JPH06104403A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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JPH06104403A
JPH06104403A JP4252902A JP25290292A JPH06104403A JP H06104403 A JPH06104403 A JP H06104403A JP 4252902 A JP4252902 A JP 4252902A JP 25290292 A JP25290292 A JP 25290292A JP H06104403 A JPH06104403 A JP H06104403A
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宏幸 田口
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Abstract

(57)【要約】 【目的】DRAMの動作の高速化を図ること。 【構成】出力部(21)と、試験用出力部(22)とを
有し、かつ第1のパッケージ用の第1の出力端子(2
3)と、第2のパッケージ用の第2の出力端子(24)
とを有する半導体装置において、前記第1のパッケージ
に封入された場合には、前記第1の出力端子(23)に
前記出力部(21)が接続され、かつ前記第2の出力端
子(24)に前記試験用出力部(22)が接続される第
1の配線(H1)を有し、前記第2のパッケージに封入
された場合には、前記第2の出力端子(24)に前記出
力部(21)が接続され、かつ前記第1の出力端子(2
3)に前記試験用出力部(22)が接続される配線であ
る第2の配線(H2)を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高速化を図ったDRAM
(Dynamic Random Access Memory) 及びその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来例に係る半導体装置はリング・オシ
レータを有するDRAMである。このリング・オシレー
タは、DRAMに必要な動作であるリフレッシュ動作
(データの再書込み動作)をDRAM自身が行うための
セルフ・リフレッシュタイマ内に内蔵された回路であっ
て、リフレッシュレート(単位時間あたりのリフレッシ
ュ動作の回数)を決定する回路である。
【0003】半導体装置のパッケージには、一般にSO
J(Small Outline J lead package)とZIP(Zig-Za
g In-line package)との2種類があるが、通常、DRA
Mの製造の際には、その両方に対応できるように、予め
データなどの出力端子(以下パッドと称する)を2種類
設けておき、パッケージに対応する配線に基づいて、S
OJ用パッド(SP)とZIP用パッド(ZP)とのい
ずれかを選択する。
【0004】その選択は、配線パターンを有するフォト
マスク(以下メタルマスクと称するを切り換えることに
よってなされる。すなわち、例えばパッケージにSOJ
を選択したときには、SOJ用の配線パターンに対応す
るフォトマスクを用いて図に示すような回路構成を有す
る配線を形成する。このとき、ZIP用パッド(ZP)
及びZIP用パッド接続部(4)は不要になる。
【0005】以下で従来例に係るDRAMの出力部につ
いて説明する。図6は、従来例に係るDRAMの出力部
の回路図である。当該DRAMの出力部は、切り換え論
理回路(1),出力バッファ(2),第1の出力端子接
続部(3),ZIP用パッド接続部(4),SOJ用パ
ッド(SP)及びZIP用パッド(ZP)から成る。
【0006】切り換え論理回路(1)は、p型MOSト
ランジスタ(以下p−MOSトランジスタと称する)
(TR1,TR3,TR5,TR7),n型MOSトラ
ンジスタ(以下n−MOSトランジスタと称する)(T
R2,TR4,TR6,TR8及びインバータ(In
1,In2)からなる回路であって、不図示のデータ出
力回路から入力されるデータ(DA1,DA2)と、不
図示のリング・オシレータ回路からの出力信号(RO
1,RO2)とのいずれかを出力バッファ(2)に選択
出力する回路である。
【0007】出力バッファ(2)は、NANDゲート
(NAND1,NAND2)及びインバータ(In1,In2)
からなる回路であり、出力イネーブル信号(So)に基
づいて、切り換え論理回路(1)から出力される信号を
パッケージに応じてSOJ用パッド接続部(3),ZI
P用パッド接続部(4)のいずれかに出力する回路であ
る。
【0008】SOJ用パッド接続部(3)は、SOJに
対応する出力端子であるSOJ用パッド(SP)に接続
されており、n−MOSトランジスタ(TR9,TR1
0からなる。また、ZIP用パッド接続部(4)は、Z
IPに対応する出力端子であるZIP用パッド(ZP)
に接続されており、n−MOSトランジスタ(TR1
1,TR12)からなる。
【0009】当該回路の動作を、SOJを選択した場合
について説明する。まず、切り換え論理回路(1)に不
図示の出力部からデータ(DA1,DA2)及びリング
・オシレータ回路からの出力信号(RO1,RO2)が
入力され、切換信号(φ)によって、出力バッファ
(2)に該データ(DA1,DA2)と出力信号(RO
1,RO2)とのいずれかが選択出力される。
【0010】出力バッファ(2)に入力されたデータ
(DA1,DA2)又は出力信号(RO1,RO2)
は、出力イネーブル信号(So)が入力されると、SO
J用パッド接続部(3)に出力され、SOJ用パッド
(SP)を介して外部に出力される なお、リング・オシレータ回路からの出力信号(RO
1,RO2)を切り換え論理回路(1)が出力バッファ
(2)に選択出力するのは、当該リング・オシレータ回
路の動作試験を行うときのみに限られている。
【0011】当該動作試験はパッケージにDRAMを収
納する以前に行われ、パッケージに収納されたのちには
リング・オシレータ回路からの出力信号(RO1,RO
2)を外部に出力する必要はなく、切り換え論理回路
(1)はデータ(DA1,DA2)のみを出力すること
になるので、動作試験後には、切り換え論理回路(1)
は実質上不要になる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体装置によると図6に示すように、データを出
力する際に出力部において複雑な切り換え論理回路
(1)を介してデータを出力するので、その分動作速度
が遅くなるという問題があった。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の欠点
に鑑み成されたもので、図1に示すように、第1のパッ
ケージと、第2のパッケージとのいずれかを選択し、か
つ少なくとも出力部(21)と試験用出力部(22)と
を有する半導体装置において、第1のパッケージが選択
された場合には、該第1のパッケージに対応してデータ
を出力する第1の出力端子(23)に出力部(21)が
接続され、かつ第2のパッケージに対応してデータを出
力する第2の出力端子(24)に試験用出力部(22)
が接続され、第2のパッケージが選択された場合には、
第2の出力端子(24)に出力部(21)が接続され、
かつ第1の出力端子(23)に試験用出力部(22)が
接続されることで、高速動作が可能になる半導体装置及
びその製造方法を提供するものである。
【0014】
【作 用】本発明に係る半導体装置によれば、図1に示
すように、選択されたパッケージに対応してデータを出
力する出力端子に出力部(21)が接続され、選択され
なかったパッケージに対応してデータを出力する出力端
子に試験用出力部(22)が接続されている。
【0015】例えば、第1のパッケージを選択した場合
は、第1の出力端子(23)に出力部(21)が直接接
続され、選択されなかった第2のパッケージに対応する
第2の出力端子(24)に試験用出力部(22)が直接
接続されている。また、本発明に係る半導体装置の製造
方法によれば、図2のフローチャートに示すように、第
1の出力端子(23)に出力部(21)が接続され、か
つ第2の出力端子(24)に試験用出力部(22)が接
続された第1の配線(H1)と、第2の出力端子(2
4)に出力部(21)が接続され、かつ第1の出力端子
(23)に試験用出力部(22)が接続された第2の配
線(H2)とを、2種類の配線パターンに対応するフォ
トマスクを選択することによって設けている。
【0016】例えば、第1のパッケージを選択した場合
には第1の配線(H1)を設け(図2のステップP
3)、第2のパッケージを選択した場合には、第2の配
線(H2を設けている(図2のステップP4)。このた
め、試験用出力部(22)の動作試験をする際には、試
験用出力部(22)からの出力信号を、選択されなかっ
たパッケージに対応してデータを出力する出力端子から
出力して試験し、選択されたパッケージに対応してデー
タを出力する出力端子からデータを出力することが可能
になる。
【0017】このため、出力部(21)からのデータ
と、試験用出力部(22)からの出力信号とを、独立に
出力することができるので、従来例のように、出力部
(21)から出力されるデータと、試験用出力部(2
2)から出力される出力信号との何れかを選択出力して
いた切り換え論理回路(1)を要しない。よって該切り
換え論理回路(1)を介さずにデータを出力することが
できるので、その分当該半導体装置の高速動作が可能に
なる。
【0018】
【実施例】以下に本発明に係る半導体装置及びその製造
方法の一実施例を図面を参照しながら詳細に説明する。
本発明の一実施例に係る半導体装置は、データ出力回路
(21)と、リング・オシレータ(22)とを有するD
RAMである。当該リング・オシレータ(22は、DR
AMに必要な動作であるリフレッシュ動作(データの再
書込み動作)における、リフレッシュレート(単位時間
あたりのリフレッシュの回数)を決定する基になる回路
である。
【0019】図3に、パッケージとしてSOJを選択し
た場合の当該DRAMの出力部の回路構成を示す。当該
DRAMの出力部は、出力バッファ(12),SOJ用
パッド接続部(13),ZIP用パッド接続部(1
4),SOJ用パッド(SP)及びZIP用パッド(Z
P)から成る。出力バッファ(12)は、SOJ用パッ
ド接続部(13)に接続されている。当該回路の構成
は、それぞれ直列に接続されたNANDゲート(NAND1
1,NAND12及びインバータ(In11,In12)からな
り、その機能は、外部回路から出力イネーブル信号(S
o)が入力されると、データ出力回路(21)から出力
されるデータ(DA1,DA2)をSOJ用パッド接続
部(13)に出力するものである。
【0020】SOJ用パッド接続部(13)は、SOJ
用パッド(SP)及び出力バッファ(12)に接続され
ており、2つのn−MOSトランジスタ(TR21,TR
22)から構成されている。ZIP用パッド接続部(1
4)は、2つのn−MOSトランジスタ(TR23,TR
24)からなる回路であって、リング・オシレータ(2
2)に接続され、該リング・オシレータ(22)から出
力され、リング・オシレータ(22)の動作試験結果で
ある出力信号(RO1,RO2)をZIP用パッド(Z
P)に出力する回路である。
【0021】当該回路の動作は、データ出力回路(2
1)から出力されるデータ(DA1,DA2)が出力バ
ッファ(12)に入力される。該出力バッファ(12)
に出力イネーブル信号(So)が入力されると、出力バ
ッファ(12)からデータ(DA1,DA2)がSOJ
用パッド接続部(13)を介してSOJ用パッド(SP
から出力される。
【0022】また、リング・オシレータ(22)の動作
試験の際には、その結果を示す出力信号(RO1,RO
2)が、ZIP用パッド接続部(14)を介してZIP
用パッド(ZP)から出力される。当該動作試験は、当
該回路が形成された後であって、パッケージに収納する
以前になされる。次に、パッケージとしてZIPを選択
した場合の当該DRAMの出力部の回路構成を図4に示
す。なお、SOJを選択した出力部と共通の点について
は、重複するので説明を省略する。
【0023】すなわち、ZIPを選択した場合の当該D
RAMの出力部は、SOJを選択した場合と同様に、出
力バッファ(12),SOJ用パッド接続部(13),
ZIP用パッド接続部(14),SOJ用パッド(S
P)及びZIP用パッド(ZPから成る。出力バッファ
(12)は、ZIP用パッド接続部(14)に接続され
ており、出力イネーブル信号(So)が入力されると、
データ出力回路(21)から出力されるデータ(DA
1,DA2)をZIP用パッド接続部(14)に出力す
る回路である。
【0024】SOJ用パッド接続部(13)は、リング
・オシレータ(22)に接続され、該リング・オシレー
タ(22)から出力される出力信号(RO1,RO2)
をSOJ用パッド(SP)に出力する回路である。その
構成はn−MOSトランジスタ(TR21,TR22)から
なる。ZIP用パッド接続部(14)は、出力バッファ
(12)に接続されており、該出力バッファ(12)か
ら出力されるデータ(DA1,DA2)をZIP用パッ
ド(ZP)に出力する回路である。
【0025】当該回路の動作は、データ出力回路(2
1)から出力されるデータ(DA1,DA2)が出力バ
ッファ(12)に入力される。該出力バッファ(12)
に出力イネーブル信号(So)が入力されると、出力バ
ッファ(12)からデータ(DA1,DA2)がZIP
用パッド接続部(14)を介してZIP用パッド(ZP
から出力される。
【0026】また、リング・オシレータ(22)の動作
試験の際には、その結果を示す出力信号(RO1,RO
2)が、SOJ用パッド接続部(13)を介してSOJ
用パッド(SP)から出力される。当該動作試験は、S
OJを選択した場合と同様に、当該回路が形成された後
であって、パッケージに収納する以前になされる。上記
したような本発明の実施例に係るDRAMの製造方法に
ついて図5のフローチャートを参照しながら説明する。
図5は本実施例に係るDRAMの製造方法を説明するフ
ローチャートである。
【0027】図5のステップP1でZIP、SOJのい
ずれのパッケージにも対応出来る様に2種類のパッド
(ZP,SP)が形成されたDRAMの回路を形成す
る。次に、ステップP2でZIP,SOJのいずれか
を、対応する配線用のフォトマスクを選択し、各々のパ
ッケージに対応する配線を形成する。このようにして図
3,図4に示すような回路構成を有する配線がDRAM
に形成される。
【0028】次いで、ステップP3で、DRAMの内部
にあるリング・オシレータ(22)の動作試験をする。
当該動作試験は、リング・オシレータ(22)から出力
される出力信号(RO1,RO2)を、選択されなかっ
たパッケージ用のパッドから出力することによってなさ
れる。次に、ステップP4で当該DRAMをパッケージ
に収納する。以上によって、本実施例に係るDRAMが
形成される。
【0029】斯かる本発明の実施例に係る半導体装置に
よれば、選択されたパッケージに対応してデータを出力
するパッドにデータ出力回路(21)が接続され、選択
されなかったパッケージに対応してデータを出力するパ
ッドにリング・オシレータ(22)が接続されている。
例えば、図3に示すように、SOJを選択した場合は、
SOJに対応してデータを出力するSOJ用パッド(2
3)にデータ出力回路(21)が直接接続され選択され
なかったZIPに対応してデータを出力するZIP用パ
ッド(24)にリング・オシレータ(22)が直接接続
されている。
【0030】また、本発明の実施例に係る半導体装置の
製造方法によれば、図3に示すようなSOJ用パッド
(23)にデータ出力回路(21)が接続され、かつZ
IP用パッド(24)にリング・オシレータ(22)が
接続された配線と、図4に示すようなZIP用パッド
(24)にデータ出力回路(21)が接続され、かつS
OJ用パッド(23)にリング・オシレータ(22)が
接続された配線とを、2種類の配線パターンに対応する
フォトマスクを選択することによって選択形成してい
る。
【0031】このため、リング・オシレータ(22)の
動作試験をする際には、その試験のために用いるリング
・オシレータ(22)からの出力信号(RO1,RO
2)を選択されなかったパッケージに対応してデータを
出力するパッドから出力し、選択されたパッケージに対
応してデータを出力するパッドからデータ(DA1,D
A2)を出力することが可能になる。
【0032】これにより、データ出力回路(21)から
のデータ(DA1,DA2)と、リング・オシレータ
(22)からの出力信号(RO1,RO2)とを、独立
に出力することができるので、従来例のように、データ
出力回路(21)から出力されるデータ(DA1,DA
2)と、リング・オシレータ(22)から出力される出
力信号(RO1,RO2)との何れかを選択出力してい
た切り換え論理回路(1を要しない。よって該切り換え
論理回路(1)を介さずにデータ(DA1,DA2)を
出力することができるので、その分当該半導体装置の高
速動作が可能になる。
【0033】なお、本実施例において、データ出力回路
(21)は、出力部の一例であり、リング・オシレータ
(22)は試験用出力部の一例である。また、SOJ用
パッド(SP)は第1の出力端子(23)の一例であ
り、ZIP用パッド(ZP)は第2の出力端子(24)
の一例である。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る半導
体装置によれば、選択されたパッケージに対応するする
出力端子に出力部(21)が接続され、選択されなかっ
たパッケージに対応する出力端子に試験用出力部(2
2)が接続されている。また、本発明に係る半導体装置
の製造方法によれば、第1の配線(H1)と、第2の配
線(H2)とを、2種類の配線パターンに対応するフォ
トマスクを選択することによって選択形成している。
【0035】このため、従来例のように、出力部(2
1)から出力されるデータと、試験用出力部(22)か
ら出力される出力信号との何れかを選択出力していた切
り換え論理回路(1)を要しない。よって切り換え論理
回路(1)を介さずにデータなどを出力することができ
るので、その分当該半導体装置の高速動作が可能になる
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体装置の原理図である。
【図2】本発明に係る半導体装置の製造方法を説明する
フローチャートである。
【図3】本発明の実施例に係るDRAMの出力部を説明
する第1の回路構成図である。
【図4】本発明の実施例に係るDRAMの出力部を説明
する第2の回路構成図である。
【図5】本発明の実施例に係るDRAMの製造方法を説
明するフローチャートである。
【図6】従来例に係るDRAMの回路構成図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/50 X 9272−4M 27/04 E 8427−4M D 8427−4M

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 出力部(21)と、試験用出力部(2
    2)とを有し、かつ第1のパッケージ用の第1の出力端
    子(23)と、第2のパッケージ用の第2の出力端子
    (24)とを有する半導体装置において、 前記第1のパッケージに封入された場合には、前記第1
    の出力端子(23)に前記出力部(21)が接続され、
    かつ前記第2の出力端子(24)に前記試験用出力部
    (22)が接続される第1の配線(H1)を有し、 前記第2のパッケージに封入された場合には、前記第2
    の出力端子(24)に前記出力部(21)が接続され、
    かつ前記第1の出力端子(23)に前記試験用出力部
    (22)が接続される配線である第2の配線(H2)を
    有することを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記試験用出力部(22)は、発振器で
    あることを特徴とする請求項第1項記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記第1のパッケージと前記第2のパッ
    ケージとのいずれかへの封入を選択する工程と、 前記第1のパッケージを選択した場合には、前記第1の
    出力端子(23)に前記出力部(21)が接続され、か
    つ前記第2の出力端子(24)に前記試験用出力部(2
    2)が独立に接続された第1の配線(H1)を設け、 前記第2のパッケージを選択した場合には、前記第2の
    出力端子(24)に前記出力部(21)が接続され、か
    つ前記第1の出力端子(23)に前記試験用出力部(2
    2)が接続された第2の配線(H2)を設ける工程とを
    有することを特徴とする請求項第1項記載の半導体装置
    の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記第1の配線(H1)と前記第2の配
    線(H2)との選択は、異なる配線パターンに対応する
    フォトマスクを選択することによってなされることを特
    徴とする請求項第3項記載の半導体装置の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003059262A (ja) * 2001-08-20 2003-02-28 Elpida Memory Inc 半導体装置

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JP2003059262A (ja) * 2001-08-20 2003-02-28 Elpida Memory Inc 半導体装置

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