JPH06155270A - テキスチャー装置 - Google Patents
テキスチャー装置Info
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- JPH06155270A JPH06155270A JP30098792A JP30098792A JPH06155270A JP H06155270 A JPH06155270 A JP H06155270A JP 30098792 A JP30098792 A JP 30098792A JP 30098792 A JP30098792 A JP 30098792A JP H06155270 A JPH06155270 A JP H06155270A
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
可能とし、ディスク状材料を研磨する際の生産性を高め
る。 【構成】 研磨テープ104が張架されたコンタクトロ
ール70を回転自在に支持したスライドピン72が、往
復動自在に支持体60に支持される。スライドピン72
の右端側にローラ90が支持され、ローラ90が偏心カ
ム42に接する。偏心カム42は、プーリ26、28、
30及びゴムベルト24、38等を介して駆動モータ1
4と接続されている。従って、駆動モータ14が回転す
ると、偏心カム42が回転され、これによりローラ90
及びコンタクトロール70等が往復動して、基板102
上を研磨テープ104が研磨加工をする。
Description
て高速でコンタクトロールを往復動させて研磨するテキ
スチャー装置に関し、特にハードディスク等の研磨に好
適なものである。
速で回転して磁気ヘッドを浮上させ、ハードディスクへ
の記録の書き込み及び読み出し等を、この磁気ヘッドを
介して行っている。
ードディスクのディスク表面からの高さである飛行高さ
を低くすることが求められている。この為、ディスク表
面を平滑化することが必要であり、従来からハードディ
スクの磁性層形成前の基板表面を研磨加工(テキスチャ
ー加工)していた。この一方、あまりにディスク表面を
平滑化すると、ハードディスクの起動時に磁気ヘッドが
ディスク表面に付着する虞を有していた。
く、この研磨加工には、研磨テープあるいは研磨パッド
をゆっくり揺動することにより、ハードディスクの回転
中心と同軸状に研磨加工を行う(いわゆる、サーキュラ
ー加工)方法の他、高速で研磨テープあるいは研磨パッ
ドを振動させるように高速で往復動させてハードディス
クの表面に、これら研磨テープ等による条痕を交差させ
て形成するクロス加工方法が知られている。
すなわち図7に示すように、研磨テープ104が張架さ
れたコンタクトロール70が往復動して、基板102上
に研磨テープ104により研磨されて形成される条痕A
の交差する角度(以下、クロスハッチ角という)θが、
通常5°から30°程度の角度を有するようになってい
て、このクロス加工方法が高密度記録に伴って広く用い
られるようになった。
よる研磨加工、遊離砥粒を表面に付着してしみ込ませた
研磨パッド等が用いられている。
に、磁性層、保護層、潤滑層等を乗せて、ハードディス
クが完成することとなる。
クを構成する基板の研磨加工の際には、基板を回転しつ
つ基板に対して研磨テープ、あるいは研磨パッドを基板
の半径方向に沿って往復動することにより、研磨作業を
行っていた。
等を往復動する際に、コンタクトロールだけでなく装置
全体を往復動していたので、1分当たり200〜400
回程度の往復動が限界であった。しかも、同一のクロス
角とするには、基板を回転するスピンドルの回転数を、
この往復動の速さに合わせて設定しなければならない
為、80〜160rpm程度とするのが限界であった。
この為、研磨加工の処理速度の向上を図ることが困難で
あり、多量の基板を連続して研磨加工する際の生産性を
高めることが出来ないという欠点を有していた。
ロールを高速で往復動することを可能とし、基板等のデ
ィスク状材料を研磨する際の生産性を高めるテキスチャ
ー装置を提供することを目的とする。
ャー装置は、研磨テープが張架されており、回転されて
いるディスクの表面にこの研磨テープを圧接するコンタ
クトロールと、前記コンタクトロールを支持する支持部
を前記ディスクの回転方向と交差する方向に往復動自在
に設けた架台と、前記架台に接続されると共に前記支持
部を介して前記コンタクトロールを往復動する駆動手段
とを有することを特徴とする。
が表面に付着しており、回転されているディスクの表面
に圧接するコンタクトロールと、前記コンタクトロール
を支持する支持部を前記ディスクの回転方向と交差する
方向に往復動自在に設けた架台と、前記架台に接続され
ると共に前記支持部を介して前記コンタクトロールを往
復動する駆動手段とを有することを特徴とする。
装置は、請求項1及び請求項2に記載された駆動手段が
カム方式であることを特徴とする。
して往復動する。従って、支持部と一体となってコンタ
クトロールが回転しているディスクの表面上を往復動
し、コンタクトロールに張架された研磨テープがディス
クの表面を圧接して、研磨する。
ンタクトロールを支持する支持部のみが架台に対して往
復動することとなり、往復動の際の慣性力が小さくなる
結果、高速度での往復動が可能となる。
が回転しているディスクの表面上を往復動し、コンタク
トロール自体がディスクの表面を圧接して、砥粒が表面
に付着しているコンタクトロールがディスクの表面を研
磨する、という相違を請求項1に対して有する。
を図1、図2、図3及び図5に示し、これらの図に基づ
き本実施例を説明する。尚、本実施例はカム方式を一例
として用いたものである。
うに、テキスチャー装置10の外枠を形成する架台12
には、駆動モータ14が固定されていて、駆動モータ1
4の回転軸14Aにギヤ20が取り付けられている。ま
た、架台12には、ブラケット16がねじ32を介して
ねじ止められており、ブラケット16の先端側にギヤ2
0とかみ合うギヤ22が回転自在に支持されている。こ
のギヤ22にはギヤ22と同軸にプーリ26が取り付け
られていて、プーリ26にゴムベルト24が巻き掛けら
れている。
ラケット18がねじ32を介して架台12にねじ止めら
れており、このブラケット18の先端側に、一対のプー
リ28、30が相互に一体的に回転するように支持され
ている。そして、プーリ28にはゴムベルト24が巻き
掛けられており、プーリ26の回転がこれらのプーリ2
8、30に伝達させるようになっている。
結片18Aには、回転軸41を介して、駆動手段である
偏心カム42を回転自在に支持するカム支持体36の連
結部36Aがねじ止められており、このねじ止めによ
り、ブラケット18にカム支持体36が支持固定されて
いる。そして、図3に示すように、回転軸41に対する
この偏心カム42の中心のずれ量を偏心量Wとし、この
偏心量Wを、例えば0.25〜2.5mmの値としてい
る。さらに、この回転軸41には、回転軸41と同軸に
プーリ40が取り付けられていて、プーリ40とプーリ
30とを繋ぐようにゴムベルト38が巻き掛けられてい
る。
突出した取付部48にねじ54のねじ止めにより固定さ
れたアーム50が、位置している。このアーム50の先
端側50Bは、屈曲して図1上、下側に延びるアーム5
2の基端側52Aを挟持しており、このアーム52に
は、内部にスライドブシュ76、86が嵌合された支持
体60が、一対のねじ58を介して固定されている。
76にはコンタクトロール70を左端側に回転自在に支
持したスライドピン72が図上、左右方向に往復動自在
に支持されており、図1及び、研磨テープの走行系を概
念的に表す図5に示すように、このコンタクトロール7
0に、ガイドローラ94を介して供給リール96側から
送られる研磨テープ104が、巻き掛けられている。そ
して、研磨テープ104は図1上、図示しないテープ送
りローラ95を介して、架台12に内蔵されたモータに
より回転されるようになっている巻取リール98に、巻
き取られるようになっている。ここで研磨テープ104
の種類としては、代表的には、2500〜6000#程
度のアルミナ砥粒を担持したものが用いられる。
と、巻取リール98側のテープ送りローラ95との間に
送られる研磨テープ104に所定のテンション付与すべ
く、図示しないモータ、滑り機構等の機構が架台12に
内蔵されている。従って、研磨テープ104は、それぞ
れガイドローラ94に案内されると共に定テンションを
加えられつつ、巻取リール98に巻き取られるようにな
っている。そして、コンタクトロール70が、基板10
2のディスク表面とこの研磨テープ104を介して接し
ている。
が、基板102の材質としては特に制限はなく、通常、
無電解めっき法により形成したニッケル−リン層を設け
たアルミニュウム系合金板(例えば、厚さ1から3mm程
度)が用いられる。但し、その他、銅、チタン等の金属
基板、ガラス基板、セラミック基板、炭素質基板または
樹脂基板等を用いることもできる。
ム−マグネシウム合金基板の表面に、ニッケル−リンの
無電解めっき膜の下地膜(例えば、厚さ20から30μ
m程度)を設けたものであって、この下地膜に鏡面加工
を施した下地膜形成基板(この基板をサブストレイトと
も呼ぶ)が用いられる。
には、ベアリング88を介してローラ90を回転自在に
支持したカム当接体80が固定されており、スライドピ
ン72の外周に巻き付けられたコイルスプリング74
が、カム当接体80及びスライドピン72と、支持体6
0との間を、離間するように位置している。この為、ロ
ーラ90がコイルスプリング74の押圧力で偏心カム4
2の外周に当接することとなる。尚、コイルスプリング
74のばね定数は、常時ローラ90が偏心カム42と接
して偏心カム42の形状に沿って往復動するように、通
常、0.05〜0.3Kg/mm程度、としている。また、
コイルスプリング74の取付時の押付け荷重範囲は、通
常1〜3Kgf程度である。
ン72と平行に伸びるように位置するスライドピン82
の右端側が固定されていて、スライドピン82の左端側
がスライドブシュ86に嵌入されている。従って、支持
体60に対してカム当接体80が相対的に移動する際
に、一対のスライドピン72、82を有することから支
持体60とカム当接体80との間の相対回転が抑制さ
れ、また、これらスライドピン72、82、カム当接体
80、及びローラ90等がコンタクトロール70の支持
部となる。
動モータ14の駆動回転によりギヤ20を介してギヤ2
2が回転し、プーリ26が回転される。この為、ゴムベ
ルト24、38及びプーリ28、30を介してプーリ4
0が回転され(例えば、400〜3000rpm程度)、
この結果として偏心カム42が回転し、偏心カム42と
接するローラ90と共にカム当接体80が、スライドブ
シュ76、86に案内されて、架台12に対して往復動
する。
2、82と一体となって、コンタクトロール70が円盤
状の基板102の表面であるディスク表面上を往復動
し、コンタクトロール70に巻き掛けられた研磨テープ
104がディスク表面を研磨する。そして、この際の往
復動の幅Sは、偏心量Wの値の2倍の大きさとなる。
びコンタクトロール70を支持する支持部のみが架台1
2に対して往復動することとなり、コンタクトロール7
0を往復動する際の慣性力が小さくなる結果、高速度で
のコンタクトロール70の往復動が可能となる。具体的
には、従来と同一のクロスハッチ角θであっても、コン
タクトロール70の往復動としては、1分間当たり22
00回の往復動が出来るようになり、これに合わせて、
基板102の駆動回転用のスピンドルの回転数を300
rpm程度とした。
2と平行に設置して、コンタクトロール70、コイルス
プリング74及び偏心カム42を直線上からずらすこと
から、偏心カム42を高速回転しても、コンタクトロー
ル70、スライドピン72、コイルスプリング74等が
回動してコンタクトロール70が、がたつくことがない
だけでなく、支持体60に対してコンタクトロール70
が強固に取り付けられる。
ャー装置を図6に示し、この図に基づき本実施例を説明
する。尚、第1実施例と同一の部材には同一の符号を付
し、重複した説明を省略する。
スチャー装置10の外枠を形成する架台12の右下部分
には、回転軸41を介して、偏心カム42を回転自在に
支持するカム支持体36の連結部36Bがねじ止められ
ており、このねじ止めにより、架台12にカム支持体3
6が支持固定されている。
ラケット112が固定されて、位置している。このブラ
ケット112の先端部を往復動可能に貫通したアーム1
50が、ブラケット112に支持されている。このアー
ム150の先端側150Bは、屈曲して図1上、下側に
延びるアーム52の基端側52Aを挟持し、このアーム
52が、コンタクトロール70を回転自在に支持してい
る。
は、ベアリング88(図2参照)を介してローラ90を
回転自在に支持したカム当接体80が固定されており、
アーム150の外周に巻き付けられたコイルスプリング
74が、カム当接体80とブラケット112との間を、
離間するように位置している。
8に取り付けられた連結材49とアーム150との間に
は、例えばLMガイド、リニアブシュ等により構成され
て直線状の移動を可能とする直線運動軸受110が介在
されている。
52、150、カム当接体80、及びローラ90等がコ
ンタクトロール70の支持部となる。
動モータ14の駆動回転によりギヤ20を介してギヤ2
2が回転し、プーリ26が回転される。この為、ゴムベ
ルト38を介してプーリ40が回転され(例えば、40
0〜3000rpm程度)、この結果として偏心カム42
が回転し、偏心カム42と接するローラ90と共にカム
当接体80が、ブラケット112及び直線運動軸受11
0に案内されて、架台12に対して往復動する。
50と一体となって、コンタクトロール70が円盤状の
基板102の表面であるディスク表面上を往復動し、コ
ンタクトロール70に巻き掛けられた研磨テープ104
がディスク表面を研磨する。
びコンタクトロール70を支持する支持部のみが架台1
2に対して往復動することとなり、コンタクトロール7
0を往復動するの際の慣性力が小さくなる結果、高速度
でのコンタクトロール70の往復動が可能となる。具体
的には、第1実施例と同様に従来と同一のクロスハッチ
角θであっても、コンタクトロール70の往復動として
は、1分間当たり2200回の往復動が出来るようにな
り、これに合わせて、基板102の駆動回転用のスピン
ドルの回転数を300rpm程度とした。
円形とすると共に軸心をずらした偏心カムとしたが、こ
れに限らず例えば、図4(a)示すように、カム110
の一部に突出部110Aを設けたものであってもよく、
図4(b)示すように、楕円形状のカム112としても
よく、図4(c)示すように、2以上の突出部114A
を有するカム114としてもよい。そして、コンタクト
ロール70は、楕円形状のカム112とした場合、カム
112の1回転で当然に2回往復動することとなり、カ
ム114の1回転で3回往復動することとなる。
をカムとしたが、駆動手段としてはカム方式以外にクラ
ンク、エアシリンダ、電磁石等を用いたものとしてもよ
い。
の片面側の研磨加工のみについて説明したが、テキスチ
ャー装置10をもう1台設置して、同時に基板102の
両面を加工することとしてもよい。
を用いた研磨加工を通して説明したが、遊離砥粒を表面
に付着してしみ込ませた研磨パッド又は、表面を粗面化
した研磨ロールをコンタクトロールとして採用し、コン
タクトロールを直接にディスク表面に当接して研磨を行
う研磨加工に、適用することとしてもよい。更に、ディ
スクと研磨テープとの接触面に界面活性剤水溶液を注ぎ
ながら研磨加工を行うこともできる。
しては、代表的には、アルミナ系スラリーのポリプラ7
00やポリプラ103(共に、株式会社フジミインコー
ポレーテッド社の登録商標)、ダイヤモンド系スラリ
ー、SiC系スラリー等が用いられ、研磨パッドとして
は、代表的には、Surfin100やSurfinX
XX−5(共に、株式会社フジミインコーポレーテッド
社の登録商標)等が用いられる。
うに説明した構成とした結果、コンタクトロールを高速
で往復動することが可能となり、ディスク状材料を研磨
加工する際の生産性を高めることを可能とした。
全体構成側面図である。
要部断面図である。
形状を表す正面図である。
おける研磨テープの走行系を示す概念図である。
全体構成側面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 研磨テープが張架されており、回転され
ているディスクの表面にこの研磨テープを圧接するコン
タクトロールと、前記コンタクトロールを支持する支持
部を前記ディスクの回転方向と交差する方向に往復動自
在に設けた架台と、前記架台に接続されると共に前記支
持部を介して前記コンタクトロールを往復動する駆動手
段とを有することを特徴とするテキスチャー装置。 - 【請求項2】 砥粒が表面に付着しており、回転されて
いるディスクの表面に圧接するコンタクトロールと、前
記コンタクトロールを支持する支持部を前記ディスクの
回転方向と交差する方向に往復動自在に設けた架台と、
前記架台に接続されると共に前記支持部を介して前記コ
ンタクトロールを往復動する駆動手段とを有することを
特徴とするテキスチャー装置。 - 【請求項3】 駆動手段がカム方式であることを特徴と
する請求項1記載のテキスチャー装置。 - 【請求項4】 駆動手段がカム方式であることを特徴と
する請求項2記載のテキスチャー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4300987A JP2975785B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | テキスチャー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4300987A JP2975785B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | テキスチャー装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06155270A true JPH06155270A (ja) | 1994-06-03 |
JP2975785B2 JP2975785B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=17891469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4300987A Expired - Lifetime JP2975785B2 (ja) | 1992-11-11 | 1992-11-11 | テキスチャー装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2975785B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010082744A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Ntn Corp | 超仕上げ装置 |
CN102862118A (zh) * | 2012-09-17 | 2013-01-09 | 江苏天马通用设备有限公司 | 拉丝机的摆动机构 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63200958A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-19 | Sanshin Shoko:Kk | ラツピング装置 |
JPH02199617A (ja) * | 1989-01-28 | 1990-08-08 | Speedfam Co Ltd | 磁気記録用基板とそのテクスチャリング加工方法及び加工装置 |
-
1992
- 1992-11-11 JP JP4300987A patent/JP2975785B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS63200958A (ja) * | 1987-02-12 | 1988-08-19 | Sanshin Shoko:Kk | ラツピング装置 |
JPH02199617A (ja) * | 1989-01-28 | 1990-08-08 | Speedfam Co Ltd | 磁気記録用基板とそのテクスチャリング加工方法及び加工装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010082744A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Ntn Corp | 超仕上げ装置 |
CN102862118A (zh) * | 2012-09-17 | 2013-01-09 | 江苏天马通用设备有限公司 | 拉丝机的摆动机构 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2975785B2 (ja) | 1999-11-10 |
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Legal Events
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