JPH03197434A - 還元方法 - Google Patents

還元方法

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JPH03197434A
JPH03197434A JP1337227A JP33722789A JPH03197434A JP H03197434 A JPH03197434 A JP H03197434A JP 1337227 A JP1337227 A JP 1337227A JP 33722789 A JP33722789 A JP 33722789A JP H03197434 A JPH03197434 A JP H03197434A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アルコール類又はアミン類を効率よく製造す
る方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
有機官能基を還元するには、水素化アルミニラムリチウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素化物による還
元反応；白金オキサイド、活性炭担持ルテニウム、Ｃｕ
−Ｃｒ触媒等の遷移金属触媒を用いる水素化反応等が行
われでいる。
しかしながら、いずれの方法においても、■　高温／高
圧さいうような苛酷な反応条件が必要である、 ■　特定の官能基は還元できるが、その他の官能基は還
元できないなどの官能基適用性が狭い、■　極めて立体
障害の大きい官能基について適用した際に、生成物の収
率が低い、 ■　還元剤が工業規模で生産され−Ｃいないか、又は生
産されているとしても、大気中もしくは反応系の水分に
不安定であり、発火の危険が伴う、などの少なくともひ
とつの問題があった。
例えば遷移金属触媒を使用せずに、有機官能基を還元す
る場合、水素化アルミニウムリチウムは、反応系や大気
中の水分に極めて不安定なため、工業生産規模を考える
と、発火等の危険を伴う。その黒水素化ホウ素す）　Ｉ
Ｊウムは反応系の水分や人気中の水分に対して安定であ
るため、工業的な利用に適している。しかしながら、こ
の水素化ホウ素ナトリウムを使用することにより、アル
デヒド、ケトン、酸塩化物類は還元出来るが、オキシラ
ン、エステル、ラクトン類については極めて反応が遅く
、またカルボン酸、カルボン酸塩、三級アミド、二）　
ＩＪル類は還元出来ない。すなわら、水素化ホウ素す）
　ＩＪウムを単独で使用する方法では、官能基適用性が
極めて限られていた。
さらに、水素化ホウ素ナトリウムの還元能力を向上させ
る方法として、ハロゲン化リチウムを共存させ、系中で
水素化ホウ素リチウムとし、エステル、ラクトン、オキ
シラン類を効果的に還元する方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ　ｖｏｗ、３５．　ｐ５６７−６０７（１９７９）
）　、水素化ホウ素ナトリウムにカルボン酸を作用させ
アシル化水素化ホウ素ナトリウムとし、酸アミド、ニト
リル、カルボン酸類を還元する方法有機合成化学基会誌
、　３５（４）、　３００−３０３゜１９７７＞が報告
されている。又、溶剤としてピリジンを用いることによ
り３級、１級アミド類を還元出来るとする報告も提出さ
れている。近年では、テトラヒドロフラン、ジグライム
（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、ｔ−ブタ
ノール等を溶媒としメタノールを系中に滴下する方法に
より、水素化ホウ素ナトリウムではエステル、ラクトン
、オキシラン、ジスルフィド類も（Ｂｕｌｌ。
Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｊｐｎ、、　５７．１９４８−
１９５３（１９ｇ４））　、水素化ホウ素リチウムでは
、さらにニトリル、ニトロ、１級アミド、カルボン酸類
も還元出来る事が報告されている。（Ｊ、　Ｃｈａｍ、
　Ｓｏｃ、　、　Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍｍｕｎ、　、　６
６Ｂ（１９８３）、　Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、、　
５１．４０００（１９８６））。
しかしながら、水素化ホウ素リチウムは工業的に供給さ
れておらず、又、水素化ホウ素す）　＋７ウムとハロゲ
ン化リチウムより発生させる方法では、高価なリチウム
塩を多量に必要とする欠点がある。
さらに、アシル化水素化ホウ素ナトリウムは溶媒の種類
等により試薬が失活してしまう問題や、アミド類は何れ
の還元の際にも基質の５倍モル辺上の多量の水素化ホウ
素す）　ＩＪウムを必要とし、３級アミド、二）　ＩＪ
ル類は低収率でしか還元できず、エステル類は全く還元
出来ない欠点がある。一方、水素化ホウ素す）　ＩＪウ
ムそのものを使用する場合、テトラヒドロフラン、ジグ
ライム、ｔ−ブタノール等を溶媒とし、メタノールを系
中に滴下する方法でも、ニトリル、ニトロ、アミド、カ
ルボン酸類を還元することが出来ず、エステル、ラクト
ン、オキシラン類の還元についでも、多量の溶媒とメタ
ノールが必要であり、工業的には極めて生産性が悪い。
又、ピリジンを溶媒として水素化ホウ素ナトリウムを用
いる方法では、２級アミドは還元出来ず、３級アミドの
還元は進行するが低収率であり、１級アミドからはニト
リルが生成してしまうという欠点があった。
一方、遷移金属触媒を用いる水素化反応は経済的に優れ
た方法であるが、極めて立体障害の大きいケト基を有す
る化合物に適用した場合、白金オキサイド、活性炭担持
ルテニウム、Ｃｕ−Ｃｒ触媒の何れの触媒を用いても、
高温、高水素圧条件下においても、多量のケトンが残存
した平衡組成で反応が停止し、転化率を向上させること
はできなかった。すなわち、この方法では、極めて立体
障害の大きい官能基を有する化合物に対しては、満足す
べき収率が得られなかった。
例エバ、ボルナン−３−スピロ−１′−シクロペンタン
−２−オール（Ｉｎ）は香気性物質として極めて有用な
化合物であり、本発明者らは、ボルナン−３−スピロ−
１′−シクロペンクン−２−オン（ｎ）を活性炭担持ル
テニウム触媒で水素還元して製造する方法を開示した（
特願昭６３−２７５７７４号）。しかし、この触媒を使
用して高温、高水素圧条件下に於いて還元した場合に、
多量のケトン（ｎ）が残存した平衡組成で反応が停止し
、転化率を充分に向上させることはできなかった。
一方、水素化アルミニウムリチウムを用いれば、ボルナ
ン−３−スピロ−１′−シクロペンタン−２オンを定量
的に還元することができるが、これを工業的規模で実施
するには、該化合物が水分に極めて敏感であるため取扱
い上特別な配慮が必要であり、使用する溶媒も厳重に精
製しなければならないため、簡便かつ経済的な方法とは
言えなかった。これに対し、水素化ホウ素アルカリ金属
は水素化アルミニウムリチウムに比べ取扱い上の制約は
少ないが、ボルナン−３−スピロ−１７−シクロペンタ
ン−２−オン（Ｉｔ＞に適用すると溶媒として低級アル
コール、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフランを用
いた場合には収率が著しく低いか、反応が全く進行しな
いという問題があった。
このケトン化合物（ＩＩ）が還元されにくい原因は、ケ
ト基が立体障害を大きく受けていることによるものと推
定される。最近、テトラヒドロフランメタノール等のエ
ーテル系溶剤と低級アルコールとの混合溶剤系を用いる
方法（口ｕｌｌ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ。
Ｊｐｎ、、　５７．１９４８−１９５３（１９８４））
が開発され、収率が向上することが知られている。しか
しながら、この方法においても反応を完結させるために
は、基質の２．５倍モル以上の水素化ホウ素ナトリウム
と基質の１０倍容積以上の多量の溶媒が必要であり、工
業的規模で実施するには、生産性及び経済性の面から好
ましくなかった。
〔課題を解決するための手段〕
斯かる実情において、本発明者らは、鋭意研究を重ねた
結果、分子内にヒドロキシル基とエーテル結合を有する
化合物の存在下に、特定の官能基を有する化合物を水素
化ホウ素アルカリ金属で還元すれば、極めて温和な条件
にて、立体障害の大きい官能基でも還元可能であり、対
応するアルコール類及びアミン類を工業規模で効率良く
得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、分子内にヒドロキシ基とエーテル
結合を有する化合物の存在下、ホルミル基、ケト基、ニ
トロ基、オキシラン基、エステル基、ニトリル基、アミ
ド基、カルボキシル基又はハロゲン化カルボキシル基を
有する化合物を、水素化ホウ素アルカリ金属で還元する
ことを特徴とするアルコール類又はアミン類の製造方法
を提供するものである。
本発明において、被還元化合物であるホルミル基を有す
る化合物としては、特に限定されないが、例えばベンズ
アルデヒド、シトロネラール、ヒドロトロパアルデヒド
、リラール等が挙げられる。
これらを還元すれば、対応するアルコール類を製造する
ことができる。
ケト基を有する化合物としては、特に限定されないが、
例えば、メチルへブテノン、カルボン、カンファー、ボ
ルナン−３−スピロ−１′−シクロペンタン−２−オン
、ベンゾフェノン、ムスコン等が挙げられる。これらを
還元すれば、対応するアルコール類を製造することがで
きる。
ニトロ基を有する化合物としては、特に限定さレナいが
、例えばニトロベンゼン、ニトロプロパン、ムスク・ア
ンブレット等が挙げられる。これらを還元すれば、対応
するアミン類を製造することができる。
オキシラン基を有する化合物としては、特に限定されな
いが、例えばスチレンオキシド、スチルベンオキシド、
シクロヘキセンオキシド、α−ピネンオキシド等が挙げ
られる。これらを還元すれば、対応するアルコール類を
製造することができる。
エステル基を有する化合物としては、特に限定されない
が、例えばメチルベンゾエート、リナリルアセテート、
セドリルアセテート、酢酸ボルニル、α、ω−ペンタデ
カン酸ジメチルエステル、シクロペンタデカノリド等が
挙げられる。これらを還元すれば、対応するアルコール
類を製造することができる。
ニトリル基を有する化合物としては、特に限定されない
が、例えばゲラニルニトリル、シトロネラニトリル、ベ
ンズニトリル等が挙げられる。これらを還元すれば、対
応するアミン類を製造することができる。
アミド基を有する化合物としては、特に限定されないが
、例えばベンズアミド、Ｎ−メチルベンズアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメチルベンズアミド等が挙げられる。これらを還
元すれば、対応するアミン類を製造することができる。
カルボキシル基を有する化合物としては、特に限定され
ないが、例えばカプロン酸、安息香酸、α、ω−ペンタ
デカン酸、無水フタル酸等が挙げラレル。ハロゲン化カ
ルボキシル基を有する化合物としては、特に限定されな
いが、例えばカプロン酸塩化物、安息香酸塩化物、α、
ω−ペンタデカン酸塩化物等が挙げられる。これらを還
元すれば、対応するアルコール類を製造することができ
る。
また、本発明は、ジスルフィドの還元にも応用できる。
ジスルフィドとしては、例えば、ジアリールスルフィド
、ジフェニルジスルフィド等が挙げられ、これらを還元
すると、対応するチオールを製造することができる。
本発明で用いられる分子内にヒドロキシル基とエーテル
結合を有する化合物（以下、「ヒドロキシルエーテル化
合物」という）としては、特に限定されず、次の一般式
（１） ％式％（） 〔式中、Ｒ１はアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｒ
２は水素原子又はアルキル基を示し、またＲ１とＲ２は
結合してアルキレン基を形成してもよく、ｍは１〜５の
数を示す〕 １ で表わされる化合物、例えばエチレングリコールモノア
ルキルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、環状エーテルアルコール等が挙げられ、具体的には
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラヒド
ロフルフリルアルコール等が挙げられる。
また、水素化ホウ素アルカリ金属としては、水素化ホウ
素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リ
チウム等が挙げられる。
本発明においては、単官能基を有する化合物を還元する
場合には、被還元化合物１モルに対して水素化ホウ素ア
ルカリ金属０．２６〜１．８モル、ヒドロキシルエーテ
ル化合物０．０５〜７．０モル用いるのが好ましい。ま
た多官能基、例えばｎ官能基（ｎは正の整数）を有する
化合物を還元する場合には、２ 上記の１倍の水素化ポウ素アルカリ金属及びヒドロキシ
ルエーテル化合物を使用するのが好ましい。
また、反応溶媒の価格を低減させるた約、ヒドロキシル
エーテル化合物の一部を低級アルコールに置き換えるこ
ともできる。かかる低級アルコルとしては、例えばメタ
ノール、エタノール、プロハノール等が挙げられる。こ
のように、ヒドロキシルエーテル化合物と低級アルコー
ルを併用する際には単官能基を有する被還元化合物１モ
ルに対して水素化ホウ素アルカリ金属０．２６〜１．８
モル、ヒドロキシルエーテル化合物［）、０３〜３．０
モル、低級アルコール０．０４〜５．０モル用いるのが
望ましい。
反応は、被還元化合物と水素化ポウ素アルカリ金属の混
合液中に、ヒドロキシルエーテル化合物をゆっくりと滴
下するか又は、ヒドロキシル基・−チル化合物ど低級ア
ルコールとをゆっくりと滴下する。この際、ヒドロキシ
ルエーテル化合物と低級アルコールは事前に混合してい
ても、ヒドロキシルエーテル化合物、低級アルコールの
順に滴下しても良い。この反応はＯ℃〜１５０℃何れの
温度でも行えるが、高温側の方が反応進行が速いので、
５０℃〜１５０℃が反応の実用性の点からは最も望まし
い。
本発明方法は、立体障害の大きいケトン化合物にも適用
でき、対応するアルコール類を効率よく、工業的規模で
製造することができる。例えば、ケト基を有する化合物
として、立体障害の大きい次式（ｎ） で表わされるボルナン−３−スピロ−１′−シクロペン
クン−２−オンをヒドロキシルエーテル化合物の存在下
に水素化ホウ素アルカリ金属で還元した場合には、式（
ＩＩ［） で表わされる香気性物質として有用なボルナン−３−ス
ピロ−１′−シクロペンタン−２−オールの純品を、は
ぼ定量的に製造することができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ヒドロキシルエーテル化合物を用いる
ことにより、水素化ホウ素アルカリ金属を大過剰に使用
することなく、短時間で定量的に特定の官能基を有する
被還元性物質を還元し、対応するアルコール類又はアミ
ン類を工業的に効率良く製造することができる。
〔実施例〕
以下に実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
実施例１ 水素化ホウ素ナトリウム２８．６ｇ　（０，７６モル）
、ボルナン−３−スピロ−１′−シクロペンクン−２オ
ン１２０　ｇ　（０，５８モル）からなる混合液中に、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル１０９．３ｇ
（０，８２モル）とメタノール７４．６ｇ（２，，３３
モル）からなる混合液を、６０℃、９時間で滴下、攪拌
する。
その後、同温を保ち１０時間攪拌を行う。室温まで冷却
した後、希硫酸水で中和し水層を分離後、溶媒を留去す
る事によりボルナン−３−スピロ５ １′−シクロペンタン−２−オールの純品１１８．２ｇ
（収率９７．６％）を得た。
沸点：１４５℃／　１４　ｍｍＨｇ ＩＲ（ＫＢｒ錠剤、　ｃｍ−’）　　：　３７００〜３
１００（１’ｏ−１１）１０４５　（ν。−０） 実施例２ 水素化ホウ素ナトリウム４．８ｇ　（０，１３モル）、
ボルナン−３−スピロ−１′−シクロペンクン−２オン
２０ｇ（０，１モル）からなる混合液中に、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル５１ｇ（０，３８モル）
を、１１０℃、８時間で滴下、攪拌する。その後、１１
０℃を保ち１２時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、
希硫酸水で中和し水層を分離後、溶媒を留去する事によ
りボルナン−３−スピロ１′−シクロペンクン−２−オ
ールの純品１９．９ｇ（収率９８．５％）を得た。
沸点：１４５℃／　１４　ｍｍＨｇ ＩＲ（に８ｒ錠剤、　ｃｍ−’）　　：　３７００〜３
１００　（ν。−＋＋　）１０４５　（シｃ−ｏ　） 比較例１ ６ １００艷オートクレーブに、ボルナン−３−スピロ−１
′−シクロペンクン−２−オン５０ｇ１銅クロム触媒２
．５ｇを加え、水素圧１００ｋｇ／ｃｒｌ。
反応温度１７０℃にて２００時間反応行った。反応後、
触媒を濾別し、ガスクロマトグラフにて測定した結果、
ボルナン−３−スピロ−１′−シクロペンクン−２−オ
ールへの転化率は５５％であった。
比較例２ １００−オートクレーブに、ボルナン−３−スピロ−１
′−シクロペンクン−２−オン５０ｇ１白金オキサイド
触媒２．５ｇを加え、水素圧１００ｋｇ／Ｃ１１！、反
応温度１７０℃にて１７時間反応を行った。
反応後、触媒を濾別し、ガスクロマトグラフにて測定し
た結果、ボルナン−３−スピロ−１′−シクロペンクン
−２−オールへの転化率は１１％であった。
比較例３ １００ｍｌ！オートクレーブに、ボルナン−３−スピロ
−１′−シクロペンタン−２−オン５０ｇ１銅−亜鉛触
媒２．５ｇを加え、水素圧１００ｋｇ／ｃＩ＋！、反応
温度１３０℃にて３０時間反応を行った。反応後、触媒
を濾別し、ガスクロマトグラフにて測定した結果、ボル
ナン−３−スピロ−１′−シクロベンクン−２−オール
への転化率は７２％であった。
比較例４ １００艷オートクレーブに、ボルナン−３−スピロ−１
′−シクロベンクン−２−オン５０ｇ、活性炭担持ルテ
ニウム触媒（５０％含水晶）２．５ｇを加え、水素圧１
００　ｋｇ／　ｃｕｔ、反応温度１３５℃にて２０時間
反応を行った。反応後、触媒を濾別し、ガスクロマトグ
ラフにて測定した結果、ボルナン−３−スピロ−１７−
シクロベンクン−２−オールへの転化率は６０％であっ
た。
比較例５ 水素化ホウ素ナトリウム、ボルナン−３−スピロ−１′
−シクロペンタン−２−オン４．６ｇ　（０，１２モル
）、テトラヒドロフランからなる混合液中に、６０℃に
てメタノールを１時間で滴下し、攪拌する。その後、６
０℃で１０時間熟成を行う。
上述の方法によりボルナン−３−スピロ−１′シクロベ
ンクン−２−オールを収率９７％で得るには、水素化ホ
ウ素ナトリウム４．６ｇ（基質に対し２．５倍モル）、
テトラヒドロフラン８０ｍ１（基質に対し８倍容量）、
メタノール３０ｍ１（基質に対し３倍容量ンが必要であ
った。
実施例３ 水素化ホウ素−＋−）　！Ｉ　ウｌ−０，６５ｇ　（０
，０１７モル）、キシレン１０ｒｎｐ、、４−ｔ−ブチ
ルシクロへキザノン１０　ｇ　（０，０６５モル）から
なる混合液中に、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル０．５２ｇ（０，００３９モル）、キシレン５ｍｌ
からなる混合液を、９５℃、３０分で滴下、攪拌する。
その後、９５℃を保ち、１時間攪拌を行う。室温まで冷
却した後、希硫酸水で中和した。この結果、４−ｔ−ブ
チルシクロヘキサノールが定量的に得られた。
実施例４ 水素化ホウ素ナトリウム１．３ｇ　（０，０３４モル）
、キシレン１０ｄ、１．２−エポキシエチルベンゼン５
　ｇ　（０，０４２モル）からなる混合液中に、ジエチ
レ９ ングリコールモノエチルエーテル８．９ｇ（０，０６６
モル）を、９０℃、１．５時間で滴下、攪拌する。その
後、９０℃を保ち１．５時間攪拌を行う。室温まで冷却
した後、希硫酸水で中和した。この結果、フェニルエチ
ルアルコールが定量的に得られた。
実施例５ 水素化ホウ素ナトリウム１．６ｇ　（０，０４２モル）
、キシレン１０−、カプリン酸メチル５ｇ（０，０２７
モル）からなる混合液中に、エチレングリコールモノエ
チルエーテル７、５ｇ　（０，０８３モル）を、９０℃
、２時間で滴下、攪拌する。その後、９０℃を保ち２．
５時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫酸水で中
和した。この結果、ｎ−デカノールの収率は９４％であ
った。
実施例６ 水素化ホウ素ナトリウム１．６ｇ　（０，０４２モル）
、キシレン１０艶、カプリン酸メチル５　ｇ　（０，０
２７モル）からなる混合液中に、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル１１．２ｇ　（０，０８３モル）を
、９０℃、２時間で滴下、攪拌する。その後、９０℃を
０ 保ち２．５時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫
酸水で中和した。この結果、ｎ−デカノールの収率は９
７％であった。
実施例７ 水素化ホウ素ナトリウム１．６ｇ　（０，０４２モル）
、キシレン１０ｍ１、カプリン酸メチル５　ｇ　（０，
０２７モル）からなる混合液中に、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル１３．５　ｇ　（０，０８３モル
）を９５℃、２時間で滴下、攪拌する。その後、９５℃
を保ち、２時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫
酸水で中和した。この結果、ｎ−デカノールの収率は９
８％であった。
実施例８ 水素化ホウ素ナトリウム１．６ｇ　（０，０４２モル）
、キシレン１０ｄ、カプリン酸メチル５　ｇ　（０，０
２７モル）からなる混合液中に、トリエチレングリコー
ルモノエチルエーテル１４．８　ｇ　（０，０８３モル
）を９５℃、２時間で滴下、攪拌する。その後、９５℃
を保ち、１．５時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、
希硫酸水で中和した。この結果、ｎ−デカノールの収率
は９９％であった。
実施例９ 水素化ホウ素ナトリウム５．１ｇ　（０，１４モル）、
キシレン２Ｏ−１ｎ−カプロニトリル８　ｇ　（０，０
８２モル）からなる混合液中に、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル３６．２ｇ（０，２７モル）を１１
０℃、４．５時間で滴下、攪拌する。その後、１１０℃
を保ち、３０分攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫
酸水で中和した。この結果、ヘキシルアミンが定量的に
得られる事が判った。
実施例１０ 水素化ホウ素ナトリウム６ｇ（０，１６モル）、キシレ
ン２５−、ベンズニトリル１０　ｇ　（０，０９７モル
）からなる混合液中にジエチレングリコールモノエチル
エーテル４３　ｇ　（０，３２モル）を１１０℃、２時
間で滴下、攪拌する。その後、１１０℃を保ち、１６時
間攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫酸水で中和し
た。この結果、ベンジルアミンの収率は７４％、未反応
ベンズニトリル２５％であった。
実施例１１ 水素化ホウ素ナトリウム４．１ｇ（０゜１１モル）、キ
シレン４０ｍ１！、ベンズアミド８　ｇ　（０，０８６
モル）からなる混合液中にジエチレングリコールモノエ
チルエーテル２９　ｇ　（０，２２モル）を１１０℃、
２時間で滴下、攪拌する。その後、１１０℃を保ち１５
時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫酸水で中和
した。この結果、ベンジルアミンの収率は６５％、未反
応ベンズアミド３４％であった。
実施例１２ 水素化ホウ素ナトリウム２．６ｇ　（０，０６９モル）
、キシレン３０ｍｆＳｎ−カプロン酸５　ｇ　（０，０
４３モル）からなる混合液中に、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル１７．９ｇ　（０，１３モル）を９
０℃、２時間で滴下、攪拌する。その後、９０℃を保ち
２時間攪拌を行う。室温まで冷却した後、希硫酸水で中
和した。この結果、ｎ−ヘキサノールが定量的に得られ
た。
実施例１３ 水素化ホウ素ナトリウム２．５ｇ　（０，０６６モル）
、キ３ ツレ２３０ｍ１！、α、ω−ペンタデカン酸モノメチル
エステル１０　ｇ　（０，０３６モル）からなる混合液
中に、ジエチレングリコールモノエチルエーテル１８　
ｇ　（０，１３４モル）を１１０℃、２時間で滴下、攪
拌する。その後、１１０℃を保ち、１時間攪拌を行う。
室温まで冷却した後、希硫酸水で中和した。この結果、
α、ω−ペンタデカンジオールの収率は９２％で、あっ
た。
実施例１４ 水素化ホウ素ナトリウム１．５ｇ　（０，０４モル）、
キシレン１５ｍ１！の混合溶液中に、エチルカルピトー
ル１０．７ｇ　（０，０８モル）を１２０℃、１．５時
間で滴下する。その後、１２０℃を保ち１時間攪拌後、
Ｎ、Ｎ−ジメチルベンズアミド３ｇ（０，０２モル）、
キシレン１０ｍ！！の混合溶液を０．５時間で滴下する
。
その後、１２０℃を保ち２０時間攪拌する。室温まで冷
却した後、希硫酸水で中和した。この結果、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルベンジルアミンの収率は５１％、ベンジルアルコ
ール４７％であった。
実施例１５ ４ 水素化ホウ素ナトリウム２．８ｇ　（０，０７４モル）
、Ｎメチルベンズアミド５　ｇ　（０，０３７モル）、
キシレン２５ｄからなる混合溶液中に、エチルカルピト
ール２９．８　ｇ　（０，２２２モル）を１２０℃、２
時間で滴下する。その後、１２０℃を保ち４０時間攪拌
する。室温まで冷却した後、希硫酸水で中和した。
この結果、Ｎ−メチルベンジルアミンの収率ハロ７．５
％、ベンジルアルコール７．７％、未反応Ｎメチルベン
ズアミド２３．６％であった。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、分子内にヒドロキシル基とエーテル結合を有する化
    合物の存在下、ホルミル基、ケト基、ニトロ基、オキシ
    ラン基、エステル基、ニトリル基、アミド基、カルボキ
    シル基又はハロゲン化カルボキシル基を有する化合物を
    、水素化ホウ素アルカリ金属で還元することを特徴とす
    るアルコール類又はアミン類の製造方法。 ２、分子内にヒドロキシル基とエーテル結合を有する化
    合物が、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１はアルキル基又はアルケニル基を示し、
    Ｒ＾２は水素原子又はアルキル基を示し、またＲ＾１と
    Ｒ＾２は結合してアルキレン基を形成してもよく、ｍは
    １〜５の数を示す〕 で表わされる化合物である請求項１記載のアルコール類
    又はアミン類の製造方法。 ３、分子内にヒドロキシル基とエーテル結合を有する化
    合物の存在下、式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表わされるボルナン−３−スピロ−１′−シクロペン
    タン−２−オンを水素化ホウ素アルカリ金属で還元する
    ことを特徴とする式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） で表わされるボルナン−３−スピロ−１′−シクロペン
    タン−２−オールの製造法。
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