JPS62287068A - イオンビ−ム蒸着装置 - Google Patents

イオンビ−ム蒸着装置

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JPS62287068A
JPS62287068A JP13241786A JP13241786A JPS62287068A JP S62287068 A JPS62287068 A JP S62287068A JP 13241786 A JP13241786 A JP 13241786A JP 13241786 A JP13241786 A JP 13241786A JP S62287068 A JPS62287068 A JP S62287068A
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evaporated
vapor deposition
evaporation
ion
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Masayasu Tanjiyou
正安 丹上
Yasuo Suzuki
泰雄 鈴木
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Nissin Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 この発明は、金属シートの表面に薄膜を形成するイオン
ビーム蒸着装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来より、金属シートの表面に薄膜を形成してシート表
面の改質(硬度向上、耐摩耗性向上9耐食性向上、摩擦
係数低減2色調光沢改善)を行っている。
このような薄膜の形成は、第3図に示すイオンビーム蒸
着装置により行っている。図において、40は鋼板等の
金属シートからなる被蒸着部材であり、真空槽42内を
ローラ44により矢印方向に水平移動する。また、真空
槽42内には、被落着部材40の下方において、被蒸着
部材40の搬送方向に蒸発源46.48とイオン源50
.52とが交互に並んで設けられている。蒸発源46゜
48は、電子銃(図示セず)から電子ビームを照射して
容器46a、48a内の蔑着材料(例えばTI)54を
電子ビーム加熱することで蒸着材料54を蒸気化させる
ものである。また、イオン源50.52は、例えばN等
の元素のイオンを被蒸着部材40に向けて加速して照射
し、例えばイオン注入を行うものである。
次に、被蒸着部材40の下面に薄膜を形成する動作を説
明する。  2゜ ■ まず、蒸発源46より蒸発した層着材料が被蒸着部
材40の下面に蒸着し、厚さ300人程度の蒸着層を形
成する。
■ 次に、イオン源50より■で形成した蒸着層に向け
て30KeV程度のエネルギをもったNイオンを照射し
て蒸着層に注入し、被蒸着部材4゜の下面にTINと被
蒸着部材40の構成原子とが混合したミキシング層を形
成する。
■ さらに、■、■と同様にして、蒸発源48による蒸
着とイオン源52による低エネルギ(数KeV)のイオ
ン注入とにより■で形成したミキシング層上にさらにT
iN層を形成し、被蒸着部材40に所望の厚さのTIN
薄膜を形成する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
シカシ、このように構成されたイオンビーム蒸着装置に
よると、蒸発源46.48およびイオン源5o、52が
水平に搬送される被蒸着部材4゜の下方に配設されてい
るので、蒸発源46.48から苺発した蒸着材料54が
イオン源50.52内にごみとして落下し、イオン−5
5o、s2が汚れやすく、イオン源50.52の清浄に
手間がかかるという問題があった。また、被蒸着部材4
0を水平に搬送するので、蒸発源46.48ならびにイ
オン源50.52の上方における被蒸着部材40がたる
まないように、可能な限り蒸発源46ならびにイオン源
52の前後におけるローラ44の間隔を狭くする必要が
ある。そのため、蒸発源46゜48から蒸発した蒸着材
料54がローラ44に付着し、ローラ44の清浄にも手
間がかかるという問題があった。
この発明の目的は、イオン源に蒸発した蒸着材料がごみ
として落下しにくく、かつ搬送手段にも付着しにくくな
り、保守が容易に行なえるイオンビーム蒸着装置を提供
することである。
〔問題を解決するための手段〕
この発明のイオンビーム蒸着装置は、真空槽と、この真
空槽内でシート状の被蒸着部材を垂直に搬送する搬送手
段と、前記真空槽内において前記被蒸着部材の側方に設
けられ蒸着材料をアーク放電により蒸発させてイオン化
する蒸発源と、前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバ
イアス電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前記被
蒸着部材に引付けるバイアス電源と、前記蒸発源の前記
被蒸着部材の搬送方向下手側において前記真空槽内に設
けられ前記被蒸着部材の表面に蒸着した蒸着層にイオン
を照射するイオン源とを備えたものである。
〔作用〕
この発明の構成によれば、被蒸着部材を垂直に搬送して
被蒸着部材の側方に蒸発源とイオン源を配置したので、
蒸発した蒸着材料がごみとしてイオン源に落下しにくく
なる。また、被蒸着部材を垂直に搬送するようにしたの
で、被蒸着部材がたるんだすせず、蒸発源ならびにイオ
ン源の前後における搬送手段の間隔を大きく取ることが
できる。
したがって蒸発源から蒸発した蒸着材料が搬送手段に付
着しにくくなる。このように、蒸発した蒸着材料がごみ
としてイオン源に落下しにくく、かつ搬送手段にも付着
しにくくなり、保守が容易に行なえる。
しかも、蒸着材料の熔融は、アーク放電によって行うの
で、蒸着材料は放電した部分しか熔融しない。したがっ
て、蒸発源を被蒸着部材の側方に配置しても蒸発材料が
こぼれたりしない。
〔実施例〕
この発明の一実施例を第1図および第2図に基づいて説
明する。このイオンビーム蒸着装置は、第1図に示すよ
うに、真空槽lO内にシート状の被蒸着部材14を搬送
手段12により垂直に搬送し、真空槽10内で被蒸着部
材14の側方に蒸発源16a、16b、16c、16d
を設け、各蒸発源16a〜16dの被蒸着部材14の搬
送方向下手側において真空槽10内にイオン源18a。
18b、18c、18dを設けたものである。
蒸発源16a−16dは、被蒸着部材14の側方に位置
した蒸着材料からなる陰極24a、24b。
24c、24dをアーク放電により蒸発しイオン化する
ものである。イオン化した貫着材料は、バイアス電源3
4により真空槽10と被蒸着部材14との間に印加した
バイアス電圧により被蒸着部材14に引イ・jけられる
また、イオン源188〜18dは、被蒸着部材14の表
面に蒸着した蒸着層にイオンを照射して、例えばこのイ
オンを注入するものである。
真空槽10は金属等の導電性材料からなり、上下に補助
真空槽20.22が形成されており、真空槽10内を所
定の真空度に維持している。被蒸着部材14は金属シー
ト等からなり、真空槽10に設けたローラからなる搬送
手段12によって、真空槽10内を上から下へ垂直に搬
送される。
蒸発源161〜+6dとイオンtAl 8 a 〜18
dは、真空槽10内において被蒸着部材14の両側に並
設されている。被蒸着部材14の片側には、真空槽10
の一ヒから下に並んで蒸発源16a、イオン源iaa、
蒸発源16b、イオン源+8bが設けられており、被蒸
着部材14の片面に薄膜を形成する。また、被蒸着部材
14の他側には、真空槽10の上から下に並んで蒸発源
16C,イオン源18c、范発源+6d、イオン源18
dが設けられており、被蒸着部材14の他面に薄膜を形
成する。各蒸発源] 6 a−16dは、真空槽10に
固定されたT1等の蒸着材料でできた陰極24a〜24
dと、陰極242〜24dの中央部に設けたトリガ電極
26a〜26dと、陰極24a〜24dに負極を接続し
正極を陽極である真空槽10およびトリガ電極26a〜
26dに接続したアーク電源28a〜28dと、このア
ーク電源28a〜28dとトリガ電極26a〜26dと
の間に設けた抵抗30a〜30dと、陰極24a〜24
dを接地電位にある真空槽10より絶縁するための絶縁
物31a〜31dとから構成されている。また、イオン
源188〜18dば、例えばNイオンをマルチアパーチ
ャ32a〜32dから引き出して加速し被蒸着部材14
に照射するものである。
なお、バイアス電1M34は、負極を被蒸着部材14に
接し正極を真空槽10に接続した直流の電源からなる。
また、第2図は、イオンビーム蒸着装置の要部斜視図を
示している。
次に、被蒸着部材I4の両面に薄膜を形成する動作につ
いて説明する。なお、被蒸着部材14の両面はそれぞれ
同様にして薄膜形成を行うので、第1図の被蒸着部材1
4の紙面方向左側面についてのみ説明し、右側面につい
てはその説明を省略する。
■ まず、図示しない駆動源につながれた一つまたは複
数個の搬送手段12を駆動して被蒸着部材14を」二か
ら下へ搬送する。
■ 蒸発源+6aより菌着材料を蒸気化して被蒸着部材
14の表面に蒸着し、厚さ300人程度の芸着層を形成
する。蒸着材料の蒸着は、次のようにして行う。まず、
トリガ電極26aと陰極24aとの間にアーク放電が起
きて蒸着材料が蒸発し、さらにこの蒸発した蒸着材料を
介して蒸着材料からなる陰極24aと陽極である真空槽
10との間にアーク放電が発生して蒸着材料が蒸発して
イオン化する。蒸発してイオン化した蒸着材料は、バイ
アス電源34によるバイアス電圧によって、被蒸着部材
14の表面に引付けられ被蒸着部材14の側面に蒸着し
て、Tiの蒸着層を形成す■ イオン源18aより■で
形成した蒸着l響に向けて例えば30Ke■のエネルギ
をもったNイオンを照射して蒸着層に注入し、被蒸着部
材I4の表面にTINと被蒸着部材14の構成原子とが
混合したミキシング層を形成する。
■ 次に、蒸発源16bより蒸発材料を蒸気化し、■で
形成したミキシング層に蒸着する。
■ さらに、イオンil+abより低エネルギ(例えば
数にθV)のNイオンを照射して注入し、被蒸着部材1
4に所望の厚さのTIN薄股薄膜成する。
以上のようにして、被蒸着部材14の両面にT i N
i股を形成する。
このように構成されたイオンビーム蒸着装置によると、
被蒸着部材14を垂直に搬送し、蒸発源168〜+6d
およびイオン源] 8a −] 8 dを被蒸着部材1
4の側方に配置したので、蒸発した蒸着材料がイオン源
18a〜+8dに落ドしにくくなる。また、被蒸着部材
14を垂直に]峠送するようにしたので、被蒸着部材1
4がたるんだすせず、蒸発源16a、16cならびにイ
オン源18b。
18dの前後における搬送手段12の間隔を大きく取る
ことができる。したがって、蒸発1JjA16 a〜1
6dから叢発した蒸着材料が搬送手段12に付着しにく
くなる。このように、蒸発した蒸着材料がごみとしてイ
オン源188〜18dに落下しに<<、かつ搬送手段1
2にも付着しにくくなり、清浄等の保守が容易に行なえ
る。
しかも、蒸着材料の熔融は、アーク放電によって行うの
で、蒸着材料は放電した部分しか溶融しない。したがっ
て、蒸発源16a〜16dを被蒸着部材14の側方に配
置しても蒸着材料がこぼれたりしない。
また、被蒸着部材14を垂直に搬送し、被蒸着部材14
の両側に各々蒸発源16a〜16dおよびイオン源18
a−18dを並設して被蒸着部材14の両側面に薄膜を
形成できるようにしたので、真空槽10内を1度上から
下へ搬送するだけで被蒸着部材14の両側面の薄膜形成
が行え、薄膜形成作業が容易に行なえる。
また、TiNの反応を起こすため番こ必要な十分なエネ
ルギを持ってイオン源18a〜18dから被蒸着部材1
4にイオンが照射されるので、被茎着部材14をあらか
じめ余熱しておく必要がなく、低温状態で薄膜成形が行
なえる。
なお、前記実施例では、被蒸着部材14の両側にそれぞ
れ2組ずつ蒸発源をイオン源を配置したものであったが
、被芸着部材14の片側に設けたものや、蒸発源および
イオン源を1組ずつ設けたものでもよい。また、蒸発源
による蒸着作業の前に、イオン源による被蒸着部材14
の表面のクリーニングと活性化を行ってもよい。さらに
、本実施例では被蒸着部材14の表面にTiNなどの金
属窒化物の薄膜を形成したが、蒸発源でAI!を蒸着し
イオン源でArイオンを照射して被蒸着部材14の表面
にA7!の薄膜を形成したり、あるいは蒸発源からTi
t−蒸発させイオン源でCイオンを照射してTicの金
属炭化物の薄膜を形成できることは勿論である。
〔発明の効果〕
この発明のイオンビーム蒸着装置によれば、被蒸着部材
を垂直に搬送して被蒸着部材の側方に蒸発源とイオン源
を配置したので、蒸発した蒸着材料がごみとしてイオン
源に落下しにくくなる。また、被蒸着部材を垂直に搬送
するようにしたので、被蒸着部材がたるんだすせず、蒸
発源ならびにイオン源の前後における搬送手段の間隔を
大きく取ることができる。したがって、蒸発源から蒸発
した蒸着材料が搬送手段に付着しにくくなる。このよう
に、蒸発した蒸着材料がごみとしてイオン源に落下しに
<<、かつ搬送手段にも付着しにくくなり、保守が容易
に行なえるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の概略図、第2図はその要
部斜視図、第3図は従来例の斜視図である。 10・・・真空槽、12・・・搬送手段、14・・・被
蒸着部材、16a〜16d−’If発源、18a 〜1
8d・・・イオン源、26a〜26d・・・トリガ電極
、34・・・バイアス電源 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空槽と、この真空槽内でシート状の被蒸着部材を垂直
    に搬送する搬送手段と、前記真空槽内において前記被蒸
    着部材の側方に設けられ蒸着材料をアーク放電により蒸
    発させてイオン化する蒸発源と、前記真空槽と前記被蒸
    着部材との間にバイアス電圧を印加し前記イオン化した
    蒸着材料を前記被蒸着部材に引付けるバイアス電源と、
    前記蒸発源の前記被蒸着部材の搬送方向下手側において
    前記真空槽内に設けられ前記被蒸着部材の表面に蒸着し
    た蒸着層にイオンを照射するイオン源とを備えたイオン
    ビーム蒸着装置。
JP13241786A 1986-06-06 1986-06-06 イオンビ−ム蒸着装置 Granted JPS62287068A (ja)

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