JPS6324068A - 連続真空蒸着メツキ装置 - Google Patents
連続真空蒸着メツキ装置Info
- Publication number
- JPS6324068A JPS6324068A JP16743886A JP16743886A JPS6324068A JP S6324068 A JPS6324068 A JP S6324068A JP 16743886 A JP16743886 A JP 16743886A JP 16743886 A JP16743886 A JP 16743886A JP S6324068 A JPS6324068 A JP S6324068A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- steel sheet
- vacuum deposition
- metal
- duct
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title abstract description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 abstract 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 2
- -1 At and Ri Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は連続真空蒸着によりメッキを行なうメッキ装
置に関するものである。
置に関するものである。
従来の真空蒸着装置例として、牙６図に亜鉛メッキを行
なう連続真空蒸着亜鉛メッキ装置を示した。ここで、５
００℃程度の亜鉛浴蒸発源５から出た蒸発亜鉛粒子３は
その噴出エネルギーのみで約１０〜２Ｔｏｒｒの真空中
で移動し、鋼板７面上に付着堆積し膜を形成している。
なう連続真空蒸着亜鉛メッキ装置を示した。ここで、５
００℃程度の亜鉛浴蒸発源５から出た蒸発亜鉛粒子３は
その噴出エネルギーのみで約１０〜２Ｔｏｒｒの真空中
で移動し、鋼板７面上に付着堆積し膜を形成している。
こうした、従来の連続真空蒸着メッキでは蒸発金属粒子
は蒸発時に熱エネルギーの形態で与えられた運動エネル
ギーのみで鋼板に衝突するため付着力及び膜質の点で満
足できる品質のものが得られなかった。
は蒸発時に熱エネルギーの形態で与えられた運動エネル
ギーのみで鋼板に衝突するため付着力及び膜質の点で満
足できる品質のものが得られなかった。
こうした問題を解決するものとして、高周波グロー放電
を利用することが考えらねるが、鋼板に負のバイアス電
圧を与え、正の金属イオン粒子を鋼板面で吸引するよう
電圧を与えろことは鋼板が長いため絶縁が難しい。
を利用することが考えらねるが、鋼板に負のバイアス電
圧を与え、正の金属イオン粒子を鋼板面で吸引するよう
電圧を与えろことは鋼板が長いため絶縁が難しい。
また、蒸発源側の電位を浮かせることによってイオンを
加速することも可能であるが操業性が非常に悪くなるら さらに、連続真空蒸着メッキでは真空シールが難しいの
で低真空域（１０”−２Ｔｏｒｒ）で蒸着を行っている
ため安定な放電を保ちに（いという問題があった。
加速することも可能であるが操業性が非常に悪くなるら さらに、連続真空蒸着メッキでは真空シールが難しいの
で低真空域（１０”−２Ｔｏｒｒ）で蒸着を行っている
ため安定な放電を保ちに（いという問題があった。
そこで、この発明は前記のような従来の連続真空蒸着メ
ツモにおける問題点を解決して蒸発金属粒子と鋼板との
付着力を高め、及び蒸着金属の膜質向上を図ることので
きるメッキ装置を提供することを目的とする。
ツモにおける問題点を解決して蒸発金属粒子と鋼板との
付着力を高め、及び蒸着金属の膜質向上を図ることので
きるメッキ装置を提供することを目的とする。
この発明による連続真空蒸着メッキ装置は、金属浴蒸発
源の近傍に高周波電極を設けて蒸発した金属粒子をイオ
ン化し、鋼板近傍には補助陰極を設けてイオン化した金
属粒子を加速する点に特徴がある。
源の近傍に高周波電極を設けて蒸発した金属粒子をイオ
ン化し、鋼板近傍には補助陰極を設けてイオン化した金
属粒子を加速する点に特徴がある。
以下、図示するこの発明の実施例により説明する。
矛１図に実施例の連続真空蒸着亜鉛メッキ装置を示した
。ここで、ダクト２内の蒸発源５上方には高周波電極９
が設けられており、この高周波電極９には真空蒸着装置
１外部に設けられた高周波電源１５からマツチングボッ
クス１４を介して高周波電流が供給される。この高周波
電極９への高周波電流の印加によりアースされたダクト
２との間に高周波グロー放電によるプラズマ領域１２が
発生する。このため蒸発源５から出た蒸発亜鉛粒子３は
プラズマ領域１２を通過することでイオン化される。
。ここで、ダクト２内の蒸発源５上方には高周波電極９
が設けられており、この高周波電極９には真空蒸着装置
１外部に設けられた高周波電源１５からマツチングボッ
クス１４を介して高周波電流が供給される。この高周波
電極９への高周波電流の印加によりアースされたダクト
２との間に高周波グロー放電によるプラズマ領域１２が
発生する。このため蒸発源５から出た蒸発亜鉛粒子３は
プラズマ領域１２を通過することでイオン化される。
一方、ダクト２内の鋼板７前面には牙２図に部分拡大し
て示したようにほぼ鋼板７に等しい幅を有する枠状の補
助陰極１０が設けられており、真空蒸着装置１の外部の
直流電源１１より負の電荷が印加される。
て示したようにほぼ鋼板７に等しい幅を有する枠状の補
助陰極１０が設けられており、真空蒸着装置１の外部の
直流電源１１より負の電荷が印加される。
こうして配置された高周波電極９と補助陰極１０への高
周波電源１５及び直流電源１】からの電流供給線は真空
蒸着装置１の外壁及びダクト２に挿通する部分で絶、縁
材１３により装置のンールド性を保ちつつ絶縁されてい
る。
周波電源１５及び直流電源１】からの電流供給線は真空
蒸着装置１の外壁及びダクト２に挿通する部分で絶、縁
材１３により装置のンールド性を保ちつつ絶縁されてい
る。
ここで、高周波電極９に１３．５６ＭＨｚ程度の高周波
電界がかけられると、こねにより１０−２Ｔｏｒｒ付近
の低真空でも安定な高周波グロー放電が起こり、プラズ
マ領域１２が発生する。
電界がかけられると、こねにより１０−２Ｔｏｒｒ付近
の低真空でも安定な高周波グロー放電が起こり、プラズ
マ領域１２が発生する。
ここに、蒸発亜鉛粒子３が入ると電子との衝突によりイ
オン化される。また、蒸発源５と鋼板７どの間に設けら
れた補助陰極１０には負の電荷が印加されているので、
この電位差ニよって正イオン亜鉛粒子８は加速され、従
来の真空蒸着に比べ数百倍以上の運動エネルギーを持っ
て鋼板７表面上に衝突する。こうして適度なイオン衝撃
により付着力が強（ピンホールの少ない緻密な膜が形成
される。また、高周波グロー放電は放電領域が広いため
、広巾な鋼板にも均一な品質の膜形成ができる。
オン化される。また、蒸発源５と鋼板７どの間に設けら
れた補助陰極１０には負の電荷が印加されているので、
この電位差ニよって正イオン亜鉛粒子８は加速され、従
来の真空蒸着に比べ数百倍以上の運動エネルギーを持っ
て鋼板７表面上に衝突する。こうして適度なイオン衝撃
により付着力が強（ピンホールの少ない緻密な膜が形成
される。また、高周波グロー放電は放電領域が広いため
、広巾な鋼板にも均一な品質の膜形成ができる。
この実施例では、亜鉛メッキの場合について記載したが
、Ａｔ 、 ｒｉ等の金属及びＡｌ２Ｏ３等の無機材料
及び有機材料の連続真空蒸着にも適用できる。
、Ａｔ 、 ｒｉ等の金属及びＡｌ２Ｏ３等の無機材料
及び有機材料の連続真空蒸着にも適用できる。
この発明による連続真空蒸着メッキ装置の実施例は以上
の通りであり、次に述べる効果を挙げることができる。
の通りであり、次に述べる効果を挙げることができる。
蒸発金属粒子を高周波グロー放電によりイオン化するこ
とによって、電気的なエネルギーを与え、鋼板との付着
力及び蒸濁金属の膜質の向上を図ることができる。
とによって、電気的なエネルギーを与え、鋼板との付着
力及び蒸濁金属の膜質の向上を図ることができる。
刃・１図は実施例の装置構成図、牙２図は補助陰極の部
分拡大図、牙３図は従来例を示す装置構成図である。 １・・・・・・真空蒸着槽、２・・・・・・ダクト、３
・・・・・・蒸発亜鉛粒子、４・・・・・・シャッター
、５・・・・・・蒸発源、６・・・・・・外部溶解炉、
７・・・・・・鋼板、８・・・・・・正イオン化した蒸
発亜鉛粒子、９・・・・・・高周波電極、１０・・・・
・・補助陰極、１１・・・・・直流電源、１２・・・・
・・プラズマ領域、１３・・・・・・絶縁材、１４・・
・・・・マツチングボックス、１５・・・・・・高周波
電源。
分拡大図、牙３図は従来例を示す装置構成図である。 １・・・・・・真空蒸着槽、２・・・・・・ダクト、３
・・・・・・蒸発亜鉛粒子、４・・・・・・シャッター
、５・・・・・・蒸発源、６・・・・・・外部溶解炉、
７・・・・・・鋼板、８・・・・・・正イオン化した蒸
発亜鉛粒子、９・・・・・・高周波電極、１０・・・・
・・補助陰極、１１・・・・・直流電源、１２・・・・
・・プラズマ領域、１３・・・・・・絶縁材、１４・・
・・・・マツチングボックス、１５・・・・・・高周波
電源。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 金属浴蒸発源から出た金属粒子で鋼板に真空蒸着を行な
うメッキ装置において、 前記蒸発源の近傍に高周波電極を設けて蒸発した金属粒
子をイオン化し、鋼板近傍には補助陰極を設けて前記イ
オン化した金属粒子を加速することを特徴とする連続真
空蒸着メッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16743886A JPS6324068A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 連続真空蒸着メツキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16743886A JPS6324068A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 連続真空蒸着メツキ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6324068A true JPS6324068A (ja) | 1988-02-01 |
Family
ID=15849710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16743886A Pending JPS6324068A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 連続真空蒸着メツキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6324068A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100429148B1 (ko) * | 1999-11-09 | 2004-04-28 | 주식회사 포스코 | 아연증기를 이용한 아연도금장치 |
| KR100513773B1 (ko) * | 1999-05-24 | 2005-09-09 | 주식회사 포스코 | 강판의 연속도금방법 및 이에 사용되는 도금장치 |
| KR100839446B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2008-06-18 | 주식회사 포스코 | 용융아연 분사노즐 장치 |
| KR100839447B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2008-06-19 | 주식회사 포스코 | 고전압 전극 분말 도금 장치 및 방법 |
| JP2008270416A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Sanken Electric Co Ltd | 物体に粗面を形成する方法 |
| WO2016198394A1 (en) * | 2015-06-08 | 2016-12-15 | Te Connectivity Germany Gmbh | Electrical contact element and method for altering mechanical and/or electrical properties of at least one area of such |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP16743886A patent/JPS6324068A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100513773B1 (ko) * | 1999-05-24 | 2005-09-09 | 주식회사 포스코 | 강판의 연속도금방법 및 이에 사용되는 도금장치 |
| KR100429148B1 (ko) * | 1999-11-09 | 2004-04-28 | 주식회사 포스코 | 아연증기를 이용한 아연도금장치 |
| KR100839446B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2008-06-18 | 주식회사 포스코 | 용융아연 분사노즐 장치 |
| KR100839447B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2008-06-19 | 주식회사 포스코 | 고전압 전극 분말 도금 장치 및 방법 |
| JP2008270416A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Sanken Electric Co Ltd | 物体に粗面を形成する方法 |
| WO2016198394A1 (en) * | 2015-06-08 | 2016-12-15 | Te Connectivity Germany Gmbh | Electrical contact element and method for altering mechanical and/or electrical properties of at least one area of such |
| US10777912B2 (en) | 2015-06-08 | 2020-09-15 | Te Connectivity Germany Gmbh | Electrical contact element and method for altering mechanical and/or electrical properties of at least one area of such |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6987364B2 (en) | Floating mode ion source | |
| US3562142A (en) | R.f.sputter plating method and apparatus employing control of ion and electron bombardment of the plating | |
| US4933065A (en) | Apparatus for applying dielectric or metallic materials | |
| JPS6324068A (ja) | 連続真空蒸着メツキ装置 | |
| KR100273326B1 (ko) | 고주파 스퍼터링 장치 및 이를 이용한 박막형성방법 | |
| KR100326503B1 (ko) | 차폐된보조애노드를이용한전기적절연물질의dc반응성플라즈마기상증착장치및방법 | |
| EP0047456B1 (en) | Ion plating without the introduction of gas | |
| JP3406769B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPH0488165A (ja) | スパッタ型イオン源 | |
| JPS6320465A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS6342373A (ja) | 連続真空蒸着メツキ装置 | |
| JP3788632B2 (ja) | 連続イオンプレーティング装置 | |
| RU2037559C1 (ru) | Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления | |
| JPS616271A (ja) | バイアスイオンプレ−テイング方法および装置 | |
| JPS5831078A (ja) | 被膜基体の前処理方法およびその装置 | |
| JPS63241162A (ja) | 高周波イオンプレ−テイング装置 | |
| JP3431174B2 (ja) | サブストレートのコーティング装置 | |
| JP2000017429A (ja) | 真空成膜装置 | |
| JPH0751750B2 (ja) | 膜形成装置 | |
| JPH0621352B2 (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPS63140079A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JP3617056B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPS55110774A (en) | High vacuum ion plating apparatus | |
| JPH09263933A (ja) | 蒸着装置におけるるつぼ部機構 | |
| JP2812517B2 (ja) | イオンプレーティング方法および装置 |