JPH06100891A - 溶剤又はその組成物 - Google Patents

溶剤又はその組成物

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JPH06100891A
JPH06100891A JP27522992A JP27522992A JPH06100891A JP H06100891 A JPH06100891 A JP H06100891A JP 27522992 A JP27522992 A JP 27522992A JP 27522992 A JP27522992 A JP 27522992A JP H06100891 A JPH06100891 A JP H06100891A
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solvent
composition
cfh
methyl
heptafluorobutane
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JP27522992A
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Hiroichi Aoyama
博一 青山
Hisafumi Yasuhara
尚史 安原
Mitsuhiro Toma
充弘 當麻
Satoru Ide
哲 井手
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Daikin Industries Ltd
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    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents

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  • Detergent Compositions (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式: R1 −R2 (但し、この一般式中、R1 はCF3CFH−、 HCF2CFH−又
は HCF2CF2−を表し、R2 はCF3CF2−、CF3CFH−、 CF2
HCFH−、 CF2HCH2−、 CFH2CFH−、 CFH2CH2−又はCH3C
FH−を表す。)で表される化合物の少なくとも1種を有
効成分とする溶剤又はその組成物。例えば、1,1,
2,2,3,4,4−ヘプタフルオロブタンと1,1,
1,2,3,4,4−ヘプタフルオロブタンとの少なく
とも一方を有効成分とする溶剤又はその組成物。 【効果】 適度な溶解力や水分除去性があり、分子中に
塩素を含有しないためにオゾンを破壊する恐れがまった
くない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、IC部品、精密機械部
品等に付着した塵埃、フラックス、水分等を除去するた
めに用いる溶剤又はその組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】IC部品、精密部品等の組み立て工程で
はフラックスが使われるが、これが付着したままでは、
製品とはならない場合が多い。従って、通常このような
部品の仕上げ工程では有機溶剤を用いてフラックスや塵
埃の洗浄を行っている。
【0003】そうした有機溶剤としては、以下に掲げる
種々の利点から、1,1,2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン(以下、CFC−113とい
う。)が広く使われている。CFC−113は不燃性で
毒性が低く、安定性も優れている。しかも、金属、プラ
スチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れ
を選択的に溶解する性質がある。
【0004】一般に、フラックス洗浄をする場合の被洗
浄物は金属、プラスチック、エラストマー等からなる複
合部品が多く、従ってこの点からも、CFC−113が
有利であった。また、光学部品等を純水洗浄した後の水
分除去剤としても、CFC−113及びその組成物がひ
ろく用いられていた。
【0005】しかしながら、従来使用されていたCFC
−113は種々の利点を持つにもかかわらず、分子内に
塩素を含有する故に成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚癌の発生を引き起こす原因となる疑いがあることか
ら、その代替品の出現が望まれている。
【0006】オゾンを破壊するおそれのない化合物を洗
浄剤に使用する試みがみられる。例えば特開平2−2359
82号公報には、C3〜C4系フッ化炭化水素を脱脂剤又
は洗浄剤に用いることが示されている。しかしながら、
その性能や取扱性については具体的記載はない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、CFC−1
13と同様な種々の利点を有し、同等の洗浄が行え、な
おかつ分子中に塩素を含有しないためにオゾン層を破壊
する恐れがまったくない新規な溶剤又はその組成物を提
供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、 一般式: R1 −R2 (但し、この一般式中、R1 はCF3CFH−、 HCF2CFH−又
は HCF2CF2−を表し、R2 はCF3CF2−、CF3CFH−、 CF2
HCFH−、 CF2HCH2−、 CFH2CFH−、 CFH2CH2−又はCH3C
FH−を表す。)で表される化合物の少なくとも1種を有
効成分とする溶剤又はその組成物に係るものである。
【0009】本発明による溶剤又はその組成物は、溶剤
としての適当な沸点を有し、しかも適度な溶解力や水分
除去性がある等、従来のCFC−113と同様な利点を
有するものである。そして、いずれも、分子中に塩素を
含有しないために、オゾンを破壊する恐れがまったくな
いものである。
【0010】ここで、本明細書中で記載の「溶剤又は組
成物」とは、フラックス洗浄剤、又は、各種金属、プラ
スチック、ガラス等の部品洗浄剤に用いることができる
もの、或いは、水洗後の水分除去剤に用いることのでき
るもの等を意味する。
【0011】本発明による溶剤又はその組成物は、例え
ば、1,1,2,2,3,4,4−ヘプタフルオロブタ
ン(以下、HFC−347pceと略記する。)と1,
1,1,2,3,4,4−ヘプタフルオロブタン(以
下、HFC−347peeと略記する。)との少なくと
も一方を有効成分とするのが望ましい。
【0012】特に、HFC−347pce及びHFC−
347peeは、共に公知の化合物であるが、沸点がそ
れぞれ57℃及び50℃であり、洗浄溶剤として用いる場
合、上記した効果に加えて取扱性の上から好ましい。な
お、本発明に好適なHFC−347pce及びHFC−
347peeの異性体としての例えば1,1,1,2,
3,3,4−ヘプタフルオロブタン(以下、HFC−3
47mecと略記する。)については、沸点が41〜42℃
であり、洗浄性と共に取扱上の面で劣っている。
【0013】本発明の溶剤又はその組成物には、各種の
目的に応じて、その他の各種成分を含有させることがで
きる。例えば、フラックスの溶解力や脱水能力を向上さ
せるためには、アルコール類、エステル類、ケトン類及
び炭化水素類からなる群より選ばれた少なくとも1種の
有機溶剤を含有させることができる。
【0014】これらの有機溶剤の溶剤又はその組成物中
での含有率は、通常は0〜20重量%、好ましくは 0.5〜
10重量%、更に好ましくは1〜8重量%である。HFC
−347pce又はHFC−347peeに代表される
本発明の上記一般式の化合物と有機溶剤との混合物に共
沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好
ましい。
【0015】本発明の上記一般式の化合物と共沸する有
機溶剤としては、アルコール類ではメタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール、エステル類では酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ケトン類ではア
セトン、メチルエチルケトン、炭化水素類ではn−ヘキ
サン、シクロヘキサン、n−ヘプタン、イソオクタンが
挙げられる。
【0016】上記のアルコール類としては、炭素数1〜
5の鎖状又は環状の飽和又は不飽和アルコール類が好ま
しく、上記したもの以外にも、n−プロピルアルコー
ル、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコー
ル、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコー
ル、ペンチルアルコール、sec−アミルアルコール、
1−エチル−1−プロパノール、2−メチル−1−ブタ
ノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチル
アルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチ
ルアルコール、2−エチル−1−ブタノール、シクロペ
ンタノール、シクロヘキサノール、アリルアルコール、
3−ブテノール、2−シクロヘキセノール等から選ばれ
るものが使用可能である。使用可能なアルコール類のう
ち、より好ましくは、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、n−プロピルアルコール等である。
【0017】上記のエステル類としては、炭素数1〜6
の鎖状の飽和エステル類が好ましく、上記したもの以外
にも、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プ
ロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸
プロピル、プロピオン酸イソプロピル、酪酸メチル、酪
酸エチル、吉草酸メチル等から選ばれるものが使用可能
である。使用可能なエステル類のうち、より好ましく
は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル等である。
【0018】上記のケトン類としては、R−CO−R’
(ここで、R、R’は炭素数1〜4の飽和炭化水素基)
の一般式で表されるものが好ましく、上記したもの以外
にも、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノ
ン、4−メチル−2−ペンタノン等から選ばれるものが
使用可能である。使用可能なケトン類のうち、より好ま
しくは、アセトン、メチルエチルケトン、2−ブタノ
ン、4−メチル−2−ペンタノン等である。
【0019】上記の炭化水素類としては、炭素数1〜15
の直鎖又は環状の飽和又は不飽和の炭化水素類が好まし
く、上記したもの以外にも、n−ペンタン、イソペンタ
ン、イソヘキサン、2−メチルペンタン、2,2−ジメ
チルブタン、2,3−ジメチルブタン、イソヘプタン、
3−メチルヘキサン、2,4−ジメチルペンタン、n−
オクタン、2−メチルヘプタン、2,5−ジメチルヘキ
サン、ノナン、デカン、ドデカン、1−ペンテン、2−
ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、
1−デセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、
メチルシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、
デカリン、テトラリン、アミレン等から選ばれるものが
使用可能である。使用可能な炭化水素類のうち、より好
ましくは、n−ペンタン、n−ヘプタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、イソペンタン、イ
ソオクタン等である。
【0020】本発明の溶剤又はその組成物には、界面活
性剤等の各種の洗浄助剤や、安定剤、あるいはオゾン破
壊に対する影響の少ない水素含有塩素化フッ素化炭化水
素類、又は、オゾン破壊に対する影響が全く無い水素含
有フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。
【0021】上記の界面活性剤としては、溶剤又はその
組成物と共に通常用いられる各種のものから選択可能で
あるが、好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポ
リオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエステ
ル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレンアルキルフェノール、
ポリオキシエチレンソルビタンエステル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンソルビタンエステル、カプ
リル酸カプリルアミン、ポリオキシエチレンアルキルア
ミド等から選ばれるものである。より好ましくは、カプ
リル酸カプリルアミン、ポリオキシエチレンアルキルア
ミドである。
【0022】上記の安定剤の具体例としては、ニトロメ
タン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼ
ン、ニトロスチレン等のニトロ化合物、3−メチル−1
−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3
−オール等のアセチレンアルコール類、グリシドール、
メチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテ
ル、フェニルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオ
キシド、シクロヘキセンオキシド、エピクロルヒドリン
等のエポキシド類、ジメトキシメタン、1,2−ジメト
キシエタン、1,4−ジオキサン、1,3,5−トリオ
キサン等のエーテル類、ヘキセン、ヘプテン、オクテ
ン、2,4,4−トリメチル−1−ペンテン、ペンタジ
エン、オクタジエン、シクロヘキセン、シクロペンテン
等の不飽和炭化水素類、アリルアルコール、1−ブテン
−2−オール、3−メチル−1−ブテン−3−オール等
のオレフィン系アルコール類、アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ビニル
等のアクリル酸エステル類等があげられ、これらの中で
はニトロメタンがより好ましい。
【0023】これらの安定剤は単独で使用してもよく、
或いは2種以上を併用してもよい。なお、ニトロメタン
の好ましい添加量は、 0.1〜5%程度であり、ニトロメ
タンの添加量がこの範囲内にあるときには、特に高い安
定化効果が得られる。
【0024】更に、上記の安定剤と下記のような安定剤
とを併用するこにより、相乗的に一層改善された安定化
効果が達成される。この様な安定剤としては、フェノー
ル、トリメチルフェノール、チモール、2,6−ジ−t
−ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキシア
ニソール、イソオイゲノール等のフェノール類、ジプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
N−エチルモルホリン、2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、N,N’−ジアリル−p−フェニレンジア
ミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
クロロベンゾトリアゾール等のトリアゾール類等があげ
られる。
【0025】安定剤の使用量は、安定剤の種類等により
異なるが、通常、本発明の組成物重量の0.01〜10%程度
であり、 0.1〜5%程度とすることが好ましい。
【0026】洗浄及び脱水方法としては、手拭き、浸
漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等、通常の
方法を採用することができる。
【0027】
【発明の作用効果】本発明による溶剤又はその組成物
は、適当な沸点を有し、しかも適度な溶解力や水分除去
性がある等、従来のCFC−113と同様な利点を有す
るものである。そして、いずれも、分子中に塩素を含有
しないために、オゾンを破壊する恐れがまったくないも
のである。
【0028】
【実施例】以下、本発明を実施例について更に詳細に説
明する。
【0029】フラックス洗浄性能 下記第1表に示す溶剤又はその組成物を用いてフラック
スの洗浄試験を行った。
【0030】即ち、プリント基板(銅張り積層板)全面
にフラックス(タムラF−Al−4:(株)タムラ製作
所製)を塗布し、 110℃で20秒間予備加熱後、 250℃で
5秒間ハンダ付けを行った。ハンダ付け後のプリント基
板を本発明の溶剤又はその組成物に浸漬し、超音波洗浄
を1分間行った。フラックスの除去の度合を第1表に示
す。
【0031】
【0032】上記第1表中、HFC−347pceは沸
点57℃のCF2HCF2CFHCF2H、HFC−347peeは沸点
50℃のCF2HCFHCFHCF3 、HFC−347mecは沸点41
〜42℃のCF3CFHCF2-CFH2を表す。 ( )内は混合比〔重量%〕 ○:良好に除去できる。 △:少量残存
【0033】プラスチック非溶解性 実施例1〜16及び比較例1で使用した溶剤又はその組成
物のプラスチックに対する影響をみるために、各溶剤組
成物に下記第2表に示す各種プラスチックを50℃にて1
時間浸漬後、取り出し、その直後にプラスチックの重量
変化率を測定した。変化率を第2表に示す。
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】上記第2表中、 影響度 0:影響がほとんどみられない(0〜1%) 1:やや膨潤(1〜5%) 2:膨潤(5〜10%)又はクラック発生
【0039】水分除去性能 予め汚れは除去したが、水の付着しているガラス板(50
mm×50mm×1mm)を下記第3表に示す組成の溶剤組成物
を使用して、同表中に示す処理方法により水分除去処理
を行った。
【0040】次いで、水分除去処理を終えたガラス板を
所定量の無水メタノールに浸漬し、しかる後、メタノー
ル中の水分増加量をカールフィッシャー法により分析
(ガラス板に残留する水分量から脱水量を測定)し、水
分除去性能を調べた。この様にして測定して得られた水
分量を”W1"とした。
【0041】一方、予め汚れを除去した、水の付着した
ガラス板(50mm×50mm×1mm)を水分除去用組成物によ
る処理を行うことなく所定量の無水メタノール中に浸漬
したのち、カールフィッシャー法による分析を行い、ガ
ラス板に残留する水分量を”W”とした。次いで、次式
により水分除去率H(%)を求め、結果を下記第3表に
示した。 H(%)=(W−W1)×100/W
【0042】
【0043】
【0044】以上に示した結果から明らかなように、本
発明の溶剤又はその組成物は、フラックスの洗浄効果に
優れたものであり、また、水分除去剤としても充分な脱
水能力を持っている。また、従来使用されていたCFC
−113と同様に適度な溶解力を持つことから、プラス
チック及びエラストマー等からなる部品に悪影響を与え
ることなく、フラックス、塵埃等を除去することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 當麻 充弘 大阪府摂津市西一津屋1の1 ダイキン工 業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 井手 哲 大阪府摂津市西一津屋1の1 ダイキン工 業株式会社淀川製作所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式: R1 −R2 (但し、この一般式中、R1 はCF3CFH−、 HCF2CFH−又
    は HCF2CF2−を表し、 R2 はCF3CF2−、CF3CFH−、 CF2HCFH−、 CF2HCH2−、
    CFH2CFH−、 CFH2CH2−又はCH3CFH−を表す。)で表さ
    れる化合物の少なくとも1種を有効成分とする溶剤又は
    その組成物。
  2. 【請求項2】 1,1,2,2,3,4,4−ヘプタフ
    ルオロブタンと1,1,1,2,3,4,4−ヘプタフ
    ルオロブタンとの少なくとも一方を有効成分とする、請
    求項1に記載した溶剤又はその組成物。
  3. 【請求項3】 アルコール類、エステル類、ケトン類及
    び炭化水素類からなる群より選ばれた少なくとも1種を
    更に含有している、請求項1又は2に記載した溶剤又は
    その組成物。
JP27522992A 1992-09-18 1992-09-18 溶剤又はその組成物 Pending JPH06100891A (ja)

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