって台盤８１に発生する横ゆれに限らず、床や
周辺の機器の振動が台盤８１に伝わって発生する横ゆれ
等も防止できるうえに、加速度を直接モニタするもので
あるためロック装置の応答が極めて迅速であるという利
点を有する。
【００３５】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００３６】露光装置等における基板等の位置合わせに
おいて、これを保持するトップステージの変形や横ゆれ
によって位置合わせの精度が著しく低下するのを防ぐこ
とができる。その結果、転写、焼付け精度の向上やスル
ープットの改善が容易である。
おいて、これを保持するトップステージの変形や横ゆれ
によって位置合わせの精度が著しく低下するのを防ぐこ
とができる。その結果、転写、焼付け精度の向上やスル
ープットの改善が容易である。
【図１】本発明の一実施例を示す模式斜視図である。
【図２】図１の装置の各結合装置を示すもので、（ａ）
は図１のＡ−Ａ線に沿ってとった部分模式断面図、
（ｂ）はＢ−Ｂ線に沿ってとった部分模式断面図、
（ｃ）はＣ−Ｃ線に沿ってとった部分模式断面図であ
る。
は図１のＡ−Ａ線に沿ってとった部分模式断面図、
（ｂ）はＢ−Ｂ線に沿ってとった部分模式断面図、
（ｃ）はＣ−Ｃ線に沿ってとった部分模式断面図であ
る。
【図３】図１の装置の各結合装置の第１変形例を示すも
ので、それぞれ、（ａ）は図２の（ａ）の結合装置、
（ｂ）は図２の（ｂ）の結合装置、（ｃ）は図２の
（ｃ）の結合装置の第１変形例を示す部分断面図であ
る。
ので、それぞれ、（ａ）は図２の（ａ）の結合装置、
（ｂ）は図２の（ｂ）の結合装置、（ｃ）は図２の
（ｃ）の結合装置の第１変形例を示す部分断面図であ
る。
【図４】図１の装置の各結合装置の第２変形例を示すも
ので、それぞれ、（ａ）は図２の（ａ）の結合装置、
（ｂ）は図２の（ｂ）の結合装置、（ｃ）は図２の
（ｃ）の結合装置の第２変形例を示す部分断面図であ
る。
ので、それぞれ、（ａ）は図２の（ａ）の結合装置、
（ｂ）は図２の（ｂ）の結合装置、（ｃ）は図２の
（ｃ）の結合装置の第２変形例を示す部分断面図であ
る。
【図５】図１の装置を用いた露光装置を示す一部破断立
面図である。
面図である。
【図６】図５のＤ−Ｄ線からみた平面図である。
【図７】一方のｘロックユニットを示すもので、（ａ）
はその模式立面図、（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ線に沿って
とった断面図である。
はその模式立面図、（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ線に沿って
とった断面図である。
【図８】ロック装置の制御方法を説明するブロック図で
ある。
ある。
【図９】ロック装置の制御信号のタイミングチャートで
ある。
ある。
【図１０】ロック装置の制御方法の第１変形例を説明す
るブロック図である。
るブロック図である。
【図１１】ロック装置の制御方法の第１変形例のモニタ
プログラムを示す図である。
プログラムを示す図である。
【図１２】ロック装置の制御方法の第２変形例を説明す
るブロック図である。
るブロック図である。
【図１３】ロック装置の制御方法の第２変形例のモニタ
プログラムを示す図である。
プログラムを示す図である。
【図１４】従来例を示す模式断面図である。
【図１５】従来例を用いた露光装置を示す一部破断立面
図である。
図である。
１ トップステージ １ａ 吸着面 ２，３ ミラー ４ ＸＹステージ ５〜７ 圧電素子 ８〜１０ 結合装置 １１〜１３，４１〜４３，６１〜６３ 軸受部材 １４〜１６，４４〜４６，６４〜６６ 支持板 １７〜１９，４７〜４９，６７〜６９ 転動体 ２０〜２２ 引張バネ ５０ａ〜５２ａ 永久磁石 ５０ｂ〜５２ｂ ヨーク ７０〜７２ コイル ８０ ＸＹステージ駆動装置 ８１ 台盤 ８１ｋ 吸振ユニット ８１ｈ 固定台 ８２ ロック装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 9/00 Ｈ 7316−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｋ 8418−4Ｍ 41/09
Claims (9)
- 【請求項１】 平板状の保持盤と、該保持盤を支持する
３個の支持手段と、これらをそれぞれ前記保持盤の異な
る部分に結合する３個の結合手段からなり、前記結合手
段がそれぞれ前記支持手段に一体的に設けられた球面状
の軸受面と、該軸受面に回転自在に支持された球状体
と、該球状体を前記保持盤とともに、前記軸受面に付勢
する付勢手段からなり、第１の結合手段の球状体が前記
保持盤に固着されており、第２の結合手段の球状体が、
前記保持盤に沿って所定の方向に摺動自在であり、第３
の結合手段の球状体が前記保持盤に沿って任意の方向に
往復移動自在であることを特徴とする位置決めステージ
装置。 - 【請求項２】 各支持手段が圧電素子であることを特徴
とする請求項１記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項３】 付勢手段が、弾性部材または永久磁石で
あることを特徴とする請求項１または２記載の位置決め
ステージ装置。 - 【請求項４】 付勢手段が、電磁石であることを特徴と
する請求項１または２記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項５】 床または固定台に弾力的に支持された台
盤と、これに支持された保持盤と、該保持盤を移動させ
る駆動手段と、前記台盤の位置を一時的に固定する一時
固定手段からなる位置決めステージ装置。 - 【請求項６】 駆動手段の駆動タイミングに合わせて一
時固定手段を駆動する制御手段が設けられていることを
特徴とする請求項５記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項７】 台盤の横ゆれを検出する検出手段と、該
検出手段の出力に基づいて一時固定手段を駆動する制御
手段が設けられていることを特徴とする請求項５記載の
位置決めステージ装置。 - 【請求項８】 検出手段が、台盤の変位を検出する変位
センサと、その出力を微分する微分器からなることを特
徴とする請求項７記載の位置決めステージ装置。 - 【請求項９】 検出手段が、保持盤の加速度を検出する
加速度センサを有することを特徴とする請求項７または
８記載の位置決めステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35899392A JPH06204107A (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 位置決めステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35899392A JPH06204107A (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 位置決めステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204107A true JPH06204107A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=18462186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35899392A Pending JPH06204107A (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 位置決めステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06204107A (ja) |
Cited By (14)
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-
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- 1992-12-25 JP JP35899392A patent/JPH06204107A/ja active Pending
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