JPH0551459A - 有機ケイ素重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 一般式（Ｍｅ₂ＲＳｉＯ_1/2）m（ＳｉＯ_4/2）
n （式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｒは炭素原子数が２
個以上の置換または非置換の１価炭化水素基であり、ｍ
／ｎは ０.２〜４である。）で表される有機ケイ素重合
体を効率よく製造する方法を提供するにある。 【構成】 一般式 (ａ) （Ｍｅ₂ＲＳｉ）₂Ｏ（式中、Ｍ
ｅとＲは前記と同じである。）で表されるジシロキサン
と、アルキルシリケ−トまたはアルキルシリケ−トの部
分加水分解物との混合物を、プロトン酸系強酸触媒を加
えて反応させ、しかる後、該反応混合物に塩酸水を滴下
することにより、該反応混合物中に残存するアルコキシ
基を減少させることを特徴とする、一般式(ｂ)（Ｍｅ₂
ＲＳｉＯ_1/2）m（ＳｉＯ_4/2）n （式中、ＭｅとＲは前
記と同じであり、ｍ／ｎは ０.２〜４である。）で表さ
れる有機ケイ素重合体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は１官能性シロキサン単位
である（ＣＨ₃）₂ＲＳｉＯ_1/2単位と４官能性シロキサ
ン単位であるＳｉＯ_4/2単位からなる有機ケイ素重合体
の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術とその問題点】１官能性シロキサン単位と４
官能性シロキサン単位からなる有機ケイ素重合体は、古
くから知られており多くの分野で使用されている。通
常、かかる有機ケイ素重合体は、１官能性シロキサン単
位の出発原料として加水分解性のシランあるいはジシロ
キサンを使用し、４官能性シロキサン単位の出発原料と
して、珪酸塩やアルキルシリケ−トを使用し、これらを
共加水分解することにより製造されてきた。１官能性シ
ロキサン単位の出発原料としてジシロキサンを使用する
方法は平均分子量を自由にコントロールでき、しかも狭
い平均分子量分布を有する有機ケイ素重合体を製造する
ことができるので有力とされている。

【０００３】かかるジシロキサンを使用する方法として
は、例えば、ヘキサメチルジシロキサン等のアルキルジ
シロキサンと濃塩酸と水とエタノールの混合物にテトラ
エトキシシラン等のアルキルシリケートを滴下する方法
が提案されている（特開昭６１−１９５１２９号公報参
照）。ところがこの方法においては、炭素原子数２個以
上の１価炭化水素基を有するジシロキサンを出発原料と
して用いた場合には、有機溶剤に不溶のゲル物が発生し
易く、それに伴い濾過性が大幅に低下するなどの問題が
あった。

【０００４】そこで、本発明者らはかかる問題点を克服
すべく鋭意研究した結果本発明に到達した。すなわち、
本発明の目的は、炭素原子数２個以上の１価炭化水素基
を有するジシロキサンと、アルキルシリケ−トまたはそ
の部分加水分解物との混合物を出発物質に使用し、１官
能性シロキサン単位と４官能性シロキサン単位からなる
有機ケイ素重合体を効率よく製造できる方法を提供する
ことにある。

【０００５】

【問題点の解決手段とその作用】本発明は、一般式
(ａ) （Ｍｅ₂ＲＳｉ）₂Ｏ（式中、Ｍｅはメチル基であ
り、Ｒは炭素原子数が２個以上の置換または非置換の１
価炭化水素基である。）で表されるジシロキサンと、ア
ルキルシリケ−トまたはアルキルシリケ−トの部分加水
分解物との混合物を、プロトン酸系強酸触媒を加えて反
応させ、しかる後、該反応混合物に塩酸水を滴下するこ
とにより、該反応混合物中に残存するアルコキシ基を減
少させることを特徴とする、一般式(ｂ) （Ｍｅ₂ＲＳｉ
Ｏ_1/2）m（ＳｉＯ_4/2）n（式中、ＭｅとＲは前記と同じ
であり、ｍ／ｎは ０.２〜４である。）で表される有機
ケイ素重合体の製造方法に関する。

【０００６】これを説明すると、一般式 (ａ) （Ｍｅ₂
ＲＳｉ）₂Ｏで表されるジシロキサンは、上式中Ｒが、
エチル基，プロピル基，ブチル基などのアルキル基；シ
クロヘキシル基などのシクロアルキル基；ビニル基，ア
リル基，ヘキセニル基などのアルケニル基；フェニル
基，キシリル基などのアリ−ル基；フェニルエチル基な
どのアラルキル基；３−クロロプロピル基，３,３,３−
トリフルオロプロピル基などで例示される置換または非
置換の１価炭化水素基であり、これらのジシロキサンは
単独で用いても必要に応じて、２種以上のジシロキサン
を用いても良い。

【０００７】アルキルシリケ−トまたはアルキルシリケ
−トの部分加水分解物としては、オルトメチルシリケ−
ト，ポリメチルシリケ−ト，オルトエチルシリケ−ト，
ポリエチルシリケ−ト，オルトプロピルシリケ−ト，ポ
リプロピルシリケ−トなどのアルキルシリケートおよび
これらの部分加水分解物が挙げられる。

【０００８】プロトン酸系強酸触媒としては、硫酸，ト
リフルオロメタンスルホン酸，クロロスルホン酸，トリ
クロロ酢酸，トリフルオロ酢酸，ｐ−トルエンスルホン
酸，燐酸，硝酸等が挙げられる。

【０００９】本発明の製造方法は、第１段階として上記
一般式(ａ)で表されるジシロキサンと、アルキルシリケ
−トまたはアルキルシリケ−トの部分加水分解物との混
合物を、プロトン酸系強酸触媒を加えて反応させること
によってなされるが、このジシロキサンとアルキルシリ
ケ−トまたはアルキルシリケ−トの部分加水分解物との
混合比は、一般式 (ｂ)（Ｍｅ₂ＲＳｉＯ_1/2）m（ＳｉＯ
_4/2）nで表される有機ケイ素化合物の１官能性シロキサ
ン単位と４官能性シロキサン単位の比率であるｍ／ｎ
が、０.２〜４となるような値である。

【００１０】プロトン酸系強酸触媒の添加量は、一般式
(ａ)で表される有機ケイ素化合物とアルキルシリケ−ト
またはアルキルシリケ−トの部分加水分解物との合計量
１００重量部に対して、０.００５〜５０重量部、好ま
しくは、０.０１５〜１０重量部の範囲である。

【００１１】反応温度は０℃から１８０℃までの範囲で
行なわれる。好ましくは、室温から１００℃までの温度
範囲である。反応時間は反応温度にもよるが、通常、３
０分から３日までの範囲である。

【００１２】反応時間は、詳しくは、上記一般式(ａ)で
表されるジシロキサンの量の減少を、クロマトグラフィ
−などの分析手段により追跡することにより決定され
る。この反応により、一般式(ａ)で表される有機ケイ素
化合物の一部は、（ＣＨ₃）₂ＲＳｉＯＲ¹（Ｒは前記と
同じであり、Ｒ¹はアルキルシリケ−ト中のアルキル基
である。）で表されるシランに分解され、他方は、（Ｃ
Ｈ₃）₂ＲＳｉＯ（Ｒは前記と同じである。）という単位
でアルキルシリケ−ト中にすでに取り込まれる。

【００１３】この際、一般式(ａ)で表されるジシロキサ
ンとアルキルシリケ−トまたはアルキルシリケ−トの部
分加水分解物との混合物中に、希釈剤として反応には直
接関与しない有機溶剤を加えることができる。それらの
有機溶剤としては、例えば、ベンゼン，トルエン，キシ
レン等の芳香系炭化水素；ヘキサン，ヘプタン等のアル
カン，ジエチルエ−テル，テトラヒドロフラン等のエ−
テル類；アセトン，メチルイソブチルケトン等のケトン
類；１,１,２−トリクロロトリフルオロエタン，１,１,
１−トリクロロエタン，ジクロロメタン，α,α,α−ト
リフルオロトルエン，ヘキサフルオロキシレン等のハロ
ゲン化炭化水素，メタノ−ル，エタノ−ル，イソプロパ
ノ−ル等のアルコ−ル類などが挙げられる。

【００１４】本発明においては、引き続いて、第２段階
としてこの混合物に塩酸水を滴下するのであるが、この
塩酸水溶液は、塩化水素を５重量％以上含むことが好ま
しく、１０重量％以上の塩化水素を含む塩酸水溶液を用
いるのがよい。この塩酸水溶液の量は、塩酸水溶液中に
含まれる水の量が、前述のアルキルシリケ−トまたはア
ルキルシリケ−トの部分加水分解物に含まれる全てのア
ルコキシ基を加水分解するのに十分な量であればよい
が、それ以上の量を用いてもよい。滴下時の温度は、０
℃〜１００℃の範囲が好ましいが、第１段階で設定した
温度をそのまま継続するのが便利である。

【００１５】なお、第１段階の終了後、第２段階として
塩酸水溶液の滴下に先立って、他の１官能性シロキサン
単位の原料となる、Ｒ² ₃ＳｉＸ(Ｒ²は、１価炭化水素
基、Ｘは、ハロゲン原子またはアルコキシ基等であ
る。）で表される加水分解性のアルキルシランを添加し
ても良い。

【００１６】以上のようにして、一般式(ｂ)（Ｍｅ₂Ｒ
ＳｉＯ_1/2）m（ＳｉＯ_4/2）n （式中、ＭｅとＲとｍ／
ｎは前記と同じである。）で表される有機ケイ素重合体
を製造することができるのであるが、この有機ケイ素重
合体を得た後は、有機層を水層と分離し、有機層の中
和、水洗を行ない、有機溶剤との共沸による脱水を行な
い、必要であれば有機溶剤を除去して、目的とする有機
ケイ素重合体を単離すればよい。

【００１７】

【実施例】次に、本発明を実施例によって説明する。実
施例中、Ｍｅはメチル基，Ｅｔはエチル基を示す。

【００１８】

【実施例１】式：（ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂Ｓｉ）₂Ｏ
で示されるジシロキサン１１.９ｇ（０.０４モル），テ
トラエトキシシラン ４１.６ｇ（０.２モル），トルエ
ン２０ｇおよびトリフルオロメタンスルホン酸 ０.０３
ｇをフラスコに入れ攪拌しながら６５℃で５時間反応さ
せた。反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析
したところ、式:（ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂Ｓｉ）₂Ｏで
示されるジシロキサンのほとんどが消失していた。続い
て、６０℃でこの反応系に水１０.１ｇと３６％の塩酸
水溶液６.８ｇの混合物を３０分間かけて滴下した。滴
下終了後、さらに７２℃で６時間攪拌を続けた。次い
で、冷却しトルエン５０ｇを加えて、水層を分離後、有
機層を中性になるまで水洗した。次いで、水分分離管の
ついたフラスコに移して加熱し、還流温度で脱水した。
冷却後、溶媒を除去すると淡黄色透明のオイル状物 １
４.３ｇが得られた。このオイル状物の分析結果は以下
の通りであった。²⁹ ＳｉＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３（０.３３Ｓｉ，ｂｒ，ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂Ｓ
ｉＯ_1/2） −１００（０.１９Ｓｉ，ｂｒ，ＲＯＳｉＯ_3/2） −１１０（０.４８Ｓｉ，ｂｒ，ＳｉＯ_4/2） （ＲはＣＨ₃ＣＨ₂ または Ｈである。）¹³ ＣＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３９（１.００Ｃ，ｓ，＝ＣＨ−） １１５（０.９４Ｃ，ｓ，ＣＨ₂＝） ５９（１.５４Ｃ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＣＨ₃） ３４（１.００Ｃ，ｓ，Ｓｉ（ＣＨ₂）₃ ＣＨ₂−） ３３（１.０６Ｃ，ｓ，Ｓｉ（ＣＨ₂）₂ ＣＨ₂−） ２３（０.９０Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂ ＣＨ₂−） １８（２.５６Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂−または−ＯＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₃） ０（１.１２Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₃） ＧＰＣ（ゲルパーミェーションクロマトグラフィー） Ｍｗ（重量平均分子量）＝１.５×１０⁴ Ｍｎ（数平均分子量）＝４.１×１０³ 得られたヘキセニル基含有シリコーンレジンは、末端に
残存水酸基，エトキシ基を有し、平均単位式：（ＣＨ₂
＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂ＳｉＯ_1/2）_0.49（ＳｉＯ_4/2）_1.0で
示される化学構造を有する有機ケイ素重合体であること
が判明した。

【００１９】

【実施例２】実施例１で得られたヘキセニル基含有レジ
ン１４.３ｇにトルエン１４.３ｇを加え、次いで、式：
（Ｍｅ₃Ｓｉ）₂ＮＨ３.２ｇ（０.０２モル）を加え、６
時間加熱還流した。冷却後、５０ｇの水で１回洗浄し、
塩酸水で中和し、その後水で洗浄を繰り返した。次い
で、水分分離管を用いて加熱還流，脱水しさらに溶媒を
留去したところ１５.１ｇの淡黄色オイル状物が得られ
た。このオイル状物の分析結果は以下の通りであった。²⁹ ＳｉＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３（０.４１Ｓｉ，ｂｒ，Ｒ¹Ｍｅ₂ＳｉＯ_1/2） −１００（０.１１Ｓｉ，ｂｒ，ＲＯＳｉＯ_3/2） −１１０（０.４８Ｓｉ，ｂｒ，ＳｉＯ_4/2） （ＲはＣＨ₃ＣＨ₂ または Ｈである。 Ｒ¹はＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＨ₂）₄ または Ｍｅである。）¹³ ＣＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３９（１.００Ｃ，ｓ，＝ＣＨ−） １１５（１.００Ｃ，ｓ，ＣＨ₂＝） ５９（０.２５Ｃ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＣＨ₃） ３４（１.０６Ｃ，ｓ，Ｓｉ（ＣＨ₂）₃ ＣＨ₂−） ３３（１.０６Ｃ，ｓ，Ｓｉ（ＣＨ₂）₂ ＣＨ₂−） ２３（０.９４Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂ ＣＨ₂−） １８（１.２８Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂−または−ＯＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₃） ０（３.５６Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₃） ＧＰＣ（ゲルパーミェーションクロマトグラフィー） Ｍｗ（重量平均分子量）＝８.２×１０³ Ｍｎ（数平均分子量）＝４.０×１０³ 得られたヘキセニル基含有シリコーンレジンは、末端に
残存水酸基，エトキシ基を有し、平均単位式：（ＣＨ₂
＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂ＳｉＯ_1/2）_0.48（Ｍｅ₃ＳｉＯ_1/2）
_0.22（ＳｉＯ_4/2）_1.0 で示される化学構造を有する有
機ケイ素重合体であることが判明した。

【００２０】

【比較例１】特開昭６１−１９５１２９号公報に開示さ
れたの方法に従って、式:（ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂Ｓ
ｉ）₂Ｏで表されるジシロキサン６.７１ｇ（０.０２２
５モル），トルエン４ｇ，エタノ−ル２ｇ，アセトン２
ｇおよび１２Ｎ塩酸８ｇの混合物を７６℃で加熱撹拌し
ながら、エチルシリケート２０.８ｇ（０.１モル）を滴
下して、（ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂ＳｉＯ_0.5）
_0.45（ＳｉＯ₂）₁ で表される化学構造の有機ケイ素重
合体の合成を試みた。しかし、エチルシリケート滴下途
中で、ゲル状物がが発生した。このゲル状物は、これに
有機溶剤を加えても溶解しなかった。

【００２１】

【実施例３】式：（ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｍｅ₂Ｓｉ）₂Ｏで
示されるジシロキサン６.５２ｇ（０.０２モル），テト
ラエトキシシラン２０.８ｇ（０.１モル）および有機溶
剤としてα,α,α−トリフルオロトルエン １２.０ｇお
よびトリフルオロメタンスルホン酸０.０２ｇをフラス
コへ入れ攪拌しながら６５℃で５時間反応させた。次い
で、この反応系に水１０.１ｇと３６％の塩酸水溶液６.
８ｇの混合物を６５℃で３０分間かけて滴下した。滴下
終了後、さらに７７℃で３０分間加熱混合した。冷却
後、水層を分離し、有機層を中性になるまで水洗した。
次いで、水分分離管のついたフラスコに移して加熱し、
還流温度で脱水した。冷却後、溶媒を除去すると室温で
固体の白色固体１３.９ｇが得られた。得られた白色固
体はテトラヒドロフラン，アセトン，メチルイソブチル
ケトン，α,α,α−トリフルオロトルエン等の有機溶媒
に可溶であった。また、この白色固体の分析結果は以下
の通りであった。²⁹ ＳｉＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３（０.３０Ｓｉ，ｂｒ，ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｍｅ₂Ｓｉ
_1/2） −１００（０.２５Ｓｉ，ｂｒ，ＲＯＳｉＯ_3/2） −１１０（０.４５Ｓｉ，ｂｒ，ＳｉＯ_4/2） （ＲはＣＨ₃ＣＨ₂ または Ｈである。）¹³ ＣＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １２８（３.８１Ｃ，ｑ，−ＣＦ₃） ５９（０.９１Ｃ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＣＨ₃） ２８（４.２０Ｃ，ｓ，−ＳｉＣＨ₂ ＣＨ₂ＣＦ₃） １８（１.００Ｃ，ｓ，−ＯＣＨ₂ ＣＨ₃） １０（４.０６Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂−） ０（８.１６Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₃） ＧＰＣ（ゲルパーミェーションクロマトグラフィー） Ｍｗ（重量平均分子量）＝８.０×１０³ Ｍｎ（数平均分子量）＝６.２×１０³ 得られたトリフルオロプロピル基含有シリコーンレジン
は、末端に残存水酸基，エトキシ基を有し、平均単位
式：（ＣＦ₃Ｃ₂Ｈ₄Ｍｅ₂ＳｉＯ_1/2）_0.43（ＳｉＯ_4/2）
_1.0で示される化学構造を有する有機ケイ素重合体であ
ることが判明した。

【００２２】

【比較例２】特開昭６１−１９５１２９号公報に開示さ
れた方法に従って、式:（ＣＨ₂＝ＣＨＭｅ₂Ｓｉ）₂Ｏで
表されるジシロキサン１８.６ｇ（０.１モル），トルエ
ン３０ｇ，アセトン６ｇ，エタノ−ル６ｇ，濃塩酸１２
ｇおよび水１７ｇを混合し、７０℃で撹拌しながら、エ
チルシリケート８３.３ｇ（０.４モル）を滴下した。冷
却後、１００mlのトルエンを加え、水層を分離後、有機
層を中性になるまで水洗し、トルエンとの共沸による脱
水を行った。次いで、ヘキサメチルジシラザン１１.３
ｇを添加して、６時間トルエン溶媒で加熱還流した。そ
して、有機層を中性になるまで水洗し、トルエン共沸で
脱水を行ない、さらに低沸点成分を除去して、有機ケイ
素重合体を得た。この重合体は、室温で固体であった。
この重合体を１０重量％の濃度でトルエンに溶解し、こ
れを Ｎｏ.５Ａの濾紙を用いて減圧濾過を行なったとこ
ろ目づまりを起し濾過性が悪かった。

【００２３】

【実施例４】式：（ＣＨ₂＝ＣＨＭｅ₂Ｓｉ）₂Ｏで示さ
れるジシロキサン１８.６ｇ（０.１モル），テトラエト
キシシラン８３.３ｇ（０.４モル），トルエン４０ｇ，
９８％硫酸４ｇを８０℃で６時間加熱混合した。次い
で、１２規定塩酸１２ｇと水２０ｇの混合物を滴下し
た。滴下終了後、７６℃で４時間攪拌を続けた。次い
で、冷却しトルエン５０ｇを加えて、水層を分離後、有
機層を中性になるまで水洗した。次いで、水分分離管の
ついたフラスコに移して加熱し、還流温度で脱水し、さ
らに固形分５０重量％になるまでトルエンを留去した。
冷却し、ヘキサメチルジシラザン１１.３ｇを添加し
て、６時間加熱還流した。冷却後、有機層を中性になる
まで水洗し、トルエン共沸で脱水を行い、さらに溶媒を
除去して、有機ケイ素重合体を得た。この重合体はＮＭ
Ｒ分析の結果、式:（ＣＨ₂＝ＣＨＭｅ₂ＳｉＯ）_0.5（Ｍ
ｅ₃ＳｉＯ_0.5）_0.1（ＳｉＯ₂）_1.0 で表される化学構造
を有するものであり、室温で固体であった。また、この
重合体を１０重量％の濃度でトルエンに溶解し、Ｎｏ.
５Ａ の濾紙を用いて減圧濾過を行ったところその濾過
性は良好であり、問題がなかった。

【００２４】

【実施例５】式：（ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈ＳｉＭｅ₂）₂Ｏ
で示されるジシロキサン４５.０ｇ（０.１５モル），テ
トラエトキシシラン ６２４.９ｇ（３.００モル），ト
ルエン３６０.０ｇおよびトリフルオロメタンスルホン
酸２４０μｌをフラスコに入れ、攪拌しながら６５℃で
５時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラフィ
ーにより分析したところ 式：（ＣＨ₂＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ
₂Ｓｉ）₂Ｏで示されるジシロキサンのほとんどが消失し
ていた。次いで、冷却しトリメチルエトキシシラン１４
１.６ｇ（１.２０モル）を加えた後、加熱攪拌した。反
応溶液が６０℃になったところでこの反応系に水１５
１.２ｇと３６％の塩酸水溶液１０２.０ｇの混合物を３
０分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに７３℃で４
時間攪拌を続けた。次いで、冷却し下層の有機層をとり
トルエン５５０ｇを加え、水分分離管のついたフラスコ
に移して加熱し還流温度で脱水を行ない、さらに固形分
５０重量％になるまでトルエンを留去した。冷却し、ヘ
キサメチルジシラザン １４５.３ｇ（０.９モル）を添
加して、６時間加熱還流した。冷却後、有機層を中性に
なるまで水洗し、トルエン共沸で脱水を行い、さらに溶
媒を除去すると淡黄色透明な固体３２４.８ｇを得た。
この固体の分析結果は以下の通りであった。²⁹ ＳｉＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３（０.４１Ｓｉ，ｂｒ，Ｒ¹Ｍｅ₂ＳｉＯ_1/2） −１００（０.０７Ｓｉ，ｂｒ，ＲＯＳｉＯ_3/2） −１１０（０.５２Ｓｉ，ｂｒ，ＳｉＯ_4/2） （ＲはＣＨ₃ＣＨ₂ または Ｈである。 Ｒ¹はＣＨ₂＝ＣＨ（ＣＨ₂）₄ または Ｍｅである。）¹³ ＣＮＭＲ δ（ｐｐｍ）： １３９（０.８２Ｃ，ｓ，＝ＣＨ−） １１５（０.８２Ｃ，ｓ，＝ＣＨ₂） ５９（１.３６Ｃ，ｓ，−ＯＣＨ₂ＣＨ₃） ３４（１.００Ｃ，ｓ，Ｓｉ（ＣＨ₂）₃ ＣＨ₂−） ３３（１.０９Ｃ，ｓ，Ｓｉ（ＣＨ₂）₂ ＣＨ₂−） ２３（１.００Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂ ＣＨ₂−） １８（２.４５Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₂−または−ＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ₃） ０（１２.３０Ｃ，ｓ，ＳｉＣＨ₃） ＧＰＣ（ゲルパーミェーションクロマトグラフィー） Ｍｗ（重量平均分子量）＝６.５×１０³ Ｍｎ（数平均分子量）＝３.１×１０³ 得られたヘキセニル基含有シリコーンレジンは、末端に
残存水酸基，エトキシ基を有し、平均単位式：（ＣＨ₂
＝ＣＨＣ₄Ｈ₈Ｍｅ₂ＳｉＯ_1/2）_0.14（Ｍｅ₃ＳｉＯ_1/2）
_0.54（ＳｉＯ_4/2）_1.0 で示される化学構造を有する有
機ケイ素重合体であることが判明した。

【００２５】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、一般式
(ｂ)（Ｍｅ₂ＲＳｉＯ_1/2）m（ＳｉＯ_4/2）n（式中、Ｍ
ｅとＲは前記と同じであり、ｍ／ｎは０.２〜４であ
る。）で表される有機ケイ素重合体を効率よく製造でき
るという特徴を有する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 (ａ) （Ｍｅ₂ＲＳｉ）₂Ｏ （式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｒは炭素原子数が２個
   以上の置換または非置換の１価炭化水素基である。）で
   表されるジシロキサンと、アルキルシリケ−トまたはア
   ルキルシリケ−トの部分加水分解物との混合物を、プロ
   トン酸系強酸触媒を加えて反応させ、しかる後、該反応
   混合物に塩酸水を滴下することにより、該反応混合物中
   に残存するアルコキシ基を減少させることを特徴とす
   る、一般式（ｂ）（Ｍｅ₂ＲＳｉＯ_1/2）m（ＳｉＯ_4/2）
   n （式中、ＭｅとＲは前記と同じであり、ｍ／ｎは０.
   ２〜４である。）で表される有機ケイ素重合体の製造方
   法。