JPH06106896A - 凹凸模様転写材の製造方法 - Google Patents

凹凸模様転写材の製造方法

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JPH06106896A
JPH06106896A JP28526292A JP28526292A JPH06106896A JP H06106896 A JPH06106896 A JP H06106896A JP 28526292 A JP28526292 A JP 28526292A JP 28526292 A JP28526292 A JP 28526292A JP H06106896 A JPH06106896 A JP H06106896A
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JP
Japan
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layer
ionizing radiation
transfer material
intaglio roll
uneven pattern
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JP28526292A
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English (en)
Inventor
Yuzo Nakamura
祐三 中村
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Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 凹版ロールや基体シートの材質の限定を受け
ることがなく、また凹版ロール表面の離型処理を必要と
せず、さらに複雑な構造の凹版ロールを用いる必要がな
い凹凸模様転写材の製造方法を提供する。 【構成】 基体シート1上に電離放射線硬化された盛り
上げ模様層2を形成し、その上に剥離層3、接着層4を
順次設ける凹凸模様転写材7の製造方法において、電離
放射線硬化性樹脂12を凹版ロール9にて基体シート1
上に転移した後、電離放射線照射11を行うことによ
り、電離放射線硬化性樹脂12を基体シート1上で硬化
し、凹版ロール9の凹部と同様な深さでシャープな形状
の盛り上げ模様層2を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、転写後の表面の触感
にすぐれた転写層を形成できる凹凸模様転写材の製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、基体シート1上に盛り上げ模
様層2を形成し、その上に剥離層3、接着層4を順次設
けた凹凸模様転写材7がある。
【0003】この凹凸模様転写材を製造する方法として
は次のような方法が知られている。まず、電離放射線硬
化性樹脂12と溶剤14とからなるインキ13を凹版ロ
ール9を用いて基体シート1上に印刷し、溶剤14を蒸
発させてインキ13を乾燥させる(図5a参照)。次
に、電離放射線硬化性樹脂12に電離放射線照射11し
て硬化させる(図5b参照)ことにより盛り上げ模様層
2を形成する(図5c参照)。最後に、盛り上げ模様層
2上に、剥離層3、接着層4を順次設けて凹凸模様転写
材7を得る(図5d参照)。このようにして得られた凹
凸模様転写材7を被転写体5への転写後、基体シート1
とともに盛り上げ模様層2を転写層6から剥離すること
により、転写層6表面に凹凸模様8を形成することがで
きる(図6参照)。
【0004】しかし、上記の凹凸模様転写材の製造方法
では、電離放射線硬化性樹脂を溶剤と混合させて液状の
インキ13とし、このインキ13を用いて印刷形成して
いたために、凹版ロール9から基体シート1上に印刷さ
れた液状のインキ13が流動して、電離放射線照射11
の前に凹凸形状が崩れてしまい、盛り上げ模様層2のシ
ャープさがなくなってしまう。また、インキの乾燥時に
溶剤が蒸発して盛り上げ模様層2の盛り上がりが凹版ロ
ール9の深さに比べて小さくなった。
【0005】そこで、この問題を解決し転写層6表面に
図4に示すような凹凸模様8を形成することができる凹
凸模様転写材の製造方法として、次のような方法が考え
だされた(図3aおよびb参照)。すなわち、凹版ロー
ル9の凹部に電離放射線硬化性樹脂12のみを充填さ
せ、電離放射線硬化性樹脂12が凹版ロール9と基体シ
ート1の間に保持されている状態で電離放射線を照射す
ることにより盛り上げ模様層2を形成するようにした方
法である(特開平4-225000号公報参照)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法で
は、電離放射線硬化性樹脂12が凹版ロール9と基体シ
ート1の間に保持されている状態で硬化させられるた
め、電離放射線硬化性樹脂12は、基体シート1との接
着性が向上するとともに、凹版ロール9との接着性も向
上することになる。したがって、凹版ロール9から基体
シート1を剥離する際に凹版ロール9と盛り上げ模様層
2との離型が容易ではなくなるという問題が生じる。こ
の問題点を解決するためには、凹版ロールの材質として
離型しやすいものを使用したり、離型処理をした凹版ロ
ールを使用したりする必要があった。
【0007】また、電離放射線照射11を凹版ロール9
側から行う場合には、凹版ロール9の内部に電離放射線
照射装置を組み込まなければならないので凹版ロール9
の構造が複雑になるとともに、電離放射線の透過が可能
な材質からなる凹版ロール9を用いなければならなかっ
た。また、電離放射線照射11を基体シート1側から行
う場合には、電離放射線の透過が可能な材質からなる基
体シート1を用いなければならなかった。
【0008】したがって、本発明は、凹版ロールや基体
シートの材質の限定を受けることがなく、また凹版ロー
ル表面の離型処理を必要とせず、さらに複雑な構造の凹
版ロールを用いる必要がない凹凸模様転写材の製造方法
を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題点
を解決するために、基体シート上に電離放射線硬化され
た盛り上げ模様層を形成し、その上に剥離層、接着層を
順次設ける凹凸模様転写材の製造方法において、電離放
射線硬化性樹脂を凹版ロールにて基体シート上に転移し
た後、電離放射線照射をするように構成した。
【0010】
【作用】本発明は、上記構成からなるので、次の作用が
奏される。すなわち、凹版ロールと基体シートとが接す
ると、それらと電離放射線硬化性樹脂との密着性の差異
に起因して、凹版ロールの凹部に充填された電離放射線
硬化性樹脂は基体シートに転移する。この転移が済んだ
後、電離放射線照射を行うことにより、電離放射線硬化
性樹脂は基体シート上で硬化し、凹版ロールの凹部と同
様な深さでシャープな形状の盛り上げ模様層が形成され
る。
【0011】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例で詳しく説
明する。図1は本発明の凹凸模様転写材の製造方法の一
実施例を示す断面図、図2は本発明の凹凸模様転写材の
製造方法の他の実施例を示す断面図である。
【0012】本発明の凹凸模様転写材の製造方法を製造
工程に沿って説明する。まず、基体シート1上に盛り上
げ模様層2を部分的に形成する。基体シート1は、被転
写体5への転写後、転写層6から剥離されるものであ
る。基体シート1の材質としては、ポリエチレンテレフ
タレートやポリプロピレンなどのプラスチックフィル
ム、あるいはこれらと紙との複合フィルムなど、平滑な
表面を有するフィルム状物あるいはシート状物を使用す
る。
【0013】盛り上げ模様層2は、基体シート1ととも
に転写層6から剥離されることにより、転写層6表面に
凹凸模様8を形成するものである。なお、盛り上げ模様
層2は、凸部のみから構成されるもの(図1c参照)で
もよいし、凹部と凸部から構成されるものでもよい(図
2参照)。また、盛り上げ模様層2の凸部の高さを1〜
10μm程度にするのが好ましい。盛り上げ模様層2の凸
部の高さを10μmより大きくすると、盛り上げ模様層2
上に形成する各層が凹凸に沿って形成される形になり、
転写後に転写層6の凹凸模様8が変形する。また、盛り
上げ模様層2の凸部の高さを1μmより小さくすると、
転写層6の凹凸模様8の凹凸差が感じられなくなり、触
感に劣る。
【0014】盛り上げ模様層2は、電離放射線硬化性樹
脂12を凹版ロール9を用いて基体シート1上に転移し
(図1a参照)、その後に電離放射線照射11(図1b
参照)を行って硬化させることによって得る(図1c参
照)。
【0015】電離放射線硬化性樹脂12としては、公知
の紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂を用いることが
でき、たとえば、紫外線硬化性樹脂としては、反応性二
重結合または反応性エポキシ基を有するプレポリマー、
反応性希釈剤、光開始剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤から
構成されているものがある。電子線硬化性樹脂として
は、反応性二重結合または反応性エポキシ基を有するプ
レポリマー、反応性希釈剤、電子線吸収剤、抗酸化剤か
ら構成されているものがある。
【0016】凹版ロール9は、金属ロール、ガラスロー
ル、セラミックスロール、樹脂ロールなどを使用する。
凹版ロール9の凹部は、光腐食法、電鋳法、ミル加工法
などの方法により形成する。また、盛り上げ模様層2を
凹部と凸部から構成する場合、凹版ロール9と押圧ロー
ル10との間の間隙や圧力を調整することにより凹部と
なる樹脂膜の厚さをコントロールすることができる。ま
た、盛り上げ模様層2を凸部のみから構成する場合、押
圧ロール10の代わりにドクターブレードを使用しても
よい。
【0017】電離放射線照射11は、たとえば、紫外線
を照射する超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カ
ーボンアーク、ブラックライトランプ、メタルハライド
ランプなどの光源により行ったり、電子線を照射するコ
ックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器
型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロ
ン型、高周波型などの各種電子線加速器などにより行
う。
【0018】次に、基体シート1および盛り上げ模様層
2上に剥離層3を全面に形成する。剥離層3は、基体シ
ート1および盛り上げ模様層2の転写層6からの剥離性
や転写層6の保護性を良くするために形成される。ま
た、剥離層3は、転写層6の最上層となるので、盛り上
げ模様層2を基体シート1とともに剥離することにより
表面に凹凸模様が形成される。剥離層3の材質として
は、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂などの熱可塑性樹脂
が用いられる。剥離層3の形成方法としては、グラビア
印刷法、スクリーン印刷法などの通常の印刷法や、ロー
ルコート法、スプレーコート法などのコート法がある。
【0019】次に、剥離層3上に接着層4を形成して凹
凸模様転写材7を得る(図1d参照)。接着層4は、部
分的に形成しても全面に形成してもよい。接着層4は、
被転写体5上に、凹凸模様転写材7を接着させるもので
ある。接着層4の材質としては、被転写体5の素材に適
した感熱性あるいは感圧性の樹脂を適宜使用する。たと
えば、被転写体5が、AS樹脂の場合は、アクリル系樹
脂やビニル系樹脂を用いるとよい。接着層4の形成方法
としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの通
常の印刷法や、ロールコート法、スプレーコート法など
のコート法がある。
【0020】また、接着層4と剥離層3の間に図柄層を
形成してもよい。図柄層は、部分的に形成しても全面に
形成してもよい。図柄層は、着色図柄や光沢図柄などで
あり、またこれらが任意に組み合わされた層であっても
よい。着色図柄は通常の顔料または染料とバインダーと
からなる着色インキを用いて、グラビア印刷法、スクリ
ーン印刷法などの通常の印刷法などで形成される。図柄
層は一層でも、あるいは多色となる多層構成でもよい。
また、光沢図柄は真空蒸着法やスパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などで形成されたアルミニウムやニ
ッケルなどの金属薄膜よりなる。必要により金属薄膜の
上下の層にはアンカー層が形成される。なお、図柄層が
接着性を有する場合は接着層4を必要としない。
【0021】
【発明の効果】本発明は、上記構成および作用からなる
ので、次の効果が得られる。すなわち、電離放射線硬化
性樹脂を凹版ロールから基体シート上に転移させた後に
電離放射線硬化性樹脂を硬化させて盛り上げ模様層とす
るため、凹版ロールや基体シートの材質の限定を受ける
ことなく、また凹版ロール表面の離型処理を必要とせ
ず、さらに複雑な構造の凹版ロールを用いる必要がな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の凹凸模様転写材の製造方法の一実施
例を示す断面図である。
【図2】 本発明の凹凸模様転写材の製造方法に係わる
盛り上げ模様層形成の他の実施例を示す断面図である。
【図3】 従来の凹凸模様転写材の製造方法の一実施例
を示す断面図である。
【図4】 図3の製造方法によって得られた凹凸模様転
写材を用いて形成した転写層の断面図である。
【図5】 従来の凹凸模様転写材の製造方法の他の実施
例を示す断面図である。
【図6】 図5の製造方法によって得られた凹凸模様転
写材を用いて形成した転写層の断面図である。
【符号の説明】 1 基体シート 2 盛り上げ模様層 3 剥離層 4 接着層 5 被転写体 6 転写層 7 凹凸模様転写材 8 凹凸模様 9 凹版ロール 10 押圧ロール 11 電離放射線照射 12 電離放射線硬化性樹脂 13 インキ 14 溶剤

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体シート上に電離放射線硬化された盛
    り上げ模様層を形成し、その上に剥離層、接着層を順次
    設ける凹凸模様転写材の製造方法において、電離放射線
    硬化性樹脂を凹版ロールにて基体シート上に転移した
    後、電離放射線照射をすることを特徴とする凹凸模様転
    写材の製造方法。
  2. 【請求項2】 剥離層と接着層との間に図柄層を設ける
    請求項1に記載の凹凸模様転写材の製造方法。
  3. 【請求項3】 接着層が着色されている請求項1に記載
    の凹凸模様転写材の製造方法。
  4. 【請求項4】 盛り上げ模様層の凸部の高さを1〜10μ
    mで形成する請求項1〜3のいずれかに記載の凹凸模様
    転写材の製造方法。
JP28526292A 1992-09-29 1992-09-29 凹凸模様転写材の製造方法 Pending JPH06106896A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7569153B2 (en) 2002-05-23 2009-08-04 Lg Display Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7569153B2 (en) 2002-05-23 2009-08-04 Lg Display Co., Ltd. Fabrication method of liquid crystal display device

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010522