JPH06187911A - カラ−受像管ネックの磁気リングの磁化方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、カラ−受像管の静的エラーを補正
するための磁気リングの磁化電流を正確に決定する方法
を得ることを目的とする。 【構成】 較正管を使用して磁化装置を較正し、較正電
流ｉｍ＿ＫＡＬによって各コイル16を動作し、受像管の
磁気リングを磁化するのと同一の時間および空間プロフ
ィルの補助磁界を磁気リング19に印加し、互いに垂直な
２方向で予め磁化されていない磁気リングの磁化による
全電子ビ−ムのビ−ム変位を測定し、２方向の各電子ビ
−ムの感度を計算し、測定シ−ケンスで２方向で各基準
位置からの全ビ−ムのビ−ム偏差を測定し、磁界を生成
するために計算された磁化電流によってコイルを動作
し、振幅が時間に渡って減少し、時間にわたって平均さ
れるように時間および空間的位置が変化する補助的磁界
を生成して全方向で受像管の磁気リングに供給された磁
界が本質的に同一に作用することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、複数の電子ビームを有
するカラ−受像管のネックの磁気リングを磁化する方法
および装置に関する。以下の説明では３本の電子ビーム
が１つの平面で生成される“インライン”タイプの管を
参照にしている。しかし本発明は“デルタ電子銃”管に
も適用される。

【０００２】

【従来の技術】公差のためにカラ−受像管の製造で実際
のビ−ム位置と基準位置との間の相違が生じる。これら
は静的誤差（偏向器特性にかかわらず存在する）と動的
誤差（偏向器により生じる）である。後述のものにおい
て、静的誤差のみが重要であり、これらはタ−ゲット特
性（色の純度）、垂直のラスタ−位置、コンバージェン
ス、ツイストである。これらの誤差は後述する。これら
は図９で概略的に示されているようにスクリ−ン10の種
々の点で測定される。コンバージェンスと垂直ラスタ−
位置は図９の円形ラベルＫＶにより示されているように
スクリ−ンの中心で測定される。この円形は例えば顕微
鏡の視野を表す。タ−ゲット特性測定の測定点はＬＬと
ＬＲのラベルを付けられ、ツイスト測定の測定点はＴＬ
とＴＲの指示を示す。

【０００３】図10は円ＫＶ内部のラスタ−パタ−ンを可
視として示している。管の３本の電子ビ−ムはＲ、Ｇ、
Ｂで示される３つの交差形態のバ−パタ−ンを生成す
る。コンバージェンスのために交差形態のバ−パタ−ン
は基本的に一致しなければならない。さらに水平バ−は
基本的に管の水平中心線Ｈで一致する。図８の例では３
つの水平バ−はそれぞれ値ＹＲ、ＹＧ、ＹＢにより水平
中心線Ｈから偏位される。対応する指示は水平中心線か
らの緑色の水平バ−の偏差と、緑色の水平バ−からの赤
色および青色の水平バ−の偏差を示すことに含まれる。
赤色および青色の垂直バ−はそれぞれ垂直緑色バ−から
離れた距離ＸＲＧＫ、ＸＢＧＫに位置される。全ての偏
差は典型的に数ミリメ−トルに達する。

【０００４】図11のａとｂはそれぞれ円ＬＬ、ＬＲ内で
可視であるものを示している。この場合解像度は図10で
示されている測定よりかなり微細である。特に観察され
るものは顕微鏡パタ−ンのバ−ではなく蛍光ストライプ
12のタ−ゲット点11である。測定点ＬＬでは発光点11の
中心ＭＳＬは蛍光ストライプ12の中心ＭＤＬと比較して
左側に40μｍオフセットされる。しかし測定点ＬＲでは
対応する中心ＭＳＲ、ＭＤＲは一致する。タ−ゲットを
調節するため電子ビ−ムは変位され、従って全ての蛍光
点は右側に20μｍ移動し、測定点ＬＬの蛍光点は蛍光ス
トライプの中心に関して左側に20μｍ変位し、一方右側
では右に対応する変位が生成される。タ−ゲットでこの
20μｍ変位を生成するために電子ビ−ムは管ネックの静
磁界により数ミリメ−トル変位されなければならない。

【０００５】前述のタ−ゲットの例は“ビ−ム偏差”と
“ビ−ム変位”との間で区別されなければならないこと
を明確に示している。後述するように“ビ−ム偏差”は
基準位置からの偏差を意味するものと理解されている。
“ビ−ム変位”は好ましい位置を達成するために管ネッ
クで生成される磁界により電子ビ−ムがスクリ−ン10上
で変位されなければならない距離として理解される。こ
のことは直ちに基準位置である必要はなく中間位置であ
る可能性もある。

【０００６】図12のａ〜ｃは前述のツイスト誤差を示す
役目をする。図11ａ［ｓｉｃ］は測定点ＴＬとＴＲで可
視であるものを示している。解像度は図10の解像度と一
致し、さらにパタ−ン線Ｒ、Ｇ、Ｂが観察されることが
できる。左側では線Ｒは線Ｇ上に位置され、右側ではこ
の線の下であり、左側の間隔は右側より大きいことが明
白である。線Ｂは線Ｒに関して対称に位置される。図12
ｂおよびｃはこの誤差がクロスオ−バ−誤差（図12ｂ）
とツイスト誤差（図12ｃ）からなることを示している。
２つの誤差のそれぞれの影響は点ＴＬ、ＴＲにおける２
つの測定により決定されることができる。

【０００７】用語の限定について全て説明するため“較
正管”と“生産管”という用語について後述する。。較
正管は磁化装置の調節用の磁化装置の感度を試験するの
に使用される管であるものと理解される。一方生産管は
前述の誤差が測定される同じタイプの管であり、この管
では磁気リングは較正デ−タと測定偏差に基づいて決定
される磁界により磁化される。高い正確性で調節するた
めに、各管は最初に前述した較正管として後に生産管と
して使用される。しかし一般的に、磁化装置は１つのみ
の管により較正されその管で得られた値は多くの生産管
に適用される。

【０００８】図13はネック15に電子ビ−ム発生システム
14（概略的にのみ示す）を有するカラ−受像管13上の磁
化装置と偏向装置16とを示している。電子ビ−ム発生シ
ステム14と偏向器16は管駆動装置17により駆動される。
カラ−受像管のスクリ−ン10の正面に図９の測定点と同
一の指示を示す５つの測定装置が位置している。これら
の測定装置から得られる読取り値は集合的にＭＷで示さ
れる。

【０００９】電子ビ−ム発生システム14には後部磁石リ
ング18. Ｈと前部の磁気リング18.Ｖが固定されてい
る。典型的に後部磁気リング18. Ｈは“焦点格子”の中
心にほぼ位置され、一方前部リング18. Ｖは“コンバー
ジェンスポット”の基体に位置される。前部リングの目
的はツイスト誤差の補正であり、後部リングの目的は前
述の他の誤差を補正することである。２つのリングの代
りに互いに分離されている２つの平面で磁化されるバン
ドも存在する。多くの管製造者はまたツイスト誤差の補
正を完全に省き、従って１つの磁気リングのみを使用す
る。

【００１０】例えば後部磁気リング18. Ｈを磁化する装
置は例えばドイツ特許公報DE-A-2611 633から知られて
おり、以下の装置を有する。ビ−ム変位を起こす磁化装
置を通る電流を較正管の補助により決定するための磁化
装置19. Ｈと較正装置20と、磁化電流による磁気リング
の磁化がビ−ムを基準位置に偏向するように表示ＭＷと
較正値に基づいて磁化装置の磁化電流を計算するための
計算装置21と、磁化装置19. Ｈを駆動するための駆動装
置22. Ｈ。

【００１１】また較正デ−タメモリ23、回転磁界発生装
置24、シ−ケンス制御装置25も存在する。前部磁気リン
グ18. Ｖを磁化するため、駆動装置22. Ｖにより駆動さ
れる前部磁化装置19. Ｖが存在する。

【００１２】図14のａとｂは後部磁化装置19. Ｈと前部
磁化装置19. Ｖの構造をそれぞれ示す。後部磁化装置は
Ｗ１ＨからＷ８Ｈまでの８個のコイルを有し、それぞれ
ｉ１Ｈからｉ８Ｈまでの関連する電流により駆動される
ことができる。８個のコイルは互いに45°で管のネック
15に垂直な平面に位置する。前部磁化装置19. ＶはＷ１
ＶからＷ４Ｖまでの４個のコイルを有し、これもｉ１Ｖ
からｉ４Ｖまでの関連する電流によりそれぞれ別々に駆
動されることができる。４個の全てのコイルは水平面に
関して＋30°または−30°によりそれぞれオフセットさ
れる対の装置で、これも管ネック15に垂直な平面に位置
する。図14より後部磁気リング18. Ｈが典型的に楕円型
で前部磁気リング18. Ｖが典型的に円形であることも明
白である。

【００１３】また磁化装置の一部分としてディスプレイ
26があり、この上で例えばシ−ケンス制御装置25により
設けられたシ−ケンスに関する読取り値ＭＷとデ−タが
表示される。

【００１４】全ての既知の装置のようにこの装置の実際
的な動作では、ツイスト補正および他の静的誤差の補正
との間で明瞭な区別をしなければならない。特にツイス
ト補正は他の補正が自動的に行われたとしても手動で行
われる。ツイストを補正するために、使用者は最初に全
ての誤差を検査し、誤差が存在しないときは結果的な前
部磁気リング18. Ｖの磁化がツイスト誤差を正確に補償
するように磁化電流を供給する。他の誤差が存在するな
らば、使用者は補正過剰または補正不十分の程度を経験
により決定する。

【００１５】しかし他の誤差は以下の段階により補正さ
れる。ビ−ム変位を起こす磁化装置を通る電流を決定す
るために較正管を使用して磁化装置を較正し、ビ−ム位
置と基準位置との間の偏差を測定し、磁化電流を使用す
る磁気リングの磁化がビ−ムを基準位置に偏向するよう
に測定された偏差と較正値に基づいて装置を磁化するた
めの磁化電流を計算し、磁化電流を使用して磁気リング
を磁化する。

【００１６】ビ−ム位置と基準位置との間の偏差は使用
者により測定顕微鏡で測定され、その後使用者は例えば
ドイツ特許公報DE-A 32 06 913で説明されているように
読取り値を計算装置21に入れるか又は読取り値が自動的
に記憶される。

【００１７】前述のリストされた磁化シ−ケンスは例え
ばドイツ特許公報DE-A-26 11 633で知られており、ここ
では２−、４−、６極磁界への電流は較正処理で規定さ
れている。測定されたビ−ム偏差は従ってこのような磁
界を生成するために磁化電流に変換される。ドイツ特許
公報DE-A-28 28 710は実際的にこのような処理が使用可
能な結果に導かれないことを示している。このことを克
服するため較正なしに動作する処理が提案されており、
この処理は各コイルを通して電流を供給し、磁界を補助
磁界を使用して磁気リングに印加する。最初に磁化装置
の各コイルを通過する電流が全てのビ−ムが各基準位置
を占めるように設定される。この方法で決められた電流
は係数により乗算され、この方法で増加した電流の符号
は変化される。この方法で生成された磁界に減衰された
振幅の回転磁界が重畳され、換言すると時間にわたって
平均化するように時間および空間的の位置が変化する磁
界であり、磁界の全ての空間的方向で磁気リングへ供給
される磁界の印加に関して基本的に、同一に動作する。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】この処理は幾つかの点
で欠点がある。最初に、生成された磁界が基準位置から
変位する電子ビ−ムを基準位置に変位するように動作す
るだけでなく、補正して調節された電子ビ−ムが基準位
置から変位されるように同時的に動作するので全てのビ
−ムが各基準位置を占めるように磁化装置の各コイルを
通る電流を設定することは非常に困難である。従って、
多くの電流調整段階は全ての電子ビ−ムを基本的に各基
準位置に移動するために必要である。第２の問題は供給
された電流を磁化電流に変換するとき同じ係数が全ての
電流用に使用されるとき不適切な結果が生じることであ
る。それ故、存在する問題は簡単で正確に動作するカラ
−受像管のネック中の磁気リングを磁化する方法および
装置を提供することである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明による処理は前述
の段階を有し、以下のことを特徴とする。以下の較正シ
−ケンスを行うために較正装置が設計され、そのシ−ケ
ンスは、較正磁界を生成するため較正電流ｉｍ＿ＫＡＬ
で各コイルｍを動作し、生産管の磁気リングの磁化に使
用されるものと同様の時間と空間のプロフィルを基本的
に有する補助磁界により各コイルにより生成される磁界
を磁気リングに印加し、互いに垂直の２つの方向に対し
て全ての電子ビ−ムのビ−ム変位Ｓｎを測定し、これら
のビ−ム変位は予め磁化されていない磁気リングの磁化
により生成され、各電子ビ−ムの調節の感度Ｅｍｎを互
いに垂直な２つの空間方向に対してＥｍｎ＝Ｓｎ／ｉｍ
＿ＫＡＬにより計算し、測定シ−ケンスは互いに垂直の
２つの空間的方向において各基準位置からの全てのビ−
ムのビ−ム偏差を測定を含み、各ビ−ムをその基準位置
に移動するため調節感度に基づいて必要なそれぞれの電
流の線形重畳により生じる電流の磁化用の計算シ−ケン
スが行われ、磁化シ−ケンスは、供給磁界を生成するた
め計算された磁化電流でコイルを動作し、振幅が時間に
わたって減少し時間的、空間的位置が時間にわたって平
均化されるように変化する補助磁界を発生し、磁界の全
ての空間的方向で供給された磁界の生産管の磁化リング
への印加に関して基本的に、同一に動作される。

【００２０】本発明による装置は前にリストされた装置
を有し、これはこれらが前述した処理段階を行うように
設計されている。本発明による方法および装置の基礎と
なる構成は、較正が前記の２つのファクタ−で実行され
るならば、較正中に決定される電流が誤差の後の補正の
ために線形に重畳されることである。第１には磁化は補
助的な磁界を使用して印加され、この補助的な磁界の振
幅は時間にわたって減少し、この磁界の時間的および空
間的位置は時間にわたって平均化されるように変化さ
れ、磁界の全ての空間的方向において較正または供給磁
界の印加に関して基本的に同一に動作する。この過程は
ドイツ特許公報DE-28 28 710に記載されている。他の重
要なファクタ−は較正が次の測定磁化と同じ状況下で正
確に生じなければならなく、換言すると電子ビ−ムに対
する磁界の作用は直接試験されるのではなく、磁化は磁
化電流および補助的な磁界により印加され、ビ−ムに対
する磁化の影響が試験される。磁化電流とビ−ム変位の
間の較正相関はそれ故間接的なものである。

【００２１】本発明による方法は最初に２つの磁化装置
を使用して自動的にツイスト誤差を調節することを可能
にする。これを行う過程は以下のとおりである。較正期
間中、２つの磁化装置は磁化される磁気リングの磁化に
より生じる較正管の外部端部のｙ方向のビ−ム変位が管
中心のｙ方向で同じビ−ムの変位を導く程度を決定する
ために試験され、付加的な測定が外部端部の基準位置か
らのｙ方向でのビ−ムの偏差程度を決定するため生産管
について行われ、１つの磁化装置を使用して１つの磁気
リングを磁化することにより外部端部のｙ方向で変位さ
れる必要のあるビ−ムの程度に関して決定が行われ、そ
の結果両磁気リングの磁化後、ビ−ムは外部および中心
の両者の基準位置を占め、外部端部のこの変位から生じ
る中心のｙ方向における変位は目的に対する較正結果を
使用して決定され、他の磁化装置の供給電流の計算にお
いて、前述の必要なビ−ム変位が直接使用されず、代り
に各ビ−ムに対するこれらのビ−ム変位に中心のｙ方向
の前述の結果的な変位を加算することにより得られた値
が使用される。

【００２２】より図式的に説明すると、このことは前部
磁化装置の磁化電流が前部の磁気リングが磁化されると
き外部電子ビ−ムの位置が基準位置の前方を“目標”に
し、“目標リ−ド”は後部磁気リングが磁化されるとき
停止されるように計算されることを意味する。

【００２３】

【実施例】図１で示されている通常のシ−ケンスによる
と段階ａ１でシ−ケンス制御装置25がディスプレイ26上
に動作モ−ド質問をディスプレイする。段階ａ２で決定
される入力が行われると入力のタイプは段階ａ３で検査
される。較正が選択されると較正サブプログラムａ４は
図２、４で示されているように行われる。段階ａ１は再
度到達される。しかし磁化が選択されると磁化サブプロ
グラムａ５は図３、６で示されているように行われる。
このサブプログラムが終了すると段階ａ１は再度続く。
較正も磁化も入力により選択されないと、他のシ−ケン
スはサブプログラムａ６で実行され、例えば全ての処理
が終了される。そうでなければシ−ケンスは段階ａ１に
戻る。

【００２４】この要約シ−ケンスによる処理は多くの方
法で変化されることができる。例えば磁化サブプログラ
ムａ５はキ−入力により阻止されるまで反復して実行さ
れることができる。このことは磁化シ−ケンスを毎回選
択する必要なく次々と生産管を処理することを可能にす
る。

【００２５】図２によるフロ−図は３つの符号Ｋ１、Ｋ
２、Ｋ３を有し、それぞれ段階ｓ１、ｓ２、ｓ３に先行
する。これらの符号は図４ａのより詳細なプログラムの
要約を示すように設計されている。これらの段階は図２
で詳細に示されているのでこれらの内容を説明するとき
この図面が参照される。３つの較正段階が示されてお
り、特に後部磁化装置、前部磁化装置、２つの磁化装置
である、ツイストの補正で生じる相互動作を参照する。

【００２６】図３のフロ−図で示されているのはｓ４、
ｓ５、ｓ６の段階にそれぞれ先行する３つの符号Ｆ１、
Ｆ２、Ｆ３であり、これらの符号は図６のより詳細なフ
ロ−図の理解を助長する。示されているのはビ−ム偏差
の測定、磁化電流の計算および磁気リングに磁化を行う
シ−ケンスである。詳細にシ−ケンスを説明するとき図
３で詳細に示されている段階ｓ４乃至ｓ６を参照する。

【００２７】図２の段階ｓ１は図４で６つの個別の段階
ｓ1.1 〜ｓ1.6 にさらに分けられる。段階ｓ1.1 では後
部コイルＷｍＨ（図14のａ参照）の連続的ナンバリング
は１の値に設定される。例えば１Ａの電流の予め定めら
れた較正電流ｉｍＨ＿ＫＡＬはコイルＷｍＨを通過して
伝送され、例えば100 段階で40Ａ段階から５Ａに減少す
る減衰回転磁界はこの電流に重畳される。回転磁界の振
幅の低値に到達すると回転磁界と較正電流はオフに切り
替えられる（段階ｓ1.2 ）。後部磁気リング18. Ｈが前
述のシ−ケンス手段により磁化されると、ビ−ム変位Ｓ
ｎＨは１〜６の範囲のｎ値即ち３つの電子ビ−ムＲ、
Ｇ、Ｂおよび互いに垂直の２つの空間方向ｘ、ｙに対し
て段階ｓ1.3 で測定される。６つの測定されたビ−ム変
位より感度ＥｍｎＨ＝ＳｎＨ／ｉｍＨ＿ＫＡＬが計算さ
れ蓄積される（段階ｓ1.4 ）。それから（段階ｓ1.5 ）
プログラムは後部磁化装置19. Ｈの８つの全てのコイル
に対して段階ｓ１〜ｓ４のシ−ケンスが終了したかどう
かを試験する。まだこの状態ではないので段階ｓ1.6 が
到達され、ここでコイル数ｍは１だけ増加され、その後
段階ｓ1.2 〜ｓ1.4 が再び実行される。コイル数はこの
方法で較正が後部磁化装置の全ての８つのコイルに対し
て終了するまで増加される。

【００２８】段階ｓ１が図４で図２の６つの段階ｓ1.1
〜ｓ1.6 に分割されたように図２の段階ｓ２がさらに６
つの段階ｓ2.1 〜ｓ2.6 に分割され、これは較正段階が
４つの前部コイルＷ１Ｖ〜Ｗ４Ｖに対して実行される点
のみ基本的に段階ｓ1.1 〜ｓ1.6 から異なっている。し
かし段階ｓ2.3 で測定されたものは段階ｓ1.3 のような
６つのビ−ム変位値ではなく４個のみ、即ち２本の外側
ビ−ムＲとＢおよび２つの空間方向ｘ、ｙのみである。
４個のコイルＷ１Ｖ〜Ｗ４Ｖがこれらが正確に同一に動
作するように実際に構成されると、例えばビ−ムＲの変
位のようなｙ方向の単一の測定をすることで十分であ
る。しかし実際には４個のコイルは僅かに異なって動作
するので、４つの異なった磁化電流が計算されなければ
ならず、４つの測定を必要とする。この目的で有効な６
つの総数、即ち２つの座標方向の３つのビ−ムの偏差か
ら４つの変数は選択されるがしかしｙ方向の外側ビ−ム
の少なくとも１つの測定が存在しなければならない。そ
の理由はＫ２、Ｋ３符号の間の較正が後のツイスト補
正、即ちｙ方向で感知可能な誤差に関して基準として行
われるためである。従って較正する管の外側端の段階ｓ
2.3 により測定を行うのも必要であり、一方段階ｓ1.3
による測定は管の中心で行われる。

【００２９】図５は図２の較正段階ｓ３を６つのそれぞ
れの段階ｓ3.1 〜ｓ3.6 に拡張する。これらの個々の段
階は図５でより詳細に示されているので内容を説明する
ため図５を参照する。値ＹＲＨ＿Ａは後部磁気リングに
より生じ、較正管の外部端で測定されるときｙ方向のビ
−ムＲの偏差を示すことに注意すべきである。値ＹＲＨ
＿Ｍは管の中心で測定した対応する値である。同様のこ
とが段階ｓ3.5 でＹＲＶ＿Ａ、ＹＲＶ＿Ｍに対応し適用
され、これは後部磁気リングよりも前部の効果を示唆す
る。

【００３０】図６は図３の段階ｓ４の６つの個々の段階
ｓ4.1 乃至ｓ4.6 への拡張を示している。段階ｓ4.1 乃
至ｓ4.3 の内容に関しては、図６および図10と図11の説
明の詳細な記述を参照する。

【００３１】段階ｓ4.4 では、図12ｃで示されているよ
うに外部端のｙ方向のビ−ムＲのツイスト誤差から生じ
るツイストＹＲＴ、特に偏差が決定される。この偏差を
補正するために変位は特殊な方法で決定されなければな
らず、段階ｓ4.5 で行われる。図８ａ，ｂ，ｃが段階ｓ
4.5 を示すため説明される。

【００３２】図８のａはビ−ムＲの純粋なツイスト誤差
を示す。このビ−ムにより生成される水平パタ−ンライ
ンは管中心でのみ水平中心ラインＨと一致し、一方値Ｙ
ＲＴだけ２つの外部端で高くなる。外部点が値ＹＲＴＶ
＿Ａだけ下方向に変位されると中心は距離ＹＲＴＶ＿Ｍ
にわたって下方向に移動し、これらの２つの大きさは較
正段階ｓ3.6 で決定される比率ＦＶを構成する。この関
係は図６の式（１）により再生され、図８ｂで示され
る。下方向の変位ＹＲＴＶ＿Ａは例では上方向のツイス
ト誤差ＹＲＴに一致するため必要以上に大きい。これは
後部磁気リングの磁化により後に消去される“リ−ド”
を生成する。このことを行うため図８ｃで示されている
ようにラスタ−ラインの外部点は距離ＹＲＴＨ＿Ａにわ
たって上方向に変位される。これは即ち較正段階ｓ3.9
で決定される比率ＦＨに対応する２つの距離の間の比率
で距離ＹＲＴＨ＿Ｍにわたる大きい変位の中心で生じ
る。図８の式（２）による関係がそれ故適用される。実
施例ではＦＶは0.8 とほぼ等しくＦＨは0.4 とほぼ等し
い。

【００３３】図８による式（３）、（４）が満足される
とツイスト誤差は正確に補正され、この状況では最初の
下方向の変異と後の上方向の変位との間の差がツイスト
誤差に等しい下方向の変位に一致し、中心の下方向と上
方向の変位が正確に互いに消去しなければならない。再
公式化した式（１）〜（４）は式（５）、（６）をもた
らし、それから最終的に式（７）で値ＹＲＴＨ＿Ｍが得
られる。この値は同一のビ−ムが前部磁気リング18. Ｖ
の磁化および値ＹＡＴＶ＿Ａにより外部端で変位される
ときスクリ−ンの中心Ｍの後部磁気リング18. Ｈを磁化
することによってツイストＴを補正する必要のあるｙ方
向のビ−ムＲの変位を意味する。ビ−ムＢの対応する値
は大きさでは等しいが符号は反対である。

【００３４】それ故、段階ｓ4.5 では値ＹＲＴＶ＿Ａは
段階ｓ4.4 で測定されるツイスト誤差ＹＲＴから決定さ
れる。前述の値は第１の補正値Ｔ１Ｖとして使用され
る。これは前部磁気リング18. Ｖにより影響される補正
である。第２の補正値Ｃ２Ｖは第１の補正値と大きさが
同一であるが反対の符号である。これはビ−ムＢに必要
な変位ＹＢＴＶ＿Ａである。これらの値からスクリ−ン
の中心に対して生ずる結果的な変位ＹＲＴＨ＿Ｍおよび
ＹＢＴＨ＿Ｍは図８に関連して示されているシ−ケンス
を使用して決定される。さらに２つの補正値Ｃ３Ｖ、Ｃ
４Ｖはそれぞれゼロに設定され、これらはそれぞれ値Ｘ
ＲＴＶ＿Ａ、ＸＢＴＶ＿Ａ、換言するとツイストＴを補
正するための前部磁気リングの磁化により生ずるｘ方向
の２つの外側ビ−ムの変位を表す。ｘ方向の外側ビ−ム
のこの選択は較正段階ｓ2.3 で行われる対応する選択に
依存する。

【００３５】後部磁気リングにより影響される変位に対
する段階ｓ4.2 、ｓ4.3 、ｓ4.5 で決定される値を使用
して補正値Ｃ１Ｈ〜Ｃ６Ｈは段階でリストされているよ
うに段階ｓ4.6 で計算される。

【００３６】従って段階ｓ4.1 〜ｓ4.6 のシ−ケンスは
後部磁気リングに適用される６つの補正値ＣｎＨと前部
磁気リングに適用される４つの補正値ＣｎＶとを限定す
る。段階ｓ5.1 〜ｓ5.8 は後部磁化装置19. Ｈの磁化電
流のこれらの補正値からの計算方法を示す。

【００３７】段階ｓ5.1 では６つの式（各６つの補正値
Ｃ１Ｈ〜Ｃ６Ｈのそれぞれに対して１つ）が構成され
る。各補正値は８つのそれぞれのコイル電流ｉ１Ｈ〜ｉ
８Ｈにより生じるそれぞれの補正の合計から生じる。指
数ｍで示される特定のコイル電流が指数ｎにより示され
る２つの方向の一方の３つのビ−ムの特定の１つに作用
するこの方法は、較正段階ｓ1.4 で得られる感度Ｅｍｂ
Ｈにより限定される。８つの電流が決定される必要があ
るが６つの補正値しか得られないので２つの電流の値は
値の表から予め限定される。実施例ではこれらは電流ｉ
３Ｈおよびｉ７Ｈの値である。６つの電流ｉ１Ｈ、ｉ２
Ｈ、ｉ４Ｈ、ｉ５Ｈ、ｉ６Ｈ、ｉ８Ｈの式は解かれそれ
は段階ｓ5.2 で行われる。これらの磁化電流で必要とさ
れる総磁化電力が計算され、計算された値は蓄積される
（段階ｓ5.3 ）。次の段階ｓ5.4 ではプログラムは値の
表からの電流ｉ３Ｈ、ｉ７Ｈに対する全ての値が処理さ
れるかどうかを試験する。このことがそうでなければこ
れらの２つの電流の次の値が段階ｓ5.5 で読取られ、段
階ｓ5.2 〜ｓ5.4 が反復される。表全体が最終的に処理
されるとプログラムは最小電力出力で生じる解を（段階
ｓ5.6 で）識別する。８つの磁化電流ｉｍＨの対応した
値が蓄積される。

【００３８】前部磁化装置19. Ｖの４つの磁化電流ｉｍ
Ｖは決定されるように残留する。このことは４つの読取
りが４つのコイルで得られるので比較的簡単である。電
流に対する４つの式は、６つの式が段階ｓ5.1 にあるの
と同様な方法で段階ｓ5.7 で構成される。これらの式は
解かれ、式に対応する磁化電流ｉｍＶの値は蓄積され
る。

【００３９】残されているのは段階ｓ６の実行である。
これは図７で示されているように２つのサブステップｓ
6.1 とｓ6.2 で行われる。段階ｓ6.1 では、磁化電流ｉ
ｍＨは後部磁化装置19. Ｈに供給され、減衰する磁界が
重畳され、回転磁界の振幅がしきい値以下に低下すると
き全ての電流はオフに切替えられる。供給される値は較
正処理の値に全体的に対応して供給される。段階ｓ6.1
において電流ｉｍＶは前部磁化装置19. Ｖに対応して供
給され、減衰回転により磁化が生じる。値は較正期間中
に使用された値に対応する。この点で前部回転磁界は高
電流、即ち約60Ａで開始する高電流で生成される。

【００４０】前述の実施例は自動ツイスト補正を処理す
る必要のある全ての処理段階を省略することにより容易
に簡単にすることができる。多数の製造者に通例である
ようにツイストは全く補正されずまたは“目標リ−ド”
で手動で補正され、残った補正は残りの処理段階で行わ
れる。

【００４１】ツイスト補正が自動的に行われ、前述の実
施例より正確性がなければ、単一のツイスト誤差を測定
し、これから単一の補正電流を計算すれば十分である。
この電流はコイルＷ１ＶとＷ２Ｖが同方向で磁極を生成
するようにコイルＷ１ＶとＷ２Ｖを通過して伝送され、
等強度の電流は反対方向の磁極が生成されるようにコイ
ルＷ３Ｖ、Ｗ４Ｖを通って伝送される。

【００４２】磁化装置の設計は実際的な状況に大きく依
存する。磁化期間中に生成される熱が２つコイルのみの
場合よりもよりよく発散されるので、例えば（垂直面に
位置する２個よりも）４個のコイルが前部磁化装置19.
Ｖで使用される。後部磁化装置19. Ｈの場合では全ての
誤差が実際に合理的に達成される磁化電流で補正される
ので６個のコイルよりも８個のコイルが使用される。理
論的に互いに独立して制御される６個のコイルは６つの
可能なビ−ム偏差を補正するのに十分である。しかし対
称的に配置されたコイルによって異なった偏差が存在す
るならばほぼ無限の磁化電流を必要とする。この困難は
６つの非対称に配置したコイルで克服できるが余分な空
間が必要とされる。しかし管ネックの周辺の空間は可能
なように使用されなければならず、その結果必要な磁界
は合理的な支出で生成されることができる。８個のコイ
ルの装置は実際的に感知できる解を表すことが発見され
ている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による処理の全体的な実施例の概略を示
すフロ−図。

【図２】較正処理の通常のシ−ケンスを示すフロ−図。

【図３】誤差を補償するため２つの磁気リングを磁化す
る通常のシ−ケンスを示すフロ−図。

【図４】図２によるシ−ケンスの詳細なフロ−図。

【図５】図２によるシ−ケンスの詳細なフロ−図。

【図６】図３によるシ−ケンスの詳細なフロ−図。

【図７】図３によるシ−ケンスの詳細なフロ−図。

【図８】自動ツイスト補正の実行方法を説明する概略
図。

【図９】種々の測定位置を説明する概略図。

【図１０】コンバージェンス誤差と垂直ラスタ−オフセ
ットの測定方法の説明図。

【図１１】タ−ゲット誤差の測定方法の説明図。

【図１２】ツイスト誤差の測定方法の説明図。

【図１３】ネックの磁気リングの磁化のためのカラ−受
像管および装置のブロック図。

【図１４】それぞれ図１３のネックの周辺に配置されて
いる後部および前部磁化装置の概略図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルディ・レンク ドイツ連邦共和国、7300 エスリンゲン、 イム・フェルデ 17 (72)発明者 ミヒャエル・ノイシュ ドイツ連邦共和国、7300 エスリンゲン、 リリエンベーク 44

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の電子ビ−ムを有するカラ−受像管
   のネックの磁気リングを磁化装置により磁化する方法で
   あって、 ビ−ム変位を生じる磁化装置を通過する電流を決定する
   ための較正管を使用して磁化装置を較正し、 ビ−ム位置と基準位置との間の偏差を測定し、 測定した偏差および較正値に基づいて磁化装置の磁化電
   流を計算し、磁気リングを磁化電流を使用して磁化し、
   磁化電流を使用する磁気リングの磁化がビ−ムを基準位
   置に偏向する段階を有する磁気リングの磁化方法におい
   て、 較正シ−ケンスが、 較正磁界を生成するために較正電流ｉｍ＿ＫＡＬによっ
   て各コイルｍを動作し、 受像管の磁気リングを磁化するために使用されるプロフ
   ィルと同一の時間および空間的プロフィルを本質的に有
   する補助的な磁界により各コイルにより生成される磁界
   を磁気リングに印加し、 互いに垂直な２つの方向に対して先行して磁化されてい
   ない磁気リングの磁化により生成された全ての電子ビ−
   ムのビ−ム変位Ｓｎを測定し、 各場合に互いに垂直でＥｍｎ＝Ｓｎ／ｉｍ＿ＫＡＬであ
   る２つの空間的方向において各電子ビ−ムの感度Ｅｍｎ
   を計算する段階を含み、 測定シ−ケンスで互いに垂直である２つの空間的方向に
   おいて各基準位置からの全てのビ−ムのビ−ム偏差を測
   定し、 電流の磁化用の計算シ−ケンスが調節の感度を基本とし
   て各ビ−ムを基準位置に移動するために必要なそれぞれ
   の電流の線形の重畳により行われ、 磁化シ−ケンスが、 供給された磁界を生成するために計算された磁化電流に
   よってコイルを動作し、 振幅が時間に渡って減少し、時間にわたって平均される
   ように時間および空間的位置が変化する補助的磁界を生
   成することにより行われ、磁界の全ての空間的方向の受
   像管の磁気リングに供給された磁界が本質的に同一に作
   用することを特徴とするカラ−受像管ネックの磁気リン
   グの磁化方法。
2. 【請求項２】 補助磁界として使用される磁界は時間に
   わたって減衰する振幅を有する回転磁界であり、回転磁
   界を生成する電流が磁化電流に重畳されるように磁化装
   置により生成されることを特徴とする請求項１記載の方
   法。
3. 【請求項３】 磁化電流が最小の磁化電力が結果的に生
   じるように計算されることを特徴とする請求項１または
   ２項記載の方法。
4. 【請求項４】 磁気コイルの数ＺＳが相互に独立して調
   節されることができる電子ビ−ムの数ＺＥの２倍より多
   いならば磁化電流がＺＳ−２×ＺＥのコイルに対して予
   め定められることを特徴とする請求項１乃至３のいずれ
   か１項記載の方法。
5. 【請求項５】 カラ−受像管のネック内の２個の磁気リ
   ングが２個の磁化装置により磁化され、 較正期間中、磁化された磁気リングの磁化により生じる
   較正管の外部端のｙ方向におけるビ−ム変位が管の中心
   のｙ方向の同一ビ−ムの変位を導く程度を決定するよう
   に２つの各磁化装置が検査され、 ビ−ムが外部端の基準位置からのｙ方向の偏差程度を決
   定するために受像管について印加的な測定が行われ、 １つの磁化装置を使用して１つの磁気リングを磁化する
   ことにより外部端部のｙ方向で必要とされる変位の程度
   を決定し、両磁気リングの磁化後にビ−ムが外部および
   中心の両者で基準位置を占め、 外部端のこの変位から結果的に得られる中心のｙ方向の
   変位が目的に対する較正結果を使用して決定され、 他の磁化装置の供給された電流の計算において前述の必
   要とされるビ−ム変位は直接使用されず、代りに各ビ−
   ムに対するこれらのビ−ム変位に前述の結果的な中心に
   対するｙ方向の変位を加算することにより得られる値が
   使用される請求項１乃至４のいずれか１項記載の方法。
6. 【請求項６】 ビ−ム変位を生じる磁化装置を通る電流
   を決定するため較正管により磁化装置を較正するための
   較正装置と、 磁化電流による磁気リングの磁化がビ−ムを基準位置に
   偏向するように測定された偏差と較正された値に基づい
   て磁化装置の磁化電流を計算するための較正装置と、 磁化装置を磁化電流で駆動する駆動装置とを具備する複
   数の電子ビ−ムを有するカラ−受像管のネック内の磁気
   リングを磁化する装置において、 較正シ−ケンスにおいて、 較正磁界を生成するために較正電流ｉｍ＿ＫＡＬで各コ
   イルｍを動作し、 各コイルにより生成される磁界を受像管の磁気リングの
   磁化に使用されるプロフィルと同様の時間と空間のプロ
   フィルを基本的に有する補助的な磁界により磁気リング
   に印加し、 互いに垂直な２つの方向の全ての電子ビ−ムの前もって
   磁化されていない磁気リングの磁化により生成されたビ
   −ム変位Ｓｎを測定し、 各場合に互いに垂直な２つの空間方向に対して、Ｅｍｎ
   ＝Ｓｎ／ｉｍ＿ＫＡＬによって各電子ビ−ムの調節感度
   Ｅｍｎを計算し、 各ビ−ムを基準位置に移動するため調節感度に基づいて
   必要なそれぞれの電流の線形重畳により磁化電流が計算
   される計算シ−ケンスを行うように設計された計算装置
   と、 駆動装置とを具備し、 駆動装置が、 供給磁界を生成するために計算された磁化電流でコイル
   を動作し、 振幅が時間にわたって減少され、時間にわたって平均す
   るように時間および空間的位置が変化する補助磁界を生
   成するように設計され、磁界の全ての空間的方向で受像
   管の磁気リングに供給された磁界が本質的に同一に作用
   することを特徴とするカラ−受像管のネックの磁気リン
   グの磁化装置。