JPH0560865B2 - - Google Patents
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- JPH0560865B2 JPH0560865B2 JP63159596A JP15959688A JPH0560865B2 JP H0560865 B2 JPH0560865 B2 JP H0560865B2 JP 63159596 A JP63159596 A JP 63159596A JP 15959688 A JP15959688 A JP 15959688A JP H0560865 B2 JPH0560865 B2 JP H0560865B2
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は銅フタロシアニン感光体及びその製
造方法に関する。
造方法に関する。
一般に、電子写真においては、感光体の感光層
表面に帯電、露光を行なつて静電潜像を形成さ
せ、これを現像剤で現像して可視化させ、その可
視像をそのまま直接感光体上に定着させて複写像
を得るか、あるいは感光体上の可視像を紙などの
転写紙上に転写し、その転写像を定着させて複写
像を得る方式が用いられている。これらの方式
は、主として、電子プリンターやレーザープリン
ター、フアクシミリに応用されている。
表面に帯電、露光を行なつて静電潜像を形成さ
せ、これを現像剤で現像して可視化させ、その可
視像をそのまま直接感光体上に定着させて複写像
を得るか、あるいは感光体上の可視像を紙などの
転写紙上に転写し、その転写像を定着させて複写
像を得る方式が用いられている。これらの方式
は、主として、電子プリンターやレーザープリン
ター、フアクシミリに応用されている。
従来、この種の目的で使用される電子写真用感
光体の感光層を形成するのに、光導電性材料とし
て無定形セレン、硫化カドミウムあるいは酸化亜
鉛が汎用されている。しかし、無定形セレンで
は、導電性支持体への蒸着が必要であるため製造
が困難な上に、その蒸着膜に可撓性がなく、しか
も毒性が強いために取り扱いに注意を要し、高価
になる欠点がある。他方、硫化カドミウムや酸化
亜鉛では、それらを基体上に結着させる結着剤と
の混合比によつて感度が著しく左右されることか
ら、実用可能な感度を得るために結着剤の割合を
小さくせざるを得ず、その結果、可撓性、平滑
性、硬度、耐摩耗性などの機械的強度が低く、更
にコロナ帯電に伴つて発生するオゾンなどによつ
て特性が劣化するという欠点がある他、毒性があ
るため環境汚染を発生する恐れがあるなどの衛生
上の問題もあつた。これらの欠点や問題を解決す
るため、近年、加工性が優れ、毒性や環境汚染な
どの衛生上の問題もない有機感光体がどんどん開
発されて普及化されている。
光体の感光層を形成するのに、光導電性材料とし
て無定形セレン、硫化カドミウムあるいは酸化亜
鉛が汎用されている。しかし、無定形セレンで
は、導電性支持体への蒸着が必要であるため製造
が困難な上に、その蒸着膜に可撓性がなく、しか
も毒性が強いために取り扱いに注意を要し、高価
になる欠点がある。他方、硫化カドミウムや酸化
亜鉛では、それらを基体上に結着させる結着剤と
の混合比によつて感度が著しく左右されることか
ら、実用可能な感度を得るために結着剤の割合を
小さくせざるを得ず、その結果、可撓性、平滑
性、硬度、耐摩耗性などの機械的強度が低く、更
にコロナ帯電に伴つて発生するオゾンなどによつ
て特性が劣化するという欠点がある他、毒性があ
るため環境汚染を発生する恐れがあるなどの衛生
上の問題もあつた。これらの欠点や問題を解決す
るため、近年、加工性が優れ、毒性や環境汚染な
どの衛生上の問題もない有機感光体がどんどん開
発されて普及化されている。
有機感光体には、構成の面からみると、一般
に、単層型と複層型とがある。単層型は、導電性
基体の上に、電荷発生物質と電荷伝送物質と結着
剤とからなる感光層を被覆してなる。複層型は、
導電性基体の上に、蒸着や塗布により電荷発生物
質を被覆した後、形成された電荷発生層の上に、
更に、電荷伝送物質と結着剤とからなる懸濁液を
被覆乾燥してなる。このような感光体を一旦露光
させると、電荷発生物質から電荷対が発生し、電
界の作用により、電子が導電性基体を経由して離
脱し、一方電子孔が電荷伝送物質を経由し、感光
体表面に伝達して、その負電荷を中和し、静電潜
像を形成することができる。
に、単層型と複層型とがある。単層型は、導電性
基体の上に、電荷発生物質と電荷伝送物質と結着
剤とからなる感光層を被覆してなる。複層型は、
導電性基体の上に、蒸着や塗布により電荷発生物
質を被覆した後、形成された電荷発生層の上に、
更に、電荷伝送物質と結着剤とからなる懸濁液を
被覆乾燥してなる。このような感光体を一旦露光
させると、電荷発生物質から電荷対が発生し、電
界の作用により、電子が導電性基体を経由して離
脱し、一方電子孔が電荷伝送物質を経由し、感光
体表面に伝達して、その負電荷を中和し、静電潜
像を形成することができる。
有機感光体に使われる電荷発生物質は、通常、
光導電性を有する有機顔料である。例として、ビ
スアゾ系顔料、アントラヒドロキノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料とフタロシアニン系顔料などが
あげられる。なかでも、特に、フタロシアニン系
顔料に属する銅フタロシアニンは、着色力及び耐
光性、耐熱性、耐薬品性において優れ、毒性の問
題もなく、コストも低いので、ブルー系有機顔料
としてもつとも汎用されているのが現状である。
光導電性を有する有機顔料である。例として、ビ
スアゾ系顔料、アントラヒドロキノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料とフタロシアニン系顔料などが
あげられる。なかでも、特に、フタロシアニン系
顔料に属する銅フタロシアニンは、着色力及び耐
光性、耐熱性、耐薬品性において優れ、毒性の問
題もなく、コストも低いので、ブルー系有機顔料
としてもつとも汎用されているのが現状である。
すでに知られている銅フタロシアニンは、結晶
形態からみると、α−、β−、γ−、δ−、π
−、ρ−、χ−、ε−の8種類がある。なかで
も、α−、β−とε−の3種が大量生産されて汎
用されている。特に、ε−型銅フタロシアニンは
半導体レーザのような長波長(約780nm前後)の
光に対して高吸収を示し、電子写真により現像さ
れるレーザプリンターやフアクシミリに応用でき
ると考えられるので各方面におおいて注目されて
いる。しかしながら、いままでのε−型銅フタロ
シアニンは、電荷発生物質としては感度が不足
し、露光されてから表面電位が半分に減衰するま
での需要光エネルギーが高過ぎ、感光体に応用し
た場合には潜像の電位差が不十分となり、鮮明な
複写像を形成しにくい。
形態からみると、α−、β−、γ−、δ−、π
−、ρ−、χ−、ε−の8種類がある。なかで
も、α−、β−とε−の3種が大量生産されて汎
用されている。特に、ε−型銅フタロシアニンは
半導体レーザのような長波長(約780nm前後)の
光に対して高吸収を示し、電子写真により現像さ
れるレーザプリンターやフアクシミリに応用でき
ると考えられるので各方面におおいて注目されて
いる。しかしながら、いままでのε−型銅フタロ
シアニンは、電荷発生物質としては感度が不足
し、露光されてから表面電位が半分に減衰するま
での需要光エネルギーが高過ぎ、感光体に応用し
た場合には潜像の電位差が不十分となり、鮮明な
複写像を形成しにくい。
ε−型銅フタロシアニンの表面に染料増感剤を
被覆して感度をあげる方法がある(特開昭55−
161249参照)。しかし、この方法は、赤外線波長
範囲(780nm前後)の近くにおいて感度がなく
なるように吸収波長を変動させる欠点がある。
被覆して感度をあげる方法がある(特開昭55−
161249参照)。しかし、この方法は、赤外線波長
範囲(780nm前後)の近くにおいて感度がなく
なるように吸収波長を変動させる欠点がある。
この発明は、製造方法の改善により、上記銅フ
タロシアニンを電荷発生物質としてなる感光体
を、赤外線波長範囲において、感度が高くて、電
子写真により現像されるレーザプリンターやフア
クシミリ、電子プリンターに適用する感光体とす
ることを目的とする。
タロシアニンを電荷発生物質としてなる感光体
を、赤外線波長範囲において、感度が高くて、電
子写真により現像されるレーザプリンターやフア
クシミリ、電子プリンターに適用する感光体とす
ることを目的とする。
上記の目的を達成するために、この発明は、ヨ
ウ素ガスにより処理された銅フタロシアニンを電
荷発生物質として用い、電荷伝送物質と共に、あ
るいは、それぞれに、導電性基体に被覆して感光
層を形成させる方法により、銅フタロシアニン感
光体を製造する。
ウ素ガスにより処理された銅フタロシアニンを電
荷発生物質として用い、電荷伝送物質と共に、あ
るいは、それぞれに、導電性基体に被覆して感光
層を形成させる方法により、銅フタロシアニン感
光体を製造する。
即ち、この発明の製造方法には、例として、導
電性基体に結着剤を被覆してから乾燥する結着層
形成工程と、銅フタロシアニンを結着剤に分散し
て前記結着層形成工程で形成された結着層の上に
被覆してから乾燥する電荷発生層形成工程と、ヨ
ウ素ガスにより、前記電荷発生層形成工程で形成
された電荷発生層を処理するヨウ素処理工程と、
電子孔伝送物質を結着剤に分散して、前記ヨウ素
処理工程で処理された電荷発生層の上に被覆する
電荷伝送層形成工程からなる方法があげられる。
電性基体に結着剤を被覆してから乾燥する結着層
形成工程と、銅フタロシアニンを結着剤に分散し
て前記結着層形成工程で形成された結着層の上に
被覆してから乾燥する電荷発生層形成工程と、ヨ
ウ素ガスにより、前記電荷発生層形成工程で形成
された電荷発生層を処理するヨウ素処理工程と、
電子孔伝送物質を結着剤に分散して、前記ヨウ素
処理工程で処理された電荷発生層の上に被覆する
電荷伝送層形成工程からなる方法があげられる。
銅フタロシアニンをヨウ素ガスにより処理する
ことにより、その表面にヨウ素が吸着され、もし
くは付着されることとなる。
ことにより、その表面にヨウ素が吸着され、もし
くは付着されることとなる。
このような方法により、この発明は、電荷発生
物質と電荷伝送物質を感光層として導電性基体に
被覆してなる有機感光体、特に当該電荷発生物質
として、ヨウ素ガスにより処理した銅フタロシア
ニンを用いてなる感光体を提供することができ
る。
物質と電荷伝送物質を感光層として導電性基体に
被覆してなる有機感光体、特に当該電荷発生物質
として、ヨウ素ガスにより処理した銅フタロシア
ニンを用いてなる感光体を提供することができ
る。
上記電荷発生物質としては銅フタロシアニンが
適するが、α−、β−とε−の3種を使用するの
が望ましく、特にε−型がもつとも望ましい。
適するが、α−、β−とε−の3種を使用するの
が望ましく、特にε−型がもつとも望ましい。
上記電荷伝送物質としては、いわゆる電子孔伝
送物質が望ましく、ヒドラゾン系化合物、ピラゾ
リン系化合物、オキサゾール系化合物、チアゾー
ル系化合物、トリアリルメタン系化合物などがあ
げられる。ヒドラゾン系化合物としては、p−ジ
エチルアミノベンズアルデヒド−N,N−ジフエ
ニルヒドラゾン、p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−N−α−ナフチル−N−フエニルヒドラ
ゾン、p−(1−ピロリジニル)−ベンズアルデヒ
ド−N,N−ジフエニルヒドラゾン、1,3,3
−トリメチルインドールニン−ω−アルデヒド−
N,N−ジフエニルヒドラゾン、p−ジエチルア
ミノベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾ
リノン−2−ヒドラゾンなどがある。ピラゾリン
系化合物としては、1−フエニル−3−(p−ジ
エチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフエニル)ピラゾリン、1−〔キノリル(2)〕−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジ
エチルアミノフエニル)ピラゾリン、1−〔ピリ
ジル(2)〕−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン
などがある。また、オキサゾール系化合物として
は、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジ
エチルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジ
エチルアミノフエニル)−4−(p−ジメチルアミ
ノフエニル)−5−(2−クロロフエニル)オキサ
ゾール、チアゾール系化合物としては、2−(p
−ジエチルアミノスチリル)−6−ジエチルアミ
ノベンゾチアゾール、トリアリルメタン系化合物
としては、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチ
ルフエニル)−フエニルメタンがあげられる。
送物質が望ましく、ヒドラゾン系化合物、ピラゾ
リン系化合物、オキサゾール系化合物、チアゾー
ル系化合物、トリアリルメタン系化合物などがあ
げられる。ヒドラゾン系化合物としては、p−ジ
エチルアミノベンズアルデヒド−N,N−ジフエ
ニルヒドラゾン、p−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−N−α−ナフチル−N−フエニルヒドラ
ゾン、p−(1−ピロリジニル)−ベンズアルデヒ
ド−N,N−ジフエニルヒドラゾン、1,3,3
−トリメチルインドールニン−ω−アルデヒド−
N,N−ジフエニルヒドラゾン、p−ジエチルア
ミノベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾ
リノン−2−ヒドラゾンなどがある。ピラゾリン
系化合物としては、1−フエニル−3−(p−ジ
エチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフエニル)ピラゾリン、1−〔キノリル(2)〕−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジ
エチルアミノフエニル)ピラゾリン、1−〔ピリ
ジル(2)〕−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン
などがある。また、オキサゾール系化合物として
は、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジ
エチルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジ
エチルアミノフエニル)−4−(p−ジメチルアミ
ノフエニル)−5−(2−クロロフエニル)オキサ
ゾール、チアゾール系化合物としては、2−(p
−ジエチルアミノスチリル)−6−ジエチルアミ
ノベンゾチアゾール、トリアリルメタン系化合物
としては、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチ
ルフエニル)−フエニルメタンがあげられる。
結着剤は、特に限定されず、通常使用されてい
る樹脂を適用することができる。例としては、ポ
リ(ビニルブチラール)、ポリ(ビニルアセテー
ト)、ポリエステル、ポリカボネート、フエノキ
シレジン、アクリルレジン、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロー
ス系レジン、ウレタンレジン、エポキシレジン、
カゼイン、ポリ(ビニルアルコール)などがあげ
られる。
る樹脂を適用することができる。例としては、ポ
リ(ビニルブチラール)、ポリ(ビニルアセテー
ト)、ポリエステル、ポリカボネート、フエノキ
シレジン、アクリルレジン、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロー
ス系レジン、ウレタンレジン、エポキシレジン、
カゼイン、ポリ(ビニルアルコール)などがあげ
られる。
ヨウ素処理の方法としては、密閉容器内で飽和
ヨウ素ガスにより処理する方法と、真空蒸着装置
にて処理する方法とがある。処理条件は、処理さ
れた電荷発生物質において、ヨウ素量対電荷発生
物質量の比が0.01〜1.0になるようなものであれ
ばよい。例えば、20℃〜90℃の温度において1〜
120分間処理すればよい。上記の比が0.01未満で
あると、感度になんらの改善もないが、1.0以上
になると、暗減衰特性が大き過ぎて、静電荷を十
分に吸収することができなくなる。
ヨウ素ガスにより処理する方法と、真空蒸着装置
にて処理する方法とがある。処理条件は、処理さ
れた電荷発生物質において、ヨウ素量対電荷発生
物質量の比が0.01〜1.0になるようなものであれ
ばよい。例えば、20℃〜90℃の温度において1〜
120分間処理すればよい。上記の比が0.01未満で
あると、感度になんらの改善もないが、1.0以上
になると、暗減衰特性が大き過ぎて、静電荷を十
分に吸収することができなくなる。
叙上のように、この発明に従い、ヨウ素ガスに
より処理された銅フタロシアニンを電荷発生物質
として用い、電荷伝送物質と共に、あるいは、そ
れぞれに、導電性基体に被覆して感光層を形成せ
しめる方法により、感光体の波長吸収範囲に影響
させることなく、感度をあげることができる。
より処理された銅フタロシアニンを電荷発生物質
として用い、電荷伝送物質と共に、あるいは、そ
れぞれに、導電性基体に被覆して感光層を形成せ
しめる方法により、感光体の波長吸収範囲に影響
させることなく、感度をあげることができる。
以下に、実施例をあげて、本発明をさらに説明
する。
する。
例 1
0.2mm×260mm×80mmのアルミニウム板を基体と
し、これをポリアミド樹脂のメタノール溶液(固
形分7%)に浸漬し、次いで60℃のオーブン中で
約30分間乾燥した。乾燥された樹脂結着層の厚み
は1.0g/m2であつた。
し、これをポリアミド樹脂のメタノール溶液(固
形分7%)に浸漬し、次いで60℃のオーブン中で
約30分間乾燥した。乾燥された樹脂結着層の厚み
は1.0g/m2であつた。
一方、0.22gのポリビニルブチラールを10gの
シクロヘキサノン溶剤に完全に溶解し、そして
0.22gの銅フタロシアニン(BASF製、商品名ハ
ロゲンブルーL6700)を添加した後微粉機(マツ
クロン リサーチ アソシエーテツド リミツテ
ツド製)により1時間研磨し、懸濁液をつくつ
た。
シクロヘキサノン溶剤に完全に溶解し、そして
0.22gの銅フタロシアニン(BASF製、商品名ハ
ロゲンブルーL6700)を添加した後微粉機(マツ
クロン リサーチ アソシエーテツド リミツテ
ツド製)により1時間研磨し、懸濁液をつくつ
た。
上記基体を該懸濁液に浸漬し、そして60℃のオ
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された電荷発
生層の厚みは0.3g/m2であつた。
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された電荷発
生層の厚みは0.3g/m2であつた。
次に、絶えず所定量のヨウ素ガスを導入してい
た密閉容器にて、35℃において、基体を15分間ヨ
ウ素処理した。処理された基体のヨウ素吸収量は
約7.5×10-3g/m2であつた。
た密閉容器にて、35℃において、基体を15分間ヨ
ウ素処理した。処理された基体のヨウ素吸収量は
約7.5×10-3g/m2であつた。
次に、基体を室温まで冷却した。冷却された基
体を下記の電荷伝送層組成物に浸漬した後、90℃
のオーブン中で約60分間乾燥した。乾燥された電
荷伝送層の厚みは16μmであつた。用いた電荷伝
送層組成物の成分を下記に示す。
体を下記の電荷伝送層組成物に浸漬した後、90℃
のオーブン中で約60分間乾燥した。乾燥された電
荷伝送層の厚みは16μmであつた。用いた電荷伝
送層組成物の成分を下記に示す。
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−α
−ナフチル−N−フエニルヒドラゾン 40g スチレン−MMA共重合物(日本、新日鉄化学
製、商品名MS200) 60g トルエン 330g 光導電性試験機EPA−8100(日本、川口電機
製)によつて、上記で得られた感光体の感度を測
定した。測定された需要光エネルギーは、光源を
ハロゲンランプとした場合5.4lux・secであり、
780nmのフイルターガラスでろ過された光源を
使用した場合0.1lux・secであつた。
−ナフチル−N−フエニルヒドラゾン 40g スチレン−MMA共重合物(日本、新日鉄化学
製、商品名MS200) 60g トルエン 330g 光導電性試験機EPA−8100(日本、川口電機
製)によつて、上記で得られた感光体の感度を測
定した。測定された需要光エネルギーは、光源を
ハロゲンランプとした場合5.4lux・secであり、
780nmのフイルターガラスでろ過された光源を
使用した場合0.1lux・secであつた。
例 2
例1と同様に、0.2mm×260mm×80mmのアルミニ
ウム板を基体とし、ポリアミド樹脂のメタノール
溶液(固形分7%)に浸漬し、そして60℃のオー
ブン中で約30分間乾燥した。乾された樹脂結着層
の厚みは1.0g/m2であつた。
ウム板を基体とし、ポリアミド樹脂のメタノール
溶液(固形分7%)に浸漬し、そして60℃のオー
ブン中で約30分間乾燥した。乾された樹脂結着層
の厚みは1.0g/m2であつた。
一方、0.22gのポリビニルブチラールを10gの
シクロヘキサノン溶剤に完全に溶解し、そして
0.22gの銅フタロシアニン(BASF製、商品名ハ
ロゲンブルーL6700)を添加した後微粉機(マツ
クロン リサーチ アソシエーテツド リミツテ
ツド製)により1時間研磨し、懸濁液をつくつ
た。
シクロヘキサノン溶剤に完全に溶解し、そして
0.22gの銅フタロシアニン(BASF製、商品名ハ
ロゲンブルーL6700)を添加した後微粉機(マツ
クロン リサーチ アソシエーテツド リミツテ
ツド製)により1時間研磨し、懸濁液をつくつ
た。
上記基体を該懸濁液に浸漬し、そして60℃のオ
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された電荷発
生層の厚みは0.3g/m2であつた。
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された電荷発
生層の厚みは0.3g/m2であつた。
次に、ヨウ素の飽和蒸気で満たされた密閉容器
にて、27.5℃において、基体を60分間ヨウ素処理
した。処理された基体のヨウ素吸収量は約1×
10-2g/m2であつた。
にて、27.5℃において、基体を60分間ヨウ素処理
した。処理された基体のヨウ素吸収量は約1×
10-2g/m2であつた。
次に、基体を室温まで冷却した。冷却された基
体を例1と同様な電荷伝送層組成物に浸漬した後
90℃のオーブン中で約60分間乾燥した。乾燥され
た電荷伝送層の厚みは16μmであつた。
体を例1と同様な電荷伝送層組成物に浸漬した後
90℃のオーブン中で約60分間乾燥した。乾燥され
た電荷伝送層の厚みは16μmであつた。
光導電性試験機EPA−8100(日本、川口電機
製)によつて、上記で得られた感光体の感度を測
定した。測定された需要光エネルギーは、光源を
全スペクトル光源とした場合4.5lux・secであり、
780nmの光源とした場合0.1lux・secであつた。
製)によつて、上記で得られた感光体の感度を測
定した。測定された需要光エネルギーは、光源を
全スペクトル光源とした場合4.5lux・secであり、
780nmの光源とした場合0.1lux・secであつた。
比較例 1
例1および2と同様に感光体を作成した。ただ
し、ここではヨウ素処理を行わなかつた。
し、ここではヨウ素処理を行わなかつた。
作成された感光体に対し、EPA−8100により、
感光度を測定した。測定された需要光エネルギー
は、光源を全スペクトル光源とした場合
12.0lux・secであり、780nmの光源とした場合
0.3lux・secであり、いずれも例1および例2の
それよりも遥かに高いものであつた。
感光度を測定した。測定された需要光エネルギー
は、光源を全スペクトル光源とした場合
12.0lux・secであり、780nmの光源とした場合
0.3lux・secであり、いずれも例1および例2の
それよりも遥かに高いものであつた。
例 3
直径30mm、長さ260mmのアルミニウム円筒を基
体として用い、これをポリアミド樹脂のメタノー
ル溶液(固形分7%)に浸漬し、そして60℃のオ
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された樹脂結
着層の厚みは1.0g/m2であつた。
体として用い、これをポリアミド樹脂のメタノー
ル溶液(固形分7%)に浸漬し、そして60℃のオ
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された樹脂結
着層の厚みは1.0g/m2であつた。
一方、6gのポリビニルブチラールを200gの
シクロヘキサノン溶剤に完全に溶解し、そして6
gの銅フタロシアニン(BASF製、商品名ハロゲ
ンブルーL6700)と200gのブタノンを添加した
後玉入り粉砕機により72時間分散し、懸濁液をつ
くつた。
シクロヘキサノン溶剤に完全に溶解し、そして6
gの銅フタロシアニン(BASF製、商品名ハロゲ
ンブルーL6700)と200gのブタノンを添加した
後玉入り粉砕機により72時間分散し、懸濁液をつ
くつた。
上記基体を該懸濁液に浸漬し、そして60℃のオ
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された電荷発
生層の厚みは0.3g/m2であつた。
ーブン中で約30分間乾燥した。乾燥された電荷発
生層の厚みは0.3g/m2であつた。
次に、ヨウ素の飽和蒸気で満たされた密閉容器
にて、25℃において、基体を30分間ヨウ素処理し
た。
にて、25℃において、基体を30分間ヨウ素処理し
た。
次に、基体を室温まで冷却した。冷却された基
体を例1と同様な電荷伝送層組成物に浸漬した後
90℃のオーブン中で約60分間乾燥した。乾燥され
た電荷伝送層の厚みは20μmであつた。
体を例1と同様な電荷伝送層組成物に浸漬した後
90℃のオーブン中で約60分間乾燥した。乾燥され
た電荷伝送層の厚みは20μmであつた。
上記で作成された感光体を実際にレーザープリ
ンター(キヤーノンLBP−8)に使用し、鮮
明な複写像を得た。
ンター(キヤーノンLBP−8)に使用し、鮮
明な複写像を得た。
比較例 2
例3と同様に感光体を作成した。ただし、ここ
ではヨウ素処理を行わなかつた。
ではヨウ素処理を行わなかつた。
作成された感光体を、実際にレーザープリンタ
ー(キヤーノンLBP−8)に使用し、ぼんや
りとした複写像を得た。
ー(キヤーノンLBP−8)に使用し、ぼんや
りとした複写像を得た。
上記実施例と比較例によると、この発明は、ヨ
ウ素ガスにより処理した銅フタロシアニンによる
電荷発生物質と電荷伝送物質とを導電性基体に被
覆して感光層を形成せしめる方法により、その波
長吸収範囲に影響を与えることなく、感光体の感
度を大きく向上せしめることができる。
ウ素ガスにより処理した銅フタロシアニンによる
電荷発生物質と電荷伝送物質とを導電性基体に被
覆して感光層を形成せしめる方法により、その波
長吸収範囲に影響を与えることなく、感光体の感
度を大きく向上せしめることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 感光層として、ヨウ素を吸着もしくは付着せ
しめた銅フタロシアニンによる電荷発生物質と電
荷伝送物質とを導電性基体に被覆してなる有機感
光体。 2 導電性基体に銅フタロシアニンを被覆してか
ら、この銅フタロシアニン層に、ヨウ素量対銅フ
タロシアニン量の値が0.01から0.1までになるよ
うにヨウ素を吸着もしくは付着せしめた後、銅フ
タロシアニン層の上に電子孔伝送物質を被覆して
なる銅フタロシアニン感光体。 3 アルミニウム材を基体としてポリアミド樹脂
溶液により被覆してから乾燥する結着層形成工程
と、 ポリビニルブチラール樹脂溶液にε−銅フタロ
シアニンを分散させてなる懸濁液を使用して、前
記結着層形成工程により形成された結着層の上に
被覆してから乾燥する電荷発生層形成工程と、 20℃〜90℃の温度範囲において、ヨウ素ガス雰
囲気に、前記電荷発生層形成工程により形成され
た電荷発生層を1〜120分間保持するヨウ素処理
工程と、 ヒドラゾン系化合物、ピラゾリン系化合物、オ
キサゾール系化合物、チアゾール系化合物、トリ
アリルメタン系化合物及びそれらの2種またはそ
れ以上の混合物より選ばれた電子孔伝送物質を結
着剤に分散し、前記ヨウ素処理工程で処理された
電荷発生層の上に被覆する電荷伝送層形成工程か
らなる銅フタロシアニン感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15959688A JPH0240661A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 銅フタロシアニン感光体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15959688A JPH0240661A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 銅フタロシアニン感光体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0240661A JPH0240661A (ja) | 1990-02-09 |
JPH0560865B2 true JPH0560865B2 (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=15697156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15959688A Granted JPH0240661A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 銅フタロシアニン感光体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0240661A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2529130Y2 (ja) * | 1990-11-05 | 1997-03-19 | 株式会社シマノ | 振出し竿 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6059354A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPS6127549A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-07 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPS61138956A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-26 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPS62184463A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-12 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP15959688A patent/JPH0240661A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6059354A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JPS6127549A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-07 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPS61138956A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-26 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPS62184463A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-12 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0240661A (ja) | 1990-02-09 |
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