JPH06163704A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH06163704A
JPH06163704A JP4338034A JP33803492A JPH06163704A JP H06163704 A JPH06163704 A JP H06163704A JP 4338034 A JP4338034 A JP 4338034A JP 33803492 A JP33803492 A JP 33803492A JP H06163704 A JPH06163704 A JP H06163704A
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JP
Japan
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redundant
address
circuit
logic gate
fuse
Prior art date
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Application number
JP4338034A
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English (en)
Inventor
Toshio Maeda
敏夫 前田
Hideo Omori
秀雄 大森
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ビットごとにヒューズ切断状態を擬似的に作
り出すことができしかも電源投入時においても正常に機
能しうる冗長回路を実現する。これにより、冗長回路を
備えるダイナミック型RAM等の冗長テストを効率化
し、その信頼性及び製品歩留まりを高める。 【構成】 X系冗長回路XR等の単位冗長アドレスメモ
リURM0〜URMi−2に設けられその一方がレベル
判定用インバータN1又はN3の入力端子に結合される
ヒューズF1及びF2の他方を、カットMOSFETを
介することなく直接回路の電源電圧に結合するととも
に、レベル判定用インバータN1及びN3の後段に、試
験制御信号RTMに従ってこれらのインバータの実質的
な出力信号レベルを対応するヒューズF1又はF2が切
断された場合と同一の状態に選択的に固定するためのノ
アゲートNO1及びNO2をそれぞれ設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置に関し、
例えば、冗長回路を備えるダイナミック型RAM(ラン
ダム・アクセス・メモリ)ならびにその冗長機能を確認
するための冗長テストモードに利用して特に有効な技術
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】冗長ワード線及び冗長ビット線を含むメ
モリアレイを具備するダイナミック型RAMがある。こ
れらのダイナミック型RAMは、冗長ワード線又は冗長
ビット線に割り当てられる不良アドレスを保持する冗長
アドレスメモリと、外部から指定されるアドレスと冗長
アドレスメモリによって保持される不良アドレスとを比
較照合し両アドレスが一致したとき対応する冗長ワード
線又は冗長ビット線を選択的に選択状態とする冗長アド
レス比較回路とをそれぞれ含むX系冗長回路及びY系冗
長回路を具備する。これにより、障害が発生したワード
線及びビット線はダイナミック型RAMの内部において
自律的に冗長ワード線又は冗長ビット線に切り換えら
れ、いわゆる欠陥ビット救済が実現される。その結果、
ダイナミック型RAMの製品歩留りを高め、その低コス
ト化を図ることができる。
【0003】ところで、冗長回路を備えるダナミック型
RAMでは、例えばウェハ段階において、メモリアレイ
等の障害を検出するためのビットマップテスト等が行わ
れ、その結果に基づいて、障害が検出されたワード線又
はビット線を冗長ワード線又は冗長ビット線に置き換え
るための割り付けが選択的に行われる。冗長回路は、図
11のX系冗長回路XRに代表して示されるように、例
えば対応する冗長ワード線WR0に不良アドレスの割り
付けが行われた後で選択的に切断されるヒューズF1を
含むX系冗長イネーブル回路XRE0と、この冗長ワー
ド線WR0に割り付けられた不良アドレスの対応するビ
ットが論理“1”であるとき選択的に切断されるヒュー
ズF2を含む単位冗長アドレスメモリURM0〜URM
i−2とを含む。言うまでもなく、冗長ワード線及び冗
長ビット線に対する不良アドレスの割り付けは、これら
の冗長ワード線及び冗長ビット線が正常に機能しうるも
のであることを前提条件としているが、もし冗長ワード
線又は冗長ビット線に障害があった場合、欠陥救済は無
駄となる。
【0004】これに対処するため、例えば図11に示さ
れるように、回路の電源電圧とヒューズF1及びF2と
の間に、試験制御信号RTMがハイレベルとされるとき
選択的にオフ状態とされるPチャンネル型のカットMO
SFET(金属酸化物半導体型電界効果トランジスタ。
この明細書では、MOSFETをして絶縁ゲート型電界
効果トランジスタの総称とする)Q7及びQ8をそれぞ
れ設け、これらのヒューズが切断された状態を擬似的に
作り出すことによって、あるいはX系冗長回路及びY系
冗長回路の出力信号をそれぞれの冗長アドレス比較回路
の出力端子側において強制的に有効レベルとすることに
よって、冗長ワード線及び冗長ビット線の正常性を予め
確認する方法が採られる。
【0005】カットMOSFETによって冗長回路のヒ
ューズが切断された状態を擬似的に作り出すダイナミッ
ク型RAMについては、例えば、特開平2−24614
7号公報に記載されている。また、冗長回路の出力信号
を冗長アドレス比較回路の出力端子側において強制的に
有効レベルとするダイナミック型RAMについては、特
開平2−123591号公報に記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ダイナミッ
ク型RAMの高集積化・大容量化が進むにしたがって、
冗長ワード線及び冗長ビット線の正常性を予め確認する
ための上記二つの方法にも以下のような問題点があるこ
とが本願発明者等によって明らかとなった。すなわち、
X系冗長回路及びY系冗長回路の出力信号をそれぞれの
冗長アドレス比較回路の出力端子側において強制的に有
効レベルとする方法では、ダイナミック型RAMの高集
積化・大容量化にともなって大規模化されつつあるX系
冗長回路及びY系冗長回路そのものの正常性を確認する
ことができず、ダイナミック型RAMの信頼性を充分に
高めるまでには至らない。また、冗長回路のヒューズ切
断状態を擬似的に作り出す方法では、図9に点線で示さ
れるように、電源投入時、MOSFETQ7及びQ8が
高抵抗負荷として作用するために、レベル判定用のイン
バータN1とMOSFETQ3あるいはレベル判定用の
インバータN3とMOSFETQ6からなるラッチ回路
が誤ってラッチ状態となるおそれがあり、必ずしも正常
な欠陥救済が行われるとは限らない。
【0007】この発明の目的は、ビットごとにヒューズ
切断状態を擬似的に作り出すことができしかも電源投入
時においても正常に機能しうる冗長回路を提供すること
にある。この発明の他の目的は、冗長回路を備えるダイ
ナミック型RAM等の冗長テストを効率化し、その信頼
性と製品歩留まりを高めることにある。
【0008】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、冗長回路の各単位冗長アドレ
スメモリに設けられその一方がレベル判定用インバータ
の入力端子に結合されるヒューズの他方を、カットMO
SFETを介することなく直接回路の電源電圧に結合す
るとともに、レベル判定用インバータの後段に、所定の
試験制御信号に従ってレベル判定用インバータの実質的
な出力信号のレベルを対応するヒューズが切断された場
合と同一の状態に選択的に固定するための第2の論理ゲ
ートを設ける。
【0010】
【作用】上記手段によれば、電源投入時におけるレベル
判定用インバータの判定動作を安定化し、レベル判定用
インバータを含むラッチ回路の誤動作を防止できるとと
もに、ビットごとに冗長回路のヒューズ切断状態を擬似
的に作り出し、冗長ワード線及び冗長ビット線ならびに
冗長回路そのものの正常性を予め確認することができ
る。この結果、冗長回路を備えるダイナミック型RAM
等の冗長テストを効率化し、その信頼性と製品歩留まり
を高めることができる。
【0011】
【実施例】図1には、この発明が適用されたダイナミッ
ク型RAMの一実施例のブロック図が示されている。同
図をもとに、まずこの実施例のダイナミック型RAMの
構成及び動作の概要について説明する。なお、図1の各
ブロックを構成する回路素子は、特に制限されないが、
公知の半導体集積回路の製造技術により、単結晶シリコ
ンのような1個の半導体基板上に形成される。
【0012】図1において、この実施例のダイナミック
型RAMは、半導体基板面の大半を占めて配置されるメ
モリアレイMARYをその基本構成とする。メモリアレ
イMARYは、同図の垂直方向に平行して配置されるm
+1本のワード線W0〜Wmならびに4本の冗長ワード
線WR0〜WR3と、水平方向に平行して配置されるn
+1組の相補ビット線B0*〜Bn*(ここで、例えば
非反転ビット線B0及び反転ビット線B0Bをあわせて
相補ビット線B0*のように*を付して表す。また、そ
れが有効とされるとき選択的にロウレベルとされるいわ
ゆる反転信号等については、その名称の末尾にBを付し
て表す。以下同様)ならびに4組の相補冗長ビット線B
R0*〜BR3*とを含む。これらのワード線及びビッ
ト線の交点には、(m+5)×(n+5)個のダイナミ
ック型メモリセルが格子状に配置される。なお、メモリ
アレイMARYは、後述するように、実際には4個のサ
ブメモリアレイSM0〜SM3に分割され、上位2ビッ
トのXアドレス信号AXi−1及びAXiに従って択一
的に活性状態とされる。
【0013】メモリアレイMARYを構成するワード線
W0〜Wmならびに冗長ワード線WR0〜WR3は、X
アドレスデコーダXDに結合され、択一的に選択状態と
される。XアドレスデコーダXDには、アドレススクラ
ンブラASからi+1ビットの内部アドレス信号SX0
〜SXiが供給されるとともに、X系冗長回路XRから
その出力信号RX0〜RX3が供給され、タイミング発
生回路TGから内部制御信号XDGが供給される。一
方、X系冗長回路XRには、アドレススクランブラAS
からi−1ビットの内部アドレス信号SX0〜SXi−
2が供給されるとともに、タイミング発生部TGから内
部制御信号RSが供給され、テストパッドPRTを介し
て試験制御信号RTM(第1の試験制御信号)が供給さ
れる。アドレススクランブラASには、Xアドレスバッ
ファXBからi+1ビットの内部アドレス信号X0〜X
iが供給され、テストパッドPRTを介して上記試験制
御信号RTMが供給される。さらに、Xアドレスバッフ
ァXBには、アドレス入力端子A0〜Aiを介してXア
ドレス信号AX0〜AXiが時分割的に供給され、タイ
ミング発生回路TGから内部制御信号XLが供給され
る。
【0014】ここで、テストパッドPRTは、抵抗R1
を介して回路の接地電位(第2の電源電圧)に結合され
る。このテストパッドPRTは、ダイナミック型RAM
が通常の動作モードとされるとき開放状態とされ、冗長
テストモードとされるとき回路の電源電圧(第1の電源
電圧)のようなハイレベルとされる。これにより、試験
制御信号RTMは、ダイナミック型RAMが通常の動作
モードとされるとき回路の接地電位のようなロウレベル
とされ、ダイナミック型RAMが冗長テストモードとさ
れるとき回路の電源電圧のようなハイレベルとされる。
なお、回路の電源電圧は、+3.3Vのような正の電源
電圧とされる。
【0015】XアドレスバッファXBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して時分割的に供給されるXアドレ
ス信号AX0〜AXiを、内部制御信号XLに従って取
り込み、保持するとともに、これらのXアドレス信号を
もとに内部アドレス信号X0〜Xiを形成して、アドレ
ススクランブラASに供給する。アドレススクランブラ
ASは、ダイナミック型RAMが通常の動作モードとさ
れ試験制御信号RTMがロウレベルとされるとき、Xア
ドレスバッファXBから供給される内部アドレス信号X
0〜Xiをそのまま内部アドレス信号SX0〜SXiと
して、X系冗長回路XR及びXアドレスデコーダXDに
伝達する。また、ダイナミック型RAMが冗長テストモ
ードとされ試験制御信号RTMがハイレベルとされると
き、内部アドレス信号X0〜Xiの所定ビットを入れ換
えて内部アドレス信号SX0〜SXiとして、X系冗長
回路XR及びXアドレスデコーダXDに伝達する。アド
レススクランブラASについては、後で詳細に説明す
る。
【0016】X系冗長回路XRは、後述するように、メ
モリアレイMARYの冗長ワード線WR0〜WR3に対
応して設けられる4個のX系冗長イネーブル回路XRE
0〜XRE3及びX系冗長アドレスメモリXRM0〜X
RM3ならびにX系冗長アドレス比較回路XAC0〜X
AC3を含む。X系冗長回路XRは、冗長ワード線WR
0〜WR3に割り付けられた不良アドレスを保持すると
ともに、これらの不良アドレスと外部から供給されるi
−1ビットのアドレスすなわち内部アドレス信号SX0
〜SXi−2とをビットごとに比較照合し、二つのアド
レスが全ビット一致したとき対応する出力信号RX0〜
RX3を選択的にハイレベルとする。X系冗長回路XR
については、後で詳細に説明する。
【0017】一方、XアドレスデコーダXDは、内部制
御信号XDGがハイレベルとされることで、選択的に動
作状態とされる。この動作状態において、Xアドレスデ
コーダXDは、X系冗長回路XRの出力信号RX0〜R
X3がすべてロウレベルであることを条件に、内部アド
レス信号X0〜Xiをデコードして、メモリアレイMA
RYの対応するワード線W0〜Wmを択一的にハイレベ
ルの選択状態とする。X系冗長回路XRの出力信号RX
0〜RX3のいずれかがハイレベルとされるとき、Xア
ドレスデコーダXDは、内部アドレス信号X0〜Xiの
デコードを停止し、メモリアレイMARYの対応する冗
長ワード線WR0〜WR3を択一的にハイレベルの選択
状態とされる。
【0018】次に、メモリアレイMARYを構成する相
補ビット線B0*〜Bn*ならびに相補冗長ビット線B
R0*〜BR3*は、センスアンプSAの対応する単位
回路に結合され、さらに相補共通データ線CD*に選択
的に接続される。センスアンプSAには、Yアドレスデ
コーダYDから相補ビット線B0*〜Bn*に対応する
図示されないビット線選択信号YS0〜YSnと相補冗
長ビット線BR0*〜BR3*に対応する図示されない
冗長ビット線選択信号YSR0〜YSR3とが供給さ
れ、タイミング発生部TGから図示されない内部制御信
号PAが供給される。一方、YアドレスデコーダYDに
は、YアドレスバッファYBからi+1ビットの内部ア
ドレス信号Y0〜Yiが供給されるとともに、Y系冗長
回路YRからその出力信号RY0〜RY3が供給され、
タイミング発生部TGから内部制御信号YDGが供給さ
れる。また、Y系冗長回路YRには、Yアドレスバッフ
ァYBから上記内部アドレス信号Y0〜Yiが供給され
るとともに、テストパッドPRTを介して前記試験制御
信号RTMが供給され、タイミング発生部TGから内部
制御信号RSが供給される。さらに、Yアドレスバッフ
ァYBには、アドレス入力端子A0〜Aiを介してYア
ドレス信号AY0〜AYiが時分割的に供給され、タイ
ミング発生部TGから内部制御信号YLが供給される。
【0019】YアドレスバッファYBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して時分割的に供給されるYアドレ
ス信号AY0〜AYiを、内部制御信号YLに従って取
り込み、保持するとともに、これらのYアドレス信号を
もとに内部アドレス信号Y0〜Yiを形成し、Y系冗長
回路YR及びYアドレスデコーダYDに供給する。ま
た、Y系冗長回路YRは、メモリアレイMARYの相補
冗長ビット線BR0*〜BR3*に対応して設けられる
4個のY系冗長イネーブル回路YRE0〜YRE3なら
びにY系冗長アドレスメモリYRM0〜YRM3を含
み、相補冗長ビット線BR0*〜BR3*に割り付けら
れた不良アドレスを保持するとともに、これらの不良ア
ドレスと外部から供給されるアドレスすなわちYアドレ
ス信号AY0〜AYiとをビットごとに比較し、二つの
アドレスが全ビット一致したとき対応する出力信号RY
0〜RY3を選択的にハイレベルとする。
【0020】一方、YアドレスデコーダYDは、内部制
御信号YDGがハイレベルとされることで、選択的に動
作状態とされる。この動作状態において、Yアドレスデ
コーダYDは、Y系冗長回路YRの出力信号RY0〜R
Y3がすべてロウレベルであることを条件に、内部アド
レス信号Y0〜Yiをデコードして、対応するビット線
選択信号YS0〜YSnを択一的にハイレベルとする。
Y系冗長回路YRの出力信号RY0〜RY3のいずれか
がハイレベルとされるとき、YアドレスデコーダYD
は、内部アドレス信号Y0〜Yiのデコードを停止し、
対応する冗長ビット線選択信号YSR0〜YSRnを択
一的にハイレベルとする。
【0021】センスアンプSAは、メモリアレイMAR
Yの相補ビット線B0*〜Bn*ならびに相補冗長ビッ
ト線BR0*〜BR3*に対応して設けられるn+5個
の単位回路を備える。これらの単位回路は、一対のCM
OSインバータが交差結合されてなる単位増幅回路と、
対応する相補ビット線B0*〜Bn*あるいは相補冗長
ビット線BR0*〜BR3*と相補共通データ線CD*
との間に設けられるスイッチMOSFET対とをそれぞ
れ含む。このうち、各単位増幅回路は、図示されない内
部制御信号PAがハイレベルとされることで選択的にか
つ一斉に動作状態とされ、メモリアレイMARYの選択
されたワード線に結合されるn+5個のメモリセルから
対応する相補ビット線B0*〜Bn*ならびに相補冗長
ビット線BR0*〜BR3*を介して出力される微小読
み出し信号を増幅して、ハイレベル又はロウレベルの2
値読み出し信号とする。一方、各単位回路のスイッチM
OSFET対は、YアドレスデコーダYDから供給され
るビット線選択信号YS0〜YSnあるいは冗長ビット
線選択信号YSR0〜YSRnが択一的にハイレベルと
されることで選択的にオン状態となり、メモリアレイM
ARYの対応する相補ビット線B0*〜Bn*あるいは
相補冗長ビット線BR0*〜BR3*と共通データ線C
D*とを択一的に接続状態とする。
【0022】相補共通データ線CD*は、データ入出力
回路IOに結合される。データ入出力回路IOは、ライ
トアンプ及びメインアンプならびにデータ入力バッファ
及びデータ出力バッファを含む。このうち、ライトアン
プの入力端子は、データ入力バッファの出力端子に結合
され、その出力端子は、相補共通データ線CD*に結合
される。また、メインアンプの入力端子は、相補共通デ
ータ線CD*に結合され、その出力端子は、データ出力
バッファの入力端子に結合される。データ入力バッファ
の入力端子は、データ入力端子Dinに結合され、デー
タ出力バッファの出力端子は、データ出力端子Dout
に結合される。
【0023】データ入出力回路IOのデータ入力バッフ
ァは、ダイナミック型RAMがライトモードで選択状態
とされるとき、データ入力端子Dinを介して供給され
る書き込みデータを取り込み、ライトアンプに伝達す
る。この書き込みデータは、ライトアンプによって所定
の相補書き込み信号とされ、相補共通データ線CD*を
介してメモリアレイMARYの選択された1個のメモリ
セルに書き込まれる。一方、データ入出力回路IOのメ
インアンプは、ダイナミック型RAMがリードモードで
選択状態とされるとき、メモリアレイMARYの選択さ
れた1個のメモリセルから相補共通データ線CD*を介
して出力される読み出し信号をさらに増幅し、データ出
力バッファに伝達する。この読み出し信号は、データ出
力バッファからデータ出力端子Doutを介して外部に
送出される。
【0024】タイミング発生回路TGは、外部から起動
制御信号として供給されるロウアドレスストローブ信号
RASB及びカラムアドレスストローブ信号CASBな
らびにライトイネーブル信号WEBをもとに、上記各種
の内部制御信号を選択的に形成して、ダイナミック型R
AMの各部に供給する。
【0025】図2には、図1のダイナミック型RAMに
含まれるX系冗長回路XRの一実施例のブロック図が示
されている。また、図3には、図2のX系冗長回路XR
の一実施例の部分的な回路図が示され、図4には、その
一実施例の信号波形図が示されている。これらの図をも
とに、この実施例のダイナミック型RAMのX系冗長回
路XRの具体的な構成及び動作ならびにその特徴につい
て説明する。なお、以下の回路図において、そのチャン
ネル(バックゲート)部に矢印が付されるMOSFET
はPチャンネル型であって、矢印の付されないNチャン
ネルMOSFETと区別して示される。また、X系冗長
回路XRに関する以下の説明は、X系冗長イネーブル回
路XRE0及びX系冗長アドレスメモリXRM0ならび
にX系冗長アドレス比較回路XAC0を例に進めるが、
その他のX系冗長イネーブル回路XRE1〜XRE3及
びX系冗長アドレスメモリXRM1〜XRM3ならびに
X系冗長アドレス比較回路XAC1〜XAC3について
は類推されたい。X系冗長回路XRに関する以下の説明
が、Y系冗長回路YRの具体的な構成及び動作ならびに
特徴を類推するに充分であることは言うまでもない。
【0026】図2において、X系冗長回路XRは、4個
のX系冗長イネーブル回路XRE0〜XRE3及びX系
冗長アドレスメモリXRM0〜XRM3ならびにX系冗
長アドレス比較回路XAC0〜XAC3を備える。この
うち、X系冗長イネーブル回路XRE0〜XRE3及び
X系冗長アドレスメモリXRM0〜XRM3には、前記
試験制御信号RTM及び内部制御信号RSが共通に供給
される。また、X系冗長アドレス比較回路XAC0〜X
AC3には、対応するX系冗長イネーブル回路XRE0
〜XRE3の出力信号REX0〜REX3と対応するX
系冗長アドレスメモリXRM0〜XRM3の出力信号す
なわち不良アドレスRA00〜RA0i−2ないしRA
30〜RA3i−2が供給されるとともに、アドレスス
クランブラASから内部アドレス信号SX0〜SXi−
2が共通に供給される。X系冗長アドレス比較回路XA
C0〜XAC3の出力信号は、X系冗長回路XRの出力
信号RX0〜RX3としてXアドレスデコーダXDに供
給される。
【0027】ここで、X系冗長イネーブル回路XRE0
〜XRE3は、いわゆるヒューズ回路を基本構成とし、
図3のX系冗長イネーブル回路XRE0に代表して示さ
れるように、回路の電源電圧とレベル判定用インバータ
N1(第1の論理ゲート)の入力端子との間に設けられ
るヒューズF1(ヒューズ手段)を含む。この実施例に
おいて、ヒューズF1に代表される以下のヒューズ手段
は、特に制限されないが、ポリシリコンによって形成さ
れ、所定のレーザビームが照射されることによって選択
的に切断される。
【0028】インバータN1の入力端子と回路の接地電
位との間には、NチャンネルMOSFETQ3(第1の
MOSFET)が設けられ、さらにこのMOSFETQ
3と並列形態に、NチャンネルMOSFETQ1及びQ
2(第2のMOSFET)からなる直列回路が設けられ
る。このうち、MOSFETQ3は比較的小さなコンダ
クタンスを持つべく設計され、そのゲートにはインバー
タN1の出力信号が供給される。一方、MOSFETQ
1及びQ2は、MOSFETQ3に比較して大きなコン
ダクタンスを持つべく設計される。MOSFETQ1の
ゲートは回路の電源電圧に結合され、MOSFETQ2
のゲートには内部制御信号RSが供給される。なお、内
部制御信号RSは、図4に示されるように、ロウアドレ
スストローブ信号RASBのロウレベル変化を受けてダ
イナミック型RAMが選択状態とされる当初において、
一時的にハイレベルとされる。
【0029】これらのことから、MOSFETQ3は、
インバータN1とともにラッチ回路を構成し、MOSF
ETQ1及びQ2は、ダイナミック型RAMが選択状態
とされる当初においてヒューズF1の切断・非切断状態
を判定するためのプルダウン回路を構成する。すなわ
ち、ヒューズF1が切断状態にあるとき、レベル判定用
インバータN1の入力ノードは、ダイナミック型RAM
が選択状態とされる当初にMOSFETQ2が一時的に
オン状態とされることでほぼ回路の接地電位のようなロ
ウレベルとされる。このため、インバータN1の出力信
号がハイレベルとなり、このハイレベルを受けてMOS
FETQ3がオン状態とされる。これにより、インバー
タN1及びMOSFETQ3からなるラッチ回路は、イ
ンバータN1の出力信号をハイレベルとする形でラッチ
形態とされる。
【0030】一方、ヒューズF1が切断されず非切断状
態にあるとき、レベル判定用インバータN1の入力ノー
ドは、ダイナミック型RAMが選択状態とされる当初に
MOSFETQ2が一時的にオン状態とされるにもかか
わらず、インバータN1の論理スレッシホルドレベルを
超える比較的高いレベルとされる。このため、インバー
タN1の出力信号はロウレベルのままとされ、このロウ
レベルを受けてMOSFETQ3はオフ状態のままとさ
れる。
【0031】ところで、ヒューズF1が非切断状態にあ
ってMOSFETQ2がオン状態とされるとき、回路の
電源電圧及び接地電位間には、MOSFETQ1及びQ
2を介して比較的大きな電流が流される。しかし、この
実施例では、前述のように、内部制御信号RSが、ダイ
ナミック型RAMが選択状態とされる当初において一時
的にハイレベルとされる。このため、上記電流経路が形
成される期間は従来のダイナミック型RAMに比較して
充分に短くされ、これによってダイナミック型RAMの
低消費電力化を推進することができるものとなる。
【0032】インバータN1の出力信号は、上記MOS
FETQ3のゲートに供給されるとともに、ノア(NO
R)ゲートNO1(第2の論理ゲート)の一方の入力端
子に供給される。このノアゲートNO1の他方の入力端
子には、前記試験制御信号RTMが供給され、その出力
信号は、インバータN2によって反転された後、X系冗
長イネーブル回路XRE0の出力信号REX0となる。
【0033】ダイナミック型RAMが通常の動作モード
とされ試験制御信号RTMがロウレベルとされるとき、
インバータN1の出力信号は、そのままノアゲートNO
1及びインバータN2を介してX系冗長イネーブル回路
XRE0の出力信号REX0となる。これにより、X系
冗長イネーブル回路XRE0の出力信号REX0は、ヒ
ューズF1が切断状態にあるときハイレベルとされ、ヒ
ューズF1が非切断状態にあるときロウレベルとされ
る。
【0034】一方、ダイナミック型RAMが所定の冗長
テストモードとされ試験制御信号RTMがハイレベルと
されると、ノアゲートNO1の出力信号は、インバータ
N1の出力信号レベルに関係なくロウレベルに固定され
る。このため、X系冗長イネーブル回路XRE0の出力
信号REX0は、ヒューズF1が非切断状態にある場合
でもハイレベルに固定され、これによってヒューズF1
が切断された場合と同一の状態を擬似的に作り出すこと
ができる。
【0035】次に、X系冗長アドレスメモリXRM0を
構成する単位冗長アドレスメモリURM0〜URMi−
2は、それぞれいわゆるヒューズ回路を基本構成とし、
図3の単位冗長アドレスメモリURM0に代表して示さ
れるように、回路の電源電圧とレベル判定用インバータ
N3(第1の論理ゲート)の入力端子との間に設けられ
るヒューズF2(ヒューズ手段)を含む。インバータN
3の入力端子と回路の接地電位との間には、そのゲート
にインバータN3の出力信号を受けることでこのインバ
ータN3とラッチ回路を構成するNチャンネルMOSF
ETQ6(第1のMOSFET)が設けられ、さらにこ
のMOSFETQ6と並列形態に、NチャンネルMOS
FETQ4及びQ5(第2のMOSFET)からなる直
列回路が設けられる。これらのヒューズF2及びインバ
ータN3ならびにMOSFETQ4〜Q6は、上記X系
冗長イネーブル回路XRE0のヒューズF1及びインバ
ータN1ならびにMOSFETQ1〜Q3にそれぞれ対
応する作用をなす。この結果、インバータN3の出力信
号は、対応するヒューズF2が切断状態にあることを条
件に選択的にハイレベルとされる。
【0036】インバータN3の出力信号は、MOSFE
TQ6のゲートに供給されるとともに、ノアゲートNO
2(第2の論理ゲート)の一方の入力端子に供給され
る。このノアゲートNO2の他方の入力端子には、対応
する接続切り換え部C1を介して試験制御信号RTMが
共通に供給され、その出力信号は、対応するインバータ
N4によって反転された後、単位冗長アドレスメモリU
RM0〜URMi−2の出力信号すなわち不良アドレス
RA00〜RA0i−2となる。なお、接続切り換え部
C1は、所定の金属配線層が選択的に形成されることで
選択的に接続状態とされるが、この実施例の場合、X系
冗長アドレスメモリXRM1の単位冗長アドレスメモリ
URM0,X系冗長アドレスメモリXRM2の単位冗長
アドレスメモリURM1ならびにX系冗長アドレスメモ
リXRM3の単位冗長アドレスメモリURM0及びUR
M1においてのみ、接続状態とされる。ノアゲートNO
2の他方の入力端子と回路の接地電位との間には、対応
する接続切り換え部C1が接続状態にないときノアゲー
トNO2の他方の入力端子をロウレベルに固定するため
のプルダウン抵抗R2がそれぞれ設けられる。
【0037】ダイナミック型RAMが通常の動作モード
とされ試験制御信号RTMがロウレベルとされるとき、
インバータN3の出力信号はそのまま対応するノアゲー
トNO2及びインバータN4を介して伝達され、単位冗
長アドレスメモリURM0〜URMi−2の出力信号す
なわち不良アドレス信号RA00〜RA0i−2とな
る。これにより、不良アドレス信号RA00〜RA0i
−2は、対応するヒューズF2が切断状態にあるときハ
イレベルとされ、対応するヒューズF2が非切断状態に
あるときロウレベルとされる。
【0038】一方、ダイナミック型RAMが冗長テスト
モードとされ試験制御信号RTMがハイレベルとされる
と、ノアゲートNO2の出力信号は、インバータN3の
出力信号レベルに関係なくロウレベルに固定される。こ
のため、不良アドレス信号RA00〜RA0i−2は、
対応するヒューズF2が非切断状態にある場合でもハイ
レベルに固定され、これによってヒューズF2が切断さ
れた場合と同一の状態を擬似的に作り出すことができ
る。
【0039】ところで、各単位冗長アドレスメモリに設
けられる接続切り換え部C1は、前述のように、X系冗
長アドレスメモリXRM1の単位冗長アドレスメモリU
RM0とX系冗長アドレスメモリXRM2の単位冗長ア
ドレスメモリURM1ならびにX系冗長アドレスメモリ
XRM3の単位冗長アドレスメモリURM0及びURM
1においてのみ、接続状態とされる。したがって、欠陥
救済が行われない当初においてダイナミック型RAMの
冗長テストモードが実施された場合、X系冗長アドレス
メモリXRM0から出力されるi−1ビットの不良アド
レスRA00〜RA0i−2は、全ビット論理“0”す
なわちワード線W0を指定する組み合わせとなり、X系
冗長アドレスメモリXRM1から出力される不良アドレ
スRA10〜RA1i−2は、第1ビットのみ論理
“1”で他は全ビット論理“0”すなわちワード線W1
を指定する組み合わせとなる。また、X系冗長アドレス
メモリXRM2から出力される不良アドレスRA20〜
RA2i−2は、第2ビットのみ論理“1”で他は全ビ
ット論理“0”すなわちワード線W2を指定する組み合
わせとなり、X系冗長アドレスメモリXRM3から出力
される不良アドレスRA30〜RA3i−2は、第1及
び第2ビットのみ論理“1”で他は全ビット論理“0”
すなわちワード線W3を指定する組み合わせとなる。
【0040】図2の説明に戻ろう。X系冗長イネーブル
回路XRE0〜XRE3の出力信号REX0〜REX3
は、対応するX系冗長アドレス比較回路XAC0〜XA
C3の制御端子に供給され、X系冗長アドレスメモリX
RM0〜XRM3の出力信号つまり不良アドレスRA0
0〜RA0i−2ないしRA30〜RA3i−2は、対
応するX系冗長アドレス比較回路XAC0〜XAC3の
一方のアドレス入力端子に供給される。これらのX系冗
長アドレス比較回路の他方のアドレス入力端子には、内
部アドレス信号SX0〜SXi−2が共通に供給され
る。
【0041】X系冗長アドレス比較回路XAC0〜XA
C3は、対応するX系冗長イネーブル回路XRE0〜X
RE3においてヒューズF1が切断状態とされその出力
信号REX0〜REX3がハイレベルとされるとき、選
択的に動作状態とされる。この動作状態において、X系
冗長アドレス比較回路XAC0〜XAC3は、対応する
不良アドレスRA00〜RA0i−2ないしRA30〜
RA3i−2と内部アドレス信号SX0〜SXi−2す
なわち外部から供給されるアドレス信号とをビットごと
に比較照合し、両アドレスが全ビット一致したとき、そ
の出力信号RX0〜RX3を選択的にハイレベルとす
る。
【0042】X系冗長回路XRの出力信号RX0〜RX
3は、前述のように、XアドレスデコーダXDに供給さ
れる。XアドレスデコーダXDは、内部制御信号XDG
がハイレベルとされることで選択的に動作状態とされる
が、このとき、X系冗長回路XRの出力信号RX0〜R
X3のうち例えばRX0がハイレベルであると、図4に
例示されるように、メモリアレイMARYの対応する例
えば冗長ワード線WR0をハイレベルの選択状態とし、
これらの出力信号RX0〜RX3がすべてロウレベルで
ある場合、内部アドレス信号SX0〜SXi−2によっ
て指定される例えばワード線W0を択一的にハイレベル
の選択状態とする。
【0043】これらの結果、冗長ワード線WR0〜WR
3は、ダイナミック型RAMが通常モードにある場合、
対応するX系冗長イネーブル回路XRE0〜XRE3の
ヒューズF1が切断されることでその出力信号REX0
〜REX3がハイレベルとされ、かつ対応するX系冗長
アドレスメモリXRM0〜XRM3によって保持される
不良アドレスRA00〜RA0i−2ないしRA30〜
RA3i−2と外部から供給されるアドレスすなわち内
部アドレス信号SX0〜SXi−2とが全ビット一致す
ることを条件に、選択的に選択状態とされる。また、ダ
イナミック型RAMが冗長テストモードとされる場合、
冗長ワード線WR0は、内部アドレス信号SX0〜SX
i−2によってワード線W0が指定されるとき選択的に
選択状態とされ、冗長ワード線WR1〜WR3は、内部
アドレス信号SX0〜SXi−2によってワード線W1
〜W3が指定されるとき、それぞれ選択的に選択状態と
される。なお、この実施例において、メモリアレイMA
RYは、前述のように、実際には4個のサブメモリアレ
イSM0〜SM3に分割されるため、上位2ビットの内
部アドレス信号Si−1及びSiは、これらのサブメモ
リアレイを択一的に活性化するために供される。
【0044】図5には、図1のダイナミック型RAMに
含まれるアドレススクランブラASの一実施例の回路図
が示されている。また、図6には、図5のアドレススク
ランブラASによるメモリアレイMARYの通常モード
におけるアドレス割り付け図が示され、図7には、その
冗長テストモードにおけるアドレス割り付け図が示され
ている。これらの図をもとに、この実施例のアドレスス
クランブラASの具体的構成とアドレス割り付けの概要
ならびにその特徴について説明する。
【0045】前述のように、アドレススクランブラAS
には、XアドレスバッファXBからi+1ビットの内部
アドレス信号X0〜Xiが供給されるとともに、テスト
パッドPRTを介して試験制御信号RTMが供給され
る。このうち、下位2ビットの内部アドレス信号X0及
びX1と中間のi−5ビットの内部アドレス信号X4〜
Xi−2は、図5に示されるように、それぞれ内部アド
レス信号SX0及びSX1ならびにSX4〜SXi−2
としてそのままXアドレスデコーダXD及びX系冗長回
路XRに伝達される。
【0046】一方、内部アドレス信号X2は、相補ゲー
トG1を経た後、内部アドレス信号SX2とされるとと
もに、相補ゲートG7を経た後、内部アドレス信号SX
i−1とされる。また、内部アドレス信号X3は、相補
ゲートG2を経た後、内部アドレス信号SX3とされる
とともに、相補ゲートG8を経た後、最上位ビットの内
部アドレス信号SXiとされる。同様に、内部アドレス
信号Xi−1は、相補ゲートG3を経た後、内部アドレ
ス信号SXi−1とされるとともに、相補ゲートG5を
経た後、内部アドレス信号SX2とされる。また、内部
アドレス信号Xiは、相補ゲートG4を経た後、内部ア
ドレス信号SXiとされるとともに、相補ゲートG6を
経た後、内部アドレス信号SX3とされる。
【0047】相補ゲートG1〜G4を構成するPチャン
ネルMOSFETのゲートには、試験制御信号RTMが
共通に供給され、これらの相補ゲートを構成するNチャ
ンネルMOSFETのゲートには、試験制御信号RTM
のインバータN5による反転信号が共通に供給される。
また、相補ゲートG5〜G8を構成するPチャンネルM
OSFETのゲートには、試験制御信号RTMのインバ
ータN6による反転信号が共通に供給され、これらの相
補ゲートを構成するNチャンネルMOSFETのゲート
には、試験制御信号RTMが共通に供給される。
【0048】これらのことから、ダイナミック型RAM
が通常モードされ試験制御信号RTMがロウレベルとさ
れるとき、アドレススクランブラASでは、相補ゲート
G1〜G4が一斉にオン状態とされ、相補ゲートG5〜
G8はすべてオフ状態とされる。このため、内部アドレ
ス信号X0〜Xiは、そのビット位置が入れ換えられる
ことなく伝達され、内部アドレス信号SX0〜SXiと
なる。このとき、メモリアレイMARYでは、図6に示
されるように、上位2ビットの内部アドレス信号SXi
−1及びSXiつまりは内部アドレス信号Xi−1及び
Xiに従って4個のサブメモリアレイSM0〜SM3が
択一的に活性化され、さらにi−1ビットの内部アドレ
ス信号SX0〜SXi−2つまりは内部アドレス信号X
0〜Xi−2に従って活性化されたサブメモリアレイ内
のワード線W0〜Wmが、またi+1ビットの内部アド
レス信号Y0〜Yiに従って活性化されたサブメモリア
レイ内の相補ビット線B0*〜Bn*が択一的に選択状
態とされる。
【0049】一方、ダイナミック型RAMが冗長テスト
モードとされ試験制御信号RTMがハイレベルとされる
と、アドレススクランブラASでは、相補ゲートG1〜
G4がすべてオフ状態とされ、代わって相補ゲートG5
〜G8が一斉にオン状態とされる。このため、下位2ビ
ットの内部アドレス信号X0及びX1と中間のi−5ビ
ットの内部アドレス信号X4〜Xi−2ビットは、その
まま内部アドレス信号SX4〜SXi−2として伝達さ
れるが、第2及び第3ビットの内部アドレス信号X2及
びX3と上位2ビットの内部アドレス信号Xi−1及び
Xiは、互いにそのビット位置が入れ換えられて伝達さ
れ、それぞれ内部アドレス信号SXi−1及びSXiな
らびにS2及びS3とされる。このとき、メモリアレイ
MARYでは、図7に示されるように、内部アドレス信
号SXi−1及びSXiつまりは内部アドレス信号X2
及びX3によって4個のサブメモリアレイSM0〜SM
3が択一的に活性化され、さらに下位2ビットの内部ア
ドレス信号SX0及びSX1つまりは内部アドレス信号
X0及びX1に従って活性化されたサブメモリアレイ内
の冗長ワード線WR0〜WR3が、またi+1ビットの
内部アドレス信号Y0〜Yiに従って活性化されたサブ
メモリアレイ内の相補ビット線B0*〜Bn*が択一的
に選択状態とされる。
【0050】つまり、この実施例のダイナミック型RA
Mの冗長テストモードにおいて、サブメモリアレイSM
0〜SM3は、アドレススクランブラASの後段では上
位2ビットの内部アドレス信号SXi−1及びSXiに
従って択一的に活性化されるものであるが、アドレスス
クランブラASの前段から見た場合第3及び第4ビット
の内部アドレス信号X2及びX3に従って択一的に活性
化されるものとなる。この結果、下位4ビットの内部ア
ドレス信号X0〜X3つまりはXアドレス信号AX0〜
AX3を順次インクリメントするだけで4個のサブメモ
リアレイSM0〜SM3に設けられる4本の冗長ワード
線WR0〜WR3をすべてスキャンすることが可能とな
り、これによってダイナミック型RAMの冗長テストモ
ードを効率化することができるものである。
【0051】図8には、図2のX系冗長回路XRの第2
の実施例の部分的な回路図が示されている。また、図9
には、図8のX系冗長回路XRを構成するX系冗長イネ
ーブル回路XRE0〜XRE3ならびに単位冗長アドレ
スメモリURM0〜URMi−2の一実施例の立ち上が
り特性図が示されている。これらの図をもとに、この実
施例のX系冗長回路XRの具体的構成とX系冗長アドレ
スメモリの電源投入時における立ち上がり特性ならびに
その特徴について説明する。なお、この実施例のX系冗
長回路XRは、前記図3の実施例を基本的に踏襲するも
のであるため、これと異なる部分についてのみ説明を追
加する。
【0052】図8において、X系冗長回路XRを構成す
るX系冗長イネーブル回路XRE0ならびに単位冗長ア
ドレスメモリURM0〜URMi−2は、レベル判定用
インバータN1及びN3の入力端子とMOSFETQ3
又はQ6との間に直列形態に設けられる抵抗RF1及び
RF2(抵抗手段)を含む。
【0053】この実施例において、抵抗RF1及びRF
2は、ヒューズF1及びF2と同一の材料つまりはポリ
シリコンによって形成され、これらのヒューズと同一の
プロセスバラツキを呈する。このため、電源投入時にお
けるレベル判定用インバータN1及びN3の入力ノード
の電位は、図9に細い実線で示されるように、プロセス
バラツキの影響を受けることなく安定した立ち上がりを
呈し、これによってインバータN1及びMOSFETQ
3ならびにインバータN3及びMOSFETQ6からな
るラッチ回路の誤動作を防止することができる。この結
果、各冗長アドレスメモリの立ち上がり特性が安定化さ
れ、ダイナミック型RAMの信頼性を高めることができ
る。なお、説明は前後するが、前記図3の実施例の場
合、回路の電源電圧とヒューズF1又はF2との間に設
けられ電源投入時において高抵抗負荷として作用してい
たカットMOSFETが削除されたことで、電源投入時
におけるレベル判定用インバータN1及びN3の入力ノ
ードの電位は、図9に太い実線で示されるように、やは
り安定した立ち上がりを呈し、図8の実施例と同様な効
果を得ることができる。
【0054】図10には、図2のX系冗長回路XRの第
3の実施例の部分的な回路図が示されている。同図によ
り、この実施例のX系冗長回路XRの具体的な構成及び
動作ならびにその特徴について説明する。なお、この実
施例のX系冗長回路XRは、前記図3の実施例を基本的
に踏襲するものであるため、これと異なる部分について
のみ説明を追加する。
【0055】図10において、X系冗長回路XRを構成
するX系冗長イネーブル回路XRE0ならびに単位冗長
アドレスメモリURM0〜URMi−2は、その一方の
入力端子に対応するノアゲートNO1又はNO2の出力
信号を受けるもう一つのノアゲートNO3及びNO4
(第3の論理ゲート)をそれぞれ含む。ノアゲートNO
3及びNO4の他方の入力端子には、試験制御信号RT
MA(第2の試験制御信号)が共通に供給される。ここ
で、試験制御信号RTMAは、前記試験制御信号RTM
とは別個のテストパッドを介して供給され、例えば不良
解析等のために冗長ワード線WR0〜WR3ならびに相
補冗長ビット線BR0*〜BR3*による欠陥救済を意
図的に停止したいとき、選択的にハイレベルとされる。
【0056】ダイナミック型RAMが通常モードとされ
試験制御信号RTMAがロウレベルとされるとき、X系
冗長イネーブル回路XRE0ならびに単位冗長アドレス
メモリURM0〜URMi−2では、ノアゲートNO3
及びNO4がともに伝達状態とされ、対応するノアゲー
トNO1又はNO2の出力信号をそのまま反転して伝達
する。このため、X系冗長イネーブル回路XRE0の出
力信号REX0ならびに単位冗長アドレスメモリURM
0〜URMi−2の出力信号すなわち不良アドレスRA
00〜RA0i−2は、前記図3の実施例の場合と同様
な論理条件のもとに形成され、所定の欠陥救済が実現さ
れる。
【0057】一方、ダイナミック型RAMが不良解析等
のためのテストモードとされ試験制御信号RTMAがハ
イレベルとされると、X系冗長イネーブル回路XRE0
ならびに単位冗長アドレスメモリURM0〜URMi−
2では、ノアゲートNO3及びNO4がともに非伝達状
態とされ、その出力信号つまりはX系冗長イネーブル回
路XRE0の出力信号REX0ならびに単位冗長アドレ
スメモリURM0〜URMi−2の出力信号RA00〜
RA0i−2は、対応するヒューズF1及びF2の切断
状態に関係なくロウレベルに固定される。このため、X
系冗長回路XRによる欠陥救済は全面的に呈しされ、内
部アドレス信号SX0〜SXiつまりは外部から供給さ
れるXアドレス信号AX0〜AXiによるワード線の選
択動作が行われる。これにより、通常経路によるワード
線選択動作を行い、ダイナミック型RAMの不良解析等
を容易に行いうるものとなる。
【0058】以上の本実施例に示されるように、この発
明を冗長回路を備えるダイナミック型RAM等の半導体
装置ならびにその冗長テストモードに適用することで、
次のような作用効果が得られる。すなわち、 (1)冗長回路の各単位冗長アドレスメモリに設けられ
その一方がレベル判定用インバータの入力端子に結合さ
れるヒューズの他方を、カットMOSFETを介するこ
となく直接回路の電源電圧に結合するとともに、レベル
判定用インバータの後段に、第1の試験制御信号に従っ
てレベル判定用インバータの実質的な出力信号のレベル
を対応するヒューズが切断された場合と同一の状態に選
択的に固定するための第2の論理ゲートを設けること
で、電源投入時におけるレベル判定用インバータの判定
動作を安定化し、レベル判定用インバータを含むラッチ
回路の誤動作を防止することができるという効果が得ら
れる。 (2)上記(1)項により、ビットごとに冗長回路のヒ
ューズ切断状態を擬似的に作り出し、冗長ワード線及び
冗長ビット線ならびに冗長回路そのものの正常性を予め
確認することができるという効果が得られる。
【0059】(3)上記(1)項及び(2)項におい
て、そのゲートにレベル判定用インバータの出力信号を
受けこのインバータとラッチ回路を構成する第1のMO
SFETと直列形態に、上記ヒューズと同一材料からな
る抵抗手段を設けることで、冗長回路の各単位冗長アド
レスメモリの電源投入時における立ち上がり特性を安定
化することができるという効果が得られる。 (4)上記(1)項〜(3)項において、上記第2の論
理ゲートの後段に、第2の試験制御信号に従って上記第
2の論理ゲートの実質的な出力信号のレベルを対応する
ヒューズが選択されない場合と同一の状態に固定するた
めの第3の論理ゲートを設けることで、冗長回路による
欠陥救済を意図的に停止し、ダイナミック型RAM等の
不良解析等を効率的に実施できるという効果が得られ
る。 (5)上記(1)項〜(4)項において、上記第1のM
OSFETと並列形態に設けられる第2のMOSFET
を、ダイナミック型RAMが選択状態とされる当初にお
いて一時的にオン状態とすることで、第2のMOSFE
Tを介して流される電流の総量を削減できるという効果
が得られる。 (6)上記(1)項〜(5)項により、その低消費電力
化を推進しつつ、冗長回路を備えるダイナミック型RA
M等の冗長テストを効率化し、その信頼性と製品歩留ま
りを高めることができるという効果が得られる。
【0060】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、メモリアレイMARYは、冗長ワー
ド線又は冗長ビット線のいずれか一方のみを備えるもの
であってよいし、冗長ワード線及び冗長ビット線の数
も、任意に設定することができる。メモリアレイMAR
Yは、サブメモリアレイとして分割されることを条件と
はしないし、その分割数も任意である。ダイナミック型
RAMは、シェアドセンス方式を採ることができるし、
アドレスマルチプレクス方式を採ることを必須条件とも
しない。さらに、ダイナミック型RAMは、複数ビット
の記憶データを同時に入力又は出力するいわゆる多ビッ
ト構成を採ることができるし、そのブロック構成は、こ
の実施例による制約を受けない。
【0061】図3及び図9ならびに図10において、X
系冗長イネーブル回路XRE0及び単位冗長アドレスメ
モリURM0〜URMi−2は、同一の論理条件を採る
限りにおいて任意の回路構成を採ることができる。ま
た、ヒューズF1及びF2は、ポリシリコン以外の材料
を用いることができるし、電源電圧の極性や絶対値なら
びにMOSFETの導電型等は、この実施例による制約
を受けない。図5に示されるアドレス信号の組み合わせ
や入れ換え方法ならびに図6及び図7に示されるアドレ
ス割り付け方法は、種々の実施形態を採りうる。
【0062】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるダイ
ナミック型RAMに適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、例えば、種々の組み合
わせをもってスタティック型RAM等の各種メモリ集積
回路やメモリ集積回路を内蔵するディジタル集積回路装
置等にも適用できる。この発明は、少なくともヒューズ
回路あるいはヒューズ回路を含む冗長回路を備える半導
体装置に広く適用できる。
【0063】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、冗長回路の各単位冗長アド
レスメモリに設けられその一方がレベル判定用インバー
タの入力端子に結合されるヒューズの他方を、カットM
OSFETを介することなく直接回路の電源電圧に結合
するとともに、レベル判定用インバータの後段に、所定
の試験制御信号に従ってレベル判定用インバータの実質
的な出力信号のレベルを対応するヒューズが切断された
場合と同一の状態に選択的に固定するための第2の論理
ゲートを設けることで、電源投入時におけるレベル判定
用インバータの判定動作を安定化し、レベル判定用イン
バータを含むラッチ回路の誤動作を防止できるととも
に、ビットごとに冗長回路のヒューズ切断状態を擬似的
に作り出し、冗長ワード線及び冗長ビット線ならびに冗
長回路そのものの正常性を予め確認することができる。
この結果、冗長回路を備えるダイナミック型RAM等の
冗長テストを効率化し、その信頼性と製品歩留まりを高
めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用されたダイナミック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。
【図2】図1のダイナミック型RAMに含まれるX系冗
長回路の一実施例を示すブロック図である。
【図3】図2のX系冗長回路の第1の実施例を示す部分
的な回路図である。
【図4】図3のX系冗長回路の一実施例を示す信号波形
図である。
【図5】図1のダイナミック型RAMに含まれるアドレ
ススクランブラの一実施例を示す回路図である。
【図6】図5のアドレススクランブラによるメモリアレ
イの通常モードにおけるアドレス割り付け図である。
【図7】図5のアドレススクランブラによるメモリアレ
イの冗長テストモードにおけるアドレス割り付け図であ
る。
【図8】図2のX系冗長回路の第2の実施例を示す部分
的な回路図である。
【図9】図8のX系冗長回路に含まれる冗長アドレスメ
モリの一実施例を示す立ち上がり特性図である。
【図10】図2のX系冗長回路の第3の実施例を示す部
分的な回路図である。
【図11】従来のダイナミック型RAMに含まれるX系
冗長回路の一例を示す部分的な回路図である。
【符号の説明】
MARY・・・メモリアレイ、SA・・・センスアン
プ、XD・・・Xアドレスデコーダ、XR・・・X系冗
長回路、XB・・・Xアドレスバッファ、AS・・・ア
ドレススクランブラ、YD・・・Yアドレスデコーダ、
YR・・・Y系冗長回路、YB・・・Yアドレスバッフ
ァ、IO・・・データ入出力回路、TG・・・タイミン
グ発生回路。XRE0〜XRE3・・・X系冗長イネー
ブル回路、XRM0〜XRM3・・・X系冗長アドレス
メモリ、XAC0〜XAC3・・・X系冗長アドレス比
較回路。URM0〜URMi−2・・・単位冗長アドレ
スメモリ。SM0〜SM3・・・サブメモリアレイ。F
1〜F2・・・ヒューズ、C1・・・接続切り換え部、
R1〜R2,RF1〜RF2・・・抵抗、Q1〜Q6・
・・NチャンネルMOSFET、Q7〜Q8・・・Pチ
ャンネルMOSFET、N1〜N8・・・インバータ、
NO1〜NO4・・・ノア(NOR)ゲート、G1〜G
8・・・相補ゲート。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 M 8427−4M T 8427−4M

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電源電圧と第1の論理ゲートの入
    力端子との間に設けられるヒューズ手段と、上記第1の
    論理ゲートの入力端子と第2の電源電圧との間に設けら
    れそのゲートに上記第1の論理ゲートの出力信号を受け
    る第1のMOSFETと、上記第1の論理ゲートの後段
    に設けられ第1の試験制御信号に従って上記第1の論理
    ゲートの実質的な出力信号のレベルを上記ヒューズ手段
    が切断された場合と同一の状態に選択的に固定する第2
    の論理ゲートとを含むヒューズ回路を具備することを特
    徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 第1の電源電圧と第1の論理ゲートの入
    力端子との間に設けられるヒューズ手段と、上記第1の
    論理ゲートの入力端子と第2の電源電圧との間に直列形
    態に設けられ上記ヒューズ手段と同一の材料からなる抵
    抗手段ならびにそのゲートに上記第1の論理ゲートの出
    力信号を受ける第1のMOSFETとを含むヒューズ回
    路を具備することを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 第1の電源電圧と第1の論理ゲートの入
    力端子との間に設けられるヒューズ手段と、上記第1の
    論理ゲートの入力端子と第2の電源電圧との間に設けら
    れそのゲートに上記第1の論理ゲートの出力信号を受け
    る第1のMOSFETと、上記第1の論理ゲートの後段
    に設けられ第2の試験制御信号に従って上記第1の論理
    ゲートの実質的な出力信号のレベルを上記ヒューズ手段
    が切断されない場合と同一の状態に選択的に固定する第
    3の論理ゲートとを含むヒューズ回路を具備することを
    特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 上記第1の論理ゲートの入力端子と第2
    の電源電圧との間には、さらに所定の内部制御信号に従
    って選択的にオン状態とされる第2のMOSFETが設
    けられるものであって、上記内部制御信号は、上記半導
    体装置が選択状態とされる当初において一時的に有効と
    されるものであることを特徴とする請求項1,請求項2
    又は請求項3の半導体装置。
  5. 【請求項5】 上記半導体装置は、冗長ワード線及び/
    又は冗長ビット線を含むメモリアレイと、アドレスの各
    ビットに対応して設けられる複数の単位冗長アドレスメ
    モリを含み上記冗長ワード線又は冗長ビット線に割り当
    てられる不良アドレスを保持する冗長アドレスメモリ
    と、外部から指定されるアドレスと上記冗長アドレスメ
    モリにより保持される不良アドレスとを比較照合し両ア
    ドレスが一致したとき対応する上記冗長ワード線又は冗
    長ビット線を選択的に選択状態とする冗長アドレス比較
    回路とを具備するものであって、上記ヒューズ回路は、
    上記単位冗長アドレスメモリのそれぞれに含まれるもの
    であることを特徴とする請求項1,請求項2,請求項3
    又は請求項4の半導体装置。
  6. 【請求項6】 上記単位冗長アドレスメモリのそれぞれ
    は、上記第1の試験制御信号を上記第2の論理ゲートに
    選択的に伝達するための接続切り換え部を含むものであ
    ることを特徴とする請求項5の半導体装置。
  7. 【請求項7】 冗長ワード線及び/又は冗長ビット線を
    それぞれ含みアドレスの所定ビットに従って選択的に指
    定される複数のメモリアレイと、上記冗長ワード線又は
    冗長ビット線に割り当てられる不良アドレスを保持する
    冗長アドレスメモリと、外部から供給されるアドレスと
    上記冗長アドレスメモリにより保持される不良アドレス
    とを比較照合し両アドレスが一致したとき対応する上記
    冗長ワード線又は冗長ビット線を選択的に選択状態とす
    る冗長アドレス比較回路と、通常の動作モードにおいて
    上記外部から供給されるアドレスをそのまま上記冗長ア
    ドレス比較回路に伝達し所定の試験モードにおいて上記
    外部から供給されるアドレスの上記所定ビットと他の所
    定ビットとを選択的に入れ換えて伝達するアドレススク
    ランブラとを具備することを特徴とする半導体装置。
JP4338034A 1992-11-25 1992-11-25 半導体装置 Pending JPH06163704A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4816202A (en) * 1986-10-09 1989-03-28 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Method of melt spinning pitch
US7933159B2 (en) 2007-07-11 2011-04-26 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory device and system with redundant element

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US4816202A (en) * 1986-10-09 1989-03-28 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Method of melt spinning pitch
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