JPH0533304B2 - - Google Patents
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- JPH0533304B2 JPH0533304B2 JP61132417A JP13241786A JPH0533304B2 JP H0533304 B2 JPH0533304 B2 JP H0533304B2 JP 61132417 A JP61132417 A JP 61132417A JP 13241786 A JP13241786 A JP 13241786A JP H0533304 B2 JPH0533304 B2 JP H0533304B2
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、金属シートの表面に薄膜を形成す
るイオンビーム蒸着装置に関するものである。
るイオンビーム蒸着装置に関するものである。
従来より、金属シートの表面に薄膜を形成して
シート表面の改質（硬度向上、耐摩耗性向上、耐
食性向上、摩擦係数低減、色調光沢改善）を行つ
ている。
シート表面の改質（硬度向上、耐摩耗性向上、耐
食性向上、摩擦係数低減、色調光沢改善）を行つ
ている。
このような薄膜の形成は、第３図に示すイオン
ビーム蒸着装置により行つている。図において、
４０は鋼板等の金属シートからなる被蒸着部材で
あり、真空槽４２内をローラ４４により矢印方向
に水平移動する。また、真空槽４２内には、被蒸
着部材４０の下方において、被蒸着部材４０の搬
送方向に蒸発源４６，４８とイオン源５０，５２
とが交互に並んで設けられている。蒸発源４６，
４８は、電子銃（図示せず）から電子ビームを照
射して容器４６ａ，４８ａ内の蒸着材料（例えば
Ti）５４を電子ビーム加熱することで蒸着材料
５４を蒸気化させるものである。また、イオン源
５０，５２は、例えばＮ等の元素のイオンを被蒸
着部材４０に向けて加速して照射し、例えばイオ
ン注入を行うものである。
ビーム蒸着装置により行つている。図において、
４０は鋼板等の金属シートからなる被蒸着部材で
あり、真空槽４２内をローラ４４により矢印方向
に水平移動する。また、真空槽４２内には、被蒸
着部材４０の下方において、被蒸着部材４０の搬
送方向に蒸発源４６，４８とイオン源５０，５２
とが交互に並んで設けられている。蒸発源４６，
４８は、電子銃（図示せず）から電子ビームを照
射して容器４６ａ，４８ａ内の蒸着材料（例えば
Ti）５４を電子ビーム加熱することで蒸着材料
５４を蒸気化させるものである。また、イオン源
５０，５２は、例えばＮ等の元素のイオンを被蒸
着部材４０に向けて加速して照射し、例えばイオ
ン注入を行うものである。
次に、被蒸着部材４０の下面に薄膜を形成する
動作を説明する。
動作を説明する。
まず、蒸発源４６より蒸発した蒸着材料が被
蒸着部材４０の下面に蒸着し、厚さ300Å程度
の蒸着層を形成する。
蒸着部材４０の下面に蒸着し、厚さ300Å程度
の蒸着層を形成する。
次に、イオン源５０よりで形成した蒸着層
に向けて30KeV程度のエネルギをもつたＮイ
オンを照射して蒸着層に注入し、被蒸着部材４
０の下面にTiNと被蒸着部材４０の構成原子
とが混合したミキシング層を形成する。
に向けて30KeV程度のエネルギをもつたＮイ
オンを照射して蒸着層に注入し、被蒸着部材４
０の下面にTiNと被蒸着部材４０の構成原子
とが混合したミキシング層を形成する。
さらに、、と同様にして、蒸発源４８に
よる蒸着とイオン源５２による低エネルギ（数
KeV）のイオン注入とによりで形成したミ
キシング層上にさらにTiN層を形成し、被蒸
着部材４０に所望の厚さのTiN薄膜を形成す
る。
よる蒸着とイオン源５２による低エネルギ（数
KeV）のイオン注入とによりで形成したミ
キシング層上にさらにTiN層を形成し、被蒸
着部材４０に所望の厚さのTiN薄膜を形成す
る。
しかし、このように構成されたイオンビーム蒸
着装置によると、蒸発源４６，４８およびイオン
源５０，５２が水平に搬送される被蒸着部材４０
の下方に配設されているので、蒸発源４６，４８
から蒸発した蒸着材料５４がイオン源５０，５２
内にごみとして落下し、イオン源５０，５２が汚
れやすく、イオン源５０，５２の洗浄に手間がか
かるという問題があつた。また、被蒸着部材４０
を水平に搬送するので、蒸発源４６，４８ならび
にイオン源５０，５２の上方における被蒸着部材
４０がたるまないように、可能な限り蒸発源４６
ならびにイオン源５２の前後におけるローラ４４
の間隔を狭くする必要がある。そのため、蒸発源
４６，４８から蒸発した蒸着材料５４がローラ４
４に付着し、ローラ４４の清浄にも手間がかかる
という問題があつた。
着装置によると、蒸発源４６，４８およびイオン
源５０，５２が水平に搬送される被蒸着部材４０
の下方に配設されているので、蒸発源４６，４８
から蒸発した蒸着材料５４がイオン源５０，５２
内にごみとして落下し、イオン源５０，５２が汚
れやすく、イオン源５０，５２の洗浄に手間がか
かるという問題があつた。また、被蒸着部材４０
を水平に搬送するので、蒸発源４６，４８ならび
にイオン源５０，５２の上方における被蒸着部材
４０がたるまないように、可能な限り蒸発源４６
ならびにイオン源５２の前後におけるローラ４４
の間隔を狭くする必要がある。そのため、蒸発源
４６，４８から蒸発した蒸着材料５４がローラ４
４に付着し、ローラ４４の清浄にも手間がかかる
という問題があつた。
この発明の目的は、イオン源に蒸発した蒸着材
料がごみとして落下しにくく、かつ搬送手段にも
付着しにくくなり、保守が容易に行なえるイオン
ビーム蒸着装置を提供することである。
料がごみとして落下しにくく、かつ搬送手段にも
付着しにくくなり、保守が容易に行なえるイオン
ビーム蒸着装置を提供することである。
この発明のイオンビーム蒸着装置は、真空槽
と、この真空槽内でシート状の被蒸着部材を垂直
に搬送する搬送手段と、前記真空槽内において前
記被蒸着部材の側方に前記被蒸着部材に蒸発面が
対向した状態に設けられ、陰極となる蒸着材料お
よび陽極となる前記真空槽間のアーク放電による
発熱で蒸着材料を蒸発させるとともにアークプラ
ズマにより蒸発した蒸着材料をイオン化する蒸発
源と、前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバイ
アス電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前
記被蒸着部材に引付けるバイアス電源と、前記蒸
発源と前記被蒸着部材の搬送方向下手側において
前記真空槽内に設けられ前記被蒸着部材の表面に
蒸着した蒸着層にイオンを照射するイオン源とを
備えたものである。
と、この真空槽内でシート状の被蒸着部材を垂直
に搬送する搬送手段と、前記真空槽内において前
記被蒸着部材の側方に前記被蒸着部材に蒸発面が
対向した状態に設けられ、陰極となる蒸着材料お
よび陽極となる前記真空槽間のアーク放電による
発熱で蒸着材料を蒸発させるとともにアークプラ
ズマにより蒸発した蒸着材料をイオン化する蒸発
源と、前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバイ
アス電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前
記被蒸着部材に引付けるバイアス電源と、前記蒸
発源と前記被蒸着部材の搬送方向下手側において
前記真空槽内に設けられ前記被蒸着部材の表面に
蒸着した蒸着層にイオンを照射するイオン源とを
備えたものである。
この発明の構成によれば、被蒸着部材を垂直に
搬送して被蒸着部材の側方に蒸発源とイオン源を
配置したので、蒸発した蒸着材料がごみとしてイ
オン源に落下しにくくなる。
搬送して被蒸着部材の側方に蒸発源とイオン源を
配置したので、蒸発した蒸着材料がごみとしてイ
オン源に落下しにくくなる。
また、蒸発源の蒸発面を被蒸着部材に対向さ
せ、蒸発源において陰極となる蒸着材料および陽
極となる真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着
材料を蒸発させるとともにアークプラズマにより
蒸発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス
電源によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材
に引付けるようにしたことによつて、蒸発源から
蒸発した蒸発材料を効率よく被蒸着部材に蒸着さ
せることができ、被蒸着部材を垂直に搬送するこ
とによる蒸着効率の低下の問題は生じない。この
ように、蒸発源の蒸発面を被蒸着面に対向させる
ことができるのは、蒸着材料の全体が溶融するの
ではなく、蒸着材料の表面のアーク放電によつて
生じるアークスポツトの部分のごく少量のみが高
温になつて溶融し、蒸着面を立てても溶融した蒸
着材料が垂れ落ちることがないからである。
せ、蒸発源において陰極となる蒸着材料および陽
極となる真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着
材料を蒸発させるとともにアークプラズマにより
蒸発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス
電源によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材
に引付けるようにしたことによつて、蒸発源から
蒸発した蒸発材料を効率よく被蒸着部材に蒸着さ
せることができ、被蒸着部材を垂直に搬送するこ
とによる蒸着効率の低下の問題は生じない。この
ように、蒸発源の蒸発面を被蒸着面に対向させる
ことができるのは、蒸着材料の全体が溶融するの
ではなく、蒸着材料の表面のアーク放電によつて
生じるアークスポツトの部分のごく少量のみが高
温になつて溶融し、蒸着面を立てても溶融した蒸
着材料が垂れ落ちることがないからである。
さらに、被蒸着部材を垂直に搬送するようにし
たので、被蒸着部材がたるんだりせず、蒸発源な
らびにイオン源の前後における搬送手段の間隔を
大きく取ることができる。したがつて蒸発源から
蒸発した蒸着材料が搬送手段に付着しにくくな
る。このように、蒸発した蒸着材料がごみとして
イオン源に落下しにくく、かつ搬送手段にも付着
しにくくなり、保守が容易に行なえる。
たので、被蒸着部材がたるんだりせず、蒸発源な
らびにイオン源の前後における搬送手段の間隔を
大きく取ることができる。したがつて蒸発源から
蒸発した蒸着材料が搬送手段に付着しにくくな
る。このように、蒸発した蒸着材料がごみとして
イオン源に落下しにくく、かつ搬送手段にも付着
しにくくなり、保守が容易に行なえる。
しかも、蒸着材料の溶融は、アーク放電によつ
て行うので、蒸着材料は放電した部分しか溶融し
ない。したがつて、蒸発源を被蒸着部材の側方に
配置しても蒸発材料がこぼれたりしない。
て行うので、蒸着材料は放電した部分しか溶融し
ない。したがつて、蒸発源を被蒸着部材の側方に
配置しても蒸発材料がこぼれたりしない。
この発明の一実施例を第１図および第２図に基
づいて説明する。このイオンビーム蒸着装置は、
第１図に示すように、真空槽１０内にシート状の
被蒸着部材１４を搬送手段１２により垂直に搬送
し、真空槽１０内で被蒸着部材１４の側方に蒸発
源１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１６ｄを設け、各蒸
発源１６ａ〜１６ｄの被蒸着部材１４の搬送方向
下手側において真空槽１０内にイオン源１８ａ，
１８ｂ，１８ｃ，１８ｄを設けたものである。
づいて説明する。このイオンビーム蒸着装置は、
第１図に示すように、真空槽１０内にシート状の
被蒸着部材１４を搬送手段１２により垂直に搬送
し、真空槽１０内で被蒸着部材１４の側方に蒸発
源１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１６ｄを設け、各蒸
発源１６ａ〜１６ｄの被蒸着部材１４の搬送方向
下手側において真空槽１０内にイオン源１８ａ，
１８ｂ，１８ｃ，１８ｄを設けたものである。
蒸発源１６ａ〜１６ｄは、被蒸着部材１４の側
方に位置した陰極２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４
ｄとなる蒸着材料および陽極となる真空槽１０間
のアーク放電による発熱で蒸着材料からなる陰極
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄを蒸発させると
ともにアークプラズマにより蒸発した蒸着材料を
イオン化するものである。イオン化した蒸着材料
は、バイアス電源３４により真空槽１０と被蒸着
部材１４との間に印加したバイアス電圧により被
蒸着部材１４に引付けられる。
方に位置した陰極２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４
ｄとなる蒸着材料および陽極となる真空槽１０間
のアーク放電による発熱で蒸着材料からなる陰極
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄを蒸発させると
ともにアークプラズマにより蒸発した蒸着材料を
イオン化するものである。イオン化した蒸着材料
は、バイアス電源３４により真空槽１０と被蒸着
部材１４との間に印加したバイアス電圧により被
蒸着部材１４に引付けられる。
また、イオン源１８ａ〜１８ｄは、被蒸着部材
１４の表面に蒸着した蒸着層にイオンを照射し
て、例えばこのイオンを注入するものである。
１４の表面に蒸着した蒸着層にイオンを照射し
て、例えばこのイオンを注入するものである。
真空槽１０は金属等の導電性材料からなり、上
下に補助真空槽２０，２２が形成されており、真
空槽１０内を所定の真空度に維持している。被蒸
着部材１４は金属シート等からなり、真空槽１０
に設けたローラからなる搬送手段１２によつて、
真空槽１０内を上から下へ垂直に搬送される。
下に補助真空槽２０，２２が形成されており、真
空槽１０内を所定の真空度に維持している。被蒸
着部材１４は金属シート等からなり、真空槽１０
に設けたローラからなる搬送手段１２によつて、
真空槽１０内を上から下へ垂直に搬送される。
蒸発源１６ａ〜１６ｄとイオン源１８ａ〜１８
ｄは、真空槽１０内において被蒸着部材１４の両
側に並設されている。被蒸着部材１４の片側に
は、真空槽１０の上から下に並んで蒸発源１６
ａ、イオン源１８ａ、蒸発源１６ｂ、イオン源１
８ｂが設けられており、被蒸着部材１４の片面に
薄膜を形成する。また、被蒸着部材１４の他側に
は、真空槽１０の上から下に並んで蒸発源１６
ｃ、イオン源１８ｃ、蒸発源１６ｄ、イオン源１
８ｄが設けられており、被蒸着部材１４の他面に
薄膜を形成する。各蒸発源１６ａ〜１６ｄは、真
空槽１０に固定されたTi等の蒸着材料でできた
陰極２４ａ〜２４ｄと、陰極２４ａ〜２４ｄの中
央部に設けたトリガ電極２６ａ〜２６ｄと、陰極
２４ａ〜２４ｄに負極を接続し正極を陽極である
真空槽１０およびトリガ電極２６ａ〜２６ｄに接
続したアーク電源２８ａ〜２８ｄと、このアーク
電源２８ａ〜２８ｄとトリガ電極２６ａ〜２６ｄ
との間に設けた抵抗３０ａ〜３０ｄと、陰極２４
ａ〜２４ｄを接地電位にある真空槽１０より絶縁
するための絶縁物３１ａ〜３１ｄとから構成され
ている。また、イオン源１８ａ〜１８ｄは、例え
ばＮイオンをマルチアパーチヤ３２ａ〜３２ｄか
ら引き出して加速し被蒸着部材１４に照射するも
のである。なお、バイアス電源３４は、負極を被
蒸着部材１４に接し正極を真空槽１０に接続した
直流の電源からなる。また、第２図は、イオンビ
ーム蒸着装置の要部斜視図を示している。
ｄは、真空槽１０内において被蒸着部材１４の両
側に並設されている。被蒸着部材１４の片側に
は、真空槽１０の上から下に並んで蒸発源１６
ａ、イオン源１８ａ、蒸発源１６ｂ、イオン源１
８ｂが設けられており、被蒸着部材１４の片面に
薄膜を形成する。また、被蒸着部材１４の他側に
は、真空槽１０の上から下に並んで蒸発源１６
ｃ、イオン源１８ｃ、蒸発源１６ｄ、イオン源１
８ｄが設けられており、被蒸着部材１４の他面に
薄膜を形成する。各蒸発源１６ａ〜１６ｄは、真
空槽１０に固定されたTi等の蒸着材料でできた
陰極２４ａ〜２４ｄと、陰極２４ａ〜２４ｄの中
央部に設けたトリガ電極２６ａ〜２６ｄと、陰極
２４ａ〜２４ｄに負極を接続し正極を陽極である
真空槽１０およびトリガ電極２６ａ〜２６ｄに接
続したアーク電源２８ａ〜２８ｄと、このアーク
電源２８ａ〜２８ｄとトリガ電極２６ａ〜２６ｄ
との間に設けた抵抗３０ａ〜３０ｄと、陰極２４
ａ〜２４ｄを接地電位にある真空槽１０より絶縁
するための絶縁物３１ａ〜３１ｄとから構成され
ている。また、イオン源１８ａ〜１８ｄは、例え
ばＮイオンをマルチアパーチヤ３２ａ〜３２ｄか
ら引き出して加速し被蒸着部材１４に照射するも
のである。なお、バイアス電源３４は、負極を被
蒸着部材１４に接し正極を真空槽１０に接続した
直流の電源からなる。また、第２図は、イオンビ
ーム蒸着装置の要部斜視図を示している。
次に、被蒸着部材１４の両面に薄膜を形成する
動作について説明する。なお、被蒸着部材１４の
両面はそれぞれ同様にして薄膜形成を行うので、
第１図の被蒸着部材１４の紙面方向左側面につい
てのみ説明し、右側面についてはその説明を省略
する。
動作について説明する。なお、被蒸着部材１４の
両面はそれぞれ同様にして薄膜形成を行うので、
第１図の被蒸着部材１４の紙面方向左側面につい
てのみ説明し、右側面についてはその説明を省略
する。
まず、図示しない駆動源につながれた一つま
たは複数個の搬送手段１２を駆動して被蒸着部
材１４を上から下へ搬送する。
たは複数個の搬送手段１２を駆動して被蒸着部
材１４を上から下へ搬送する。
蒸発源１６ａより蒸着材料を蒸気化して被蒸
着部材１４の表面に蒸着し、厚さ300Å程度の
蒸着層を形成する。蒸着材料の蒸着は、次のよ
うにして行う。まず、トリガ電極２６ａと陰極
２４ａとの間にアーク放電が起きて蒸着材料が
蒸発し、さらにこの蒸発した蒸着材料を介して
蒸着材料からなる陰極２４ａと陽極である真空
槽１０との間にアーク放電が発生して蒸着材料
が蒸発してイオン化する。蒸発してイオン化し
た蒸着材料は、バイアス電源３４によるバイア
ス電圧によつて、被蒸着部材１４の表面に引付
けられ被蒸着部材１４の側面に蒸着して、Ti
の蒸着層を形成する。
着部材１４の表面に蒸着し、厚さ300Å程度の
蒸着層を形成する。蒸着材料の蒸着は、次のよ
うにして行う。まず、トリガ電極２６ａと陰極
２４ａとの間にアーク放電が起きて蒸着材料が
蒸発し、さらにこの蒸発した蒸着材料を介して
蒸着材料からなる陰極２４ａと陽極である真空
槽１０との間にアーク放電が発生して蒸着材料
が蒸発してイオン化する。蒸発してイオン化し
た蒸着材料は、バイアス電源３４によるバイア
ス電圧によつて、被蒸着部材１４の表面に引付
けられ被蒸着部材１４の側面に蒸着して、Ti
の蒸着層を形成する。
イオン源１８ａよりで形成した蒸着層に向
けて例えば30KeVのエネルギをもつたＮイオ
ンを照射して蒸着層に注入し、被蒸着部材１４
の表面にTiNと被蒸着部材１４の構成原子と
が混合したミキシング層を形成する。
けて例えば30KeVのエネルギをもつたＮイオ
ンを照射して蒸着層に注入し、被蒸着部材１４
の表面にTiNと被蒸着部材１４の構成原子と
が混合したミキシング層を形成する。
次に、蒸発源１６ｂより蒸発材料を蒸気化
し、で形成したミキシング層に蒸着する。
し、で形成したミキシング層に蒸着する。
さらに、イオン源１８ｂより低エネルギ（例
えば数KeV）のＮイオンを照射して注入し、
被蒸着部材１４に所望の厚さのTiN薄膜を形
成する。
えば数KeV）のＮイオンを照射して注入し、
被蒸着部材１４に所望の厚さのTiN薄膜を形
成する。
なお、蒸発源１６ａ，１６ｂからの蒸気化した
Ti、およびイオン源１８ａ，１８ｂからのＮイ
オンは、或る拡がりを有して被蒸着部材１４に到
達するので、被蒸着部材１４の表面には、Tiの
蒸着とＮイオンの照射とが同時に行われる部分が
ある。
Ti、およびイオン源１８ａ，１８ｂからのＮイ
オンは、或る拡がりを有して被蒸着部材１４に到
達するので、被蒸着部材１４の表面には、Tiの
蒸着とＮイオンの照射とが同時に行われる部分が
ある。
以上のようにして、被蒸着部材１４の両面に
TiN薄膜を形成する。
TiN薄膜を形成する。
このように構成されたイオンビーム蒸着装置に
よると、被蒸着部材１４を垂直に搬送し、蒸発源
１６ａ〜１６ｄおよびイオン源１８ａ〜１８ｄを
被蒸着部材１４の側方に配置したので、蒸発した
蒸着材料がイオン源１８ａ〜１８ｄに落下しにく
くなる。また、被蒸着部材１４を垂直に搬送する
ようにしたので、被蒸着部材１４がたるんだりせ
ず、蒸発源１６ａ，１６ｃならびにイオン源１８
ｂ，１８ｄの前後における搬送手段１２の間隔を
大きく取ることができる。したがつて、蒸発源１
６ａ〜１６ｄから蒸発した蒸着材料が搬送手段１
２に付着しにくくなる。このように、蒸発した蒸
着材料がごみとしてイオン源１８ａ〜１８ｄに落
下しにくく、かつ搬送手段１２にも付着しにくく
なり、清浄等の保守が容易に行なえる。
よると、被蒸着部材１４を垂直に搬送し、蒸発源
１６ａ〜１６ｄおよびイオン源１８ａ〜１８ｄを
被蒸着部材１４の側方に配置したので、蒸発した
蒸着材料がイオン源１８ａ〜１８ｄに落下しにく
くなる。また、被蒸着部材１４を垂直に搬送する
ようにしたので、被蒸着部材１４がたるんだりせ
ず、蒸発源１６ａ，１６ｃならびにイオン源１８
ｂ，１８ｄの前後における搬送手段１２の間隔を
大きく取ることができる。したがつて、蒸発源１
６ａ〜１６ｄから蒸発した蒸着材料が搬送手段１
２に付着しにくくなる。このように、蒸発した蒸
着材料がごみとしてイオン源１８ａ〜１８ｄに落
下しにくく、かつ搬送手段１２にも付着しにくく
なり、清浄等の保守が容易に行なえる。
しかも、蒸着材料の溶融は、アーク放電によつ
て行うので、蒸着材料は放電した部分しか溶融し
ない。したがつて、蒸発源１６ａ〜１６ｄを被蒸
着部材１４の側方に配置しても蒸着材料がこぼれ
たりしない。
て行うので、蒸着材料は放電した部分しか溶融し
ない。したがつて、蒸発源１６ａ〜１６ｄを被蒸
着部材１４の側方に配置しても蒸着材料がこぼれ
たりしない。
また、被蒸着部材１４を垂直に搬送し、被蒸着
部材１４の両側に各々蒸発源１６ａ〜１６ｄおよ
びイオン源１８ａ〜１８ｄを並設して被蒸着部材
１４の両側面に薄膜を形成できるようにしたの
で、真空槽１０内を１度上から下へ搬送するだけ
で被蒸着部材１４の両側面の薄膜形成が行え、薄
膜形成作業が容易に行なえる。
部材１４の両側に各々蒸発源１６ａ〜１６ｄおよ
びイオン源１８ａ〜１８ｄを並設して被蒸着部材
１４の両側面に薄膜を形成できるようにしたの
で、真空槽１０内を１度上から下へ搬送するだけ
で被蒸着部材１４の両側面の薄膜形成が行え、薄
膜形成作業が容易に行なえる。
また、TiNの反応を起こすために必要な十分
なエネルギを持つてイオン源１８ａ〜１８ｄから
被蒸着部材１４にイオンが照射されるので、被蒸
着部材１４をあらかじめ余熱しておく必要がな
く、低温状態で薄膜形成が行なえる。
なエネルギを持つてイオン源１８ａ〜１８ｄから
被蒸着部材１４にイオンが照射されるので、被蒸
着部材１４をあらかじめ余熱しておく必要がな
く、低温状態で薄膜形成が行なえる。
なお、前記実施例では、被蒸着部材１４の両側
にそれぞれ２組ずつ蒸発源とイオン源を配置した
ものであつたが、被蒸着部材１４の片側に設けた
ものや、蒸発源およびイオン源を１組ずつ設けた
ものでもよい。また、蒸発源による蒸着作業の前
に、イオン源による被蒸着部材１４の表面のクリ
ーニングと活性化を行つてもよい。さらに、本実
施例では被蒸着部材１４の表面にTiNなどの金
属窒化物の薄膜を形成したが、蒸発源でAlを蒸
着しイオン源でArイオンを照射して被蒸着部材
１４の表面にAlの薄膜を形成したり、あるいは
蒸発源からTiを蒸発させイオン源でＣイオンを
照射してTiCに金属炭化物の薄膜を形成できるこ
とは勿論である。
にそれぞれ２組ずつ蒸発源とイオン源を配置した
ものであつたが、被蒸着部材１４の片側に設けた
ものや、蒸発源およびイオン源を１組ずつ設けた
ものでもよい。また、蒸発源による蒸着作業の前
に、イオン源による被蒸着部材１４の表面のクリ
ーニングと活性化を行つてもよい。さらに、本実
施例では被蒸着部材１４の表面にTiNなどの金
属窒化物の薄膜を形成したが、蒸発源でAlを蒸
着しイオン源でArイオンを照射して被蒸着部材
１４の表面にAlの薄膜を形成したり、あるいは
蒸発源からTiを蒸発させイオン源でＣイオンを
照射してTiCに金属炭化物の薄膜を形成できるこ
とは勿論である。
この発明のイオンビーム蒸着装置によれば、被
蒸着部材を垂直に搬送して被蒸着部材の側方に蒸
発源とイオン源を配置したので、蒸発した蒸着材
料がごみとしてイオン源に落下しにくくなる。
蒸着部材を垂直に搬送して被蒸着部材の側方に蒸
発源とイオン源を配置したので、蒸発した蒸着材
料がごみとしてイオン源に落下しにくくなる。
また、蒸発源の蒸発面を被蒸着部材に対向させ
蒸発源において蒸着材料となる陰極と陽極となる
真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着材料を蒸
発させるとともにアークプラズマにより蒸発した
蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス電源によ
つてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材に引付け
るようにしたことによつて、蒸発源から蒸発した
蒸着材料を効率よく被蒸着部材に蒸着させること
ができ、被蒸着部材を垂直に搬送することによる
蒸着効率の低下の問題は生じない。
蒸発源において蒸着材料となる陰極と陽極となる
真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着材料を蒸
発させるとともにアークプラズマにより蒸発した
蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス電源によ
つてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材に引付け
るようにしたことによつて、蒸発源から蒸発した
蒸着材料を効率よく被蒸着部材に蒸着させること
ができ、被蒸着部材を垂直に搬送することによる
蒸着効率の低下の問題は生じない。
さらに、被蒸着部材を垂直に搬送するようにし
たので、被蒸着部材がたるんだりせず、蒸発源な
らびにイオン源の前後における搬送手段の間隔を
大きく取ることができる。したがつて、蒸発源か
ら蒸発した蒸着材料が搬送手段に付着しにくくな
る。このように、蒸発した蒸着材料がごみとして
イオン源に落下しにくく、かつ搬送手段にも付着
しにくくなり、保守が容易に行なえるという効果
がある。
たので、被蒸着部材がたるんだりせず、蒸発源な
らびにイオン源の前後における搬送手段の間隔を
大きく取ることができる。したがつて、蒸発源か
ら蒸発した蒸着材料が搬送手段に付着しにくくな
る。このように、蒸発した蒸着材料がごみとして
イオン源に落下しにくく、かつ搬送手段にも付着
しにくくなり、保守が容易に行なえるという効果
がある。
第１図はこの発明の一実施例の概略図、第２図
はその要部斜視図、第３図は従来例の斜視図であ
る。 １０……真空槽、１２……搬送手段、１４……
被蒸着部材、１６ａ〜１６ｄ……蒸発源、１８ａ
〜１８ｄ……イオン源、２６ａ〜２６ｄ……トリ
ガ電極、３４……バイアス電源。
はその要部斜視図、第３図は従来例の斜視図であ
る。 １０……真空槽、１２……搬送手段、１４……
被蒸着部材、１６ａ〜１６ｄ……蒸発源、１８ａ
〜１８ｄ……イオン源、２６ａ〜２６ｄ……トリ
ガ電極、３４……バイアス電源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空槽と、 この真空槽内でシート状の被蒸着部材を垂直に
搬送する搬送手段と、 前記真空槽内において前記被蒸着部材の側方に
前記被蒸着部材に蒸発面が対向した状態に設けら
れ、陰極となる蒸着材料および陽極となる前記真
空槽間のアーク放電による発熱で蒸着材料を蒸発
させるとともにアークプラズマにより蒸発した蒸
着材料をイオン化する蒸発源と、 前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバイアス
電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前記被
蒸着部材に引付けるバイアス電源と、 前記蒸発源の前記被蒸着部材の搬送方向下手側
において前記真空槽内に設けられ前記被蒸着部材
の表面に蒸着した蒸着層にイオンを照射するイオ
ン源とを備えたイオンビーム蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13241786A JPS62287068A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | イオンビ−ム蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13241786A JPS62287068A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | イオンビ−ム蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62287068A JPS62287068A (ja) | 1987-12-12 |
| JPH0533304B2 true JPH0533304B2 (ja) | 1993-05-19 |
Family
ID=15080886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13241786A Granted JPS62287068A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | イオンビ−ム蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62287068A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3031551B2 (ja) * | 1988-08-12 | 2000-04-10 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリアー性蒸着フィルムの製造方法 |
| KR19990047679A (ko) | 1997-12-05 | 1999-07-05 | 박호군 | 이온 빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 |
| EP2463402A4 (en) * | 2009-08-06 | 2014-01-15 | Fuji Electric Co Ltd | DEVICE FOR PRODUCING A THIN FILM COATING |
| JP6306437B2 (ja) * | 2014-05-31 | 2018-04-04 | 国立大学法人山梨大学 | 縦型成膜装置 |
| CN109957752B (zh) * | 2017-12-26 | 2022-10-28 | 佳能特机株式会社 | 基板处理装置及其控制方法、成膜装置、电子零件的制造方法 |
| JP6567119B1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-08-28 | キヤノントッキ株式会社 | 基板処理装置及びその制御方法、成膜装置、電子部品の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58100675A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続蒸着方法及びその装置 |
| JPS6134173A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 高硬度窒化ホウ素膜の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-06 JP JP13241786A patent/JPS62287068A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58100675A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続蒸着方法及びその装置 |
| JPS6134173A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 高硬度窒化ホウ素膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62287068A (ja) | 1987-12-12 |
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