JPH0619122A - ブランクスの構造とフォトマスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体装置などの製造に利用されるフォトマス
ク製造用ブランクスの構造に関し、保管時等にブランク
スの表面にパーティクルが付着しても、露光等の際にそ
のパーティクルの影響をなくす。 【構成】ブランクスのレジスト塗布後、ブランクスの表
面にフィルムを貼り、露光前等にそのフィルムを剥すこ
とにより、それまでにブランクス上に付着したパーティ
クルを除去する。また露光光の透過するフィルムであれ
ば、露光時にフィルムを貼ったままの状態で露光するこ
ともできる。また、露光光の透過しないフィルムのみ使
用、また露光光の透過しないフィルムと透過するフィル
ムを２枚重ねて使用することもできる。 【効果】露光光の透過しないフィルムであれば、ブラン
クス製造時からブランクス使用時までの間、レジストの
感光を防ぐことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置などの製造に
利用されるフォトマスク製造用ブランクスの構造に関す
る。

【０００２】また本発明は半導体装置などの製造に利用
されるフォトマスクの製造方法に関する。

【０００３】

【従来の技術】従来のフォトマスク製造用ブランクスの
構造を図４に示す。図４（ａ）はブランクスの外観図、
図４（ｂ）はブランクスの断面図であり、１はガラス基
板、２はＣｒ、３はレジストである。このように従来の
ブランクスには、レジスト上には何も存在しなかった。

【０００４】また、従来のフォトマスク製造方法を図８
に示す。図８において、１はガラス基板、２はＣｒ膜、
３はレジスト膜、５は露光パターン、６はレジストパタ
ーン、７はＣｒパターンである。この図の様にフォトマ
スク製造では、まず、フォトマスクの基（ブランクス）
になるガラス基板を作り、そこにＣｒ膜をスパッタリン
グ等によって形成し、そのＣｒ膜上にレジスト膜が塗ら
れ、ＥＢやレーザー露光装置またはパターンジェネレー
ターによってレジストが露光され、その後、現像してパ
ターン部分のレジストが取り除かれ、エッチングによっ
てパターン部分のＣｒ膜が取り除かれてパターンが形成
され、最後にレジストを剥離してフォトマスクとなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ブランクスを
上記のような状態で保管した場合、レジスト上にパーテ
ィクルなどが付着する場合があり、その場合、露光の際
に付着物が露光を妨げてレジストが設計パターン通りに
感光しないという問題があった。

【０００６】更に、露光後、現像、エッチングまでの間
に付着するパーティクルによっても現像不良、エッチン
グ不良が起るという問題もあった。

【０００７】また、実際フォトマスクを製造する際にお
いても、ブランクスを上記の工程のレジスト塗布後の状
態で長時間保管する場合が生じ、その間に、レジスト上
にパーティクルなどが付着することがあり、露光の際に
その付着物が露光光を妨げてレジストが設計パターン通
りに感光しないという問題があった。

【０００８】更に、露光後、現像、エッチングまでの間
の保管時に付着するパーティクルによっても現像不良、
エッチング不良が起るという問題もあった。

【０００９】そこで本発明は、ブランクスの表面にパー
ティクルが付着しても露光に対して影響を与えないよう
な構造を持つブランクス及び、露光後ブランクスの表面
にパーティクルが付着しても現像及びエッチングに影響
を与えないような構造を持つブランクスを提供すること
を目的とする。

【００１０】また、それと同時にブランクスの保管時に
レジストの感光を防ぐことが可能な構造を持つブランク
スを提供することを目的とする。

【００１１】更に本発明は、ブランクスのレジスト表面
にパーティクルが付着しても、露光に対して影響を与え
ないようなフォトマスクの製造方法を提供すること及
び、露光時から現像に至るまでの間にブランクスのレジ
スト表面にパーティクルが付着しても、現像及びエッチ
ングに影響を与えないようなフォトマスクの製造方法を
提供することを目的とする。

【００１２】また、それと同時にブランクスのレジスト
塗布後の保管時にレジストの感光を防ぐことが可能なフ
ォトマスクの製造方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】

１）上記の課題を解決するため本発明のフォトマスク製
造用ブランクスの構造は、ブランクスのレジスト面の上
部にパーティクル付着防止用のフィルムを貼り付けるこ
とを特徴とする。

【００１４】２）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスク製造用ブランクスの構造は、上記の１）のブ
ランクスの構造に於て、貼り付けるフィルムを露光光の
透過する材質にすることを特徴とする。

【００１５】３）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスク製造用ブランクスの構造は、上記の１）のブ
ランクスの構造に於て、貼り付けるフィルムを露光光の
透過しない材質にすることを特徴とする。

【００１６】４）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスク製造用ブランクスの構造は、ブランクスのレ
ジスト面の上部に、露光光を透過する材質のフィルム
と、露光光を透過しない材質のフィルムをそれぞれ１枚
づつ２枚重ねて貼り付けることを特徴とする。

【００１７】５）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスク製造用ブランクスの構造は、上記の１）、
２）、３）、４）のブランクスの構造に於て、フィルム
の４隅の１箇所に突起を設けることを特徴とする。

【００１８】６）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスクの製造方法は、フォトマスク用ブランクスに
レジストを塗布した後、レジストの上部にパーティクル
付着防止用のフィルムを貼り付け、レジストに素子パタ
ーンを露光する直前に先に貼り付けたフィルムを剥すこ
とを特徴とする。

【００１９】７）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスクの製造方法は、６）のフォトマスクの製造方
法に於て、フォトマスク用ブランクスにレジストを塗布
した後、レジストの上部にレジストの感光波長帯の光を
透過しない材質のフィルムを貼り付け、レジストに素子
パターンを露光する直前に先に貼り付けたフィルムを剥
すことを特徴とする。

【００２０】８）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスクの製造方法は、フォトマスク用ブランクスに
レジストを塗布した後、レジストの上部にレジストの感
光波長帯の光を透過する材質のフィルムを貼り付け、そ
のままの状態でレジストに素子パターンを露光し、現像
の直前に先に貼り付けたフィルムを剥すことを特徴とす
る。

【００２１】９）上記の課題を解決するため本発明のフ
ォトマスクの製造方法は、フォトマスク用ブランクスに
レジストを塗布した後、レジストの上部にレジストの感
光波長帯の光を透過する材質のフィルムを貼り付け、さ
らにその上部にレジストの感光波長帯の光を透過しない
材質のフィルムを貼り付け、レジストに素子パターンを
露光する直前に先に貼り付けたレジストの感光波長帯の
光を透過しない材質のフィルムを剥し、そのままの状態
でレジストに素子パターンを露光し、現像の直前に先に
貼り付けたレジストの感光波長帯の光を透過する材質の
フィルムを剥すことを特徴とする。

【００２２】

【実施例】図１及び図２に本発明の実施例を載せる。図
１（ａ）、図１（ｂ）において、１はガラス基板、２は
Ｃｒ膜、３はレジスト膜、４はフィルムである。この様
に、レジスト膜上にフィルムを貼ることにより、パーテ
ィクルを直接レジスト上に付着させることがまったくな
くなり、万一パーティクルがフィルムに付着しても、露
光前にフィルムを剥すことにより、パーティクルをレジ
スト上から完全に除去することが可能である。

【００２３】また、４のフィルムに露光光の透過する材
質の物を使用することにより、露光時にはフィルムを貼
ったままの状態で露光し、露光後の現像、エッチング工
程に移るまでの間に付着するパーティクルに対して、現
像、エッチングの直前にフィルムを剥すことによりパー
ティクルを完全に除去することが可能である。

【００２４】更に、４のフィルムに露光光が透過しない
材質の物を使用することにより、ブランクス製造時から
ブランクス使用時までの間、レジストの感光を防ぐこと
ができ、パーティクルを直接レジスト上に付着させるこ
とがまったくなくなり、万一パーティクルがフィルムに
付着しても、露光前にフィルムを剥すことにより、パー
ティクルをレジスト上から完全に除去することが可能で
ある。

【００２５】以上が本発明の１実施例であるが、この他
にも図２に示すような場合についても本発明の実施例と
する。図２（ａ）、図２（ｂ）において、１はガラス基
板、２はＣｒ膜、３はレジスト膜、４及び５はフィルム
である。これは、レジスト上にフィルムを４及び５のよ
うに２枚重ねることにより、露光までの保管時に付着す
るパーティクルを５の１枚のフィルムで除去し、４のフ
ィルムを露光光の透過する材質の物にしておくことで、
４のフィルムを貼ったままで露光し、露光終了時から現
像、エッチング時までの間に付着するパーティクルを４
のフィルムで除去するものである。

【００２６】また、この実施例においても、５のフィル
ムを露光光の透過しないものにしておくことにより、レ
ジスト塗布から露光までのレジストの感光を防ぐことが
でき、露光までの保管時に付着するパーティクルを５の
１枚のフィルムで除去し、４のフィルムを露光光の透過
する材質の物にしておくことで、４のフィルムを貼った
ままで露光し、露光終了時から現像、エッチング時まで
の間に付着するパーティクルを４のフィルムで除去する
ことが可能である。

【００２７】フィルムの材質については、ビニル、ニト
ロセルロース等で、露光光が透過する物については無色
透明にし、露光光が透過しない物については露光光を吸
収する着色を施す。

【００２８】貼り付け方法については、接着剤等は使用
せずに、静電気によって密着させる。

【００２９】更に、図３（ａ）様に、フィルムを剥すと
きのために、フィルムの４隅の１箇所に突起を設けるこ
とについても本発明の実施例とする。

【００３０】また更に、図３（ｂ）様に、フィルムを２
枚重ねて貼る場合にフィルムを剥すときのために、フィ
ルムの４隅の１箇所に突起を設け、上部に貼られるフィ
ルムの突起を下部に貼られるフィルムの突起より長くし
た構造にすることについても本発明の実施例とする。

【００３１】更にまた、図５、図６および図７にも本発
明の実施例を載せる。

【００３２】図５において、１はガラス基板、２はＣｒ
膜、３はレジスト膜、４はパーティクル付着防止用のフ
ィルム、６は露光パターン、７はレジストパターン、８
はＣｒパターンである。図５では、まずフォトマスクの
基（ブランクス）になるガラス基板を作り、そこにＣｒ
膜をスパッタリング等によって形成し、そのＣｒ膜上に
レジストが塗られる。その後、塗布されたレジストの上
にパーティクル付着防止用のフィルム４を貼り付ける。
ブランクスはパターンの露光までの間この状態のままで
保管され、露光の直前でフィルム４が剥される。その後
は従来のフォトマスクの製造方法と同様に、パターンを
露光し、現像及びエッチングを行って、最後に残ったレ
ジストを剥離してフォトマスクが完成する。

【００３３】フォトマスクの製造の工程の中で、レジス
トが塗られてから露光までの間は、かなり時間が掛かる
場合が多く、その保管中にパーティクルがレジスト表面
に付着する可能性は非常に高くなっている。しかし、上
記の様にレジスト塗布直後にフィルム４を貼り付けるこ
とにより、保管中にパーティクルの付着があったとして
も、フィルム４によってレジスト面に直にパーティクル
が付着することがなく、露光時にパーティクルと共にフ
ィルム４を剥すことによって、レジスト表面はレジスト
塗布直後と同様な状態に保たれる。

【００３４】更に、上記のパーティクル付着防止用のフ
ィルム４を、パーティクルの付着防止だけでなく、レジ
ストの感光波長帯の光を透過しない材質のフィルムにす
ることにより、レジスト塗布からパターンを露光するま
での間、レジストが劣化するのを防ぐことができる。

【００３５】或はまた、フィルム４の厚さを厚くするこ
とにより、パーティクルのみならず、軽い衝撃からもレ
ジストを保護することができる。

【００３６】図６において、１はガラス基板、２はＣｒ
膜、３はレジスト膜、５はレジストの感光波長帯の光を
透過する材質のフィルム、６は露光パターン、７はレジ
ストパターン、８はＣｒパターンである。図６では、図
５同様、まずフォトマスクの基（ブランクス）になるガ
ラス基板を作り、そこにＣｒ膜をスパッタリング等によ
って形成し、そのＣｒ膜上にレジストが塗られる。その
後、塗布されたレジスト上にレジストの感光波長帯の光
を透過する材質のフィルム５を貼り付け、そのフィルム
５を貼ったまま素子パターンを露光する。露光が終了し
たら現像工程に移る直前にフィルム５を剥し、その後は
従来のフォトマスクの製造方法と同様に、現像及びエッ
チングを行って、最後に残ったレジストを剥離してフォ
トマスクが完成する。

【００３７】この製造方法の場合には、露光時から現像
工程までの間にパーティクルの付着があったとしても、
フィルム５によってレジスト面に直にパーティクルが付
着することがなく、現像の直前にパーティクルと共にフ
ィルム５を剥すことによって、レジスト表面はレジスト
塗布直後と同様のクリーンな状態に保たれる。

【００３８】次に、図７において、１はガラス基板、２
はＣｒ膜、３はレジスト膜、４はレジストの感光波長帯
の光を透過しない材質のフィルム、５はレジストの感光
波長帯の光を透過する材質のフィルム、６は露光パター
ン、７はレジストパターン、８はＣｒパターンである。
図７では、図５、図６同様、まずフォトマスクの基（ブ
ランクス）になるガラス基板を作り、そこにＣｒ膜をス
パッタリング等によって形成し、そのＣｒ膜上にレジス
トが塗られる。その後、塗布されたレジスト上にレジス
トの感光波長帯の光を透過する材質のフィルム５を貼り
付け、更にその上にレジストの感光波長帯の光を透過し
ない材質のフィルム４を貼り付ける。ブランクスはパタ
ーンの露光までの間この状態のままで保管され、露光の
直前でフィルム４が剥される。ここで、図６で説明した
のと同様に、フィルム５はレジスト上に貼ったまま素子
パターンを露光する。露光が終了したら現像工程に移る
直前にフィルム５を剥し、その後は従来のフォトマスク
の製造方法と同様に、現像及びエッチングを行って、最
後に残ったレジストを剥離してフォトマスクが完成す
る。

【００３９】この様にしてフォトマスクを製造した場合
には、レジストの感光波長帯の光を透過しない材質のフ
ィルム４により、レジスト塗布からパターンを露光する
までの間、レジストが劣化するのを防ぐことができ、更
に、保管中に付着するパーティクルをフィルム４と共に
ブランクス上から完全に除去することができる。その
上、露光時から現像工程までの間にパーティクルの付着
があったとしても、フィルム５によってレジスト面に直
にパーティクルが付着することがなく、現像の直前にパ
ーティクルと共にフィルム５を剥すことによって、レジ
スト表面はレジスト塗布直後と同様のクリーンな状態に
保たれる。

【００４０】

【発明の効果】この様に、本発明のブランクスを使用す
れば、露光前にブランクス上に乗ってしまったパーティ
クルをフィルムを剥すことによって除去でき、パーティ
クルによるパターン欠陥を防止できるという効果があ
る。

【００４１】また、フィルムに露光光の透過する材質の
物を使用することにより、露光時にはフィルムを貼った
ままの状態で露光し、露光後の現像、エッチング工程に
移るまでの間に付着するパーティクルに対して、現像、
エッチングの直前にフィルムを剥すことによりパーティ
クルを完全に除去でき、現像、エッチング時のパーティ
クルによる現像不良やエッチング不良を防止できるとい
う効果もある。

【００４２】更に、フィルムに露光光の透過しないもの
を使用することにより、ブランクス製造時からブランク
ス使用時までの間、レジストの感光を防ぐことができ、
その上、露光前にブランクス上に乗ってしまったパーテ
ィクルをフィルムを剥すことによって除去でき、パーテ
ィクルによるパターン欠陥を防止できるという効果もあ
る。

【００４３】或はまた、露光光の透過しないフィルムと
透過するフィルムを２枚重ねて貼ることにより、露光光
の透過しないフィルムによってブランクス製造時からブ
ランクス使用時までの間、レジストの感光を防ぐことが
でき、その上、露光前にブランクス上に乗ってしまった
パーティクルを露光光の透過しないフィルムを剥すこと
によって除去でき、露光時のパーティクルによるパター
ン欠陥を防止することができ、更に、露光時には露光光
の透過するフィルムを貼ったままの状態で露光し、露光
後の現像、エッチング工程に移るまでの間に付着するパ
ーティクルに対して、現像、エッチングの直前にフィル
ムを剥すことによりパーティクルを完全に除去でき、現
像、エッチング時のパーティクルによる現像不良やエッ
チング不良を防止できるという効果もある。

【００４４】更にまた、本発明のフォトマスクの製造方
法によってフォトマスクを製造すれば、露光前にブラン
クス上に乗ってしまったパーティクルをフィルムを剥す
ことによって除去でき、パーティクルによるパターン欠
陥を防止できるという効果がある。

【００４５】更に、フィルムにレジストの感光波長帯の
光の透過しない材質の物を使用することにより、ブラン
クス製造時からブランクス使用時までの間、レジストの
感光を防ぐことができ、その上、露光前にブランクス上
に乗ってしまったパーティクルをフィルムを剥すことに
よって除去でき、パーティクルによるパターン欠陥を防
止できるという効果もある。

【００４６】また、フィルムにレジストの感光波長帯の
光の透過する材質の物を使用することにより、露光時に
はフィルムを貼ったままの状態で露光し、露光後の現
像、エッチング工程に移るまでの間に付着するパーティ
クルに対して、現像、エッチングの直前にフィルムを剥
すことによりパーティクルを完全に除去でき、現像、エ
ッチング時のパーティクルによる現像不良やエッチング
不良を防止できるという効果もある。

【００４７】或はまた、レジスト上にレジストの感光波
長帯の光の透過しないフィルムと透過するフィルムを２
枚重ねて貼りることにより、レジストの感光波長帯の光
の透過しないフィルムによってレジスト塗布から露光時
までの間、レジストの感光を防ぐことができ、その上、
露光前にブランクス上に乗ってしまったパーティクルを
レジストの感光波長帯の光の透過しないフィルムを剥す
ことによって除去でき、露光時のパーティクルによるパ
ターン欠陥を防止することができ、更に、露光時にはレ
ジストの感光波長帯の光の透過するフィルムを貼ったま
まの状態で露光し、露光時から現像、エッチング工程に
移るまでの間に付着するパーティクルに対して、現像、
エッチングの直前にレジストの感光波長帯の光の透過す
るフィルムを剥すことによりパーティクルを完全に除去
でき、現像、エッチング時のパーティクルによる現像不
良やエッチング不良を防止できるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のブランクスの構造図。

【図２】 本発明のブランクスの構造図。

【図３】 本発明のブランクスのフィルムの形状図。

【図４】 従来のブランクスの構造図。

【図５】 本発明のフォトマスクの製造方法の流れ図。

【図６】 本発明のフォトマスクの製造方法の流れ図。

【図７】 本発明のフォトマスクの製造方法の流れ図。

【図８】 従来のフォトマスクの製造方法の流れ図。

【符号の説明】

１‥‥ガラス基板 ２‥‥Ｃｒ膜 ３‥‥レジスト膜 ４‥‥フィルム ５‥‥フィルム ６‥‥露光パターン ７‥‥レジストパターン ８‥‥Ｃｒパターン

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォトマスク製造用ブランクスの構造に
   於て、ブランクスのレジスト面の上部にパーティクル付
   着防止用のフィルムを貼り付けることを特徴とするブラ
   ンクスの構造。
2. 【請求項２】 請求項１記載のブランクスの構造に於
   て、貼り付けるフィルムを露光光の透過する材質にする
   ことを特徴とするブランクスの構造。
3. 【請求項３】 請求項１記載のブランクスの構造に於
   て、貼り付けるフィルムを露光光の透過しない材質にす
   ることを特徴とするブランクスの構造。
4. 【請求項４】 フォトマスク製造用ブランクスの構造に
   於て、ブランクスのレジスト面の上部に、露光光を透過
   する材質のフィルムと、露光光を透過しない材質のフィ
   ルムをそれぞれ１枚づつ２枚重ねて貼り付けることを特
   徴とするブランクスの構造。
5. 【請求項５】 請求項１、請求項２、請求項３及び請求
   項４記載のブランクスの構造に於て、フィルムの４隅の
   １箇所に突起を設けることを特徴とするブランクスの構
   造。
6. 【請求項６】 フォトマスクの製造方法に於て、フォト
   マスク用ブランクスにレジストを塗布した後、レジスト
   の上部にパーティクル付着防止用のフィルムを貼り付
   け、レジストに素子パターンを露光する直前に先に貼り
   付けたフィルムを剥すことを特徴とするフォトマスクの
   製造方法。
7. 【請求項７】 請求項６記載のフォトマスクの製造方法
   に於て、フォトマスク用ブランクスにレジストを塗布し
   た後、レジストの上部にレジストの感光波長帯の光を透
   過しない材質のフィルムを貼り付け、レジストに素子パ
   ターンを露光する直前に先に貼り付けたフィルムを剥す
   ことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
8. 【請求項８】 フォトマスクの製造方法に於て、フォト
   マスク用ブランクスにレジストを塗布した後、レジスト
   の上部にレジストの感光波長帯の光を透過する材質のフ
   ィルムを貼り付け、そのままの状態でレジストに素子パ
   ターンを露光し、現像の直前に先に貼り付けたフィルム
   を剥すことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
9. 【請求項９】 フォトマスクの製造方法に於て、フォト
   マスク用ブランクスにレジストを塗布した後、レジスト
   の上部にレジストの感光波長帯の光を透過する材質のフ
   ィルムを貼り付け、さらにその上部にレジストの感光波
   長帯の光を透過しない材質のフィルムを貼り付け、レジ
   ストに素子パターンを露光する直前に先に貼り付けたレ
   ジストの感光波長帯の光を透過しない材質のフィルムを
   剥し、そのままの状態でレジストに素子パターンを露光
   し、現像の直前に先に貼り付けたレジストの感光波長帯
   の光を透過する材質のフィルムを剥すことを特徴とする
   フォトマスクの製造方法。