JPH05306244A - mーエチルフェノールの製造法 - Google Patents

mーエチルフェノールの製造法

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JPH05306244A
JPH05306244A JP4131967A JP13196792A JPH05306244A JP H05306244 A JPH05306244 A JP H05306244A JP 4131967 A JP4131967 A JP 4131967A JP 13196792 A JP13196792 A JP 13196792A JP H05306244 A JPH05306244 A JP H05306244A
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JP
Japan
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ethylphenol
halogenated
chloro
producing
hydrogen
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JP4131967A
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English (en)
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Kazuki Morino
森野和貴
Yasuhiko Horikawa
堀川泰彦
Osamu Kimura
修 木村
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Taoka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Taoka Chemical Co Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 医薬、農薬および写真薬などの中間体等とし
て有用なmーエチルフェノールの製造法に関するもので
ある。 【構成】 ハロゲン化mーエチルフェノール(混合物)
を、還元触媒、水素および脱ハロゲン化水素剤の存在下
に、脱ハロゲン化することを特徴とするmーエチルフェ
ノールの製造法。 【効果】 本発明によれば、種々の工程から得られるハ
ロゲン化mーエチルフェノール又はその混合物から、医
薬、農薬および写真薬などの中間体等として有用なmー
エチルフェノールを、工業的に有利な工程により、しか
も、高収率で回収し、製造することが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬および写真
薬などの中間体等として有用なmーエチルフェノールの
製造法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】これまで、ハロゲン化mーエチルフェノ
ールから、脱ハロゲン化反応によりmーエチルフェノー
ルを製造する方法は知られていない。ハロゲン化mーエ
チルフェノールから、鉄粉還元や、亜鉛末還元などの通
常の脱ハロゲン水素化法で、mーエチルフェノールを得
ることは困難である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】mーエチルフェノール
は、医薬、農薬および写真薬などの中間体等として有用
な化合物であるが、更にmーエチルフェノールをハロゲ
ン化することにより、例えば4ーハロゲン化ーmーエチ
ルフェノールとして、有用な中間体として利用されてい
る。しかしながら、該ハロゲン化mーエチルフェノール
は、目的の化合物だけを得ることは難しく、目的の位置
以外の位置にハロゲン原子が入ったものや、目的の数以
上のハロゲン原子が入ったものが副生し、該副生物の有
効利用が課題とされている。
【0004】本発明者らは、該ハロゲン化mーエチルフ
ェノールを特定の還元処理することにより、効率よくm
ーエチルフェノールが回収されることを見出し、本発明
を完成するに至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I)
【0006】
【化−1】
【0007】(式中Xはハロゲン原子を、mは1〜4の
整数を表し、mが2以上の整数を表すときは、Xは同一
もしくは異なるハロゲン原子を示す。)で表されるハロ
ゲン化mーエチルフェノールを、還元触媒、水素および
脱ハロゲン化水素剤の存在下に、脱ハロゲン化すること
を特徴とするmーエチルフェノールの製造法である。
【0008】本発明の一般式(I)で示されるハロゲン
化mーエチルフェノールとしては、具体的には、6ーク
ロルー3ーエチルフェノール、4ークロルー3ーエチル
フェノール、4,6ージクロルー3ーエチルフェノー
ル、2,4,6ートリクロルー3ーエチルフェノールあ
るいそれらの混合物があげられる。特に本発明において
6ークロルー3ーエチルフェノール、4ークロルー3ー
エチルフェノール、4,6ージクロルー3ーエチルフェ
ノールを主成分として含む混合物に対して好ましく適用
される。
【0009】本発明で用いられる還元触媒としては、一
般に接触還元に使用されている金属触媒、例えば、ニッ
ケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバ
ルト、銅などである。これらの触媒は、金属の状態でも
使用することが出来るが、ラネー合金などの合金で用い
たり、カーボン、シリカゲル、アルミナなどの坦体に坦
持させた状態で用いたり、また、ニッケル、コバルト、
銅などは、ラネー触媒としても用いられる。また、ラネ
ー合金は、触媒作用を有する金属Xと触媒作用を有しな
い金属Yとの合金であって、金属Xとしては、ニッケ
ル、コバルト、銅、鉄などであり、金属Yとしては、ア
ルミニウム、ケイ素、マグネシウム、亜鉛などである。
【0010】また、本発明者らは、ラネー合金とその金
属単体Yを同時に用いることにより、ラネー合金の使用
量を削減でき、効果的に目的とするmーエチルフェノー
ルを製造できることを見出した。本発明において、これ
らの還元触媒の使用量は、ハロゲン化mーエチルフェノ
ールに対して、0.01〜75重量%の範囲、好ましく
は、1〜60重量%である。
【0011】本発明において水素としては、水素或いは
酸またはアルカリによって水素を発生する金属の水酸化
物、炭酸塩、炭酸塩などの水素発生剤が挙げられる。例
えば、前記ラネー合金の金属Yであげた金属Yなど水素
発生剤に該当する。ここで、ラネー合金と同時に用いら
れて水素を発生する金属の水酸化物としては、アルカリ
金属またはアルカリ土類金属の水酸化物であり、具体的
にはナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシ
ウムなどの水酸化物が挙げられる。
【0012】水素の使用量は、通常ハロゲン化mーエチ
ルフェノールの除くべきハロゲンに対する理論量より過
剰の量が好ましい。
【0013】また、本発明において、脱ハロゲン化水素
剤としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸
化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、低級脂肪酸塩ある
いはアンモニアまたは通常の有機アミン類などがあげら
れる。具体的には、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウ
ム、プロピオン酸カリウム、アンモニア、トリエチルア
ミン、トリーnーブチルアミン、トリエタノールアミ
ン、ピリジンおよびNーメチルモルホリンなどがあげら
れる。これらの脱ハロゲン化水素剤は、必要により2種
以上を、混合使用しても良い。
【0014】この脱ハロゲン化水素剤の使用量は、ハロ
ゲン化mーエチルフェノールの除くべきハロゲンに対す
る理論量の1〜15倍、好ましくは、1〜4倍である。
【0015】本発明の反応では、通常、反応溶媒を使用
する。用いられる反応溶媒としては、反応に不活性なも
のであれば良く、例えば、水、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、エチ
レングリコール、プロピレングリコールなどのグリコー
ル類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チルセルソルブ、エチルセルソルブ等のエーテル類、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジクロロメタン、
1,2ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類およ
びN,N´ージメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等が使用することができる。これらの反応溶媒は、
必要により2種以上を、混合しても使用しても良い。
【0016】水と、水と混和しない溶剤を同時に使用す
る場合、4級アンモニウム塩などの相間移動触媒を使用
して、反応を早めることも出来る。
【0017】反応溶剤の使用量は、原料を溶解あるい
は、懸濁させる量以上あれば良く、特に限定されない
が、通常、ハロゲン化mーエチルフェノールに対して、
1〜30重量倍で充分である。
【0018】本発明の方法における反応温度は特に限定
はないが、通常10〜200℃の範囲、さらに好ましく
は、20〜100℃の範囲である。本発明の方法は、通
常、常圧〜50Kg/cm2 で行われる。
【0019】反応の終点は、ガスクロマトグラフィーを
用いて知ることが出来る。反応終了後、抽出や、蒸留な
どの通常の方法を用いて、mーエチルフェノールを単離
することができる。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、種々の工程から得られ
るハロゲン化mーエチルフェノール又はその混合物か
ら、医薬、農薬および写真薬などの中間体等として有用
なmーエチルフェノールを、工業的に有利な工程によ
り、しかも、高収率で回収し、製造することが出来る。
【0021】
【実施例】以下に、実施例によって、本発明を具体的に
説明するが、実施例は、本発明を限定するものではな
い。
【0022】実施例 1 撹拌機、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた
500ccガラス製4ツ口フラスコに、水240ml、
ハロゲン化mーエチルフェノール(6ークロルー3ーエ
チルフェノール55.5%;4ークロルー3ーエチルフ
ェノール36.0%;4,6ージクロルー3ーエチルフ
ェノール4.3%を含む)10.0g、ラネーニッケル
1.5g(固形分換算)アルミニウム粉末1.5gを
仕込み、撹拌しながら85℃まで昇温する。47%苛性
ソーダ水溶液11.0gを滴下したのち、8時間保温す
る。反応液のガスクロマトグラフィー分析によって、次
の結果を得た。
【0023】 mーエチルフェノール 99.5% 6ークロルー3ーエチルフェノール トレース 4ークロルー3ーエチルフェノール 0.1% 4,6ージクロルー3ーエチルフェノール トレース その他 0.4%
【0024】実施例 2 撹拌機、温度計、滴下ロート、および、還流冷却器を備
えた300ccガラス製4ツ口フラスコに、水150m
l、ハロゲン化mーエチルフェノール(6ークロルー3
ーエチルフェノール55.5%;4ークロルー3ーエチ
ルフェノール36.0%;4,6ージクロルー3ーエチ
ルフェノール4.3%を含む)10.0gおよび50%
ラネー合金3.0gを仕込み、撹拌しながら85℃まで
昇温する。47%苛性ソーダ水溶液15.0gを滴下し
たのち、4時間保温する。反応液のガスクロマトグラフ
ィー分析によって、次の結果を得た。
【0025】 mーエチルフェノール 99.8% 6ージクロルー3ーエチルフェノール トレース 4ークロルー3ーエチルフェノール 0.1% 4,6ージクロルー3ーエチルフェノール 0.1%
【0026】実施例 3 撹拌機、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた
500ccガラス製4ツ口フラスコに、メタノール15
0ml、ハロゲン化mーエチルフェノール(6ークロル
ー3ーエチルフェノール55.5%;4ークロルー3ー
エチルフェノール36.0%;4,6ージクロルー3ー
エチルフェノール 4.3%を含む)15.0g、5%
パラジウムーカーボン0.75gおよび苛性ソーダ15
gを仕込み、撹拌しながら71℃まで昇温し、還流下
に、14時間保温する。反応液のガスクロマトグラフィ
ー分析によって、次の結果を得た。
【0027】 mーエチルフェノール 86.8% 6ークロルー3ーエチルフェノール 11.5% 4ークロルー3ーエチルフェノール トレース 4,6ージクロルー3ーエチルフェノール 0.7% その他 0.1%

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I) (式中Xはハロゲン原子を、mは1〜4の整数を表し、
    mが2以上の整数を表すときは、Xは同一もしくは異な
    るハロゲン原子を表す。)で表されるハロゲン化mーエ
    チルフェノールを、還元触媒、水素および脱ハロゲン化
    水素剤の存在下に、脱ハロゲン化することを特徴とする
    mーエチルフェノールの製造法。
  2. 【請求項2】一般式(I)で示されるハロゲン化mーエ
    チルフェノールが、6ークロルー3ーエチルフェノー
    ル、4ークロルー3ーエチルフェノール、4,6ージク
    ロルー3ーエチルフェノールを含む混合物である請求項
    1に記載のmーエチルフェノールの製造法。
  3. 【請求項3】反応を水溶媒中で行う請求項1又は請求項
    2のいずれかに記載のmーエチルフェノールの製造法。
  4. 【請求項4】還元触媒が、ラネー合金である請求項1〜
    請求項3のいずれかに記載のmーエチルフェノールの製
    造法。
  5. 【請求項5】水素が、水素発生剤から得られる請求項1
    〜請求項4のいずれかに記載のmーエチルフェノールの
    製造法。
  6. 【請求項6】脱ハロゲン化水素剤が、水酸化アルカリで
    ある請求項1〜請求項5のいずれかに記載のmーエチル
    フェノールの製造法。 【0001】
JP4131967A 1992-04-24 1992-04-24 mーエチルフェノールの製造法 Pending JPH05306244A (ja)

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