JPH0551599A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH0551599A JPH0551599A JP3238954A JP23895491A JPH0551599A JP H0551599 A JPH0551599 A JP H0551599A JP 3238954 A JP3238954 A JP 3238954A JP 23895491 A JP23895491 A JP 23895491A JP H0551599 A JPH0551599 A JP H0551599A
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- glycol
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 フロン、フロロカーボン系洗浄剤に代替し得
る有用な洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 少なくともポリアルキレンフェニルエーテ
ル、アセチレングリコール又は／及びこれらのアルキレ
ンオキサイド付加物、グリコールエーテル及び水を含有
する水系の洗浄剤組成物である。非危険物であるため取
扱いが容易である事、水希釈後も高い洗浄性を維持する
事、廃油分の回収が容易である事、低起泡性である事等
の特徴を有し、広い洗浄方式に適用できるものである。
る有用な洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 少なくともポリアルキレンフェニルエーテ
ル、アセチレングリコール又は／及びこれらのアルキレ
ンオキサイド付加物、グリコールエーテル及び水を含有
する水系の洗浄剤組成物である。非危険物であるため取
扱いが容易である事、水希釈後も高い洗浄性を維持する
事、廃油分の回収が容易である事、低起泡性である事等
の特徴を有し、広い洗浄方式に適用できるものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフロン系、塩素系洗浄剤
に代替し、プリント基盤、精密金属部品等の洗浄に有用
な洗浄剤組成物に関する。
に代替し、プリント基盤、精密金属部品等の洗浄に有用
な洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来洗浄剤、特に機械・器具等の工業用
の洗浄剤としてクロロフルオロエタン系化合物（フロ
ン）及びトリクロロエタン、トリクロロエチレンなどの
塩素系溶剤が広く使用されている。これらの溶剤は油
脂、グリース、ワックスなどを溶解するという選択的溶
解性がある上に、不燃性という極めて優れた特徴を有す
る。
の洗浄剤としてクロロフルオロエタン系化合物（フロ
ン）及びトリクロロエタン、トリクロロエチレンなどの
塩素系溶剤が広く使用されている。これらの溶剤は油
脂、グリース、ワックスなどを溶解するという選択的溶
解性がある上に、不燃性という極めて優れた特徴を有す
る。
【０００３】しかしながら近年、フロン１１３などの何
種かのフロン及び１，１，１−トリクロロエタンのよう
な塩素系溶剤はオゾン層破壊という世界的な環境問題の
点から製造、使用の停止或いはその使用が国際的に問わ
れている。そこでこれらにかわり、アルコール系、テル
ペン系、炭化水素系等の洗浄剤が検討されているが、洗
浄力が不充分、引火性がある、プラスチックを侵し易
い、発泡性が高い、廃水処理が複雑である等の問題点が
ある。又、疎水性溶剤と水を水溶性溶剤の仲介により共
溶させて非危険物化した洗浄剤が提案されているが（特
開平2-294093号公報）、均一な洗浄剤となりにくく、界
面活性剤を利用して均一化するにしても低ＨＬＢの界面
活性剤では均一化し難く、発泡性が問題になる等、満足
できる洗浄剤は未だ得られていない。
種かのフロン及び１，１，１−トリクロロエタンのよう
な塩素系溶剤はオゾン層破壊という世界的な環境問題の
点から製造、使用の停止或いはその使用が国際的に問わ
れている。そこでこれらにかわり、アルコール系、テル
ペン系、炭化水素系等の洗浄剤が検討されているが、洗
浄力が不充分、引火性がある、プラスチックを侵し易
い、発泡性が高い、廃水処理が複雑である等の問題点が
ある。又、疎水性溶剤と水を水溶性溶剤の仲介により共
溶させて非危険物化した洗浄剤が提案されているが（特
開平2-294093号公報）、均一な洗浄剤となりにくく、界
面活性剤を利用して均一化するにしても低ＨＬＢの界面
活性剤では均一化し難く、発泡性が問題になる等、満足
できる洗浄剤は未だ得られていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記フ
ロン及び塩素系溶剤に替わり、優れた洗浄力を有し、引
火性がなく、低起泡性で、廃水処理が容易で且つ環境内
に問題のない洗浄剤を提供するものである。
ロン及び塩素系溶剤に替わり、優れた洗浄力を有し、引
火性がなく、低起泡性で、廃水処理が容易で且つ環境内
に問題のない洗浄剤を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の如き
技術の現状に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、水溶性のグ
リコールエーテル系溶剤と水の溶解性の比較的低いグリ
コールフェニルエーテル系溶剤を一定の割合で併用して
使用すると、水を加えて非引火性にした場合でも極めて
良好な洗浄性を有し且つ水で希釈すると洗浄剤が水を分
離する為、廃水処理が容易になること、更にこの系にア
セチレングリコール又はそれに炭素数２〜３のアルキレ
ンオキサイドを付加した非イオン界面活性剤を使用する
と著しく低起泡性になることを見出し本発明を完成する
に至った。
技術の現状に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、水溶性のグ
リコールエーテル系溶剤と水の溶解性の比較的低いグリ
コールフェニルエーテル系溶剤を一定の割合で併用して
使用すると、水を加えて非引火性にした場合でも極めて
良好な洗浄性を有し且つ水で希釈すると洗浄剤が水を分
離する為、廃水処理が容易になること、更にこの系にア
セチレングリコール又はそれに炭素数２〜３のアルキレ
ンオキサイドを付加した非イオン界面活性剤を使用する
と著しく低起泡性になることを見出し本発明を完成する
に至った。
【０００６】即ち、本発明は少なくとも下記のＡ〜Ｄを
含有する非引火性でプリント基板、ハンダフラックス、
ソルダーペースト及び各種の油脂に対し極めて高い洗浄
力を示し、且つ低起泡性である洗浄剤組成物に関する。 Ａ）ポリ・エチレン及び／又はプロピレン・グリコールモノフェニルエーテル系 溶剤（アルキレンオキサイド付加モル数１〜２モル） ５〜６０重量％ Ｂ）下記の（１）式に示すアセチレングリコール又は／及びそのエチレン及び／ 又はプロピレンオキサイド付加物（付加モル数１〜５０モル）0.５〜10重量％ Ｃ）グリコールエーテル系溶剤 ５〜３０重量％ Ｄ）水 ５〜５０重量％ ＊アセチレングリコールの構造式
含有する非引火性でプリント基板、ハンダフラックス、
ソルダーペースト及び各種の油脂に対し極めて高い洗浄
力を示し、且つ低起泡性である洗浄剤組成物に関する。 Ａ）ポリ・エチレン及び／又はプロピレン・グリコールモノフェニルエーテル系 溶剤（アルキレンオキサイド付加モル数１〜２モル） ５〜６０重量％ Ｂ）下記の（１）式に示すアセチレングリコール又は／及びそのエチレン及び／ 又はプロピレンオキサイド付加物（付加モル数１〜５０モル）0.５〜10重量％ Ｃ）グリコールエーテル系溶剤 ５〜３０重量％ Ｄ）水 ５〜５０重量％ ＊アセチレングリコールの構造式
【化１】
【０００７】本発明の第１の特徴はフェノールにアルキ
レンオキサイド（酸化エチレンもしくは酸化プロピレン
又は両者の混合物）を１〜２モル付加した水の溶解度の
比較的小さいポリアルキレングリコールフェニルエーテ
ル系溶剤と水に完全に溶解するグリコールエーテル系溶
剤とを併用し、更に水を加えることにより非危険物化
し、極めて高い洗浄力を発揮させることにある。ここ
で、水への溶解度の比較的低いポリアルキレングリコー
ルフェニルエーテル系溶剤単独と水を混合した場合には
均一な組成が得られないか或は均一になる程度の水の量
では非危険物化されない。又、逆に水に完全に溶解する
グリコールエーテル系溶剤と水を混合すると均一で非引
火性の洗浄剤は得られるが油性汚れの洗浄性が著しく低
下する。従って両系統の溶剤を混合することが重要であ
り、更に、両溶剤を混合使用した場合にこれを水に希釈
して洗浄する場合には油層／水層が分離し、廃水処理が
極めて容易となる。
レンオキサイド（酸化エチレンもしくは酸化プロピレン
又は両者の混合物）を１〜２モル付加した水の溶解度の
比較的小さいポリアルキレングリコールフェニルエーテ
ル系溶剤と水に完全に溶解するグリコールエーテル系溶
剤とを併用し、更に水を加えることにより非危険物化
し、極めて高い洗浄力を発揮させることにある。ここ
で、水への溶解度の比較的低いポリアルキレングリコー
ルフェニルエーテル系溶剤単独と水を混合した場合には
均一な組成が得られないか或は均一になる程度の水の量
では非危険物化されない。又、逆に水に完全に溶解する
グリコールエーテル系溶剤と水を混合すると均一で非引
火性の洗浄剤は得られるが油性汚れの洗浄性が著しく低
下する。従って両系統の溶剤を混合することが重要であ
り、更に、両溶剤を混合使用した場合にこれを水に希釈
して洗浄する場合には油層／水層が分離し、廃水処理が
極めて容易となる。
【０００８】本発明において用いられるグリコールエー
テル系溶剤としてはポリエチレングリコール又はポリプ
ロピレングリコールのモノ又はジアルキルエーテルであ
り、具体的にはエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメ
チルエーテル等である。
テル系溶剤としてはポリエチレングリコール又はポリプ
ロピレングリコールのモノ又はジアルキルエーテルであ
り、具体的にはエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメ
チルエーテル等である。
【０００９】これらのグリコールエーテル系溶剤の使用
量は５〜−３０重量％であり、更に好ましくは５〜２０
重量％である。５重量％未満では水を混合したときに均
一組成になりにくく、３０重量％を越えると洗浄力が低
下する。
量は５〜−３０重量％であり、更に好ましくは５〜２０
重量％である。５重量％未満では水を混合したときに均
一組成になりにくく、３０重量％を越えると洗浄力が低
下する。
【００１０】又、本発明における水に溶けにくいポリア
ルキレングリコールモノフェニルエーテルとしては例え
ばエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノフェニルエーテル等があげられ、アルキレンオキサイ
ドの付加モル数は１〜２モルである。その使用量は５〜
６０重量％、好ましくは２０〜５０重量％である。５重
量％未満では洗浄力が低下し、６０重量％を越えると水
を加えて非危険物化したときに均一になりにくい。
ルキレングリコールモノフェニルエーテルとしては例え
ばエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモ
ノフェニルエーテル等があげられ、アルキレンオキサイ
ドの付加モル数は１〜２モルである。その使用量は５〜
６０重量％、好ましくは２０〜５０重量％である。５重
量％未満では洗浄力が低下し、６０重量％を越えると水
を加えて非危険物化したときに均一になりにくい。
【００１１】ポリアルキレングリコールモノフェニルエ
ーテルの使用割合は親水性のグリコールエーテル系溶剤
に対し１〜１０倍程度であり、特に1.５〜５倍が好まし
い。水に溶けにくい溶剤の割合が高くなると均一になり
難く、逆に親水性溶剤の割合が高くなると洗浄力が低下
する。又、アルカノールアミンは洗浄性を高める効果が
あるので併用してもかまわない。しかし、２０重量％よ
り多く加えても効果は変わらない。
ーテルの使用割合は親水性のグリコールエーテル系溶剤
に対し１〜１０倍程度であり、特に1.５〜５倍が好まし
い。水に溶けにくい溶剤の割合が高くなると均一になり
難く、逆に親水性溶剤の割合が高くなると洗浄力が低下
する。又、アルカノールアミンは洗浄性を高める効果が
あるので併用してもかまわない。しかし、２０重量％よ
り多く加えても効果は変わらない。
【００１２】本発明の第２の特徴はアセチレングリコー
ル系の非イオン活性剤を併用することにある。このこと
により、洗浄液は極めて低起泡性になり、浸漬、超音波
洗浄等各種洗浄方式に加えてスプレー方式にも対応可能
となる。その使用量は0.５〜１０重量％であり、更に好
ましくは３〜１０重量％である。0.５重量％未満では浸
透力、洗浄力が低下し、１０重量％より多く使用しても
洗浄力はそれほど上昇せず、価格的に不利になる。この
際、低起泡性を侵さない限り他の非イオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤を混合して使用することも可
能である。
ル系の非イオン活性剤を併用することにある。このこと
により、洗浄液は極めて低起泡性になり、浸漬、超音波
洗浄等各種洗浄方式に加えてスプレー方式にも対応可能
となる。その使用量は0.５〜１０重量％であり、更に好
ましくは３〜１０重量％である。0.５重量％未満では浸
透力、洗浄力が低下し、１０重量％より多く使用しても
洗浄力はそれほど上昇せず、価格的に不利になる。この
際、低起泡性を侵さない限り他の非イオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤を混合して使用することも可
能である。
【００１３】
【実施例】以下に本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 実施例１ 下記の成分をフラスコにとり５０℃で３０分間撹拌して
洗浄剤組成物を得た。 モノエチレングリコールフェニルエーテル ４０重量部 ジエチレングリコールモノブチルエーテル ２５ 〃 ジエタノールアミン １０ 〃 活性剤 ＊ ５ 〃 水 ２０ 〃 ＊：表１の脚注＊４に示す構造式を有する化合物 実施例２〜８ 表１に示す実施例２〜８の組成物を実施例１と同様にし
て得た。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 実施例１ 下記の成分をフラスコにとり５０℃で３０分間撹拌して
洗浄剤組成物を得た。 モノエチレングリコールフェニルエーテル ４０重量部 ジエチレングリコールモノブチルエーテル ２５ 〃 ジエタノールアミン １０ 〃 活性剤 ＊ ５ 〃 水 ２０ 〃 ＊：表１の脚注＊４に示す構造式を有する化合物 実施例２〜８ 表１に示す実施例２〜８の組成物を実施例１と同様にし
て得た。
【００１４】比較例 表１に示す比較例１〜７の組成物を得、実施例と同様な
実験を行った。 試験結果 表−２に洗浄性、発泡性、表−３にプラスチック安定性
の評価結果をそれぞれ示した。
実験を行った。 試験結果 表−２に洗浄性、発泡性、表−３にプラスチック安定性
の評価結果をそれぞれ示した。
【００１５】評価方法 洗浄性及び発泡性 ソルダーペーストでハンダ付けしたプリント基板表面を
本発明の洗浄剤で以下の方法により評価した。
本発明の洗浄剤で以下の方法により評価した。
【００１６】・プリント基板のハンダ付け処理 4.５×7.０cmのサンハヤト製プリント基板ＩＣＢ−８６
Ｇに（株）日本フィラーメタルズ製ソルダーペーストＣ
Ｓ６３Ｓを塗工し、２５０℃で１０秒間ハンダ付けし
た。
Ｇに（株）日本フィラーメタルズ製ソルダーペーストＣ
Ｓ６３Ｓを塗工し、２５０℃で１０秒間ハンダ付けし
た。
【００１７】・洗浄条件 洗浄剤５０ｇを水１５０ｇで希釈した後、２００mlのビ
ーカーに入れ、６０℃に加温した。所定のスピードで撹
拌しながら上記のプリント基板を５分間浸漬した。次に
２００mlの常温の水に１分間浸漬した後、プリント基板
の表面の洗浄状態を目視とイオン性残渣により判定し
た。
ーカーに入れ、６０℃に加温した。所定のスピードで撹
拌しながら上記のプリント基板を５分間浸漬した。次に
２００mlの常温の水に１分間浸漬した後、プリント基板
の表面の洗浄状態を目視とイオン性残渣により判定し
た。
【００１８】プラスチック安定性 洗浄剤１重量部、水３重量部を混合した洗浄液に各種プ
ラスチックのテスト片を６０℃で１０分間浸漬したのち
水洗、乾燥し、処理後の重量変化を測定し、外観の変化
を目視により観察した。
ラスチックのテスト片を６０℃で１０分間浸漬したのち
水洗、乾燥し、処理後の重量変化を測定し、外観の変化
を目視により観察した。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
【表３】
【００２２】
１）本発明の洗浄剤組成物はフラックス、油脂、グリー
ス、ワックスに対する洗浄力が優れている一方でプラス
チック、ゴムなどの高分子材料に対する侵食性が小さ
い。 ２）非危険性があるため取扱いが容易である。 ３）低起泡性であるため連続、バッチのどちらの形態に
おいても、更に、スプレー、浸漬、超音波など広い洗浄
方式に使用可能である。 ４）油層、水層が分離するため廃油分の回収が極めて容
易である。
ス、ワックスに対する洗浄力が優れている一方でプラス
チック、ゴムなどの高分子材料に対する侵食性が小さ
い。 ２）非危険性があるため取扱いが容易である。 ３）低起泡性であるため連続、バッチのどちらの形態に
おいても、更に、スプレー、浸漬、超音波など広い洗浄
方式に使用可能である。 ４）油層、水層が分離するため廃油分の回収が極めて容
易である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 博司 神奈川県川崎市川崎区夜光１丁目３番１号 旭化成工業株式会社内 (72)発明者 村本 郁夫 神奈川県川崎市川崎区夜光１丁目３番１号 旭化成工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくとも下記のＡ、Ｂ、ＣおよびＤを
含有する洗浄剤組成物。 Ａ）ポリ（１〜２）アルキレン（炭素数２〜３）グリコールモノフェニルエーテ ル系溶剤 ５〜６０重量％ Ｂ）下記（１）式に示すアセチレングリコール又は／及びそのアルキレン（炭素 数２〜３）オキサイド付加物（付加モル数１〜５０モル） 0.５〜１０重量％ Ｃ）グリコールエーテル系溶剤 ５〜３０重量％ Ｄ）水 ５〜５０重量％ アセチレングリコールの構造式 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3238954A JPH0551599A (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3238954A JPH0551599A (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0551599A true JPH0551599A (ja) | 1993-03-02 |
Family
ID=17037767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3238954A Withdrawn JPH0551599A (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0551599A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5610132A (en) * | 1994-06-24 | 1997-03-11 | Tokuyama Corporation | Cleaning agent for removing fats and oils from metal surfaces |
| US5954891A (en) * | 1997-01-09 | 1999-09-21 | Kao Corporation | Detergent composition for removing resinous stains |
| WO2004113461A1 (en) * | 2003-06-20 | 2004-12-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Concentrate composition and process for removing coatings from surfaces such as paint application equipment |
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| JP2008266649A (ja) * | 2008-05-13 | 2008-11-06 | Daishin Kagaku Kk | 水性塗料の洗浄剤 |
| JP2010229616A (ja) * | 2010-04-05 | 2010-10-14 | Nisshin Chem Ind Co Ltd | レジスト用洗浄剤 |
| JP2014122416A (ja) * | 2012-12-20 | 2014-07-03 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | フォトソルダーレジスト前処理用脱脂剤及びこれを用いた脱脂方法 |
| JP2015113379A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
| WO2018124120A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 花王株式会社 | 水系インク用の洗浄液 |
| JP2019052277A (ja) * | 2017-09-19 | 2019-04-04 | 荒川化学工業株式会社 | 洗浄剤組成物原液、及び該洗浄剤組成物原液を含む洗浄剤組成物 |
-
1991
- 1991-08-27 JP JP3238954A patent/JPH0551599A/ja not_active Withdrawn
Cited By (14)
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