JPH06123967A - Photopolymerizable composition, color filter using the same and its production - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To provide a photopolymerizable compsn. excellent in alkali developability and giving a protective layer having required performance and to provide a method for producing a color filter using the compsn. and especially useful for a liq. crystal display panel. CONSTITUTION:This photopolymerizable compsn. contains a photopolymn. initiator or a photopolymn. initiator system, an addition-polymerizable monomer having an ethylenic unsatd. double bond and a resin obtd. by allowing a resin having at least repeating units represented by formula I, II or III and 500-30,000 number average mol.wt. to react with a prim. amine represented by a formula R-NH2 (where R is alkyl, etc.). This color filter has a protective layer formed with the photopolymerizable compsn. In the formulae I-III, Ar is phenyl, etc., Q is a satd. or unsatd. hydrocarbon, etc., 0.15<=x<=0.70, 0.15<=y<=0.70 and 0.01<=z<=0.70.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光重合および熱処理後の
硬化物の耐薬品性が優れ、アルカリ水溶液で現像が可能
な光重合性組成物に関する。本発明になる光重合性組成
物は、カラーフィルターの保護層形成に特に有用であ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photopolymerizable composition which is excellent in chemical resistance of a cured product after photopolymerization and heat treatment and can be developed with an aqueous alkali solution. The photopolymerizable composition according to the present invention is particularly useful for forming a protective layer of a color filter.

【０００２】[0002]

【従来の技術】カラーフィルターは液晶表示パネルの重
要な部品であり、種々の要求性能項目があるが、特にＳ
ＴＮやＦＬＣ液晶表示パネルとして用いたときに、カラ
ーフィルター上に設けられる透明導電性層の形成及び引
き続く透明電極への加工にあたり、耐熱性や耐薬品性は
とりわけ重要である。即ち、前記の液晶表示パネルは、
通常はガラス製の透明基板上に赤、緑、青色の画素また
は場合により更に黒色又は光遮断性のブラックマトリッ
クスを有する多色画像層を形成した後で保護層を形成
し、この上に通常はＩＴＯのスパッタにより透明導電性
層を形成する。その後、ＳＴＮ型や強誘電性液晶型パネ
ルの場合には更にフォトリソグラフィーにより透明電極
に加工し電極付きカラーフィルターを得る。そして、該
電極付きカラーフィルターの上に配向膜を形成する。ま
た別の透明基板上の透明電極及び配向膜をスペーサーで
一定の間隙を保ってシールしたあとでこの２枚の基板間
に液晶を注入することでパネルが作製される。2. Description of the Related Art A color filter is an important part of a liquid crystal display panel and has various required performance items.
When used as a TN or FLC liquid crystal display panel, heat resistance and chemical resistance are particularly important in forming a transparent conductive layer provided on a color filter and subsequently processing the transparent electrode. That is, the liquid crystal display panel is
Usually, a multicolor image layer having red, green, and blue pixels or, optionally, a black or light-shielding black matrix is formed on a transparent substrate made of glass, and then a protective layer is formed, and then a protective layer is formed thereon. A transparent conductive layer is formed by sputtering ITO. Then, in the case of an STN type or a ferroelectric liquid crystal type panel, it is further processed into a transparent electrode by photolithography to obtain a color filter with an electrode. Then, an alignment film is formed on the color filter with electrodes. Further, a transparent electrode and an alignment film on another transparent substrate are sealed with a spacer with a constant gap therebetween, and then a liquid crystal is injected between the two substrates to manufacture a panel.

【０００３】この一連の液晶表示パネルのためのカラー
フィルターの形成過程で、多色画像層上の保護層は、
１）平坦性を与える、２）液晶のセルギャップを確保す
るためスペーサが潜り込まないほどに十分な硬度を示
す、３）透明導電性層のフォトリソグラフィー過程で用
いられる種々の薬液（フォトレジストの溶剤、酸性エッ
チング液、アルカリ性レジスト剥離液、配向膜塗液の溶
剤等）への耐性を与える、またさらに、４）可視光領域
での透明性が有り、曇りや濁りが無い事、５）多色画像
層との密着はもちろん、多色画像の形成されていない基
板上に直接設けられる場合も有る為に基板への密着性に
優れる事が必要となる。この目的のため特開昭６０−２
１６３０７号に記載のエポキシ化合物と多価カルボン酸
またはその無水物、特開昭６０−２４４９３２号に記載
のナイロン樹脂、特開昭６３−１３１１０３号に記載の
メラミン化合物とエポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂が
提案された。確かにこれらの熱硬化型樹脂は上記１）か
ら４）の必要性能上はほぼ目標を達成することが可能に
なった。In the process of forming a color filter for a series of liquid crystal display panels, the protective layer on the multicolor image layer is
1) provides flatness, 2) exhibits sufficient hardness so that the spacer does not go into the liquid crystal cell gap, and 3) various chemicals used in the photolithography process of the transparent conductive layer (solvent of photoresist) , Acid etching liquid, alkaline resist stripping liquid, solvent for alignment film coating liquid, etc.), and 4) transparency in the visible light region without clouding or turbidity 5) multicolor In addition to the close contact with the image layer, it may be directly provided on the substrate on which the multicolor image is not formed, so that it is necessary to have excellent adhesion to the substrate. For this purpose, JP-A-60-2
No. 16307 and a polycarboxylic acid or its anhydride, a nylon resin described in JP-A-60-244932, and a melamine compound and an epoxy resin described in JP-A-63-131103. Resins have been proposed. Certainly, these thermosetting resins have almost reached the target in terms of the required performance of the above 1) to 4).

【０００４】しかし、保護層非画像部でのシールを確実
なものにするために、透明基板上では除去しなければな
らないという要請や、特開昭５７−４２００９号、特開
平１−１３０１０３号や特開平１−１３４３０６号に記
載のようにスクライブライン上の保護膜は除去しなけれ
ばならないという要請が出てきた。しかしながら前述の
様な熱硬化性樹脂ではこれらを精度良く実施することは
困難である。さらにこの様な熱硬化性樹脂は一般に硬化
剤とエポキシ樹脂の組み合わせのため、反応性のこの２
成分を混合して置くと、経時的に反応が進み塗液粘度が
上昇するため膜厚を均一にする事が困難で、使用可使時
間が短かく、かつ膜厚の精度が得られにくいという欠点
がある。However, in order to secure the seal at the non-image portion of the protective layer, it is necessary to remove the protective layer on the transparent substrate, and JP-A-57-42009, JP-A-1-130103 and the like. There has been a demand that the protective film on the scribe line must be removed as described in JP-A-1-134306. However, it is difficult to accurately carry out these with the thermosetting resin as described above. In addition, such thermosetting resins are generally a combination of a curing agent and an epoxy resin, and thus are
When the components are mixed and placed, the reaction progresses over time and the viscosity of the coating solution rises, making it difficult to make the film thickness uniform, the pot life is short, and the film thickness accuracy is difficult to obtain. There are drawbacks.

【０００５】これらの問題点を解決する有効な手段とし
て、感光性で未露光部が現像できるいわゆる感光性樹脂
タイプが求められるようになった。これまで知られてい
る感光性であって、カラーフィルター層上に塗布などの
方法で設け、光硬化して保護層として使用される例とし
ては、特開昭５７−４２００９号や特開昭６０−２４４
９３２号に記載の紫外線硬化型樹脂、特開昭５９−７３
１７号に記載のビニルカルボニル基含有ポリマー、特開
昭５９−１８４３２５号のＰＶＡと感光剤からなる感光
性樹脂、特開昭６０−４２７０４号記載のゴム系樹脂、
特開平２−１９１９０１号記載の着色層として用いられ
る顔料分散させた感光性樹脂からの着色層上に、設けら
れた前記感光性樹脂から顔料を除去した感光性樹脂など
が知られている。As an effective means for solving these problems, a so-called photosensitive resin type which is photosensitive and capable of developing an unexposed portion has been demanded. Examples of the known photosensitive material which is provided on the color filter layer by a method such as coating and photocured to be used as a protective layer are described in JP-A-57-42009 and JP-A-60-4. -244
UV-curable resin described in JP-A No. 932, JP-A-59-73.
17, a vinylcarbonyl group-containing polymer, a photosensitive resin comprising PVA and a photosensitizer described in JP-A-59-184325, a rubber-based resin described in JP-A-60-42704,
There is known a photosensitive resin obtained by removing a pigment from the photosensitive resin provided on a pigment-dispersed photosensitive resin used as a colored layer described in JP-A-2-191901.

【０００６】更に、光で硬化し、未露光部が衛生上また
公害対策上も有利なアルカリ水溶液で現像でき、その後
加熱により硬化膜に更に大きな耐アルカリ性が与えられ
るような保護層が最も好ましいが、そのような方法は特
開平３−１２６９５０号に記載の組成物、特開昭５２−
１３２０９１号記載の組成物、特開平２−９７５０２号
に記載の組成物を使用する事で可能であることが知られ
ている。Further, a protective layer that is hardened by light and can be developed in an unexposed area with an alkaline aqueous solution which is advantageous in terms of hygiene and pollution control, and after which the cured film is given more alkali resistance by heating is most preferable. For such a method, the composition described in JP-A-3-126950, JP-A-52-
It is known that it is possible to use the composition described in 132091 and the composition described in JP-A-2-97502.

【０００７】しかしこれらの感光性の保護層形成用組成
物は、まだまだ、感光性塗膜にしたときの現像性、現像
後に硬化処理した後での塗膜や画像の耐アルカリ性、耐
溶剤性、透明性、又、特に基板との密着性の点で不十分
であった。However, these photosensitive protective layer forming compositions still have a developability when formed into a photosensitive coating film, an alkali resistance and a solvent resistance of a coating film and an image after curing treatment after development. It was insufficient in terms of transparency and, in particular, adhesion to the substrate.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、上記１）平坦性、２）硬度、３）耐薬品性、４）透
明性、５）基板との密着性において各必要性能を備える
保護層（ＯＣ層）を与えるような、アルカリ現像性が優
れた光重合性組成物、特にそれを構成する為のバインダ
ーを提供することにある。本発明の第二の目的は、現像
後の光硬化物の耐アルカリ化処理が、比較的低い温度、
且つ短い処理時間で可能で、その加熱処理中に揮散する
成分が少ない光重合性組成物を提供することにある。本
発明の第三の目的は、上記光重合性組成物を使用し、カ
ラーフィルター上に塗布法もしくは転写法により保護層
を形成する、液晶表示パネルに特に有用なカラーフィル
ターの製造方法を提供する事にある。Therefore, an object of the present invention is to provide each required performance in the above 1) flatness, 2) hardness, 3) chemical resistance, 4) transparency, and 5) adhesion to a substrate. It is an object of the present invention to provide a photopolymerizable composition having excellent alkali developability such as providing a protective layer (OC layer), particularly a binder for constituting the photopolymerizable composition. The second object of the present invention is to make the photo-cured product alkali-resistant after development at a relatively low temperature,
Another object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition which can be treated with a short treatment time and has a small amount of components that volatilize during the heat treatment. A third object of the present invention is to provide a method for producing a color filter particularly useful for a liquid crystal display panel, which comprises using the above photopolymerizable composition and forming a protective layer on the color filter by a coating method or a transfer method. There is a thing.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意努力
した結果、本発明の目的が、（１）光重合開始剤もしく
は光重合開始剤系、（２）エチレン性不飽和二重結合を
有する付加重合性モノマー、及び（３）少なくとも下記
一般式（Ｉ）、（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）で示される
繰り返し単位を有する、数平均分子量が５００〜３０，
０００の樹脂と、下記一般式（ＩＶ）で示される１級ア
ミンを無水物基の１当量に対して１．０から０．１当量
の比率で反応して得られる樹脂を含むことを特徴とする
光重合組成物、及びそれを用いて作成した保護層を有す
るカラーフィルターによって達成されることを見出し、
本発明を成すに至った。Means for Solving the Problems As a result of diligent efforts, the inventors of the present invention have found that the objects of the present invention are (1) a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiator system, and (2) an ethylenically unsaturated double bond. Having a repeating unit represented by the following general formula (I), (II) or (III), and having a number average molecular weight of 500 to 30,
000 resin and a resin obtained by reacting a primary amine represented by the following general formula (IV) in a ratio of 1.0 to 0.1 equivalent to 1 equivalent of an anhydride group. Found to be achieved by a color filter having a photopolymerizable composition, and a protective layer formed using the same,
The present invention has been accomplished.

【００１０】[0010]

【化２】 [Chemical 2]

【００１１】［式中、Ａｒはフェニル基（該フェニル基
は炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアル
コキシ基、炭素数６から１０のアリール基、炭素数８か
ら１２のアラルキル基、ハロゲン原子またはそれらの２
種以上の組み合わせで置換されてもよい）、Ｑは炭素数
１から２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基（ハロゲン
原子で置換されてもよい）、もしくは炭素数６から１０
のアリール基（該アリール基は炭素数１から４のアルキ
ル基、炭素数１から４のアルコキシ基、ハロゲン原子で
置換されていてもよい）を表す。ｘ、ｙ、ｚは樹脂中で
の繰り返し単位のモル分率を表し、ｘ＝０．１５〜０．
７０、ｙ＝０．１５〜０．７０、ｚ＝０．０１〜０．７
０である。］ Ｒ−ＮＨ₂ （ＩＶ） （式中、Ｒは炭素数１から１２のアルキル基、炭素数７
から１４のアラルキル基、炭素数６から１８のアリール
基、炭素数２から１４のアルコキシアルキル基を表
す。） 以下、本発明を詳細に説明する。[Wherein Ar represents a phenyl group (wherein the phenyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 8 to 12 carbon atoms]. Groups, halogen atoms or two thereof
Q may be substituted with a combination of two or more species), Q is a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms (which may be substituted with a halogen atom), or 6 to 10 carbon atoms.
(The aryl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom). x, y, and z represent the mole fraction of the repeating unit in the resin, and x = 0.15-0.
70, y = 0.15 to 0.70, z = 0.01 to 0.7
It is 0. _{] R-NH 2 (IV)} ( wherein, R is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 7 carbon atoms
To 14 aralkyl groups, C 6-18 aryl groups, and C 2-14 alkoxyalkyl groups. ) Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【００１２】本発明に用いられる樹脂の組成は、繰り返
し単位の組成比がｘ＝０．１５〜０．７０、ｙ＝０．１
５〜０．７０、ｚ＝０．０１〜０．７０が好ましいが、
特に好ましくはｘ＝０．２０〜０．６０、ｙ＝０．２０
〜０．５０、ｚ＝０．０５〜０．６０である。該ｘの組
成比が０．１５未満では光重合性組成物の露光部のアル
カリ現像液への耐性が不足し、０．７０を越えると未露
光部の該現像液による現像性が劣る。該ｙの組成比が
０．１５未満では光重合性組成物の未露光部の該現像液
による現像性が劣り、０．７０を越えると露光部の該現
像液への耐性が劣る。また、該ｚの組成比が０．０１未
満では露光部の密着性が不足し、０．７０を越えると露
光部の該現像液への耐性、硬度が劣る。The composition of the resin used in the present invention is such that the composition ratio of repeating units is x = 0.15 to 0.70, y = 0.1.
5 to 0.70 and z = 0.01 to 0.70 are preferable,
Particularly preferably, x = 0.20 to 0.60, y = 0.20.
.About.0.50 and z = 0.05 to 0.60. If the composition ratio of x is less than 0.15, the exposed portion of the photopolymerizable composition has insufficient resistance to an alkali developing solution, and if it exceeds 0.70, the developability of the unexposed portion with the developing solution is poor. If the composition ratio of y is less than 0.15, the developability of the unexposed area of the photopolymerizable composition with the developer is poor, and if it exceeds 0.70, the resistance of the exposed area to the developer is poor. Further, if the composition ratio of z is less than 0.01, the adhesiveness of the exposed area will be insufficient, and if it exceeds 0.70, the resistance and hardness of the exposed area to the developer will be poor.

【００１３】樹脂の数平均分子量としては、５００から
３０，０００の分子量を持つものが好ましいがより好ま
しくは７００から２０，０００である。数平均分子量が
５００未満の共重合体は製造が難しく、３０，０００を
越えると、感光性層のアルカリ現像性が劣るとともに、
耐現像液性も劣る。すなわち、アルカリ現像性が劣るの
で長時間現像液に浸漬することになり、露光部も膨潤し
やすくなるので良質な画像が得られない。The number average molecular weight of the resin is preferably one having a molecular weight of 500 to 30,000, more preferably 700 to 20,000. It is difficult to produce a copolymer having a number average molecular weight of less than 500, and when it exceeds 30,000, the alkali developability of the photosensitive layer is poor, and
The developer resistance is also poor. That is, since the alkali developability is poor, it is soaked in a developing solution for a long time, and the exposed area is likely to swell, so that a good image cannot be obtained.

【００１４】本発明に使用する樹脂は、例えば無水マレ
イン酸と以下の第一群、第二群の単量体の各々一種以上
を常法に従い適当な溶媒中で重合開始剤の存在下で共重
合させることにより得られる。単量体の例としては、第
一群としてはスチレン、メチルスチレン、エチルスチレ
ン、プロピルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチル
スチレン、ｓｅｃ−ブチルスチレン、ｔｅｒｔ−ブチル
スチレン、ジメチルスチレン、ジエチルスチレン、メト
キシスチレン、エトキシスチレン、プロポキシスチレ
ン、ブトキシスチレン、ビニルビフエニル、ベンジルス
チレン、クロロスチレン、フロロスチレン、ブロモスチ
レン、クロロ−メチルスチレン等が挙げられる。第二群
としては酢酸ビニル、ビニルプロピオネート、ビニルブ
チレート、ビニルピバレート、ビニルペンタノエート、
ビニルヘキサノエート、ビニル−ｎ−デカノエート、ビ
ニル−２−エチルヘキサノエート、ビニルラウレート、
ビニルパルミテート、ビニルステアレート、ビニル−
２，４−ヘキサジエノエート、クロロ酢酸ビニル、トリ
クロロ酢酸ビニル、トリフロロ酢酸ビニル、安息香酸ビ
ニル、メトキシ安息香酸ビニル、エチル安息香酸ビニ
ル、クロロ安息香酸ビニル、ｔ−ブチル安息香酸ビニル
等が挙げられる。The resin used in the present invention comprises, for example, maleic anhydride and one or more of each of the following monomers of the first group and the second group in the presence of a polymerization initiator in a suitable solvent according to a conventional method. Obtained by polymerizing. Examples of the monomer include styrene, methylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, isopropylstyrene, butylstyrene, sec-butylstyrene, tert-butylstyrene, dimethylstyrene, diethylstyrene, methoxystyrene and ethoxy as the first group. Examples thereof include styrene, propoxystyrene, butoxystyrene, vinylbiphenyl, benzylstyrene, chlorostyrene, fluorostyrene, bromostyrene, chloro-methylstyrene and the like. The second group includes vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, vinyl pentanoate,
Vinyl hexanoate, vinyl-n-decanoate, vinyl-2-ethylhexanoate, vinyl laurate,
Vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl-
2,4-hexadienoate, vinyl chloroacetate, vinyl trichloroacetate, vinyl trifluoroacetate, vinyl benzoate, vinyl methoxybenzoate, vinyl ethyl benzoate, vinyl chlorobenzoate, vinyl t-butyl benzoate and the like can be mentioned. .

【００１５】本発明の樹脂の性能を損なわない範囲で更
にこれらと共重合可能な単量体と共重合させても良い。The resin of the present invention may be further copolymerized with a monomer copolymerizable therewith so long as the performance of the resin is not impaired.

【００１６】これらの内、特に好ましい例としてはスチ
レン／マレイン酸無水物／酢酸ビニル共重合体、スチレ
ン／マレイン酸無水物／ビニルブチレート共重合体、ス
チレン／マレイン酸無水物／安息香酸ビニル共重合体が
挙げられる。Of these, particularly preferred examples are styrene / maleic anhydride / vinyl acetate copolymers, styrene / maleic anhydride / vinyl butyrate copolymers, styrene / maleic anhydride / vinyl benzoate copolymers. Polymers may be mentioned.

【００１７】本発明で使用する１級アミンの具体例は、
メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ｉ−プ
ロピルアミン、ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｓｅ
ｃ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、
シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミ
ン、２−エチルヘキシルアミン、ラウリルアミン、ベン
ジルアミン、フェネチルアミン、アニリン、オクチルア
ニリン、アニシジン、４−クロルアニリン、１−ナフチ
ルアミン、メトキシメチルアミン、２−メトキシエチル
アミン、２−エトキシエチルアミン、３−メトキシプロ
ピルアミン、２−ブトキシエチルアミン、２−シクロヘ
キシルオキシエキルアミン、３−エトキシプロピルアミ
ン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキ
シプロピルアミン、アダマンチルアミン等を挙げる事が
できる。特に好ましい１級アミンの例は２−メトキシエ
チルアミン、２−エトキシエチルアミンまたは３−メト
キシプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、ブチルア
ミンである。Specific examples of the primary amine used in the present invention include:
Methylamine, ethylamine, propylamine, i-propylamine, butylamine, t-butylamine, se
c-butylamine, pentylamine, hexylamine,
Cyclohexylamine, heptylamine, octylamine, 2-ethylhexylamine, laurylamine, benzylamine, phenethylamine, aniline, octylaniline, anisidine, 4-chloroaniline, 1-naphthylamine, methoxymethylamine, 2-methoxyethylamine, 2-ethoxy. Examples thereof include ethylamine, 3-methoxypropylamine, 2-butoxyethylamine, 2-cyclohexyloxyethylamine, 3-ethoxypropylamine, 3-propoxypropylamine, 3-isopropoxypropylamine and adamantylamine. Examples of particularly preferred primary amines are 2-methoxyethylamine, 2-ethoxyethylamine or 3-methoxypropylamine, cyclohexylamine, butylamine.

【００１８】本発明において、該共重合体と１級アミン
の反応比率はマレイン酸無水物基の１当量に対し、０．
１から１．０当量が好ましいが、特に好ましくは０．２
から０．８当量である。０．１当量未満では光重合性組
成物の露光後の耐アルカリ現像液性が劣る。アミンの仕
込量をマレイン酸無水物当量より過剰にすることで目的
の反応を効率的に進行させることができるが、その場合
は過剰のアミンを共重合体の再沈澱などの方法により除
去、精製することが望ましい。In the present invention, the reaction ratio of the copolymer and the primary amine is 0. 1 with respect to 1 equivalent of the maleic anhydride group.
1 to 1.0 equivalent is preferable, but 0.2 is particularly preferable.
To 0.8 equivalent. If it is less than 0.1 equivalent, the resistance of the photopolymerizable composition after exposure to alkali developer is poor. The desired reaction can be efficiently progressed by making the charged amount of amine excess over the maleic anhydride equivalent, but in that case, excess amine is removed and purified by a method such as reprecipitation of the copolymer. It is desirable to do.

【００１９】エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合性モノマーは単独でまたは他のモノマーとの組み合わ
せで使用することができるもので、具体的には、ｔ−ブ
チル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、
１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロ
キシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリル
フマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリルアミドまたはキシ
リレンビス（メタ）アクリルアミドが含まれる。また２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリ
コールモノ（メタ）アクリレート等のようなヒドロキシ
ル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネ
ート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。こ
れらの内、特に好ましいのはペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、
トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレ
ートである。The addition-polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond can be used alone or in combination with other monomers, and specifically, t-butyl (meth) acrylate, ethylene glycol. Di (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 2-ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, polyoxyethylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate Acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate,
1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-dihydroxybenzene di (meth) acrylate, decamethylene glycol di (meth) acrylate, styrene, diallyl fumarate, triallyl trimellitic acid, lauryl (meth) acrylate, (meth) Includes acrylamide or xylylene bis (meth) acrylamide. Again 2
-A reaction product of a compound having a hydroxyl group such as hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and polyethylene glycol mono (meth) acrylate with a diisocyanate such as hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, and xylene diisocyanate. Can also be used. Of these, particularly preferred are pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate,
Tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate.

【００２０】光重合性組成物中におけるモノマーの全量
は、組成物の全成分に対して１０重量％から８０重量％
であり、特に好ましくは３０重量％から７０重量％であ
る。１０重量％未満では組成物の露光部のアルカリ現像
液への耐性が劣り、８０重量％を越えると感光性層のタ
ッキネスが増加してしまい取り扱い性に劣る。The total amount of monomers in the photopolymerizable composition is from 10% to 80% by weight, based on all components of the composition.
And particularly preferably 30 to 70% by weight. If it is less than 10% by weight, the exposed portion of the composition is poor in resistance to an alkali developing solution, and if it exceeds 80% by weight, tackiness of the photosensitive layer is increased, resulting in poor handleability.

【００２１】本発明の光重合性組成物中に含ませる光重
合開始剤または光重合開始剤系は、実質的に、既知の全
ての化合物を使用する事ができる。例としては、ｐ−メ
トキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−
トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール、９
−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェ
ナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサア
リールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾー
ル、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミ
ンなどがある。特に好ましいのは２−（ｐ−ブトキシス
チリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサ
ジアゾールのようなトリハロメチル基含有化合物であ
る。光重合開始剤の添加量は全固形分の０．１重量％か
ら２０重量％、特に好ましくは０．５重量％から５重量
％である。０．１重量％未満では組成物の光硬化の効率
が低いので露光に長時間がかかり、２０重量％を越える
と、紫外線領域から可視領域での光透過率が劣化するの
でカラーフィルターの保護層には不適となる。更に公知
の添加剤、例えば可塑剤、充填剤、安定化剤等を含有さ
せる事ができる。As the photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system contained in the photopolymerizable composition of the present invention, virtually all known compounds can be used. As an example, p-methoxyphenyl-2,4-bis (trichloromethyl)-
s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-
Trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 9
-Phenylacridine, 9,10-dimethylbenzphenazine, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyldimethylketal, thioxanthone / amine and the like. Particularly preferred are trihalomethyl group-containing compounds such as 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole. The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1% by weight to 20% by weight, and particularly preferably 0.5% by weight to 5% by weight, based on the total solid content. If it is less than 0.1% by weight, the composition has a low photocuring efficiency, so that it takes a long time for exposure, and if it exceeds 20% by weight, the light transmittance in the ultraviolet region to the visible region is deteriorated. Would be unsuitable for. Further, known additives such as a plasticizer, a filler, a stabilizer and the like can be contained.

【００２２】本発明の光重合性組成物は、カラーフィル
ターの保護層形成用材料として好適である。即ち、本発
明の光重合性組成物を前記画素を有するカラーフィルタ
ーの上に層状に設けた後、露光・現像・加熱等の工程を
経て保護層を形成する。層状に設けるには、例えば溶液
を噴霧吹き付け・液中に浸漬するなどの公知の手段によ
り塗布する方法、もしくは仮支持体上に光重合性組成物
層を形成し、これを転写する方法等がある。保護層の厚
さは通常０．１μｍから５０μｍであり、特に好ましく
は、１μｍから５μｍである。The photopolymerizable composition of the present invention is suitable as a material for forming a protective layer of a color filter. That is, after the photopolymerizable composition of the present invention is provided in layers on the color filter having the pixels, a protective layer is formed through steps such as exposure, development and heating. In order to provide a layered form, for example, a method of applying the solution by a known means such as spraying and immersing in a liquid, or a method of forming a photopolymerizable composition layer on a temporary support and transferring it, is there. The thickness of the protective layer is usually 0.1 μm to 50 μm, particularly preferably 1 μm to 5 μm.

【００２３】カラーフィルターの支持体としては、金属
性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミッ
ク、合成樹脂フイルム等を使用することができる。特に
好ましくは、透明で寸度安定性の良好なガラスや合成樹
脂フイルムを挙げることができる。As the support for the color filter, a metal support, a metal-bonded support, glass, ceramics, a synthetic resin film or the like can be used. Particularly preferred are glass and synthetic resin film which are transparent and have good dimensional stability.

【００２４】本発明の光重合性組成物は層転写材料とし
ても使用される。即ち、光重合性組成物は仮支持体、好
ましくはポリエチレンテレフタレートフィルム上に直
接、または酸素遮断層、剥離層、もしくは剥離層および
酸素遮断層を設けたポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に層状に設け、通常その上に取扱上の保護のために
除去可能な合成樹脂製カバーシートを積層する。または
仮支持体上にアルカリ可溶性熱可塑性樹脂層及び中間層
を設け、更に光重合性組成物層を設けた層構成（特願平
３−１５３２２７号公報に記載）も適用できる。使用時
に該カバーシートを除去し、光重合性組成物層を永久支
持体上、例えばカラーフィルター画素を有する支持体表
面に積層する。ついで、酸素遮断層、剥離層等があると
きはそれらの層と仮支持体の間で、剥離層および酸素遮
断層があるときは剥離層と酸素遮断層の間で、剥離層も
酸素遮断層もないときには仮支持体と光重合性組成物層
の間で剥離して、仮支持体を除去することにより、該組
成物層をカラーフィルター層上に積層する。ついで露光
を行うが、ＳＴＮの場合の様に、カラーフィルター層上
に保護層を介して透明電極を形成する時には、マスクを
通して露光し、現像して保護層をパターンニングする。
現像は重合していない領域を適当なアルカリ現像液で洗
い去ることによっておこなわれる。一方、ＴＦＴの場合
の様に、全面に透明導電層を有する時には、マスクを必
要としない。The photopolymerizable composition of the present invention is also used as a layer transfer material. That is, the photopolymerizable composition is directly provided on a temporary support, preferably a polyethylene terephthalate film, or is provided in a layered form on an oxygen barrier layer, a release layer, or a polyethylene terephthalate film provided with a release layer and an oxygen barrier layer, usually Laminate a removable synthetic resin cover sheet on top for handling protection. Alternatively, a layer structure in which an alkali-soluble thermoplastic resin layer and an intermediate layer are provided on a temporary support, and a photopolymerizable composition layer is further provided (described in Japanese Patent Application No. 3-153227) is also applicable. At the time of use, the cover sheet is removed, and the photopolymerizable composition layer is laminated on the permanent support, for example, the surface of the support having color filter pixels. Next, when there are oxygen barrier layers, release layers, etc., between those layers and the temporary support, and when there are release layers and oxygen barrier layers, between the release layers and oxygen barrier layers, the release layers are also oxygen barrier layers. If not, the temporary support and the photopolymerizable composition layer are peeled off to remove the temporary support, thereby laminating the composition layer on the color filter layer. Then, exposure is performed. When forming a transparent electrode on the color filter layer via a protective layer as in the case of STN, the protective layer is patterned by exposing through a mask and developing.
Development is accomplished by washing away the unpolymerized areas with a suitable alkaline developer. On the other hand, when a transparent conductive layer is provided on the entire surface as in the case of TFT, no mask is required.

【００２５】本発明の光重合性組成物の現像液として
は、アルカリ性物質の希薄水溶液を使用するが、さらに
水と混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。
適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類（例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属
炭酸塩類（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、ア
ルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム）アルカリ金属メタケイ酸塩類（メ
タケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールア
ミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒド
ロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド）または燐酸三ナトリウムである。アルカリ性物質
の濃度は、０．０１重量％〜３０重量％であり、ｐＨは
８〜１４が好ましい。As a developing solution for the photopolymerizable composition of the present invention, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is used, and a solution containing a small amount of an organic solvent miscible with water is also included.
Suitable alkaline substances are alkali metal hydroxides (eg sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (eg sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate), Alkali metal silicates (sodium silicate, potassium silicate) Alkali metal metasilicates (sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (eg, Tetramethylammonium hydroxide) or trisodium phosphate. The concentration of the alkaline substance is 0.01% by weight to 30% by weight, and the pH is preferably 8 to 14.

【００２６】水と混和性の適当な有機溶剤は、メタノー
ル、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノー
ル、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエー
テル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳
酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン
である。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１重量％〜
３０重量％である。さらに公知の界面活性剤を添加する
ことができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％〜１
０重量％が好ましい。Suitable water-miscible organic solvents are methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, Benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone. The concentration of water-miscible organic solvent is 0.1% by weight
It is 30% by weight. Further, a known surfactant can be added. The concentration of the surfactant is 0.01% by weight to 1
0% by weight is preferred.

【００２７】現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液
としても用いることができる。光重合性組成物層の未硬
化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿
潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができ
る。現像液の液温度は通常室温付近から４０℃が好まし
い。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能であ
る。The developing solution can be used as a bath solution or a spray solution. In order to remove the uncured portion of the photopolymerizable composition layer, a method of rubbing with a rotating brush or rubbing with a wet sponge in a developing solution can be combined. The liquid temperature of the developing solution is usually preferably around room temperature to 40 ° C. It is also possible to include a water washing step after the development processing.

【００２８】現像工程の後、加熱処理を行う。即ち、露
光により光重合した層（以下、光硬化層と称する）を有
する支持体を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、または
光硬化層に赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時
間は使用した重合性組成物の組成や形成された層の厚み
に依存する。一般に、十分な耐溶剤性、耐アルカリ性を
獲得するのに、約１２０℃から約２５０℃で約１０分か
ら約６０分間加熱することが好ましい。After the developing step, heat treatment is performed. That is, a support having a layer photopolymerized by exposure (hereinafter referred to as a photocurable layer) is heated in an electric furnace, a dryer, or the like, or the photocurable layer is irradiated with an infrared lamp. The heating temperature and time depend on the composition of the polymerizable composition used and the thickness of the formed layer. Generally, it is preferable to heat at about 120 ° C. to about 250 ° C. for about 10 minutes to about 60 minutes in order to obtain sufficient solvent resistance and alkali resistance.

【００２９】次に、こうして形成された保護層の上にＩ
ＴＯ（酸化インジウムスズ）層をスパッタ法により形成
する。ＩＴＯ層を透明電極として加工する場合には、該
ＩＴＯ層上にフォトレジスト層を形成し、電極パターン
を焼き付け、フォトレジスト層を現像し、該ＩＴＯ層を
エッチングし、該フォトレジストを剥離する。さらに配
向膜の形成には、一般的にはＮ−メチルピロリドンやγ
−ブチロラクトンのような極性有機溶媒を溶剤として含
むポリイミドのような配向膜形成用塗液が塗布され、乾
燥され、配向処理が施される。本発明の光重合性組成物
は、公知の種々の方法、例えば転写法、着色レジスト
法、染色法、印刷法、電着法等のいずれの方法で作成さ
れたカラーフィルターに対しても、保護層形成用材料と
して有用である。Next, I is formed on the protective layer thus formed.
A TO (indium tin oxide) layer is formed by a sputtering method. When processing the ITO layer as a transparent electrode, a photoresist layer is formed on the ITO layer, an electrode pattern is baked, the photoresist layer is developed, the ITO layer is etched, and the photoresist is peeled off. Furthermore, N-methylpyrrolidone or γ is generally used for forming the alignment film.
A coating liquid for forming an alignment film such as polyimide containing a polar organic solvent such as butyrolactone as a solvent is applied, dried, and subjected to an alignment treatment. The photopolymerizable composition of the present invention is protected against color filters prepared by any of various known methods such as a transfer method, a colored resist method, a dyeing method, a printing method, and an electrodeposition method. It is useful as a layer forming material.

【００３０】本発明の光重合性組成物はカラーフィルタ
ー層上の保護層形成に好適に使用できるが、この用途に
限定されるものではない。染料、顔料を含有させて高度
の耐薬品性が必要とされるカラーフィルター画素形成用
の着色レジスト（例えば特開昭６３−２９８３０４に開
示）、プリント基板用ソルダーレジスト（例えば特開平
３−２２３８５６に開示）、無電解メッキ用レジスト
（同公報に開示）、電気素子の保護膜、層間絶縁膜、接
着剤（以上例えば特開平３−１２６９５０に開示）等に
も有用である。以下、本発明を実施例によって更に詳細
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、特に断らない限り、「部」は重量部を、
「％」は重量％を表す。The photopolymerizable composition of the present invention can be suitably used for forming a protective layer on a color filter layer, but is not limited to this application. A color resist for forming a color filter pixel, which contains a dye or a pigment and requires a high degree of chemical resistance (for example, disclosed in JP-A-63-298304), a solder resist for a printed circuit board (for example, JP-A-3-223856). Disclosure), a resist for electroless plating (disclosed in the publication), a protective film for an electric element, an interlayer insulating film, an adhesive (disclosed in, for example, JP-A-3-126950). Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, "parts" means parts by weight,
"%" Represents% by weight.

【００３１】[0031]

【実施例】【Example】

合成例１ スチレン／マレイン酸無水物／酢酸ビニル＝３０／３０
／４０重量比の共重合体（数平均分子量＝２０００）９
８．１部をプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート３９２．４部に溶解した。これにシクロヘキシ
ルアミン１４．７部（酸無水物に対して０．５当量）／
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５
８．８部の溶液を室温で約１時間かけて滴下した。プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル１５０部を添加
し、更に室温下で６時間攪拌した。この反応液をヘキサ
ンから再沈澱、乾燥させることでスチレン／マレイン酸
無水物／酢酸ビニルのシクロヘキシルアミン変成体を得
た。Synthesis Example 1 Styrene / maleic anhydride / vinyl acetate = 30/30
/ 40 weight ratio copolymer (number average molecular weight = 2000) 9
8.1 parts were dissolved in 392.4 parts propylene glycol monomethyl ether acetate. 14.7 parts of cyclohexylamine (0.5 equivalents relative to the acid anhydride) /
Propylene glycol monomethyl ether acetate 5
8.8 parts of the solution was added dropwise at room temperature over about 1 hour. 150 parts of propylene glycol monomethyl ether was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 6 hours. This reaction solution was reprecipitated from hexane and dried to obtain a cyclohexylamine modified product of styrene / maleic anhydride / vinyl acetate.

【００３２】実施例１．（液状保護層形成用） ＜保護層形成用塗液の製造＞次の組成で混合溶解し、
０．２μｍの穴径のフィルターでろ過し保護層形成用塗
液を調製した。 ・合成例１で製造した共重合体番号１の２０重量％溶液（溶媒はプロピレング リコールモノメチルエーテルアセテート／プロピレングリコールモノメチルエー テルの１／１重量比混合物） ６８部 ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ３．４部 ・トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート １０．２部 ・２−（４−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４− オキサジアゾール ０．６５部 ・ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．００７部 ・ふっ素系界面活性剤（大日本インキ化学（株）製 Ｆ１７７Ｐ） ０．００２部Example 1. (For forming liquid protective layer) <Production of coating liquid for forming protective layer> Mix and dissolve with the following composition,
A coating liquid for forming a protective layer was prepared by filtering with a filter having a hole diameter of 0.2 μm. 20 parts by weight solution of copolymer No. 1 produced in Synthesis Example 1 (solvent is a mixture of propylene glycol monomethyl ether acetate / propylene glycol monomethyl ether in a 1/1 weight ratio) 68 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 3. 4 parts-Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate 10.2 parts 2- (4-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole 0.65 parts-Hydroquinone monomethyl ether 0.007 Part-Fluorine-based surfactant (F177P manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.002 part

【００３３】＜保護層の製造＞１．１ｍｍ厚のガラス基
板（大きさ３５０ｍｍ×４００ｍｍ）上に形成された、
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の画素を有するカラーフ
ィルター層上に前記の保護層形成用塗液を、スピンコー
ターで塗布して乾燥し、３μｍ厚みの保護層形成用感光
性層を形成した。超高圧水銀灯光源のアライナーを用
い、保護層焼き付け用マスクを通して２００ｍｊ／ｃｍ
2 の光量で紫外線照射した、その後、１％炭酸ナトリウ
ム水溶液である現像液をこの基板上に噴霧する事により
現像し、水洗した。その後、加熱処理のため、２００℃
の乾燥器中に２０分間放置したあとで冷却した。<Production of Protective Layer> Formed on a 1.1 mm thick glass substrate (size 350 mm × 400 mm),
The protective layer forming coating liquid is applied onto a color filter layer having R (red), G (green) and B (blue) pixels by a spin coater and dried to form a protective layer forming photosensitive film having a thickness of 3 μm. A transparent layer was formed. 200 mj / cm through the mask for baking the protective layer using the aligner of the ultra-high pressure mercury lamp light source
The substrate was irradiated with ultraviolet rays at a light amount of 2, and then developed by spraying a developing solution, which is a 1% sodium carbonate aqueous solution, onto this substrate, and washed with water. Then, for heat treatment, 200 ℃
It was left for 20 minutes in the drier and then cooled.

【００３４】こうして得られたカラーフィルター層上の
保護層に、ＩＴＯ膜をスパッタする事により０．２μｍ
厚で設け、さらにＩＴＯ膜上にポジ型フォトレジスト
（フジハントエレクトロニクステクノロジー社製、ＦＨ
２１３０）を形成後、電極パターンマスクを介して露光
し、現像し、塩酸／塩化鉄水溶液でＩＴＯ層をエッチン
グし、レジスト剥離液（フジハントエレクトロニクステ
クノロジー社製、ＭＳ２００１）で剥離したところ、全
く欠陥のないＩＴＯ電極が得られた。粘着テープを用い
てこの電極を剥離しようとしたが剥がれなかった。また
この上に配向膜塗液（ポリイミド樹脂のＮ−メチルピロ
リドン／γ−ブチロラクトン溶液）を、スピンコーター
で塗布し乾燥したが、膨潤する事なく配向膜層が得られ
た。また保護層の鉛筆硬度は５Ｈであった。The protective layer on the color filter layer thus obtained was sputtered with an ITO film to give a thickness of 0.2 μm.
Provided with a thick film, and a positive photoresist (FH HF Electronics, FH
2130), exposed through an electrode pattern mask, developed, etched the ITO layer with hydrochloric acid / iron chloride aqueous solution, and peeled with a resist stripping solution (Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd., MS2001). The ITO electrode without the obtained was obtained. The electrode was peeled off using an adhesive tape, but it was not peeled off. Further, an alignment film coating liquid (N-methylpyrrolidone / γ-butyrolactone solution of polyimide resin) was applied onto this with a spin coater and dried, but an alignment film layer was obtained without swelling. The pencil hardness of the protective layer was 5H.

【００３５】実施例２．（フィルム状保護層形成用材
料） 実施例１の保護層形成用塗液を厚さ７５μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルム仮支持体上に塗布し、乾燥
して３μｍ厚の保護層形成用感光性層を形成した。この
上に厚さ１５μｍのポリプロピレン製カバーシートをラ
ミネートし、フィルム状保護層形成用材料を得た。実施
例１に記載のカラーフィルター層を有するガラス基板を
用意した。まず、該フィルム状保護層形成用材料からカ
バーシートを除去し、該感光性層をカラーフィルター層
と接触するように重ね、ラミネータを用い積層した。そ
の後該仮支持体を剥したところ、カラーフィルター層上
に感光性層が形成された。以下は実施例１と同様に、感
光性層を露光現像し、加熱処理する事で、保護層が形成
された。この保護層上に、実施例１と同様にＩＴＯの電
極を形成したところ、密着し、欠陥のないＩＴＯ電極が
得られた。また同様に保護層が膨潤する事なく、配向膜
も形成する事ができた。鉛筆硬度は５Ｈであった。その
他の項目の評価結果を表２に示す。Example 2. (Material for Forming Protective Layer in Film Form) The coating liquid for forming a protective layer of Example 1 is applied on a polyethylene terephthalate film temporary support having a thickness of 75 μm and dried to form a photosensitive layer for forming a protective layer having a thickness of 3 μm. did. A 15 μm-thick polypropylene cover sheet was laminated on this to obtain a film-shaped protective layer forming material. A glass substrate having the color filter layer described in Example 1 was prepared. First, the cover sheet was removed from the film-shaped protective layer forming material, the photosensitive layer was laminated so as to be in contact with the color filter layer, and laminated using a laminator. Then, when the temporary support was peeled off, a photosensitive layer was formed on the color filter layer. As in the case of Example 1, the photosensitive layer was exposed and developed and heat-treated to form a protective layer. An ITO electrode was formed on this protective layer in the same manner as in Example 1. As a result, an ITO electrode was obtained which was in close contact with the ITO electrode and had no defects. Similarly, an alignment film could be formed without the protective layer swelling. The pencil hardness was 5H. Table 2 shows the evaluation results of other items.

【００３６】合成例２〜１９ 表１に示した樹脂およびアミンを用いて、合成例１と同
様にしてマレイン酸モノアミド含有の樹脂（樹脂Ｎｏ２
〜１９）を合成した。Synthetic Examples 2 to 19 Using the resins and amines shown in Table 1, a maleic acid monoamide-containing resin (resin No. 2) was prepared in the same manner as in Synthetic Example 1.
~ 19) were synthesized.

【００３７】 表１：合成した高分子化合物 ─────────────────────────────────── 合成例 原料樹脂 数平均 アミン No 組成 モル比 分子量 構造 無水物に対 する当量 ─────────────────────────────────── 1 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 2000 シクロヘキシルアミン 0.5 2 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 13000 シクロヘキシルアミン 0.5 3 A/B/酢酸ヒ゛ニル 54/38/8 800 シクロヘキシルアミン 0.5 4 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 2000 シクロヘキシルアミン 0.7 5 A/B/酢酸ヒ゛ニル 54/38/8 800 シクロヘキシルアミン 0.7 6 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 4000 シクロヘキシルアミン 1.0 7 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 4000 メトキシエチルアミン 0.5 8 A/B/酢酸ヒ゛ニル 54/38/8 800 メトキシエチルアミン 0.5 9 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 13000 n-フ゛チルアミン 0.5 10 A/B/ヒ゛ニルフ゛チレート 49/40/11 3000 シクロヘキシルアミン 0.5 11 A/B/安息香酸ヒ゛ニル 51/40/9 2100 シクロヘキシルアミン 0.5 12 A/B/エチルアクリレート 33/36/31 2400 シクロヘキシルアミン 0.5 13 A/B/エチルアクリレート 32/36/32 22000 メトキシエチルアミン 0.7 14 A/B/酢酸ヒ゛ニル 33/37/30 2000 シクロヘキシルアミン 0.05 15 A/B/酢酸ヒ゛ニル 10/49/41 4400 シクロヘキシルアミン 0.5 16 A/B/酢酸ヒ゛ニル 80/10/10 6500 シクロヘキシルアミン 0.5 17 A/B 67/33 2800 シクロヘキシルアミン 0.5 18 A/B 67/33 2800 メトキシエチルアミン 0.5 19 A/B 75/25 4000 メトキシエチルアミン 0.7 ─────────────────────────────────── A:スチレン B:無水マレイン酸Table 1: Synthesized polymer compounds ─────────────────────────────────── Synthesis example Raw material resin Number average amine No composition Molar ratio Molecular weight Structure Equivalent to anhydride ──────────────────────────────────── 1 A / B / Binyl acetate 33/37/30 2000 Cyclohexylamine 0.5 2 A / B / Binyl acetate 33/37/30 13000 Cyclohexylamine 0.5 3 A / B / Binyl acetate 54/38/8 800 Cyclohexylamine 0.5 4 A / B / Binyl acetate 33/37/30 2000 Cyclohexylamine 0.7 5 A / B / Binyl acetate 54/38/8 800 Cyclohexylamine 0.7 6 A / B / Binyl acetate 33/37/30 4000 Cyclohexylamine 1.0 7 A / B / Vinyl acetate 33/37/30 4000 Methoxyethylamine 0.5 8 A / B / Vinyl acetate 54/38/8 800 Methoxyethylamine 0.5 9 A / B / Vinyl acetate 33/37/30 13000 n-Butylamine 0.5 10 A / B / Binylbutylate 49/40/11 3000 Cyclohexylamine 0.5 11 A / B / Binylbenzoate 51/40/9 2100 Cyclohexylamine 0.5 12 A / B / Ethyl acrylate 33/36 / 31 2400 Cyclohexylamine 0.5 13 A / B / ethyl acrylate 32/36/32 22000 Methoxyethylamine 0.7 14 A / B / vinyl acetate 33/37/30 2000 Cyclohexylamine 0.05 15 A / B / vinyl acetate 10/49/41 4400 Cyclohexylamine 0.5 16 A / B / Binyl acetate 80/10/10 6500 Cyclohexylamine 0.5 17 A / B 67/33 2800 Cyclohexylamine 0.5 18 A / B 67/33 2800 Methoxyethylamine 0.5 19 A / B 75/25 4000 Methoxy Ethylamine 0.7 ─────────────────────────────────── A: Styrene B: Maleic anhydride

【００３８】合成例２０．（樹脂Ｎｏ２０） 特開昭５２−１３２０９号明細書に記載の製造例１のイ
ソブチレン／マレイン酸無水物共重合体（数平均分子量
８００００、マレイン酸無水物単位は５０モル％、ブチ
ルアミン０．８当量使用）に関して実施した。Synthesis Example 20. (Resin No. 20) Isobutylene / maleic anhydride copolymer of Production Example 1 described in JP-A-52-13209 (number average molecular weight: 80,000, maleic anhydride unit: 50 mol%, butylamine: 0.8 equivalent) Use).

【００３９】合成例２１．（樹脂Ｎｏ２１） 特開平２−９７５０２号明細書に記載の実施例１のスチ
レン／メチルメタクリレート／マレイン酸無水物共重合
体（数平均分子量３００００、マレイン酸無水物単位は
１６モル％、プロピルアミン１．１当量使用）に関して
実施した。Synthesis Example 21. (Resin No. 21) Styrene / methyl methacrylate / maleic anhydride copolymer of Example 1 described in JP-A-2-97502 (number average molecular weight of 30,000, maleic anhydride unit of 16 mol%, propylamine 1) .1 equivalent use).

【００４０】合成例２２．（樹脂Ｎｏ２２） 特開平２−９７５０２号明細書に記載の実施例４のメチ
ルメタクリレート／ブチルアクリレート／イタコン酸無
水物共重合体（数平均分子量３６０００、イタコン酸無
水物単位は１６モル％、プロピルアミン１．１当量使
用）に関して実施した。Synthesis Example 22. (Resin No. 22) Methyl methacrylate / butyl acrylate / itaconic anhydride copolymer of Example 4 described in JP-A-2-97502 (number average molecular weight 36000, itaconic anhydride unit 16 mol%, propylamine 1.1 eq. Used).

【００４１】実施例３〜１２、比較例１〜１１ 実施例１と同様にして樹脂Ｎｏ２〜２２を用いて保護層
形成用塗布液を調製した。これをガラス基板に塗布し乾
燥し、３μｍ厚の塗膜とし、露光、現像（１％炭酸ナト
リウム水溶液、３０℃）、後加熱した。各サンプルの性
能の評価方法を以下に記す。Examples 3 to 12 and Comparative Examples 1 to 11 In the same manner as in Example 1, Resin Nos. 2 to 22 were used to prepare coating solutions for forming a protective layer. This was applied on a glass substrate and dried to form a coating film having a thickness of 3 μm, which was exposed, developed (1% sodium carbonate aqueous solution, 30 ° C.) and post-heated. The method of evaluating the performance of each sample is described below.

【００４２】１．現像性 ガラス基板上にスピンコーターで、３μｍの膜厚になる
ように塗布した感光性層を１％炭酸ナトリウム水溶液中
に３０℃で１分間浸漬して、溶解するかどうかで評価し
た。1. The photosensitive layer coated on a developable glass substrate with a spin coater so as to have a film thickness of 3 μm was immersed in a 1% aqueous sodium carbonate solution at 30 ° C. for 1 minute to evaluate whether or not the layer was dissolved.

【００４３】２．耐現像液性 ガラス基板上に３μｍの膜厚になるように、スピンコー
ターで塗布した感光性層を、８０μｍ×３００μｍの矩
形の画像が得られるマスクを通して２００ｍｊ／ｃｍ²
露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液中に３０℃で１分間
浸漬して、露光部が基板に密着しているかどうかで評価
した。2. Resistant to liquid developer A photosensitive layer coated with a spin coater so as to have a film thickness of 3 μm on a glass substrate was passed through a mask capable of obtaining a rectangular image of 80 μm × 300 μm to 200 mj / cm ²
It was exposed and immersed in a 1% aqueous sodium carbonate solution at 30 ° C. for 1 minute, and evaluated by whether or not the exposed portion was in close contact with the substrate.

【００４４】３．平坦性 ガラス基板上の２μｍ厚のカラーフィルター層上（２μ
ｍの凹凸有り）に３μｍになるように感光性層を形成
し、露光（２００ｍｊ／ｃｍ² ）、現像、後加熱（２０
０℃、６０分）して得られる保護層の表面の凹凸を、膜
厚計を用いて測定して評価した。3. Flatness On a 2 μm thick color filter layer on a glass substrate (2 μm
m), a photosensitive layer is formed to have a thickness of 3 μm, exposure (200 mj / cm ² ), development, and post-heating (20
The unevenness of the surface of the protective layer obtained at 0 ° C. for 60 minutes) was measured and evaluated using a film thickness meter.

【００４５】４．硬度 ガラス基板上に３μｍ厚の感光性層を形成し、露光（２
００ｍｊ／ｃｍ² ）、現像、後加熱（２００℃、６０
分）したあとで、ＪＩＳ Ｋ５４００の鉛筆硬度試験に
従って評価した。4. Hardness A 3 μm thick photosensitive layer is formed on a glass substrate and exposed (2
00 mj / cm ² ), development, post-heating (200 ° C., 60
After that, the evaluation was performed according to the pencil hardness test of JIS K5400.

【００４６】５．耐アルカリ性 ガラス基板上に３μｍ厚の感光性層を形成し、露光（２
００ｍｊ／ｃｍ² ）、現像、後加熱（２００℃、６０
分）したあとで、５％ＫＯＨ水溶液に５０℃で３０分間
浸漬した後で、表面にシワや濁りが生成しないかどうか
で評価した。5. A 3 μm thick photosensitive layer is formed on an alkali-resistant glass substrate and exposed (2
00 mj / cm ² ), development, post-heating (200 ° C., 60
After immersing in a 5% KOH aqueous solution for 30 minutes at 50 ° C., it was evaluated whether or not wrinkles and turbidity were generated on the surface.

【００４７】６．光透過性 ガラス基板上に３μｍ厚の保護層形成用感光性層を形成
し、全面露光（２００ｍｊ／ｃｍ² ）、現像、後加熱
（２００℃、６０分）したあとで、表面のクリヤーなも
のを透明性良好、曇りの発生するものを透明性不良と判
定した。6. After forming a 3 μm thick photosensitive layer for forming a protective layer on a light-transmissive glass substrate, exposing the entire surface (200 mj / cm ² ), developing and post-heating (200 ° C., 60 minutes), a clear surface The sample was judged to have good transparency, and the sample with cloudiness was judged to have poor transparency.

【００４８】７．基板密着性 ガラス基板上に３μｍ厚の保護層形成用感光性層を形成
し、全面露光（２００ｍｊ／ｃｍ² ）し、現像後、及び
後加熱（２００℃、６０分）したあとで、クロスカット
し、マイラーテープで剥離して密着性を評価した。１０
０ケのクロスカット部に何も剥がれの無いものを密着性
良好、１ケ所でも剥がれを生じたものを密着性不良と判
定した。以上の項目の評価結果を表２に示す。7. Substrate adhesion A photosensitive layer for forming a protective layer having a thickness of 3 μm is formed on a glass substrate, exposed over the entire surface (200 mj / cm ² ), developed, and post-heated (200 ° C., 60 minutes), and then cross-cut. Then, it was peeled off with a Mylar tape and the adhesion was evaluated. 10
If there was no peeling in 0 cross-cut portions, the adhesion was good, and if peeling occurred even in one place, the adhesion was poor. Table 2 shows the evaluation results of the above items.

【００４９】 表２：評価結果 ─────────────────────────────────── 樹脂 現像 耐現像 平坦 硬度 耐アル 光透 基板密着性 Ｎｏ 性 液性 性 カリ性 過性 現像後 後加熱後 ─────────────────────────────────── 実施例２ １ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ３ ２ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ４ ３ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ５ ４ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ６ ５ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ７ ６ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ８ ７ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ９ ８ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 10 ９ 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 11 10 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 12 11 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 良好 良好 ─────────────────────────────────── 比較例１ 12 良好 可 良好 ４Ｈ 不良 良好 良好 不良 ２ 13 良好 良好 不良 ４Ｈ 不良 良好 不良 不良 ３ 14 良好 不良 良好 ２Ｈ 不良 良好 不良 不良 ４ 15 良好 不良 良好 ２Ｈ 不良 良好 不良 不良 ５ 16 不良 良好 良好 ４Ｈ 良好 良好 良好 不良 ６ 17 良好 良好 良好 ５Ｈ 良好 良好 不良 不良 ７ 18 良好 良好 良好 ４Ｈ 良好 良好 不良 不良 ８ 19 良好 良好 良好 ４Ｈ 良好 良好 不良 不良 ９ 20 不良 不良 不良 ２Ｈ 不良 良好 不良 不良 10 21 不良 不良 不良 ２Ｈ 不良 良好 不良 不良 11 22 不良 不良 不良 ＨＢ 不良 良好 不良 不良 ───────────────────────────────────Table 2: Evaluation results ─────────────────────────────────── Resin development Development resistance Flatness hardness Al resistance Transparent substrate adhesion No property Liquid property Potency property Transient property After development After heating ─────────────────────────────────── Example 2 1 Good Good Good Good 5H Good Good Good Good Good 3 2 Good Good Good 5H Good Good Good Good Good 4 3 Good Good Good 5H Good Good Good Good 5 4 Good Good 5H Good Good Good Good 5 5 Good Good 5H Good 5H Good 7 6 Good Good Good Good 5H Good Good Good Good Good Good 8 7 Good Good Good 5H Good Good Good Good Good 9 8 Good Good Good 5H Good Good Good Good 10 9 Good Good Good 5H Good Good Good 11 10 Good Good 5H Good 5H Good Good 12 11 Good Good Good 5H Good Good Good Good Good ─────────────────────────────────── Comparative Example 1 12 Good Good Good Good 4H Bad Good Good Bad Bad 2 13 Good Good Bad Bad 4H Bad Good Good Bad Bad 3 14 Good Bad Good 2H Bad Good Bad Bad Bad 4 15 Good Bad Good 2H Bad Good Bad Bad 5 16 Bad Good Good 4H Good Good Bad 6 17 Good Good Good Good 5H Good Good Bad Bad 7 18 Good Good Good Good 4H Good Good Good Bad Bad 8 19 Good Good Good 4H Good Good Bad Bad 9 20 Bad Bad 2H Bad Good Bad Bad 10 21 Bad Bad Bad 2H Bad Good Bad 11 22 Defective Defective Defective HB Defective Good Defective Defective ────────────────────────────────────

【００５０】これから、評価したすべての項目に於い
て、本発明になる光重合性組成物が優れた性能を発揮し
ていることが判る。From these results, it can be seen that the photopolymerizable composition of the present invention exhibits excellent performances in all the evaluated items.

【００５１】[0051]

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、優れたアル
カリ溶解性を有し、光重合した部分は優れた耐現像液
性、硬度、耐アルカリ性、光透過性、基板密着性を有す
る。カラーフィルターの保護層（ＯＣ層）の形成に特に
有用で、耐溶剤性の優れた、平坦性の高い保護層を形成
することができる。The photopolymerizable composition of the present invention has excellent alkali solubility, and the photopolymerized portion has excellent developer resistance, hardness, alkali resistance, light transmission and substrate adhesion. . It is particularly useful for forming a protective layer (OC layer) of a color filter, and can form a protective layer having excellent solvent resistance and high flatness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ 7124−2Ｈ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. ⁵ Identification code Office reference number FI technical display location G03F 7/40 501 501 24-2H

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 （１）光重合開始剤もしくは光重合開始
剤系、（２）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合性モノマー、及び（３）少なくとも下記一般式
（Ｉ）、（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）で示される繰り返
し単位を有する、数平均分子量が５００〜３０，０００
の樹脂と、下記一般式（ＩＶ）で示される１級アミンを
無水物基の１当量に対して１．０から０．１当量の比率
で反応して得られる樹脂を含む事を特徴とする光重合性
組成物。 【化１】 ［式中、 Ａｒ：フェニル基（該フェニル基は炭素数１から４のア
ルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、炭素数６か
ら１０のアリール基、炭素数８から１２のアラルキル
基、ハロゲン原子もしくはそれらの２種以上の組み合わ
せで置換されてもよい）、 Ｑ：炭素数１から２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基
（ハロゲン原子で置換されてもよい）、または炭素数６
から１０のアリール基（該アリール基は炭素数１から４
のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい）、 ｘ、ｙ、ｚ：樹脂中での繰り返し単位のモル分率で、ｘ
＝０．１５〜０．７０、ｙ＝０．１５〜０．７０、ｚ＝
０．０１〜０．７０を表す。］ Ｒ−ＮＨ₂ （ＩＶ） （式中、Ｒは炭素数１から１２のアルキル基、炭素数７
から１４のアラルキル基、炭素数６から１８のアリール
基、もしくは炭素数２から１４のアルコキシアルキル基
を表す。）1. A photopolymerization initiator or a photopolymerization initiator system, (2) an addition polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and (3) at least the following general formulas (I) and (II): ) Or (III), the number average molecular weight of the repeating unit is 500 to 30,000.
And a resin obtained by reacting a primary amine represented by the following general formula (IV) at a ratio of 1.0 to 0.1 equivalent to 1 equivalent of an anhydride group. Photopolymerizable composition. [Chemical 1] [Wherein Ar is a phenyl group (wherein the phenyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 8 to 12 carbon atoms, halogen) Atoms or may be substituted with a combination of two or more thereof), Q: a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms (which may be substituted with a halogen atom), or 6 carbon atoms
To 10 aryl groups (wherein the aryl groups have 1 to 4 carbon atoms)
, An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, which may be substituted with a halogen atom), x, y, z: x is a mole fraction of the repeating unit in the resin, x
= 0.15 to 0.70, y = 0.15 to 0.70, z =
It represents 0.01 to 0.70. _{] R-NH 2 (IV)} ( wherein, R is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 7 carbon atoms
Represents an aralkyl group having 1 to 14 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an alkoxyalkyl group having 2 to 14 carbon atoms. ) 【請求項２】 透明基板上に少なくとも赤、緑、青色の
画素がマトリックス状に配置された多色層の上に、請求
項１に記載の光重合性組成物の硬化物から成る保護層を
有することを特徴とするカラーフィルター。2. A protective layer comprising a cured product of the photopolymerizable composition according to claim 1 on a multicolor layer in which at least red, green and blue pixels are arranged in a matrix on a transparent substrate. A color filter characterized by having. 【請求項３】 透明基板上に少なくとも赤、緑、青色の
画素がマトリックス状に配置された多色層の上に、請求
項１に記載の光重合性組成物の層を形成し、露光し、ア
ルカリ水溶液を用いて未露光部を除去し、次いで露光部
を加熱により硬化することを特徴とするカラーフィルタ
ーの製造方法。3. A layer of the photopolymerizable composition according to claim 1 is formed on a multicolor layer in which at least red, green and blue pixels are arranged in a matrix on a transparent substrate, and the layer is exposed. A method for producing a color filter, which comprises removing an unexposed portion with an alkaline aqueous solution and then curing the exposed portion by heating. 【請求項４】 透明基板上に少なくとも赤、緑、青色の
画素がマトリックス状に配置された多色層の上に、仮支
持体上に請求項１に記載の光重合性組成物の層を有する
感光材料を密着させ、該光重合性組成物の層を該多色層
上に転写し、露光し、アルカリ水溶液を用いて未露光部
を除去し、次いで露光部を加熱により硬化することを特
徴とするカラーフィルターの製造方法。4. A layer of the photopolymerizable composition according to claim 1 on a temporary support on a multicolor layer in which at least red, green and blue pixels are arranged in a matrix on a transparent substrate. The photopolymerizable composition is brought into close contact, the layer of the photopolymerizable composition is transferred onto the multicolor layer, exposed, the unexposed portion is removed using an alkaline aqueous solution, and then the exposed portion is cured by heating. Characteristic color filter manufacturing method.