JPH05291729A - 銅スルーホールプリント配線板の製造方法 - Google Patents

銅スルーホールプリント配線板の製造方法

Info

Publication number
JPH05291729A
JPH05291729A JP12922492A JP12922492A JPH05291729A JP H05291729 A JPH05291729 A JP H05291729A JP 12922492 A JP12922492 A JP 12922492A JP 12922492 A JP12922492 A JP 12922492A JP H05291729 A JPH05291729 A JP H05291729A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
benzimidazolyl
methyl
solution
copper
ethyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12922492A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Yamaguchi
秀明 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP12922492A priority Critical patent/JPH05291729A/ja
Publication of JPH05291729A publication Critical patent/JPH05291729A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 短時間で安価にかつ信頼性の高い銅スルーホ
ールプリント配線板を製造する方法を提供する。 【構成】 アルカリ性水溶性液に可溶な陰画のレジスト
膜をインク又はドライフィルム等で形成させ、銅表面を
下記一般式で示される化合物又はその誘導体の塩を含有
する溶液に浸漬して、該表面に下記一般式で示される化
合物の銅鎖体からなるエッチングレジスト膜を形成し、
アルカリ性エッチング液で処理して、銅スルーホール配
線板を製造する。 (R,Rはメチル基、nは0〜3,RはO,C1
以上のアルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】従来の銅スルーホールプリント配
線板の製造方法には数多くの問題点があった。本発明
は、それらの問題点を解決する新しい製造方法の提供を
目的とするものである。従って本発明はプリント配線板
製造業界に短い時間で安価にかつ信頼性の高い銅スルー
ホールプリント配線板を製造する方法を提供するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】銅スルーホールプリント配線板の製造方
法として穴埋法、テンティング法、半田剥離法に大別さ
れる。穴埋法は両面銅張積層板に必要な箇所に多数の穴
をあけ、この多数の穴を有する基板を化学銅メッキ、次
いで電気銅メッキが行なわれる。その後すべての穴にエ
ッチング液が入らないように目詰めインクを充填し、穴
の円部の銅メツキを保護した後、基板の両面に必要な回
路を印刷法もしくは写真法によって陽画形成しその後エ
ッチングを行なうことによって、エッチング及び目詰め
インクで保護されている部分を残して露出部分の銅を除
去することによって銅スルーホール配線板が形成され
る。テンティング法では、穴あけに続いて化学銅メッ
キ、電気銅メッキを行なった後ドライフィルムが貼り合
わされ、次いでパターン図の露光が行なわれ、次いで現
象後エッチングされる。穴の内部の銅メッキは貼り合わ
されたドライフィルムによって守られる半田剥離法で
は、電気銅メッキを行なうまでの工程は、上記の二つの
工法と同一であるが、必要な回路を印刷法もしくは、写
真法によって陰画形成で行なう点が異なっている。この
陰画回路はエッチングレジストではなく、その後行なう
電気半田メッキに対するメッキ用レジストである。勿論
この方法では、穴埋インクを使用する必要はない。陰画
で必要な回路をプリント配線配板に形成させ銅の露出部
以外がメッキ用レジスト膜で保護されていることにな
る。次いでこの露出部に電気半田メッキを行い、その後
メッキ用レジスト膜を除去する。次いで半田で保護され
ている部分を残して露出部分の銅を除去することによっ
て銅スルーホール配線板が形成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の製造方法では、
エッチングレジスト膜の信頼性に劣り製造不良が発生し
易い、あるいは生産性が低い又製造コストが高い等の欠
点を有している。ことに最近では短納期で大量の製品を
安価に提供することが要求されるようになると対応しき
れない。また半田メッキ法では工程で使用する弗化水素
酸や鉛に基づく公害の発生が懸念され、公害予防対策に
も多額の費用を必要とする欠点もある。すなわち半田剥
離法と同程度又はそれ以上の高い信頼性を有する銅スル
ーホール配線板の製造法であって、工程が簡単で短時間
の処理で済み、かつ安価でありしかも公害防止上排水処
理の簡単な方法の開発が強く望まれてきた。
【0004】
【問題点を解決するための手段】問題点を解決する手段
として、本発明者は半田よりもっと安価安全、且つ除去
が安易な物質を探した。勿論その物質はエッチングに耐
え、銅メッキの部分をエッチング液から保護するもので
なければならない。またその物質は選択的に銅表面上に
のみ膜を形成することが望まれるので銅と反応する物質
に着目し、鋭意研究を重ねた結果、ついに(化1)で表
される化合物がこれらの問題点を一挙に解決するもので
あることを見出だした。本発明の方法は、化学銅メッ
キ、電気銅メッキ、続いてアルカリ水溶液に可溶のレジ
ストインク又はアルカリ現象型液状レジスト、又はアル
カリ現象型感光性フイルムを銅張積層板上に陰画回路を
形成し、次いで有効成分として(化1)で表される化合
物を1種類又は2種類以上を混合した溶液に浸漬して、
銅表面に前記の化合物からなるエッチングレジスト膜を
形成し、次いで銅イオンを含む緩衝液に浸漬してかくし
て得られた銅張積層板を乾燥したのち、アルカリ性水溶
液と接触させて感光性フイルムもしくはレジスト膜を除
き、アルカリ性エッチング液で処理することにより、上
記の目的が十分達成されることを見い出し本発明を完成
することが出来た。本発明の実施に適する化合物は、2
−[1−メチル−1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)エチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−
メチル−メチル−2−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)エチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−
メチル−2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エ
チル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−(メチル
−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−
ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベンズイ
ミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、
2−[1−メチル−2−(メチル−2−ベンズイミダゾ
リル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−
[3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]
メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチ
ルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−3−(メチ
ル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[1−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2
−[1−エチル−1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3
−メチル−3−(ジメチルー2−ベンズイミダゾリル)
ブチル]メチルベンズイミダゾール、2−[3−メチル
−3−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチル
ベンズイミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメ
チル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズ
イミダゾール、2−[2−メチル−2−(メチル−2−
ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−4−(メチル−2−ベンズイ
ミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2
−[2−メチル−4(ジメチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−メ
チル−1−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−2−(2−
ベンズイミダゾリル)エチル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[1−メチル−2−(ジメチル2ベンズイミ
ダゾリル)エチル]ベンズイミダゾール、2−[1−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1
−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾー
ル、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−(2−
ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)ペンチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−エチル−
1−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[3−メチル−3−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾー
ル、2−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−
メチル−3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3
−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[2−
メチル−4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−4−(ジ
メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミ
ダゾール、2−[1−メチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2−[1
−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]メ
チルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−2−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]ベンズイミダ
ゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)プロピ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2
−(2メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベ
ンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(メチル−
2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミ
ダゾール、2−[1−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール、2−
[1−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリル)プロピ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3
−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベン
ズイミダゾール、2−[2−メチル−3−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダ
ゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)ペンチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−エチル−1
−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズ
イミダゾール、2−[3−メチル−3−(メチル−2−
ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2
−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3
−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3−(2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[2−メ
チル−2−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチル
ベンズイミダゾール、2−[2−メチル−4−(2−ベ
ンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−4−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[1−メ
チル−1−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−
2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[1−エチル−1−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)メチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメ
チルー2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベ
ンズイミダゾール、2−[1−メチル−2−(ジメチル
−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[1−メチル−3−(ジメチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミ
ダゾール、2−[2−メチル−3−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[1−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1
−エチル−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−メチル
−3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジ
メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベ
ンズイミダゾール、2−[2−メチル−4−(ジメチル
−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイ
ミダゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)ペ
ンチル]ベンズイミダゾール、2−[1−エチル−1−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾ
ール、2−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[1−メチル−
3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダ
ゾール、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾ
リル)プロピル]ベンズイミダゾール、2−[2−メチ
ル−2−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイ
ミダゾール、2−[2−メチル−4−(2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[1−メ
チル−1−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]ベンズ
イミダゾール、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイ
ミダゾリル)エチル]ベンズイミダゾール、2−[1−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ベンズイミダゾール、2−[1−メチル
−2−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイ
ミダゾール、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)ブ
チル]ベンズイミダゾール、2−[2−メチル−3−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピルベンズイミダゾー
ル、2−[1−メチル−1(メチル−2−ベンズイミダ
ゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2−[1
−メチル−2(メチル−2−ベンズイミダゾリル)エチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−(メチル−
2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミ
ダゾール、2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1,2−ジメチル−2−メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2
−[1−メチル−3−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]メチルベンズイミダゾール、2−[2−
メチル−3−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−(メチル
−2−ベンズイミダゾリル)ペンチル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[1−エチル−1−(メチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1,1−ジメチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1,3−ジメチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2,2−ジメチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1−エチル−1−メチル−2−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−4(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾール、2−
(2−ベンズイミダゾリル)ベンズイミダゾール、2−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)メチルベンズイミ
ダゾール、2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)
ジメチルベンズイミダゾール、2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)メチルベンズイミダゾール、2−(2−ベンズ
イミダゾリル)ジメチルベンズイミダゾール、2−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−(2−ベンズイミダゾリルメチル)ベンズ
イミダゾール、2−(メチル−2−ベンズイミダゾリル
メチル)メチルベンズイミダゾール、2−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリルメチル)ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−(2−ベンズイミダゾリルメチル)メチル
ベンズイミダゾール、2−(2−ベンズイミダゾリルメ
チル)ジメチルベンズイミダゾール、2−(メチル−2
−ベンズイミダゾリルメチル)ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]
ベンズイミダゾール、2−[2−(メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2
−[2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[2−(2−ベ
ンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[2(メチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)エチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]
ベンズイミダゾール、2−[3−(メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール、
2−[3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−(2−
ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)プロピ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2[3−(メチル−
2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイ
ミダゾール、2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブ
チル]ベンズイミダゾール、2−[4−(メチル−2−
ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[4−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)
ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[4−(2
−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[4−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペンチ
ル]ベンズイミダゾール、2−[5−(メチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)ペンチル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[5−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)
ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[5−
(2−ベンズイミダゾリル)ペンチル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペ
ンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[5−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)ペンチル]ジメチルベ
ンズイミダゾール、2−[6−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ヘキシル]ベンズイミダゾール、2−[6−(メチ
ル−2−ベンズイミダゾリル)ヘキシル]メチルベンズ
イミダゾール、2−[6−(ジメチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ヘキシル]ジメチルベンズイミダゾール、2
−[6−(2−ベンズイミダゾリル)ヘキシル]メチル
ベンズイミダゾール、2−[6−(2−ベンズイミダゾ
リル)ヘキシル]ジメチルベンズイミダゾール、2−
[6−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ヘキシル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[7−(2−ベンズ
イミダゾリル)ヘプチル]ベンズイミダゾール、2−
[7−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ヘプチル]
メチルベンズイミダゾール、2−[7−(ジメチル−2
−ベンズイミダゾリル)ヘプチル]ジメチルベンズイミ
ダゾール、2−[7−(2−ベンズイミダゾリル)ヘプ
チル]メチルベンズイミダゾール、2−[7−(2−ベ
ンズイミダゾリル)ヘプチル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[7−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)
ヘプチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[8−
(2−ベンズイミダゾリル)オクチル]ベンズイミダゾ
ール、2−[8−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)
オクチル]メチルベンズイミダゾール、2−[8−(ジ
メチル−2−ベンズイミダゾリル)オクチル]ジメチル
ベンズイミダゾール、2−[8−(2−ベンズイミダゾ
リル)オクチル]メチルベンズイミダゾール、2−[8
−(2−ベンズイミダゾリル)オクチル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[8−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)オクチル]ジメチルベンズイミダゾール、2
−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニル]ベンズイ
ミダゾール、2−[9−(メチル−2−ベンズイミダゾ
リル)ノニル]メチルベンズイミダゾール、2−[9−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ノニル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[9−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ノニル]メチルベンズイミダゾール、2−[9
−(2−ベンズイミダゾリル)ノニル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[9−(メチル−2−ベンズイミダ
ゾリル)ノニル]ジメチルベンズイミダゾール、と有機
酸や無機酸より形成されるもので、それらの酸の代表的
なものは、酢酸、蟻酸、カプリン酸、グリコール酸、パ
ラニトロ安息香酸、ジメチル酢酸、ジエチル酢酸、イソ
ブタン酸、ブタン酸、パラトルエンスルホン酸、ピクリ
ン酸、蓚酸、コハク酸、亜りん酸、マレイン酸、アクリ
ル酸、フマール酸、酒石酸、アジピン酸、塩酸、硫酸、
燐酸、乳酸、オレイン酸等である。又酢酸銅、硫酸銅、
塩化第一銅、塩化第二銅、水酸化銅、酸化銅、酸化第一
銅、酸化第二銅、リン酸銅、炭酸銅、等の金属化合物、
又はメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノール、アセトン等の水溶性溶媒を任意の割合
で混合して使用することも可能である。又銅イオンを含
む緩衝液に関して鋭意検討を重ねた結果、代表的な塩基
は、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエタ
ノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエ
タノールアミン、イソプロピルエタノールアミン、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等である。又酢酸銅、硫
酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、水酸化銅、酸化銅、酸
化第一銅、酸化第二銅、リン酸銅、炭酸銅、等の金属化
合物、のいずれかの群れから選ばれた化合物を1種類又
は2種類以上を混合した溶液を使用する事が好ましい。
本発明における処理の態様について述べる。銅の表面を
研磨、脱脂、酸洗、水洗浄によって仕上げ、引き続き
(化1)で表される化合物を0.1〜10%、好ましく
は0.1〜2%、及び有機酸、金属化合物を可溶化ある
いは乳化させた溶液に浸漬してして行なう。浸潰は0〜
100°Cの温度範囲が可能であるが望ましくは30〜
50°Cが適当である。浸漬時間は数秒から数十分の範
囲が可能で40〜50゜Cの温度では1〜3分が適当で
ある。溶液の適当なPHは酸性であれば可能であるが望
ましくは5.0以下が適当である。付着量は処理温度の
上昇及び処理時間の延長に従って増加する。又銅イオン
を含む緩衝液は銅イオン濃度数ppm以上、望ましくは
50ppm〜150ppmが適当である。又PHは6.
5〜5.0の範囲が適当である。浸漬温度は0〜100
℃の温度範囲が可能であるが望ましくは30〜50℃が
適当である。浸漬時間は数秒から数十分の範囲が可能で
あるが望ましくは1〜3分が適当である。上記の処理を
行なうことにより化学的に安定な耐エッチングレジスト
膜が出来る。
【0005】
【作用】アルキルベンズイミダゾールが銅箔上の銅と安
定なキレート単分子膜を形成し、その上に次々と安定な
キレート単分子膜が成長する。又アルキル基同志のファ
ンデルワールス力によって吸着し網目上の膜を成長させ
る。尚、アルキルベンズイミダゾールの膜形成後、銅イ
オンを含む緩衝液で処理を行うことにより膜中への銅の
移動が起こり非常に安定なキレート単分子膜となり、そ
の物理的強度が著しく向上する。
【0006】
【実施例】2−[1−メチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)エチル]ジメチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、2−エチル−n−酪酸、アンモニア、
塩化第二銅を含む溶液を0.5リットル容器に入れ、液
温を40°Cに加熱し調整した。他方、1.6m/m厚
のFR−4両面銅張積層板に穴をあけ、化学銅メツキ、
続いて電気メツキをすることにより穴内部及び両面に2
0〜25μ厚の銅メツキを形成させた。次にアクリル
酸、スチレンコポリマーを主成分とするレジストインク
(商品名「KM−10」太陽インキ製造(株)製)をス
クリーン印刷により厚さ20μ程度の陰画のレジスト膜
を形成し80゜Cの温度で10間乾燥した。又感光性フ
イルム(商品名「A−225」冨士ハント(株)製)を
ラミネート、露光、現像して、25μの陰画のレジスト
膜を形成した。上記の印刷法、写真法で陰画回路を形成
した銅張積層板を20%過硫酸ソーダ水溶液に30秒間
浸漬して、銅表面をソフトエッチ、水洗し表面を洗浄し
た試験板を準備し、上記の2−[1−メチル−1−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジメチルベン
ズイミダゾールを有効成分とする0.5%溶液に銅張積
層板を浸漬し、ゆっくり動かしながら40゜Cの温度で
3分間処理した。その後、銅張積層板を水洗し100°
Cで10分間乾燥してエッチングレジスト膜を形成させ
た。続いて3%水酸化ナトリウム水溶液で陰画のレジス
ト膜を除去し、回路として残す必要のない部分の銅を露
出させた、次いでアルカリ性エッチンング剤(商品名
「Aプロセス」メルテック(株)製)を用いて、液温5
0°Cでスプレー中に上記銅張積層板を120秒間通過
させてエッチングを行なった。その後銅張積層板を5%
塩酸水溶液に浸漬し、エッチングレジスト膜を溶解除去
して銅スルーホール配線板を作成した。この試験結果は
表1に示した。
【0007】
【実施例】2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0008】
【実施例】2−[2−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0009】
【実施例】2−[1−エチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0010】
【実施例】2−[1−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、
アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−
酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温
を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様
の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0011】
【実施例】2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、
アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−
酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温
を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様
の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0012】
【実施例】2−[1−エチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0013】
【実施例】2−[1−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0014】
【実施例】2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0015】
【実施例】2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0016】
【実施例】2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0017】
【実施例】2−[1−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0018】
【実施例】2−[1−エチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0019】
【実施例】2−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0020】
【実施例】2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0021】
【実施例】2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、ア
ンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪
酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を
40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の
処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0022】
【実施例】2−[1−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0023】
【実施例】2−[1−メチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0024】
【実施例】2−[1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0025】
【実施例】2−[1,2−ジメチル−2−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾ
ール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶
液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リッ
トル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0026】
【実施例】2−[1−エチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0027】
【実施例】2−[1,3−ジメチル−3−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダ
ゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む
溶液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リ
ットル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶
液に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果
は表1に示した。
【0028】
【実施例】2−[1−エチル−1−メチル−2−(メチ
ル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイ
ミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を
含む溶液に2−エチル−n一酪酸を添加した溶液を0.
5リットル容器に入れ、液を40°Cに加熱し調整した
溶液に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結
果は表1に示した。
【0029】
【実施例】2−[1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0030】
【実施例】2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0031】
【実施例】2−[1−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0032】
【実施例】2−[1−エチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0033】
【実施例】2−[1−メチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0034】
【実施例】2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0035】
【実施例】2−[1−エチル−1−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)メチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0036】
【実施例】2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾ
ール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶
液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リッ
トル容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0037】
【実施例】2−[1−エチル−1−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾ
ール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶
液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リッ
トル容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0038】
【実施例】2−[2−メチル−4−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0039】
【実施例】2−(2−ベンズイミダゾリルメチル)ベン
ズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二
銅を含む溶液に2−エチルーn−酪酸を添加した溶液を
0.5リットル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調
整した溶液に、前記実施例と同様の処理を行った。この
試験結果は表1に示した。
【0040】
【実施例】2−[2−(2−ベンズイミダゾリルメチ
ル)エチル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0041】
【実施例】2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニ
ア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添
加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40゜
Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を
行った。この試験結果は表1に示した。
【0042】
【実施例】2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、
塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添加し
た溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40°Cに
加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を行っ
た。この試験結果は表1に示した。
【0043】
【実施例】2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモ
ニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を
添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40
°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理
を行った。この試験結果は表1に示した。
【0044】
【実施例】2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペン
チル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニ
ア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添
加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40°
Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を
行った。この試験結果は表1に示した。
【0045】
【実施例】2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペン
チル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0046】
【実施例】2−[5−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0047】
【実施例】2−[7−(2−ベンズイミダゾリル)ペプ
チル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニ
ア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添
加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40°
Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を
行った。この試験結果は表1に示した。
【0048】
【実施例】2−[7−(2−ベンズイミダゾリル)ペプ
チル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0049】
【実施例】2−[7−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペプチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0050】
【実施例】2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニ
ル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、
塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添加し
た溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40゜Cに
加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を行っ
た。この試験結果は表1に示した。
【0051】
【実施例】2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニ
ル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモ
ニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を
添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40
°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理
を行った。この試験結果は表1に示した。
【0052】
【実施例】2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニ
ル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0053】
【発明の効果】本発明の製造方法により、生産性の向
上、生産性コストの減少、排水中の有害物質の減少、又
高い信頼性を有する銅スルーホールプリント配線板の製
造に、特に顕著な効果を発揮しうるものである。
【化1】
【表1】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年9月22日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 銅スルーホールプリント配線板の製造
方法
【特許請求の範囲】
【化1】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】従来の銅スルーホールプリント配
線板の製造方法には数多くの問題点があった。本発明
は、それらの問題点を解決する新しい製造方法の提供を
目的とするものである。従って本発明はプリント配線板
製造業界に短い時間で安価にかつ信頼性の高い銅スルー
ホールプリント配線板を製造する方法を提供するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】銅スルーホールプリント配線板の製造方
法として穴埋法、テンティング法、半田剥離法に大別さ
れる。穴埋法は両面銅張積層板に必要な箇所に多数の穴
をあけ、この多数の穴を有する基板を化学銅メッキ、次
いで電気銅メッキが行なわれる。その後すべての穴にエ
ッチング液が入らないように目詰めインクを充填し、穴
の円部の銅メツキを保護した後、基板の両面に必要な回
路を印刷法もしくは写真法によって陽画形成しその後エ
ッチングを行なうことによって、エッチング及び目詰め
インクで保護されている部分を残して露出部分の銅を除
去することによって銅スルーホール配線板が形成され
る。テンティング法では、穴あけに続いて化学銅メッ
キ、電気銅メッキを行なった後ドライフィルムが貼り合
わされ、次いでパターン図の露光が行なわれ、次いで現
象後エッチングされる。穴の内部の銅メッキは貼り合わ
されたドライフィルムによって守られる半田剥離法で
は、電気銅メッキを行なうまでの工程は、上記の二つの
工法と同一であるが、必要な回路を印刷法もしくは、写
真法によって陰画形成で行なう点が異なっている。この
陰画回路はエッチングレジストではなく、その後行なう
電気半田メッキに対するメッキ用レジストである。勿論
この方法では、穴埋インクを使用する必要はない。陰画
で必要な回路をプリント配線配板に形成させ銅の露出部
以外がメッキ用レジスト膜で保護されていることにな
る。次いでこの露出部に電気半田メッキを行い、その後
メッキ用レジスト膜を除去する。次いで半田で保護され
ている部分を残して露出部分の銅を除去することによっ
て銅スルーホール配線板が形成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の製造方法では、
エッチングレジスト膜の信頼性に劣り製造不良が発生し
易い、あるいは生産性が低い又製造コストが高い等の欠
点を有している。ことに最近では短納期で大量の製品を
安価に提供することが要求されるようになると対応しき
れない。また半田メッキ法では工程で使用する弗化水素
酸や鉛に基づく公害の発生が懸念され、公害予防対策に
も多額の費用を必要とする欠点もある。すなわち半田剥
離法と同程度又はそれ以上の高い信頼性を有する銅スル
ーホール配線板の製造法であって、工程が簡単で短時間
の処理で済み、かつ安価でありしかも公害防止上排水処
理の簡単な方法の開発が強く望まれてきた。
【0004】
【問題点を解決するための手段】問題点を解決する手段
として、本発明者は半田よりもっと安価安全、且つ除去
が安易な物質を探した。勿論その物質はエッチングに耐
え、銅メッキの部分をエッチング液から保護するもので
なければならない。またその物質は選択的に銅表面上に
のみ膜を形成することが望まれるので銅と反応する物質
に着目し、鋭意研究を重ねた結果、ついに(化1)で表
される化合物がこれらの問題点を一挙に解決するもので
あることを見出だした。本発明の方法は、化学銅メッ
キ、電気銅メッキ、続いてアルカリ水溶液に可溶のレジ
ストインク又はアルカリ現象型液状レジスト、又はアル
カリ現象型感光性フイルムを銅張積層板上に陰画回路を
形成し、次いで有効成分として(化1)で表される化合
物を1種類又は2種類以上を混合した溶液に浸漬して、
銅表面に前記の化合物からなるエッチングレジスト膜を
形成し、次いで銅イオンを含む緩衝液に浸漬してかくし
て得られた銅張積層板を乾燥したのち、アルカリ性水溶
液と接触させて感光性フイルムもしくはレジスト膜を除
き、アルカリ性エッチング液で処理することにより、上
記の目的が十分達成されることを見い出し本発明を完成
することが出来た。本発明の実施に適する化合物は、2
−[1−メチル−1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)エチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−
メチル−メチル−2−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)エチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−
メチル−2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エ
チル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−(メチル
−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−
ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベンズイ
ミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、
2−[1−メチル−2−(メチル−2−ベンズイミダゾ
リル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−
[3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]
メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチ
ルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−3−(メチ
ル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[1−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2
−[1−エチル−1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3
−メチル−3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)
ブチル]メチルベンズイミダゾール、2−[3−メチル
−3−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチル
ベンズイミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメ
チル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズ
イミダゾール、2−[2−メチル−2−(メチル−2−
ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−4−(メチル−2−ベンズイ
ミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2
−[2−メチル−4(ジメチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−メ
チル−1−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−2−(2−
ベンズイミダゾリル)エチル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[1−メチル−2−(ジメチル2−ベンズイ
ミダゾリル)エチル]ベンズイミダゾール、2−[1−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1
−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾー
ル、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−(2−
ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)ペンチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−エチル−
1−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[3−メチル−3−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾー
ル、2−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−
メチル−3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3
−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベン
ズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[2−
メチル−4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−4−(ジ
メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミ
ダゾール、2−[1−メチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2−[1
−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]メ
チルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−2−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]ベンズイミダ
ゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)プロピ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2
−(2メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベ
ンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(メチル−
2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミ
ダゾール、2−[1−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール、2−
[1−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリル)プロピ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3
−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベン
ズイミダゾール、2−[2−メチル−3−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダ
ゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)ペンチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−エチル−1
−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズ
イミダゾール、2−[3−メチル−3−(メチル−2−
ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2
−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3
−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3−(2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[2−メ
チル−2−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチル
ベンズイミダゾール、2−[2−メチル−4−(2−ベ
ンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2−メチル−4−(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[1−メ
チル−1−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−
2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[1−エチル−1−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)メチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジメ
チル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベ
ンズイミダゾール、2−[1−メチル−2−(ジメチル
−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[1−メチル−3−(ジメチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミ
ダゾール、2−[2−メチル−3−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[1−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[1
−エチル−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−メチル
−3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[1−メチル−3−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[2,2−ジメチル−3−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[2−メチル−2−(ジ
メチル−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベ
ンズイミダゾール、2−[2−メチル−4−(ジメチル
−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイ
ミダゾール、2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)ペ
ンチル]ベンズイミダゾール、2−[1−エチル−1−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾ
ール、2−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[1−メチル−
3−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダ
ゾール、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾ
リル)プロピル]ベンズイミダゾール、2−[2−メチ
ル−2−(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイ
ミダゾール、2−[2−メチル−4−(2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール、2−[1−メ
チル−1−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]ベンズ
イミダゾール、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイ
ミダゾリル)エチル]ベンズイミダゾール、2−[1−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ベンズイミダゾール、2−[1−メチル
−2−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ベンズイ
ミダゾール、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)ブ
チル]ベンズイミダゾール、2−[2−メチル−3−
(2−ベンズイミダゾリル)プロピルベンズイミダゾー
ル、2−[1−メチル−1(メチル−2−ベンズイミダ
ゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2−[1
−メチル−2(メチル−2−ベンズイミダゾリル)エチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−(メチル−
2−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミ
ダゾール、2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1,2−ジメチル−2−メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2
−[1−メチル−3−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]メチルベンズイミダゾール、2−[2−
メチル−3−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]メチルベンズイミダゾール、2−[1−(メチル
−2−ベンズイミダゾリル)ペンチル]メチルベンズイ
ミダゾール、2−[1−エチル−1−(メチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1,1−ジメチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1,3−ジメチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2,2−ジメチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[1−エチル−1−メチル−2−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−メチル−4(メチル−2−ベンズイミ
ダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾール、2−
(2−ベンズイミダゾリル)ベンズイミダゾール、2−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)メチルベンズイミ
ダゾール、2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)
ジメチルベンズイミダゾール、2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)メチルベンズイミダゾール、2−(2−ベンズ
イミダゾリル)ジメチルベンズイミダゾール、2−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−(2−ベンズイミダゾリルメチル)ベンズ
イミダゾール、2−(メチル−2−ベンズイミダゾリル
メチル)メチルベンズイミダゾール、2−(ジメチル−
2−ベンズイミダゾリルメチル)ジメチルベンズイミダ
ゾール、2−(2−ベンズイミダゾリルメチル)メチル
ベンズイミダゾール、2−(2−ベンズイミダゾリルメ
チル)ジメチルベンズイミダゾール、2−(メチル−2
−ベンズイミダゾリルメチル)ジメチルベンズイミダゾ
ール、2−[2−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]
ベンズイミダゾール、2−[2−(メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール、2
−[2−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)エチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[2−(2−ベ
ンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾー
ル、2−[2−(2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジ
メチルベンズイミダゾール、2−[2(メチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)エチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)プロピル]
ベンズイミダゾール、2−[3−(メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール、
2−[3−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−(2−
ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)プロピ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[3−(メチル
−2−ベンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)
ブチル]ベンズイミダゾール、2−[4−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾ
ール、2−[4−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[4−
(2−ベンズイミダゾリル)ブチル]メチルベンズイミ
ダゾール、2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[4−(メチル
−2−ベンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイ
ミダゾール、2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペ
ンチル]ベンズイミダゾール、2−[5−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)ペンチル]メチルベンズイミダ
ゾール、2−[5−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[5
−(2−ベンズイミダゾリル)ペンチル]メチルベンズ
イミダゾール、2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)
ペンチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[5−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ペンチル]ジメチ
ルベンズイミダゾール、2−[6−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ヘキシル]ベンズイミダゾール、2−[6−
(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ヘキシル]メチル
ベンズイミダゾール、2−[6−(ジメチル−2−ベン
ズイミダゾリル)ヘキシル]ジメチルベンズイミダゾー
ル、2−[6−(2−ベンズイミダゾリル)ヘキシル]
メチルベンズイミダゾール、2−[6−(2−ベンズイ
ミダゾリル)ヘキシル]ジメチルベンズイミダゾール、
2−[6−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ヘキシ
ル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[7−(2−ベ
ンズイミダゾリル)ヘプチル]ベンズイミダゾール、2
−[7−(メチル−2−ベンズイミダゾリル)ヘプチ
ル]メチルベンズイミダゾール、2−[7−(ジメチル
−2−ベンズイミダゾリル)ヘプチル]ジメチルベンズ
イミダゾール、2−[7−(2−ベンズイミダゾリル)
ヘプチル]メチルベンズイミダゾール、2−[7−(2
−ベンズイミダゾリル)ヘプチル]ジメチルベンズイミ
ダゾール、2−[7−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ヘプチル]ジメチルベンズイミダゾール、2−[8
−(2−ベンズイミダゾリル)オクチル]ベンズイミダ
ゾール、2−[8−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)オクチル]メチルベンズイミダゾール、2−[8−
(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)オクチル]ジメ
チルベンズイミダゾール、2−[8−(2−ベンズイミ
ダゾリル)オクチル]メチルベンズイミダゾール、2−
[8−(2−ベンズイミダゾリル)オクチル]ジメチル
ベンズイミダゾール、2−[8−(メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)オクチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル、2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニル]ベ
ンズイミダゾール、2−[9−(メチル−2−ベンズイ
ミダゾリル)ノニル]メチルベンズイミダゾール、2−
[9−(ジメチル−2−ベンズイミダゾリル)ノニル]
ジメチルベンズイミダゾール、2−[9−(2−ベンズ
イミダゾリル)ノニル]メチルベンズイミダゾール、2
−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニル]ジメチル
ベンズイミダゾール、2−[9−(メチル−2−ベンズ
イミダゾリル)ノニル]ジメチルベンズイミダゾール、
と有機酸や無機酸より形成されるもので、それらの酸の
代表的なものは、酢酸、蟻酸、カプリン酸、グリコール
酸、パラニトロ安息香酸、ジメチル酢酸、ジエチル酢
酸、イソブタン酸、ブタン酸、パラトルエンスルホン
酸、ピクリン酸、蓚酸、コハク酸、亜リん酸、マレイン
酸、アクリル酸、フマール酸、酒石酸、アジピン酸、塩
酸、硫酸、燐酸、乳酸、オレイン酸等である。又酢酸
銅、硫酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、水酸化銅、酸化
銅、酸化第一銅、酸化第二銅、リン酸銅、炭酸銅、等の
金属化合物、又はメタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ブタノール、アセトン等の水溶性溶媒を
任意の割合で混合して使用することも可能である。又銅
イオンを含む緩衝液に関して鋭意検討を重ねた結果、代
表的な塩基は、アンモニア、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、モノエタノールアミン、ジメチルエタノールアミ
ン、ジエチルエタノールアミン、イソプロピルエタノー
ルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等であ
る。又酢酸銅、硫酸銅、塩化第一銅、塩化第二銅、水酸
化銅、酸化銅、酸化第一銅、酸化第二銅、リン酸銅、炭
酸銅、等の金属化合物、のいずれかの群れから選ばれた
化合物を1種類又は2種類以上を混合した溶液を使用す
る事が好ましい。本発明における処理の態様について述
べる。銅の表面を研磨、脱脂、酸洗、水洗浄によって仕
上げ、引き続き(化1)で表される化合物を0.1〜1
0%、好ましくは0.1〜2%、及び有機酸、金属化合
物を可溶化あるいは乳化させた溶液に浸漬してして行な
う。浸漬は0〜100゜Cの温度範囲が可能であるが望
ましくは30〜50゜Cが適当である。浸漬時間は数秒
から数十分の範囲が可能で、40〜50゜Cの温度では
1〜3分が適当である。溶液の適当なPHは酸性であれ
ば可能であるが望ましくは5.0以下が適当である。付
着量は処理温度の上昇及び処理時間の延長に従って増加
する。又銅イオンを含む緩衝液は銅イオン濃度数ppm
以上、望ましくは50ppm〜150ppmが適当であ
る。又PHは6.5〜5.0の範囲が適当である。浸漬
温度は0〜100゜Cの温度範囲が可能であるが望まし
くは30〜50゜Cが適当である。浸漬時間は数秒から
数十分の範囲が可能であるが望ましくは1〜3分が適当
である。上記の処理を行なうことにより化学的に安定な
耐エッチングレジスト膜が出来る。
【0005】
【作用】アルキルベンズイミダゾールが銅箔上の銅と安
定なキレート単分子膜を形成し、その上に次々と安定な
キレート単分子膜が成長する。又アルキル基同志のファ
ンデルワールス力によって吸着し網目上の膜を成長させ
る。尚、アルキルベンズイミダゾールの膜形成後、銅イ
オンを含む緩衝液で処理を行うことにより膜中への銅の
移動が起こり非常に安定なキレート単分子膜となり、そ
の物理的強度が著しく向上する。
【0006】
【実施例】2−[1−メチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)エチル]ジメチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、2−エチル−n−酪酸、アンモニア、
塩化第二銅を含む溶液を0.5リットル容器に入れ、液
温を40゜Cに加熱し調整した。他方、1.6m/m厚
のFR−4両面銅張積層板に穴をあけ、化学銅メツキ、
続いて電気メツキをすることにより穴内部及び両面に2
0〜25μ厚の銅メツキを形成させた。次にアクリル
酸、スチレンコポリマーを主成分とするレジストインク
(商品名「KM−10」太陽インキ製造(株)製)をス
クリーン印刷により厚さ20μ程度の陰画のレジスト膜
を形成し80゜Cの温度で10間乾燥した。又感光性フ
イルム(商品名「A−225」富士ハント(株)製)を
ラミネート、露光、現像して、25μの陰画のレジスト
膜を形成した。上記の印刷法、写真法で陰画回路を形成
した銅張積層板を20%過硫酸ソーダ水溶液に30秒間
浸漬して、銅表面をソフトエッチ、水洗し表面を洗浄し
た試験板を準備し、上記の2−[1−メチル−1−(メ
チル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]ジメチルベン
ズイミダゾールを有効成分とする0.5%溶液に銅張積
層板を浸漬し、ゆっくり動かしながら40°Cの温度で
3分間処理した。その後、銅張積層板を水洗し100°
Cで10分間乾燥してエッチングレジスト膜を形成させ
た。続いて3%水酸化ナトリウム水溶液で陰画のレジス
ト膜を除去し、回路として残す必要のない部分の銅を露
出させた、次いでアルカリ性エッチンング剤(商品名
「Aプロセス」メルテック(株)製)を用いて、液温5
0°Cでスプレー中に上記銅張積層板を120秒間通過
させてエッチングを行なった。その後銅張積層板を5%
塩酸水溶液に浸漬し、エッチングレジスト膜を溶解除去
して銅スルーホール配線板を作成した。この試験結果は
表1に示した。
【表1】
【0007】
【実施例】2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0008】
【実施例】2−[2−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0009】
【実施例】2−[1−エチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0010】
【実施例】2−[1−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、
アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−
酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温
を40゜Cに加熱し調整た溶液に、前記実施例と同様の
処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0011】
【実施例】2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、
アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−
酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温
を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様
の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0012】
【実施例】2−[1−エチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0013】
【実施例】2−[1−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0014】
【実施例】2−[2−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]メチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0015】
【実施例】2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0016】
【実施例】2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]ベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0017】
【実施例】2−[1−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0018】
【実施例】2−[1−エチル−1−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0019】
【実施例】2−[3−メチル−3−(2−ベンズイミダ
ゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0020】
【実施例】2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)ブチル]ベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0021】
【実施例】2−[1−(2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、ア
ンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪
酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を
40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の
処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0022】
【実施例】2−[1−メチル−2−(2−ベンズイミダ
ゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール0.5
%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エ
チル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に
入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実
施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0023】
【実施例】2−[1−メチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0024】
【実施例】2−[1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻
酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−
n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、
液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と
同様の処理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0025】
【実施例】2−[1,2−ジメチル−2−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイミダゾ
ール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶
液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リッ
トル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0026】
【実施例】2−[1−エチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0027】
【実施例】2−[1,3−ジメチル−3−(メチル−2
−ベンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダ
ゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む
溶液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リ
ットル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶
液に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果
は表1に示した。
【0028】
【実施例】2−[1−エチル−1−メチル−2−(メチ
ル−2−ベンズイミダゾリル)エチル]メチルベンズイ
ミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を
含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.
5リットル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整し
た溶液に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験
結果は表1に示した。
【0029】
【実施例】2−[1−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0030】
【実施例】2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]メチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0031】
【実施例】2−[1−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0032】
【実施例】2−[1−エチル−1−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0033】
【実施例】2−[1−メチル−3−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0034】
【実施例】2−[2−メチル−2−(メチル−2−ベン
ズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾール
0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に
2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル
容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液に、
前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は表1
に示した。
【0035】
【実施例】2−[1−エチル−1−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)メチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0036】
【実施例】2−[2−メチル−2−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾ
ール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶
液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リッ
トル容器に入れ、液温を40。Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0037】
【実施例】2−[1−エチル−1−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)プロピル]ジメチルベンズイミダゾ
ール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶
液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リッ
トル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0038】
【実施例】2−[2−メチル−4−(ジメチル−2−ベ
ンズイミダゾリル)ブチル]ジメチルベンズイミダゾー
ル0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液
に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を0.5リット
ル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調整した溶液
に、前記実施例と同様の処理を行った。この試験結果は
表1に示した。
【0039】
【実施例】2−(2−ベンズイミダゾリルメチル)ベン
ズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、塩化第二
銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添加した溶液を
0.5リットル容器に入れ、液温を40゜Cに加熱し調
整した溶液に、前記実施例と同様の処理を行った。この
試験結果は表1に示した。
【0040】
【実施例】2−[2−(2−ベンズイミダゾリルメチ
ル)エチル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0041】
【実施例】2−[3−(2−ベンズイミダゾリル)プロ
ピル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニ
ア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添
加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40゜
Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を
行った。この試験結果は表1に示した。
【0042】
【実施例】2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、
塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添加し
た溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40°Cに
加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を行っ
た。この試験結果は表1に示した。
【0043】
【実施例】2−[4−(2−ベンズイミダゾリル)ブチ
ル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモ
ニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を
添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40
゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理
を行った。この試験結果は表1に示した。
【0044】
【実施例】2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペン
チル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニ
ア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添
加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40゜
Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を
行った。この試験結果は表1に示した。
【0045】
【実施例】2−[5−(2−ベンズイミダゾリル)ペン
チル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0046】
【実施例】2−[5−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペンチル]ジメチルべンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0047】
【実施例】2−[7−(2−ベンズイミダゾリル)ペプ
チル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニ
ア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添
加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40°
Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を
行った。この試験結果は表1に示した。
【0048】
【実施例】2−[7−(2−ベンズイミダゾリル)ペプ
チル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0049】
【実施例】2−[7−(メチル−2−ベンズイミダゾリ
ル)ペプチル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、
蟻酸、アンモニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル
−n−酪酸を添加した溶液を0.5リットル容器に入
れ、液温を40°Cに加熱し調整した溶液に、前記実施
例と同様の処理を行った。この試験結果は表1に示し
た。
【0050】
【実施例】2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニ
ル]ベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモニア、
塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を添加し
た溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40゜Cに
加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理を行っ
た。この試験結果は表1に示した。
【0051】
【実施例】2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニ
ル]メチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アンモ
ニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸を
添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を40
゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処理
を行った。この試験結果は表1に示した。
【0052】
【実施例】2−[9−(2−ベンズイミダゾリル)ノニ
ル]ジメチルベンズイミダゾール0.5%、蟻酸、アン
モニア、塩化第二銅を含む溶液に2−エチル−n−酪酸
を添加した溶液を0.5リットル容器に入れ、液温を4
0゜Cに加熱し調整した溶液に、前記実施例と同様の処
理を行った。この試験結果は表1に示した。
【0053】
【発明の効果】本発明の製造方法により、生産性の向
上、生産性コストの減少、排水中の有害物質の減少、又
高い信頼性を有する銅スルーホールプリント配線板の製
造に、特に顕著な効果を発揮しうるものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルカリ性水溶性液に可溶な陰画のレジ
    スト膜を印刷法もしくは写真法によって形成し、ついで
    有効成分として(化1)で表わされる化合物又はその誘
    導体の塩を1種類又は2種類以上を混合した溶液に浸漬
    して、銅表面に(化1)で表される化合物の銅鎖体から
    なるエッチングレジスト膜を形成し、かくして得られた
    銅張積層板を乾燥したのち、アルカリ性水溶液と接触さ
    せて陰画のレジスト膜を除き、アルカリ性エッチング液
    で処理することを特徴とする銅スルーホール配線板の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 アルカリ性水溶性液に可溶な陰画のレジ
    スト膜を印刷法もしくは写真法によって形成し、ついで
    有効成分として(化1)で表わされる化合物又はその誘
    導体の塩を1種類又は2種類以上を混合した溶液に浸漬
    して、銅表面に(化1)で表される化合物の銅鎖体から
    なるエッチングレジスト膜を形成し、次いで銅イオンを
    含む緩衝液に浸漬して得られた銅張積層板を乾燥したの
    ち、アルカリ性水溶液と接触させて陰画のレジスト膜を
    除き、アルカリ性エッチング液で処理することを特徴と
    する銅スルーホール配線板の製造方法。
JP12922492A 1992-04-07 1992-04-07 銅スルーホールプリント配線板の製造方法 Pending JPH05291729A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12922492A JPH05291729A (ja) 1992-04-07 1992-04-07 銅スルーホールプリント配線板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12922492A JPH05291729A (ja) 1992-04-07 1992-04-07 銅スルーホールプリント配線板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05291729A true JPH05291729A (ja) 1993-11-05

Family

ID=15004223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12922492A Pending JPH05291729A (ja) 1992-04-07 1992-04-07 銅スルーホールプリント配線板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05291729A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6541486B1 (en) 1999-06-04 2003-04-01 Elan Pharma International Ltd. Bis-benzimidazole compounds and analogs thereof for inhibiting cell death

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6541486B1 (en) 1999-06-04 2003-04-01 Elan Pharma International Ltd. Bis-benzimidazole compounds and analogs thereof for inhibiting cell death

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1255797B2 (en) Method for roughening copper surfaces for bonding to substrates
JP3314966B2 (ja) 置換すずめっき用錯化剤
CN1292896C (zh) 层合体及其制造方法
KR100556679B1 (ko) 구리 기판의 선택적 침착방법
TWI499696B (zh) 電鍍用預處理劑,電鍍用預處理方法,以及電鍍方法
JPH08255968A (ja) プリント回路板の製造
KR101485873B1 (ko) 구리의 마이크로 에칭제 및 그 보급액, 및 배선 기판의 제조 방법
JP4644365B2 (ja) 銅表面を前処理するための溶液及び方法
JP5596746B2 (ja) エッチング液およびそれを用いたプリント配線板の製造方法
JPS6190492A (ja) 銅スル−ホ−ルプリント配線板の製造方法
JPS58501113A (ja) 銅のハンダづけ能力の保護法
CN106521503A (zh) 铜面有机酸型超粗化剂
JP4143262B2 (ja) 銅表面の前処理のための方法
JP3074315B2 (ja) 銅スルーホールプリント配線板の製造方法
JPH05291729A (ja) 銅スルーホールプリント配線板の製造方法
EP0562187B1 (en) Process for production of copper through-hole printed wiring boards
JPH083766A (ja) 銅スルーホールプリント配線板の製造方法
KR101494618B1 (ko) 인쇄회로기판용 화성처리 조성물 및 이를 이용한 화성처리 방법
CA2063844C (en) Process for production of copper through-hole printed wiring boards
JPH07245464A (ja) 銅スルーホールプリント配線板の製造方法
JP2735631B2 (ja) 洗浄方法及びその装置
JPH07245463A (ja) 電解処理によるプリント配線板の製造方法
JPH04280979A (ja) 無電解銅めっきの酸洗活性化方法
JP2023157159A (ja) 洗浄剤、洗浄方法、および補給液
JPH07307551A (ja) プリント回路基板の製造方法