JPH05279366A - カルバペネム誘導体 - Google Patents
カルバペネム誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 抗菌力が強く、かつ広範囲の抗菌スペクトル
を有する抗生物質を提供する。 【構成】次式の(1)の化合物、およびその製造方法。 (式中、R1はH、水酸基の保護基を;R2は(置換)低
級アルキル基を;R3はH、無機、有機塩基またはカル
ボキシル基の保護基を;R4は式(II)〜(V)のいずれ
かを; R5およびR6は(置換)低級アルキル基を表す。)
を有する抗生物質を提供する。 【構成】次式の(1)の化合物、およびその製造方法。 (式中、R1はH、水酸基の保護基を;R2は(置換)低
級アルキル基を;R3はH、無機、有機塩基またはカル
ボキシル基の保護基を;R4は式(II)〜(V)のいずれ
かを; R5およびR6は(置換)低級アルキル基を表す。)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、広範囲の抗菌スペクト
ルを有する新規カルバペネム誘導体、およびその製造方
法、および該カネバペネム誘導体を有効成分として含有
する抗菌剤または感受性細菌感染症治療剤、およびそれ
を利用する静菌または殺菌方法に関する。
ルを有する新規カルバペネム誘導体、およびその製造方
法、および該カネバペネム誘導体を有効成分として含有
する抗菌剤または感受性細菌感染症治療剤、およびそれ
を利用する静菌または殺菌方法に関する。
【0002】
【従来の技術】β−ラクタム系抗生物質の一種であるカ
ルバペネム類としては各種の化合物が知られている。例
えば、次に示すイミペネム、メロペネムおよびメロペネ
ムに対するメシレート、ウレア等が知られている(特開
昭60−19787号公報、特開昭60−233076
号公報)。
ルバペネム類としては各種の化合物が知られている。例
えば、次に示すイミペネム、メロペネムおよびメロペネ
ムに対するメシレート、ウレア等が知られている(特開
昭60−19787号公報、特開昭60−233076
号公報)。
【0003】
【化12】
【0004】ヨーロッパ公開公報30032号には、2
−シクロアルキルカルバペネム誘導体が、およびヨーロ
ッパ公開公報394991号にはカルバペネム骨格の2
位にN原子含有非芳香属複素環を有するカルバペネム誘
導体が開示されている。これらはカルバペネム骨格の2
位に環が導入されたカルバペネム誘導体である。
−シクロアルキルカルバペネム誘導体が、およびヨーロ
ッパ公開公報394991号にはカルバペネム骨格の2
位にN原子含有非芳香属複素環を有するカルバペネム誘
導体が開示されている。これらはカルバペネム骨格の2
位に環が導入されたカルバペネム誘導体である。
【0005】これらのカルバペネム化合物は、グラム陽
性菌、グラム陰性菌および各種の耐性菌を含む広範囲の
抗菌スペクトルを有する。
性菌、グラム陰性菌および各種の耐性菌を含む広範囲の
抗菌スペクトルを有する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のように種々の抗
生物質が開発されているが、さらに広範囲な抗菌スペク
トルを有し、抗菌力の強い抗生物質の開発が望まれてい
る。
生物質が開発されているが、さらに広範囲な抗菌スペク
トルを有し、抗菌力の強い抗生物質の開発が望まれてい
る。
【0007】本発明は、上記の点を解決しようとするも
のであり、その目的は、抗菌力が強く、かつ広範囲な抗
菌スペクトルを有するカルバペネム誘導体、およびそれ
を製造する方法、を提供することにある。
のであり、その目的は、抗菌力が強く、かつ広範囲な抗
菌スペクトルを有するカルバペネム誘導体、およびそれ
を製造する方法、を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のカルバペネム誘
導体は、下記一般式(I)で表され、そのことにより上記
課題が達成される:
導体は、下記一般式(I)で表され、そのことにより上記
課題が達成される:
【0009】
【化13】
【0010】(式中、R1は水素原子または水酸基の保
護基を表し、R2は置換または無置換の低級アルキル基
を表し、かつR3は水素原子、無機または有機塩基また
はカルボキシル基の保護基を表し、かつR4は下記一般
式(II)から(V)のいずれかを表し、:
護基を表し、R2は置換または無置換の低級アルキル基
を表し、かつR3は水素原子、無機または有機塩基また
はカルボキシル基の保護基を表し、かつR4は下記一般
式(II)から(V)のいずれかを表し、:
【0011】
【化14】
【0012】R5およびR6は、それぞれ独立して、置換
または無置換の低級アルキル基を表す)。
または無置換の低級アルキル基を表す)。
【0013】本発明のカルバペネム誘導体の製造方法
は、次の工程を含有し、そのことにより上記課題が達成
される:下記一般式(VI)で表されるカルバペネム誘導体
の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これをホスホニ
ウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表されるカルバ
ペネム誘導体に変換する工程:
は、次の工程を含有し、そのことにより上記課題が達成
される:下記一般式(VI)で表されるカルバペネム誘導体
の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これをホスホニ
ウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表されるカルバ
ペネム誘導体に変換する工程:
【0014】
【化15】
【0015】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
である);
である);
【0016】
【化16】
【0017】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
であり、X1はハロゲン原子を表し、Yはアルキル基ま
たはアリール基を表す);該カルバペネム誘導体(VII)
をウィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表され
るカルバペネム誘導体に変換する工程:
であり、X1はハロゲン原子を表し、Yはアルキル基ま
たはアリール基を表す);該カルバペネム誘導体(VII)
をウィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表され
るカルバペネム誘導体に変換する工程:
【0018】
【化17】
【0019】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
である);および該カルバペネム誘導体(VIII)と、一般
式R5NHOH(R5は前記と同じである)で表されるヒ
ドロキシルアミンと、ホルムアルデヒドとを反応させる
ことにより、イソオキサゾリジニルカルバペネム誘導体
(I-1)を得る工程:
である);および該カルバペネム誘導体(VIII)と、一般
式R5NHOH(R5は前記と同じである)で表されるヒ
ドロキシルアミンと、ホルムアルデヒドとを反応させる
ことにより、イソオキサゾリジニルカルバペネム誘導体
(I-1)を得る工程:
【0020】
【化18】
【0021】(式中、R1、R2、R3およびR5は前記と
同じであり、*印の炭素原子の立体化学はRまたはSで
ある)。
同じであり、*印の炭素原子の立体化学はRまたはSで
ある)。
【0022】本発明のカルバペネム誘導体の製造方法
は、次の工程を含有し、そのことにより上記課題が達成
される:下記一般式(VI)で表されるカルバペネム誘導体
の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これをホスホニ
ウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表されるカルバ
ペネム誘導体に変換する工程:
は、次の工程を含有し、そのことにより上記課題が達成
される:下記一般式(VI)で表されるカルバペネム誘導体
の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これをホスホニ
ウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表されるカルバ
ペネム誘導体に変換する工程:
【0023】
【化19】
【0024】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
である);
である);
【0025】
【化20】
【0026】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
であり、X1はハロゲン原子を表し、Yはアルキル基ま
たはアリール基を表す);該カルバペネム誘導体(VII)
をウィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表され
るカルバペネム誘導体に変換する工程:
であり、X1はハロゲン原子を表し、Yはアルキル基ま
たはアリール基を表す);該カルバペネム誘導体(VII)
をウィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表され
るカルバペネム誘導体に変換する工程:
【0027】
【化21】
【0028】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
である);該カルバペネム誘導体(VIII)と、一般式R5
NHOH(R5は前記と同じである)で表されるヒドロ
キシルアミンと、ホルムアルデヒドとを反応させること
により、イソオキサゾリジニルカルバペネム誘導体(I-
1)を得る工程:
である);該カルバペネム誘導体(VIII)と、一般式R5
NHOH(R5は前記と同じである)で表されるヒドロ
キシルアミンと、ホルムアルデヒドとを反応させること
により、イソオキサゾリジニルカルバペネム誘導体(I-
1)を得る工程:
【0029】
【化22】
【0030】(式中、R1、R2、R3およびR5は前記と
同じであり、*印の炭素原子の立体配置はRまたはSで
ある);および該イソオキサゾリジニルカルバペネム誘
導体(I-1)と一般式R6X2(R6は前記と同じであり、X
2はハロゲン原子を表す)で表されるアルキル化ハロゲ
ンとを反応させることにより、イソオキサゾリジニウム
カルバペネム誘導体(I-2)を得る工程:
同じであり、*印の炭素原子の立体配置はRまたはSで
ある);および該イソオキサゾリジニルカルバペネム誘
導体(I-1)と一般式R6X2(R6は前記と同じであり、X
2はハロゲン原子を表す)で表されるアルキル化ハロゲ
ンとを反応させることにより、イソオキサゾリジニウム
カルバペネム誘導体(I-2)を得る工程:
【0031】
【化23】
【0032】(式中、R1、R2、R3、R5およびR6は
前記と同じであり、**印の炭素原子の立体配置はRま
たはSである)。
前記と同じであり、**印の炭素原子の立体配置はRま
たはSである)。
【0033】本発明の抗菌剤は、上記カルバペネム誘導
体を有効成分として含有し、そのことにより上記課題が
達成される。
体を有効成分として含有し、そのことにより上記課題が
達成される。
【0034】本発明の感受性細菌感染症治療剤は、上記
カルバペネム誘導体を有効成分として含有し、そのこと
により上記課題が達成される。
カルバペネム誘導体を有効成分として含有し、そのこと
により上記課題が達成される。
【0035】本発明の静菌または殺菌方法は、前記カル
バペネム誘導体を細菌と接触させる工程を包含し、その
ことにより上記課題が達成される。
バペネム誘導体を細菌と接触させる工程を包含し、その
ことにより上記課題が達成される。
【0036】次に本発明を詳しく説明する。
【0037】本発明のカルバペネム誘導体は、前記一般
式(I-1)または(I-2)で表される化合物であり、カルバペ
ネム骨格の2位に5−イソオキサゾリジニル基または5
−イソオキサゾリジニウム基が導入された化合物であ
る。
式(I-1)または(I-2)で表される化合物であり、カルバペ
ネム骨格の2位に5−イソオキサゾリジニル基または5
−イソオキサゾリジニウム基が導入された化合物であ
る。
【0038】本発明において、各基の好適な範囲は次の
通りである。
通りである。
【0039】「低級アルキル基」の炭素原子数は1〜6
であり、このようなアルキル基としては、メチル、エチ
ル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、t
−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどがある。この低級ア
ルキル基の炭素原子数は、好ましくは1〜4である。最
も好ましい低級アルキル基は、メチルまたはエチルであ
る。置換されている低級アルキル基の置換基としては、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ
基、低級アルキルアミノ基、カルバモイル基、低級アル
キルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アル
キルカルバモイルオキシ基、シアノ基等が挙げられる。
であり、このようなアルキル基としては、メチル、エチ
ル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、t
−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどがある。この低級ア
ルキル基の炭素原子数は、好ましくは1〜4である。最
も好ましい低級アルキル基は、メチルまたはエチルであ
る。置換されている低級アルキル基の置換基としては、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ
基、低級アルキルアミノ基、カルバモイル基、低級アル
キルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、低級アル
キルカルバモイルオキシ基、シアノ基等が挙げられる。
【0040】「水酸基の保護基」としては、低級アルコ
キシカルボニル基、ハロゲノアルコキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、トリアルキルシリル基
等が挙げられる。上記低級アルコキシカルボニル基とし
ては、t−ブチルオキシカルボニル基等が;上記ハロゲ
ノアルコキシカルボニル基としては、2−ヨウ化エチル
オキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエチルオ
キシカルボニル基等が;上記アラルキルオキシカルボニ
ル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、p−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、o−ニトロベンジル
オキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基等が;トルアルキルシリル基としては、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチル
シリル基等が挙げられる。
キシカルボニル基、ハロゲノアルコキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、トリアルキルシリル基
等が挙げられる。上記低級アルコキシカルボニル基とし
ては、t−ブチルオキシカルボニル基等が;上記ハロゲ
ノアルコキシカルボニル基としては、2−ヨウ化エチル
オキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエチルオ
キシカルボニル基等が;上記アラルキルオキシカルボニ
ル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、p−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、o−ニトロベンジル
オキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基等が;トルアルキルシリル基としては、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチル
シリル基等が挙げられる。
【0041】「カルボキシル基の保護基」としては、低
級アルキル基、低級アルケニル基、ハロゲノ低級アルキ
ル基、低級アルコキシメチル基、低級脂肪族アシルオキ
シメチル基、1−低級アルコキシカルボニルオキシエチ
ル基、アラルキル基、ベンズヒドリル基、フタリジル基
等が挙げられる。上記低級アルケニル基としては、アリ
ル基、イソペンテニル基、2−ブテニル基等が;上記ハ
ロゲノ低級アルキル基としては、2−ヨウ化エチル基、
2,2,2−トリクロロエチル基等が;上記低級アルコ
キシメチル基としては、メトキシメチル基、エトキシメ
チル基、イソブトキシメチル基等が;上記低級脂肪族ア
シルオキシメチル基としては、アセトキシメチル基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシメチル基、ピバロ
イルオキシメチル基等が;上記1−低級アルコキシカル
ボニルオキシエチル基としては、1−メトキシカルボニ
ルオキシエチル基、1−エトキシカルボニルオキシエチ
ル基等が;そして上記アラルキル基としては、ベンジ
ル、p−メトキシベンジル基、o−ニトロベンジル基、
p−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル基等が挙げら
れる。
級アルキル基、低級アルケニル基、ハロゲノ低級アルキ
ル基、低級アルコキシメチル基、低級脂肪族アシルオキ
シメチル基、1−低級アルコキシカルボニルオキシエチ
ル基、アラルキル基、ベンズヒドリル基、フタリジル基
等が挙げられる。上記低級アルケニル基としては、アリ
ル基、イソペンテニル基、2−ブテニル基等が;上記ハ
ロゲノ低級アルキル基としては、2−ヨウ化エチル基、
2,2,2−トリクロロエチル基等が;上記低級アルコ
キシメチル基としては、メトキシメチル基、エトキシメ
チル基、イソブトキシメチル基等が;上記低級脂肪族ア
シルオキシメチル基としては、アセトキシメチル基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシメチル基、ピバロ
イルオキシメチル基等が;上記1−低級アルコキシカル
ボニルオキシエチル基としては、1−メトキシカルボニ
ルオキシエチル基、1−エトキシカルボニルオキシエチ
ル基等が;そして上記アラルキル基としては、ベンジ
ル、p−メトキシベンジル基、o−ニトロベンジル基、
p−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル基等が挙げら
れる。
【0042】本発明のカルバペネム誘導体は、カルバペ
ネム骨格の1位および6位の炭素原子の立体配置はSで
ある。
ネム骨格の1位および6位の炭素原子の立体配置はSで
ある。
【0043】従って、本発明のカルバペネム誘導体とし
ては以下の化合物を例示することができる。
ては以下の化合物を例示することができる。
【0044】
【化24】
【0045】本発明のカルバペネム誘導体、その医薬と
して受容される塩をも包含する。上記医薬として受容さ
れる塩としては、例えば、次に示す塩基との塩、酸との
塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩、分子間もしくは
分子内4級塩等がある。塩基との塩としては、無機塩、
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩;アンモニウム塩;有機塩、例えば、トリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩、ジベン
ジルアミン塩。酸の塩としては、無機塩、例えば、塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩;有機塩、例え
ば、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、トルエンスルホン酸塩。アミノ酸との塩として
は、アルギニン、リジン、アスパラギン酸、グルタミン
酸等との塩がある。
して受容される塩をも包含する。上記医薬として受容さ
れる塩としては、例えば、次に示す塩基との塩、酸との
塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩、分子間もしくは
分子内4級塩等がある。塩基との塩としては、無機塩、
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属
塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩;アンモニウム塩;有機塩、例えば、トリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩、ジベン
ジルアミン塩。酸の塩としては、無機塩、例えば、塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩;有機塩、例え
ば、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、トルエンスルホン酸塩。アミノ酸との塩として
は、アルギニン、リジン、アスパラギン酸、グルタミン
酸等との塩がある。
【0046】本発明のカルバペネム誘導体の製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
【0047】まず、下記一般式(VI)で表されるカルバペ
ネム誘導体の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これ
をホスホニウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表さ
れるカルバペネム誘導体を得る。
ネム誘導体の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これ
をホスホニウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表さ
れるカルバペネム誘導体を得る。
【0048】
【化25】
【0049】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
である)。
である)。
【0050】
【化26】
【0051】(式中、R1、R2、R3、XおよびYは前
記と同じである)。
記と同じである)。
【0052】例えば、カルバペネム誘導体(VI)と、ハロ
ゲンとトリアリールホスフィンまたはトリアルキルホス
フィンとを塩基の存在下で反応させることにより、カル
バペネム誘導体(VI)の水酸基がハロゲン化され、次い
で、このカルバペネム誘導体とトリアリールホスフィン
またはトリアルキルホスフィンとが反応し、カルバペネ
ム誘導体(VII)を得る。
ゲンとトリアリールホスフィンまたはトリアルキルホス
フィンとを塩基の存在下で反応させることにより、カル
バペネム誘導体(VI)の水酸基がハロゲン化され、次い
で、このカルバペネム誘導体とトリアリールホスフィン
またはトリアルキルホスフィンとが反応し、カルバペネ
ム誘導体(VII)を得る。
【0053】カルバペネム誘導体(VI)の水酸基をハロゲ
ン化する反応においては、カルバペネム誘導体(VI)とト
リアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンと
がコンプレックスを形成した後、このコンプレックスと
ハロゲンとが反応する。ハロゲンとしてはヨウ素が好ま
しい。トリアリールホスフィンとしては、トリフェニル
ホスフィン、トリアルキルホスフィンとしては、トリエ
チルホスフィンが挙げられ、中でもトリフェニルホスフ
ィンが好ましい。
ン化する反応においては、カルバペネム誘導体(VI)とト
リアリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンと
がコンプレックスを形成した後、このコンプレックスと
ハロゲンとが反応する。ハロゲンとしてはヨウ素が好ま
しい。トリアリールホスフィンとしては、トリフェニル
ホスフィン、トリアルキルホスフィンとしては、トリエ
チルホスフィンが挙げられ、中でもトリフェニルホスフ
ィンが好ましい。
【0054】上記反応において、ハロゲンの使用量は、
カルバペネム誘導体(VI)に対して1〜1.5当量、トリ
アリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンの使
用量はカルバペネム誘導体(VI)に対して1〜1.5当量
が好ましい。
カルバペネム誘導体(VI)に対して1〜1.5当量、トリ
アリールホスフィンまたはトリアルキルホスフィンの使
用量はカルバペネム誘導体(VI)に対して1〜1.5当量
が好ましい。
【0055】使用する塩基としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられ、中で
もトリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量はカルバ
ペネム誘導体(VI)に対して1〜1.5当量が好ましい。
ン、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられ、中で
もトリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量はカルバ
ペネム誘導体(VI)に対して1〜1.5当量が好ましい。
【0056】使用する溶媒としては、ジクロロメタン、
クロロホルム等が挙げられ、中でもジクロロメタンが好
ましい。
クロロホルム等が挙げられ、中でもジクロロメタンが好
ましい。
【0057】上記反応において、反応を促進させるため
に、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルホスホロアミド等の非プロトン性極性溶媒を
使用することが好ましい。
に、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルホスホロアミド等の非プロトン性極性溶媒を
使用することが好ましい。
【0058】上記反応は、通常、−50〜−30℃、
0.5〜1時間行われる。
0.5〜1時間行われる。
【0059】得られたハロゲン置換されたカルバペネム
誘導体は、単離精製することなく、また反応液の状態の
ままで次の工程に使用することもできる。
誘導体は、単離精製することなく、また反応液の状態の
ままで次の工程に使用することもできる。
【0060】カルバペネム誘導体(VI)の水酸基がハロゲ
ン化された化合物からカルバペネム誘導体(VII)を得る
反応において、トリアリールホスフィンまたはトリアル
キルホスフィンの使用量は、カルバペネム誘導体(VI)に
対して1〜1.5当量が好ましい。
ン化された化合物からカルバペネム誘導体(VII)を得る
反応において、トリアリールホスフィンまたはトリアル
キルホスフィンの使用量は、カルバペネム誘導体(VI)に
対して1〜1.5当量が好ましい。
【0061】上記反応において用いられるトリアリール
ホスフィンまたはトリアルキルホスフィン、および溶媒
としては、上記のハロゲン化工程で使用されるものと同
一のものが使用され、それらは同一であってもよい。
ホスフィンまたはトリアルキルホスフィン、および溶媒
としては、上記のハロゲン化工程で使用されるものと同
一のものが使用され、それらは同一であってもよい。
【0062】上記反応は、通常、−20〜0℃、3〜6
時間行われる。
時間行われる。
【0063】次いで、該カルバペネム誘導体(VII)をウ
ィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表されるカ
ルバペネム誘導体に変換する。
ィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表されるカ
ルバペネム誘導体に変換する。
【0064】
【化27】
【0065】(式中、R1、R2およびR3は前記と同じ
である)。
である)。
【0066】即ち、カルバペネム誘導体(VII)とホルム
アルデヒドとを塩基の存在下で反応させてカルバペネム
誘導体(VIII)を得る。
アルデヒドとを塩基の存在下で反応させてカルバペネム
誘導体(VIII)を得る。
【0067】上記反応において、ホルムアルデヒドの使
用量はカルバペネム誘導体(VII)に対して10〜20当
量が好ましい。使用する塩基としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機
塩基、中でも炭酸ナトリウムが好ましい。塩基の使用量
は、カルバペネム誘導体(VII)に対して1〜2当量が好
ましい。
用量はカルバペネム誘導体(VII)に対して10〜20当
量が好ましい。使用する塩基としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機
塩基、中でも炭酸ナトリウムが好ましい。塩基の使用量
は、カルバペネム誘導体(VII)に対して1〜2当量が好
ましい。
【0068】使用する溶媒としては、ジクロロメタン、
クロロホルム、トルエン、ベンゼン等が挙げられ、中で
もトルエンが好ましい。
クロロホルム、トルエン、ベンゼン等が挙げられ、中で
もトルエンが好ましい。
【0069】上記反応は、通常、15〜25℃、0.5
〜1時間行われる。
〜1時間行われる。
【0070】次いで、該カルバペネム誘導体(VIII)と、
一般式R5NHOH(R5は前記と同じである)で表され
るヒドロキシルアミンと、ホルムアルデヒドとを反応さ
せることにより、本発明のイソオキサゾリジニルカルバ
ペネム誘導体(I-1)を得る。
一般式R5NHOH(R5は前記と同じである)で表され
るヒドロキシルアミンと、ホルムアルデヒドとを反応さ
せることにより、本発明のイソオキサゾリジニルカルバ
ペネム誘導体(I-1)を得る。
【0071】
【化28】
【0072】(式中、R1、R2、R3およびR5は前記と
同じであり、*印の炭素原子の立体配置はRまたはSで
ある)。
同じであり、*印の炭素原子の立体配置はRまたはSで
ある)。
【0073】上記反応において、上記ヒドロキシルアミ
ンの使用量は、カルバペネム誘導体(VIII)に対して1.
5〜3当量が好ましく、上記ホルムアルデヒドの使用量
は、カルバペネム誘導体(VIII)に対して10〜20当量
が好ましい。使用する溶媒は、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、メタノール、エタノール、ジメチルホメルム
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、アセトニト
リル等の溶媒が挙げられる。
ンの使用量は、カルバペネム誘導体(VIII)に対して1.
5〜3当量が好ましく、上記ホルムアルデヒドの使用量
は、カルバペネム誘導体(VIII)に対して10〜20当量
が好ましい。使用する溶媒は、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、メタノール、エタノール、ジメチルホメルム
アミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、アセトニト
リル等の溶媒が挙げられる。
【0074】上記反応は、通常、80〜110℃、2〜
4時間行われる。
4時間行われる。
【0075】次いで、該イソオキサゾリジニルカルバペ
ネム誘導体(I-1)と一般式R6X2(R6およびX2は前記
と同じである)で表されるアルキル化ハロゲンとを反応
させることにより、イソオキサゾリジニル基のN原子を
4級アルキル化して、本発明のイソオキサゾリジニウム
カルバペネム誘導体(I-2)を得る。
ネム誘導体(I-1)と一般式R6X2(R6およびX2は前記
と同じである)で表されるアルキル化ハロゲンとを反応
させることにより、イソオキサゾリジニル基のN原子を
4級アルキル化して、本発明のイソオキサゾリジニウム
カルバペネム誘導体(I-2)を得る。
【0076】
【化29】
【0077】(式中、R1、R2、R3、R5およびR6は
前記と同じであり、**印の炭素原子の立体配置はRま
たはSである)。
前記と同じであり、**印の炭素原子の立体配置はRま
たはSである)。
【0078】上記反応において、上記ハロゲン化アルキ
ルの使用量は、カルバペネム誘導体(I-1)に対して2〜
5当量が好ましい。
ルの使用量は、カルバペネム誘導体(I-1)に対して2〜
5当量が好ましい。
【0079】使用する溶媒としては、ジクロロメタン、
アセトニトリルが挙げられ、中でもアセトニトリルが好
ましい。
アセトニトリルが挙げられ、中でもアセトニトリルが好
ましい。
【0080】上記反応は、通常、15〜25℃、10〜
30分間行われる。
30分間行われる。
【0081】カルバペネム誘導体(I-1)またはカルバペ
ネム誘導体(I-2)は、保護基を有する場合には、必要に
応じて脱保護してもよい。例えば、カルボキシル基の保
護基であるp−メトキシベンジル基等はAlCl3、B
F3、TiCl4、トリフルオロ酢酸等の酸と反応させる
ことにより脱保護できる。水酸基の保護基であるトリメ
チルシリル基は、AlCl3、塩酸等の酸と反応させる
ことにより脱保護することができる。
ネム誘導体(I-2)は、保護基を有する場合には、必要に
応じて脱保護してもよい。例えば、カルボキシル基の保
護基であるp−メトキシベンジル基等はAlCl3、B
F3、TiCl4、トリフルオロ酢酸等の酸と反応させる
ことにより脱保護できる。水酸基の保護基であるトリメ
チルシリル基は、AlCl3、塩酸等の酸と反応させる
ことにより脱保護することができる。
【0082】本発明のカルバペネム誘導体と同様の基を
有する抗生物質としては、特開平3−323891号公
報に下記に示すセファロスポリン誘導体が開示されてい
る。
有する抗生物質としては、特開平3−323891号公
報に下記に示すセファロスポリン誘導体が開示されてい
る。
【0083】
【化30】
【0084】このセファロスポリン誘導体は、グラム陽
性菌、グラム陰性菌および各種の耐性菌を含む高範囲の
抗菌スペクトルを有する。しかし後述の実施例から明ら
かなように、このセファロスポリンは、本発明のカルバ
ペルム誘導体に比べグラム陽性菌、グラム陰性菌および
各種の耐性菌に対する抗菌活性が低い。
性菌、グラム陰性菌および各種の耐性菌を含む高範囲の
抗菌スペクトルを有する。しかし後述の実施例から明ら
かなように、このセファロスポリンは、本発明のカルバ
ペルム誘導体に比べグラム陽性菌、グラム陰性菌および
各種の耐性菌に対する抗菌活性が低い。
【0085】本発明のカルバペネム誘導体(その医薬と
して受容される塩を含む)を有効成分として含有する組
成物は、抗菌剤として投与される。投与形態は、経口ま
たは非経口投与である。投与の形態としては、注射剤
(静脈注射、筋肉注射、点滴、皮下注射用アンプル剤、
バイヤル剤、液剤、懸濁剤等)、外用剤、局所投与剤
(点耳剤、点鼻剤、点眼剤、軟膏剤、スプレー剤、坐剤
等)、経口投与剤等がある。注射による投与、経皮、経
粘膜投与等が好適である。上記製剤は、カルバペネム誘
導体を98重量%以上の割合で含有し、投与形態に応じ
て適当な賦形剤、助剤、安定剤、浸潤剤、乳化剤、その
他の添加剤等を含有する。それらは、製剤学的、薬理学
的に利用可能で、カルバペネム誘導体に対しても影響を
与えない物質であることが必要である。例えば、経口用
の製剤には、乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネ
シウム、白土、シュークロース、コーンスターチ、タル
ク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ
油、カカオ油、エチレングリコール、酒石酸、クエン
酸、フマル酸等が含有される。非経口用の製剤には、溶
剤(アルコール、緩衝剤、オレイン酸メチル、水等)、
緩衝剤、分散剤、溶解補助剤、安定化剤(p−ヒドロキ
シ安息香酸メチルまたはp−ヒドロキシ安息香酸エチ
ル、ソルビン酸等)、吸収促進剤(グリセリンのモノま
たはジオクタン酸エステル等)、抗酸化剤、芳香剤、鎮
痛剤、懸濁剤、副作用抑制剤、作用増強物質(吸収***
調節剤、酵素分解防止剤、β−ラクタメース阻害剤、他
種抗菌剤等)等が含有される。
して受容される塩を含む)を有効成分として含有する組
成物は、抗菌剤として投与される。投与形態は、経口ま
たは非経口投与である。投与の形態としては、注射剤
(静脈注射、筋肉注射、点滴、皮下注射用アンプル剤、
バイヤル剤、液剤、懸濁剤等)、外用剤、局所投与剤
(点耳剤、点鼻剤、点眼剤、軟膏剤、スプレー剤、坐剤
等)、経口投与剤等がある。注射による投与、経皮、経
粘膜投与等が好適である。上記製剤は、カルバペネム誘
導体を98重量%以上の割合で含有し、投与形態に応じ
て適当な賦形剤、助剤、安定剤、浸潤剤、乳化剤、その
他の添加剤等を含有する。それらは、製剤学的、薬理学
的に利用可能で、カルバペネム誘導体に対しても影響を
与えない物質であることが必要である。例えば、経口用
の製剤には、乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネ
シウム、白土、シュークロース、コーンスターチ、タル
ク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ
油、カカオ油、エチレングリコール、酒石酸、クエン
酸、フマル酸等が含有される。非経口用の製剤には、溶
剤(アルコール、緩衝剤、オレイン酸メチル、水等)、
緩衝剤、分散剤、溶解補助剤、安定化剤(p−ヒドロキ
シ安息香酸メチルまたはp−ヒドロキシ安息香酸エチ
ル、ソルビン酸等)、吸収促進剤(グリセリンのモノま
たはジオクタン酸エステル等)、抗酸化剤、芳香剤、鎮
痛剤、懸濁剤、副作用抑制剤、作用増強物質(吸収***
調節剤、酵素分解防止剤、β−ラクタメース阻害剤、他
種抗菌剤等)等が含有される。
【0086】本発明のカルバペネム誘導体の投与量は、
患者の年齢、疾患の種類および状態、使用する化合物の
種類等によって異なる。一般的には、患者に一日当り5
00〜1000mg/個体の量であり、必要に応じてそ
れ以上の量が投与され得る。本発明のカルバペネム誘導
体は、細菌と接触させて静菌または殺菌することができ
るので、感受性細菌感染症の治癒のために使用すること
ができ、1回投与量が、例えば、1mg(外用)では一
日4回、1000mg(静注)では一日2〜4回程度投
与される。
患者の年齢、疾患の種類および状態、使用する化合物の
種類等によって異なる。一般的には、患者に一日当り5
00〜1000mg/個体の量であり、必要に応じてそ
れ以上の量が投与され得る。本発明のカルバペネム誘導
体は、細菌と接触させて静菌または殺菌することができ
るので、感受性細菌感染症の治癒のために使用すること
ができ、1回投与量が、例えば、1mg(外用)では一
日4回、1000mg(静注)では一日2〜4回程度投
与される。
【0087】
【実施例】次に本発明を実施例を挙げて説明する。
【0088】実施例1 (工程1) (1S,6S)−2−ヨ−ドメチル−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルの製造
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルの製造
【0089】
【化31】
【0090】(1S,6S)−2−ヒドロキシメチル−
1−メチル−6−((R)−1−トリエチルシリルオキ
シエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル(43.68g、0.0
92mol)のジクロロメタン(100ml)溶液を約
−50℃に冷却し、この溶液にトリエチルアミン(1
4.1ml、1.1当量)、ヨウ素(25.64g、
1.1当量)とトリフェニルホスフィン(36.13g
、1.5当量)を順次加え、約1時間撹拌した。その
後、約−50℃に冷却した状態で、この溶液にヘキサメ
チルホスホロアミド(32ml、2当量)を加え、約3
0分間撹拌することにより、(1S,6S)−2−ヨ−
ドメチル−1−メチル−6−((R)−1−トリエチル
シリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−
カルボン酸p−メトキシベンジルエステルの溶液を得
た。
1−メチル−6−((R)−1−トリエチルシリルオキ
シエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル(43.68g、0.0
92mol)のジクロロメタン(100ml)溶液を約
−50℃に冷却し、この溶液にトリエチルアミン(1
4.1ml、1.1当量)、ヨウ素(25.64g、
1.1当量)とトリフェニルホスフィン(36.13g
、1.5当量)を順次加え、約1時間撹拌した。その
後、約−50℃に冷却した状態で、この溶液にヘキサメ
チルホスホロアミド(32ml、2当量)を加え、約3
0分間撹拌することにより、(1S,6S)−2−ヨ−
ドメチル−1−メチル−6−((R)−1−トリエチル
シリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−
カルボン酸p−メトキシベンジルエステルの溶液を得
た。
【0091】(工程2) (1S,6S)−1−メチル−6−((R)−1−トリ
エチルシリルオキシエチル)−2−トリフェニルホスホ
ニオメチル−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステルのヨウ化物の製造
エチルシリルオキシエチル)−2−トリフェニルホスホ
ニオメチル−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステルのヨウ化物の製造
【0092】
【化32】
【0093】上記の(1S,6S)−2−ヨ−ドメチル
−1−メチル−6−((R)−1−トリエチルシリルオ
キシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステルのジクロロメタン溶液
を−20℃に冷却した後、この溶液にトリフェニルホス
フィン(24.09g、1当量)を加え、−20℃で一
晩放置した。この反応液を氷冷した水−酢酸エチルにあ
け、有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層をあわせ、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた残渣をエ−テルで粉末化、
洗浄することにより、粗生成物(1S,6S)−1−メ
チル−6−((R)−1−トリエチルシリルオキシエチ
ル)−2−トリフェニルホスホニオメチル−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステルのヨウ化物を得た(85.57g 工程1からの
収率:100%、純度:91%)。この化合物の1H−
NMR、IRおよびMSのデータを以下に示す。
−1−メチル−6−((R)−1−トリエチルシリルオ
キシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステルのジクロロメタン溶液
を−20℃に冷却した後、この溶液にトリフェニルホス
フィン(24.09g、1当量)を加え、−20℃で一
晩放置した。この反応液を氷冷した水−酢酸エチルにあ
け、有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層をあわせ、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた残渣をエ−テルで粉末化、
洗浄することにより、粗生成物(1S,6S)−1−メ
チル−6−((R)−1−トリエチルシリルオキシエチ
ル)−2−トリフェニルホスホニオメチル−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステルのヨウ化物を得た(85.57g 工程1からの
収率:100%、純度:91%)。この化合物の1H−
NMR、IRおよびMSのデータを以下に示す。
【0094】1H-NMR(CDCl3)δ: 0.55(q, J=7.8Hz, 6H),
0.90(t, J=7.8Hz, 9H), 1.17(d,J=6.2Hz, 3H), 1.35
(d, J=7.2Hz, 3H), 2.65〜2.90(m, 1H), 3.23(dd,J=4.6
Hz, 3.0Hz, 1H), 3.82(s, 3H), 4.06(dd, J=10.2Hz, 3.
0Hz, 1H),4.22(dq, J=6.2Hz, 4.6Hz, 1H), 4.77(s, 2
H), 5.19(t-like, J=15.6Hz,1H), 5.45(t-like, J=15.0
Hz, 1H), 6.86(d, J=8.8Hz, 2H), 7.18(d,J=8.8Hz, 2
H), 7.41〜7.87(m, 15H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1778, 1709 MS m/z : 720[(M-I)+], 1567[(2M-I)+] [(M-I)+] C43H51NO5PSi 計算値 : 720.3272 実験値
: 720.3286。
0.90(t, J=7.8Hz, 9H), 1.17(d,J=6.2Hz, 3H), 1.35
(d, J=7.2Hz, 3H), 2.65〜2.90(m, 1H), 3.23(dd,J=4.6
Hz, 3.0Hz, 1H), 3.82(s, 3H), 4.06(dd, J=10.2Hz, 3.
0Hz, 1H),4.22(dq, J=6.2Hz, 4.6Hz, 1H), 4.77(s, 2
H), 5.19(t-like, J=15.6Hz,1H), 5.45(t-like, J=15.0
Hz, 1H), 6.86(d, J=8.8Hz, 2H), 7.18(d,J=8.8Hz, 2
H), 7.41〜7.87(m, 15H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1778, 1709 MS m/z : 720[(M-I)+], 1567[(2M-I)+] [(M-I)+] C43H51NO5PSi 計算値 : 720.3272 実験値
: 720.3286。
【0095】(工程3) (1S,6S)−1−メチル−6−((R)−1−トリ
エチルシリルオキシエチル)−2−ビニル−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステルの製造
エチルシリルオキシエチル)−2−ビニル−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステルの製造
【0096】
【化33】
【0097】(1S,6S)−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−2−
トリフェニルホスホニオメチル−1−カルバ−2−ペネ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのヨ
ウ化物(純度91%、37.23g、39.97mmo
l)をトルエン(400ml)、ジクロロメタン(20
ml)および水(200ml)の混合物に溶解した。こ
の溶液に、氷冷下、37%ホルマリン水溶液(71.3
ml、22当量)と炭酸ナトリウム(6.98g、1.
65当量)を加えた後、室温で約1時間撹拌した。反応
液を水−酢酸エチルにあけ、有機層を分離し、水層を酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチルをあわせ、水と飽和食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
(トルエン:酢酸エチル=20:1)で精製することに
より、(1S,6S)−1−メチル−6−((R)−1
−トリエチルシリルオキシエチル)−2−ビニル−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルを得た(12g、収率:64%)。この化
合物の1H−NMR、IRおよびMSのデータを以下に
示す。
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−2−
トリフェニルホスホニオメチル−1−カルバ−2−ペネ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのヨ
ウ化物(純度91%、37.23g、39.97mmo
l)をトルエン(400ml)、ジクロロメタン(20
ml)および水(200ml)の混合物に溶解した。こ
の溶液に、氷冷下、37%ホルマリン水溶液(71.3
ml、22当量)と炭酸ナトリウム(6.98g、1.
65当量)を加えた後、室温で約1時間撹拌した。反応
液を水−酢酸エチルにあけ、有機層を分離し、水層を酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチルをあわせ、水と飽和食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し
た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
(トルエン:酢酸エチル=20:1)で精製することに
より、(1S,6S)−1−メチル−6−((R)−1
−トリエチルシリルオキシエチル)−2−ビニル−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルを得た(12g、収率:64%)。この化
合物の1H−NMR、IRおよびMSのデータを以下に
示す。
【0098】1H-NMR(CDCl3)δ: 0.59(q, J=8.0Hz, 6H),
0.94(t, J=8.0Hz, 9H), 1.20(d,J=7.6Hz, 3H), 1.29
(d, J=6.0Hz, 3H), 3.19(dd, J=6.7Hz, 2.6Hz, 1H),3.3
5(quint, J=7.6Hz, 1H), 3.80(s, 3H), 4.12(dd, J=9.4
Hz, 2.6Hz, 1H)4.22(quint, J=6.4Hz, 1H), 5.23(s, 2
H), 5.43(dd, J=11.2Hz, 0.9Hz,1H), 5.50(dd, J=18.0H
z, 0.9Hz, 1H), 6.88(d, J=8.7Hz, 2H), 7.34(dd,J=18.
0Hz, 11.2Hz, 1H), 7.39(d, J=8.7Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1760, 1708 MS m/z : 472[(M+H)+], 943[(2M+H)+] [(M+H)+] C26H38NO5Si 計算値 : 472.2518 実験値 :
472.2525。
0.94(t, J=8.0Hz, 9H), 1.20(d,J=7.6Hz, 3H), 1.29
(d, J=6.0Hz, 3H), 3.19(dd, J=6.7Hz, 2.6Hz, 1H),3.3
5(quint, J=7.6Hz, 1H), 3.80(s, 3H), 4.12(dd, J=9.4
Hz, 2.6Hz, 1H)4.22(quint, J=6.4Hz, 1H), 5.23(s, 2
H), 5.43(dd, J=11.2Hz, 0.9Hz,1H), 5.50(dd, J=18.0H
z, 0.9Hz, 1H), 6.88(d, J=8.7Hz, 2H), 7.34(dd,J=18.
0Hz, 11.2Hz, 1H), 7.39(d, J=8.7Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1760, 1708 MS m/z : 472[(M+H)+], 943[(2M+H)+] [(M+H)+] C26H38NO5Si 計算値 : 472.2518 実験値 :
472.2525。
【0099】(工程4) (1S,6S)−1−メチル−2−((5R)−2−メ
チルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−((R)−
1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2
−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ル、および(1S,6S)−1−メチル−2−((5
S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6
−((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステルの製造
チルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−((R)−
1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2
−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ル、および(1S,6S)−1−メチル−2−((5
S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6
−((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステルの製造
【0100】
【化34】
【0101】(1S,6S)−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−2−
ビニル−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−
メトキシベンジルエステル(6.24g、13.2mm
ol)を100mlのトルエンに溶解した。これとは別
にN−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩(3.32g、
3当量)を ナトリウムメトキシド40ml(1M/M
eOH、3.1当量)に溶解した。この溶液に37%ホ
ルマリン水溶液24mlを室温で加えた。この水溶液
を、前記のトルエン溶液に加えて、110℃で4時間加
熱した。その後、この溶液を冷却し、次いで水(50m
l)を加え、エ−テル(200ml)で抽出した。抽出
液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ト
ルエン:酢酸エチル=3:1)で精製することにより、
低極性の(1S,6S)−1−メチル−2−((5R)
−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステル(962mg、収率;22%)と高極性の
異性体(1S,6S)−1−メチル−2−((5S)−
2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステル(1.97g、収率:45%)を得た。こ
れらの化合物の1H−NMR、IRおよびMSのデータ
を以下に示す。
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−2−
ビニル−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−
メトキシベンジルエステル(6.24g、13.2mm
ol)を100mlのトルエンに溶解した。これとは別
にN−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩(3.32g、
3当量)を ナトリウムメトキシド40ml(1M/M
eOH、3.1当量)に溶解した。この溶液に37%ホ
ルマリン水溶液24mlを室温で加えた。この水溶液
を、前記のトルエン溶液に加えて、110℃で4時間加
熱した。その後、この溶液を冷却し、次いで水(50m
l)を加え、エ−テル(200ml)で抽出した。抽出
液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ト
ルエン:酢酸エチル=3:1)で精製することにより、
低極性の(1S,6S)−1−メチル−2−((5R)
−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステル(962mg、収率;22%)と高極性の
異性体(1S,6S)−1−メチル−2−((5S)−
2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステル(1.97g、収率:45%)を得た。こ
れらの化合物の1H−NMR、IRおよびMSのデータ
を以下に示す。
【0102】低極性の5R体1 H-NMR(CDCl3)δ: 0.58(q, J=7.8Hz, 6H), 0.94(t, J=
7.8Hz, 9H), 1.23(d,J=7.0Hz, 3H), 1.26(d, J=6.0Hz,
3H), 1.88〜2.14(m, 1H), 2.39〜2.58(m, 1H), 2.60〜
2.86(m, 1H), 2.67(s, 3H), 3.10〜3.45(m, 2H), 3.18
(dd, J=6.6Hz, 2.4Hz, 1H), 3.80(s, 3H), 4.06(dd, J=
9.3Hz, 2.4Hz, 1H)4.20(quint, J=6.3Hz, 1H), 5.15(AB
q, J=12.3Hz, 1H), 5.23(ABq,J=12.3Hz, 1H), 5.43〜5.
62(m, 1H), 6.88(d, J=8.8Hz, 2H), 7.38(d,J=8.8Hz, 2
H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1763, 1709 MS m/z : 531[(M+H)+] [(M+H)+] C28H43N2O6Si 計算値 : 531.2888 実験値
: 531.2894。
7.8Hz, 9H), 1.23(d,J=7.0Hz, 3H), 1.26(d, J=6.0Hz,
3H), 1.88〜2.14(m, 1H), 2.39〜2.58(m, 1H), 2.60〜
2.86(m, 1H), 2.67(s, 3H), 3.10〜3.45(m, 2H), 3.18
(dd, J=6.6Hz, 2.4Hz, 1H), 3.80(s, 3H), 4.06(dd, J=
9.3Hz, 2.4Hz, 1H)4.20(quint, J=6.3Hz, 1H), 5.15(AB
q, J=12.3Hz, 1H), 5.23(ABq,J=12.3Hz, 1H), 5.43〜5.
62(m, 1H), 6.88(d, J=8.8Hz, 2H), 7.38(d,J=8.8Hz, 2
H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1763, 1709 MS m/z : 531[(M+H)+] [(M+H)+] C28H43N2O6Si 計算値 : 531.2888 実験値
: 531.2894。
【0103】高極性の5S体1 H-NMR(CDCl3)δ: 0.58(q, J=7.8Hz, 6H), 0.94(t, J=
7.8Hz, 9H), 1.23(d,J=7.4Hz, 3H), 1.27(d, J=6.0Hz,
3H), 1.27〜2.09(m, 1H), 2.22〜2.48(m, 1H), 2.56〜
2.89(m, 1H), 2.66(s, 3H), 3.15〜3.58(m, 2H), 3.20
(dd, J=7.0Hz, 2.8Hz, 1H), 3.80(s, 3H), 4.09(dd, J=
9.9Hz, 2.8Hz, 1H)4.19(quint, J=6.4Hz, 1H), 5.19(s,
2H), 5.34〜5.55(m, 1H), 6.88(d,J=8.8Hz, 2H), 7.3
7(d, J=8.8Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1764, 1709 MS m/z : 531[(M+H)+] [(M+H)+] C28H43N2O6Si 計算値 : 531.2888 実験値
: 531.2890。
7.8Hz, 9H), 1.23(d,J=7.4Hz, 3H), 1.27(d, J=6.0Hz,
3H), 1.27〜2.09(m, 1H), 2.22〜2.48(m, 1H), 2.56〜
2.89(m, 1H), 2.66(s, 3H), 3.15〜3.58(m, 2H), 3.20
(dd, J=7.0Hz, 2.8Hz, 1H), 3.80(s, 3H), 4.09(dd, J=
9.9Hz, 2.8Hz, 1H)4.19(quint, J=6.4Hz, 1H), 5.19(s,
2H), 5.34〜5.55(m, 1H), 6.88(d,J=8.8Hz, 2H), 7.3
7(d, J=8.8Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1764, 1709 MS m/z : 531[(M+H)+] [(M+H)+] C28H43N2O6Si 計算値 : 531.2888 実験値
: 531.2890。
【0104】実施例2
【0105】
【化35】
【0106】実施例1で得られた(1S,6S)−1−
メチル−2−((5R)−2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−6−((R)−1−トリエチルシリル
オキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(839mg、1.
58mmol)のアセトニトリル(10ml)溶液に室
温でヨ−ドメタン( 10ml)を加えた。約10分間
撹拌後、この溶液を減圧濃縮することにより、粗生成物
の(1S,6S)−2−((5R)−2,2−ジメチル
イソオキサゾリジニオ−5−イル)−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルのヨウ化物を得た(1.13g、収率:1
00%、純度:94%)。この化合物の1H−NMR、
IRおよびMSのデータを以下に示す。
メチル−2−((5R)−2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−6−((R)−1−トリエチルシリル
オキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(839mg、1.
58mmol)のアセトニトリル(10ml)溶液に室
温でヨ−ドメタン( 10ml)を加えた。約10分間
撹拌後、この溶液を減圧濃縮することにより、粗生成物
の(1S,6S)−2−((5R)−2,2−ジメチル
イソオキサゾリジニオ−5−イル)−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルのヨウ化物を得た(1.13g、収率:1
00%、純度:94%)。この化合物の1H−NMR、
IRおよびMSのデータを以下に示す。
【0107】1H-NMR(CDCl3)δ: 0.58(q, J=8.0Hz, 6H),
0.93(t, J=8.0Hz, 9H), 1.20(d,J=7.2Hz, 3H), 1.23
(d, J=6.2Hz, 3H), 2.86〜3.06(m, 2H), 3.26(dd,J=5.4
Hz, 3.0Hz, 1H), 3.36(dd, J=9.8Hz, 7.2Hz, 1H), 3.80
(s, 3H),3.82(s, 3H), 3.87(s, 3H), 4.24(quint, J=6.
2Hz, 1H), 4.28(dd,J=9.8Hz, 3.0Hz, 1H), 4.47〜4.66
(m, 1H), 4.76〜4.93(m, 1H), 5.21(s, 2H), 6.05(dd,
J=9.1Hz, 7.1Hz, 1H), 6.89(d, J=8.8Hz, 2H), 7.38(d,
J=8.8Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1776, 1717 MS m/z : 545[(M-I)+], 1217[(2M-I)+] [(M-I)+] C29H45N2O6Si 計算値 : 545.3044 実験値
: 545.3039。
0.93(t, J=8.0Hz, 9H), 1.20(d,J=7.2Hz, 3H), 1.23
(d, J=6.2Hz, 3H), 2.86〜3.06(m, 2H), 3.26(dd,J=5.4
Hz, 3.0Hz, 1H), 3.36(dd, J=9.8Hz, 7.2Hz, 1H), 3.80
(s, 3H),3.82(s, 3H), 3.87(s, 3H), 4.24(quint, J=6.
2Hz, 1H), 4.28(dd,J=9.8Hz, 3.0Hz, 1H), 4.47〜4.66
(m, 1H), 4.76〜4.93(m, 1H), 5.21(s, 2H), 6.05(dd,
J=9.1Hz, 7.1Hz, 1H), 6.89(d, J=8.8Hz, 2H), 7.38(d,
J=8.8Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1776, 1717 MS m/z : 545[(M-I)+], 1217[(2M-I)+] [(M-I)+] C29H45N2O6Si 計算値 : 545.3044 実験値
: 545.3039。
【0108】実施例3
【0109】
【化36】
【0110】実施例2で得られた(1S,6S)−2−
((5R)−2,2−ジメチルイソオキサゾリジニオ−
5−イル)−1−メチル−6−((R)−1−トリエチ
ルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルヨウ化物
(1.13g、1.58mmol、純度:94%)をジ
クロロメタン(9ml)とニトロメタン(3ml)の混
液に溶解した。この溶液を約−60℃に冷却した後、塩
化アルミニウム(843mg、4当量)のアニソ−ル
(3.5ml)溶液を加えた。その後、この溶液を約
1.5時間かけ約−15℃まで昇温させ、さらに同温で
30分間撹拌した。反応液をジクロロメタンで希釈し、
炭酸水素ナトリウム(707mg、5.32当量)の水
(10ml)溶液を加え、氷冷下、約10分間撹拌し
た。反応液を濾過後、水層を分取し、CHP−20カラ
ムクロマトグラフィ−により精製後、凍結乾燥すること
により、(1S,6S)−6−((R)−1−ヒドロキ
シエチル)−2−((5R)−2,2−ジメチルイソオ
キサゾリジニオ−5−イル)−1−メチル−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボキシレ−トを得た(301m
g、モノメチル体から収率:61%)。この化合物の1
H−NMR、IR、UVおよびMSのデータを以下に示
す。
((5R)−2,2−ジメチルイソオキサゾリジニオ−
5−イル)−1−メチル−6−((R)−1−トリエチ
ルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルヨウ化物
(1.13g、1.58mmol、純度:94%)をジ
クロロメタン(9ml)とニトロメタン(3ml)の混
液に溶解した。この溶液を約−60℃に冷却した後、塩
化アルミニウム(843mg、4当量)のアニソ−ル
(3.5ml)溶液を加えた。その後、この溶液を約
1.5時間かけ約−15℃まで昇温させ、さらに同温で
30分間撹拌した。反応液をジクロロメタンで希釈し、
炭酸水素ナトリウム(707mg、5.32当量)の水
(10ml)溶液を加え、氷冷下、約10分間撹拌し
た。反応液を濾過後、水層を分取し、CHP−20カラ
ムクロマトグラフィ−により精製後、凍結乾燥すること
により、(1S,6S)−6−((R)−1−ヒドロキ
シエチル)−2−((5R)−2,2−ジメチルイソオ
キサゾリジニオ−5−イル)−1−メチル−1−カルバ
−2−ペネム−3−カルボキシレ−トを得た(301m
g、モノメチル体から収率:61%)。この化合物の1
H−NMR、IR、UVおよびMSのデータを以下に示
す。
【0111】1H-NMR(D2O,DOH=4.80ppm)δ: 1.15(d, J=
7.2Hz, 3H), 1.27(d, J=6.2Hz, 3H),2.61〜2.93(m, 2
H), 3.35(dq, J=9.4Hz, 7.2Hz, 1H), 3.47(dd, J=6.2H
z,2.6Hz, 1H), 3.60(s, 6H), 4.06〜4.34(m, 4H), 5.98
(dd, J=9.7Hz,6.3Hz, 1H) IR νmax (KBr) cm-1 : 3400, 1750 UV λmax (H2O) nm : 274 (ε=6800) MS m/z : 311[(M+H)+], 621[(2M+H)+], 931[(3M+H)+] [(M+H)+] C15H23N2O5 計算値 : 311.1606 実験値 :
311.1610。
7.2Hz, 3H), 1.27(d, J=6.2Hz, 3H),2.61〜2.93(m, 2
H), 3.35(dq, J=9.4Hz, 7.2Hz, 1H), 3.47(dd, J=6.2H
z,2.6Hz, 1H), 3.60(s, 6H), 4.06〜4.34(m, 4H), 5.98
(dd, J=9.7Hz,6.3Hz, 1H) IR νmax (KBr) cm-1 : 3400, 1750 UV λmax (H2O) nm : 274 (ε=6800) MS m/z : 311[(M+H)+], 621[(2M+H)+], 931[(3M+H)+] [(M+H)+] C15H23N2O5 計算値 : 311.1606 実験値 :
311.1610。
【0112】実施例4
【0113】
【化37】
【0114】実施例2と同様にして、実施例1で得られ
た(1S,6S)−1−メチル−2−((5S)−2−
メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−((R)
−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−
2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テル(5g、9.42mmol)から(1S,6S)−
2−((5S)−2,2−ジメチルイソオキサゾリジニ
オ−5−イル)−1−メチル−6−((R)−1−トリ
エチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム
−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのヨウ
化物を得た(6.6g、収率:100%、純度:96
%)。この化合物の1H−NMR、IRおよびMSのデ
ータを以下に示す。
た(1S,6S)−1−メチル−2−((5S)−2−
メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6−((R)
−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−
2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テル(5g、9.42mmol)から(1S,6S)−
2−((5S)−2,2−ジメチルイソオキサゾリジニ
オ−5−イル)−1−メチル−6−((R)−1−トリ
エチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム
−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのヨウ
化物を得た(6.6g、収率:100%、純度:96
%)。この化合物の1H−NMR、IRおよびMSのデ
ータを以下に示す。
【0115】1H-NMR(CDCl3)δ: 0.58(q, J=8.2Hz, 6H),
0.93(t, J=8.2Hz, 9H), 1.24(d,J=6.2Hz, 3H), 1.27
(d, J=6.4Hz, 3H), 2.57〜2.84(m, 1H), 3.00〜3.19(m,
1H), 3.19〜3.38(m, 2H), 3.81(s. 3H), 3.91(s, 3H),
3.94(s, 3H),4.22(dd, J=10.2Hz, 3.0Hz, 1H), 4.24(q
uint, J=6.2Hz, 1H), 4.50〜4.83(m, 2H), 5.23(s, 2
H), 5.91(dd, J=10.0Hz, 6.2Hz, 1H), 6.89(d,J=8.7Hz,
2H), 7.38(d, J=8.7Hz, 2H)。 IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1778, 1714。 MS m/z : 545[(M-I)+], 1217[(2M-I)+] [(M-I)+] C29H45N2O6Si 計算値 : 545.3044 実験値
: 545.3036。
0.93(t, J=8.2Hz, 9H), 1.24(d,J=6.2Hz, 3H), 1.27
(d, J=6.4Hz, 3H), 2.57〜2.84(m, 1H), 3.00〜3.19(m,
1H), 3.19〜3.38(m, 2H), 3.81(s. 3H), 3.91(s, 3H),
3.94(s, 3H),4.22(dd, J=10.2Hz, 3.0Hz, 1H), 4.24(q
uint, J=6.2Hz, 1H), 4.50〜4.83(m, 2H), 5.23(s, 2
H), 5.91(dd, J=10.0Hz, 6.2Hz, 1H), 6.89(d,J=8.7Hz,
2H), 7.38(d, J=8.7Hz, 2H)。 IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1778, 1714。 MS m/z : 545[(M-I)+], 1217[(2M-I)+] [(M-I)+] C29H45N2O6Si 計算値 : 545.3044 実験値
: 545.3036。
【0116】実施例5
【0117】
【化38】
【0118】実施例3と同様にして、実施例4で得られ
た(1S,6S)−2−((5S)−2,2−ジメチル
イソオキサゾリジニオ−5−イル)−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルのヨウ化物(6.6g、9.42mmo
l、純度:96%)から(1S,6S)−6−((R)
−1−ヒドロキシエチル)−2−((5S)−2,2−
ジメチルイソオキサゾリジニオ−5−イル)−1−メチ
ル−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボキシレ−トを
得た(1.375g、モノメチル体から収率:47
%)。この化合物の1H−NMR、IR、UVおよびM
Sのデータを以下に示す。
た(1S,6S)−2−((5S)−2,2−ジメチル
イソオキサゾリジニオ−5−イル)−1−メチル−6−
((R)−1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−
カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルのヨウ化物(6.6g、9.42mmo
l、純度:96%)から(1S,6S)−6−((R)
−1−ヒドロキシエチル)−2−((5S)−2,2−
ジメチルイソオキサゾリジニオ−5−イル)−1−メチ
ル−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボキシレ−トを
得た(1.375g、モノメチル体から収率:47
%)。この化合物の1H−NMR、IR、UVおよびM
Sのデータを以下に示す。
【0119】1H-NMR(D2O,DOH=4.80ppm)δ:1.23(d, J=7.
2Hz, 3H), 1.30(d, J=6.4Hz, 3H),2.59〜3.13(m, 2H),
3.29〜3.47(m, 1H), 3.50(dd, J=5.1Hz, 2.9Hz, 1H),3.
63(s, 6H), 4.08〜4.37(m, 4H), 5.91(dd, J=9.9Hz, 6.
3Hz, 1H) IR νmax (KBr) cm-1 : 3500, 1750 UV λmax (H2O) nm : 274 (ε=5000), 225 (ε=5500) MS m/z : 311[(M+H)+], 621[(2M+H)+], 931[(3M+H)+] [(M+H)+] C15H23N2O5 計算値 : 311.1606 実験値 :
311.1600。
2Hz, 3H), 1.30(d, J=6.4Hz, 3H),2.59〜3.13(m, 2H),
3.29〜3.47(m, 1H), 3.50(dd, J=5.1Hz, 2.9Hz, 1H),3.
63(s, 6H), 4.08〜4.37(m, 4H), 5.91(dd, J=9.9Hz, 6.
3Hz, 1H) IR νmax (KBr) cm-1 : 3500, 1750 UV λmax (H2O) nm : 274 (ε=5000), 225 (ε=5500) MS m/z : 311[(M+H)+], 621[(2M+H)+], 931[(3M+H)+] [(M+H)+] C15H23N2O5 計算値 : 311.1606 実験値 :
311.1600。
【0120】実施例6
【0121】
【化39】
【0122】実施例1で得られた(1S,6S)−1−
メチル−2−((5S)−2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−6−((R)−1−トリエチルシリル
オキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(116mg、0.
22mmol)のテトラヒドロフラン(1ml)溶液
に、氷冷下に酢酸(38μl、0.66mmol)と
1.0Mの弗化テトラブチルアンモニウムのテトラヒド
ロフラン溶液(0.66ml、0.66mmol)を加
え、約30分間撹拌した。この反応液を水−酢酸エチル
にあけ、有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層をあわせ、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−(酢酸エチル)で精製することにより、
(1S,6S)−6−((R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチル−2−((5S)−2−メチルイソオ
キサゾリジン−5−イル)−1−カルバ−2−ペネム−
3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルを得た
(70mg、収率:77%)。この化合物の1H−NM
R、IRおよびMSのデータを以下に示す。
メチル−2−((5S)−2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−6−((R)−1−トリエチルシリル
オキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(116mg、0.
22mmol)のテトラヒドロフラン(1ml)溶液
に、氷冷下に酢酸(38μl、0.66mmol)と
1.0Mの弗化テトラブチルアンモニウムのテトラヒド
ロフラン溶液(0.66ml、0.66mmol)を加
え、約30分間撹拌した。この反応液を水−酢酸エチル
にあけ、有機層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層をあわせ、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−(酢酸エチル)で精製することにより、
(1S,6S)−6−((R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−1−メチル−2−((5S)−2−メチルイソオ
キサゾリジン−5−イル)−1−カルバ−2−ペネム−
3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルを得た
(70mg、収率:77%)。この化合物の1H−NM
R、IRおよびMSのデータを以下に示す。
【0123】1H-NMR(CDCl3)δ: 1.24(d, J=7.4Hz, 3H),
1.33(d, J=6.2Hz, 3H),1.70〜2.12(m, 1H), 2.28〜2.5
2(m, 1H), 2.56〜2.86(m, 1H), 2.66(s,3H), 3.19〜3.6
0(m, 2H), 3.25(dd, J=6.6Hz, 2.8Hz, 1H), 3.80(s, 3
H),4.15(dd, J=9.8Hz, 2.8Hz, 1H), 4.23(quint, J=6.4
Hz, 1H), 5.16(ABq,J=12.1Hz, 1H), 5.24(ABq, J=12.1H
z, 1H), 5.36〜5.55(m, 1H), 6.89(d,J=8.7Hz, 2H), 7.
37(d, J=8.7Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 3424, 1767, 1712 MS m/z : 417[(M+H)+], 833[(2M+H)+] [(M+H)+] C22H29N2O6 計算値 : 417.2024 実験値 :
417.2031。
1.33(d, J=6.2Hz, 3H),1.70〜2.12(m, 1H), 2.28〜2.5
2(m, 1H), 2.56〜2.86(m, 1H), 2.66(s,3H), 3.19〜3.6
0(m, 2H), 3.25(dd, J=6.6Hz, 2.8Hz, 1H), 3.80(s, 3
H),4.15(dd, J=9.8Hz, 2.8Hz, 1H), 4.23(quint, J=6.4
Hz, 1H), 5.16(ABq,J=12.1Hz, 1H), 5.24(ABq, J=12.1H
z, 1H), 5.36〜5.55(m, 1H), 6.89(d,J=8.7Hz, 2H), 7.
37(d, J=8.7Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 3424, 1767, 1712 MS m/z : 417[(M+H)+], 833[(2M+H)+] [(M+H)+] C22H29N2O6 計算値 : 417.2024 実験値 :
417.2031。
【0124】実施例7
【0125】
【化40】
【0126】実施例6で得られた(1S,6S)−6−
((R)−1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−
((5S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イ
ル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(188mg、0.45mmo
l)のジクロロメタン(4ml)溶液に、−40℃でト
リエチルアミン(94μl、0.68mmol)、4−
ニトロベンゾイルクロリド(126mg、0.68mm
ol)および4−ジメチルアミノピリジン(28mg、
0.23ミリモル)を加え、約2時間撹拌した。反応液
を水−ジクロロメタンにあけ、有機層を分離し、水層を
ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層をあわ
せ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−(トルエン:酢酸エチル=1:1)で精製する
ことにより、(1S,6S)−1−メチル−2−((5
S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6
−((R)−1−p−ニトロベンゾイルオキシエチル)
−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキ
シベンジルエステルを得た(227mg、収率:89
%、m.p.:131〜132℃、X線結晶解析により
2位に結合する炭素原子の立体配位はS配位と決定)。
この化合物の1H−NMR、IRおよび元素分析のデー
タを以下に示す。
((R)−1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−2−
((5S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イ
ル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(188mg、0.45mmo
l)のジクロロメタン(4ml)溶液に、−40℃でト
リエチルアミン(94μl、0.68mmol)、4−
ニトロベンゾイルクロリド(126mg、0.68mm
ol)および4−ジメチルアミノピリジン(28mg、
0.23ミリモル)を加え、約2時間撹拌した。反応液
を水−ジクロロメタンにあけ、有機層を分離し、水層を
ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層をあわ
せ、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−(トルエン:酢酸エチル=1:1)で精製する
ことにより、(1S,6S)−1−メチル−2−((5
S)−2−メチルイソオキサゾリジン−5−イル)−6
−((R)−1−p−ニトロベンゾイルオキシエチル)
−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキ
シベンジルエステルを得た(227mg、収率:89
%、m.p.:131〜132℃、X線結晶解析により
2位に結合する炭素原子の立体配位はS配位と決定)。
この化合物の1H−NMR、IRおよび元素分析のデー
タを以下に示す。
【0127】1H-NMR(CDCl3)δ: 1.29(d, J=7.4Hz, 3H),
1.53(d, J=6.2Hz, 3H),1.78〜2.14(m, 1H), 2.28〜2.5
2(m, 1H), 2.58〜2.90(m, 1H), 2.67(s,3H), 3.16〜3.6
3(m, 2H), 3.55(dd, J=6.4Hz, 2.8Hz, 1H), 3.78(s, 3
H),4.22(dd, J=9.7Hz, 2.8Hz, 1H), 5.20(s, 2H), 5.35
〜5.60(m, 1H), 5.54(quint, J=6.4Hz, 1H), 6.85(d, J
=8.6Hz, 2H), 7.34(d, J=8.6Hz, 2H),8.15(dd, J=6.6H
z, 2.6Hz, 2H), 8.22(dd, J=6.6Hz, 2.6Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1774, 1720, 1528, 1341 元素分析 C29H31N3O9 計算値 : C, 61.59, H, 5.52, N
:7.43 実験値 : C, 61.46, H, 5.64, N, 7.44。
1.53(d, J=6.2Hz, 3H),1.78〜2.14(m, 1H), 2.28〜2.5
2(m, 1H), 2.58〜2.90(m, 1H), 2.67(s,3H), 3.16〜3.6
3(m, 2H), 3.55(dd, J=6.4Hz, 2.8Hz, 1H), 3.78(s, 3
H),4.22(dd, J=9.7Hz, 2.8Hz, 1H), 5.20(s, 2H), 5.35
〜5.60(m, 1H), 5.54(quint, J=6.4Hz, 1H), 6.85(d, J
=8.6Hz, 2H), 7.34(d, J=8.6Hz, 2H),8.15(dd, J=6.6H
z, 2.6Hz, 2H), 8.22(dd, J=6.6Hz, 2.6Hz, 2H) IR νmax (CHCl3) cm-1 : 1774, 1720, 1528, 1341 元素分析 C29H31N3O9 計算値 : C, 61.59, H, 5.52, N
:7.43 実験値 : C, 61.46, H, 5.64, N, 7.44。
【0128】実施例8
【0129】
【化41】
【0130】実施例1で得られた(1S,6S)−1−
メチル−2−((5S)−2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−6−((R)−1−トリエチルシリル
オキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(260mg、0.
49mmol)を無水ジクロロメタン(3ml)と無水
ニトロメタン(1ml)の混合溶液に溶解した。この溶
液に、窒素雰囲気下、−60℃で塩化アルミニウム(2
61mg、4当量)のアニソ−ル(1ml)溶液を滴加
した。その後、この溶液を約1時間かけて−15℃まで
昇温させ、さらに約1時間撹拌した。その後、この溶液
をジクロロメタンで希釈し、炭酸水素ナトリウム(56
8mg、13.8当量)の水(6ml)溶液を加え、氷
冷下、約10分間撹拌した。反応液をハイフロス−パ−
セルを用いて濾過後、ジクロロメタンで洗浄し、CHP
−20Pカラムクロマトグラフィ−で精製することによ
り、(1S,6S)−6−((R)−1−ヒドロキシエ
チル)−1−メチル−2−((5S)−2−メチルイソ
オキサゾリジン−5−イル)−1−カルバ−2−ペネム
−3−カルボン酸ナトリウム塩を得た(102mg、収
率:65%)。この化合物の1H−NMRのデータを以
下に示す。
メチル−2−((5S)−2−メチルイソオキサゾリジ
ン−5−イル)−6−((R)−1−トリエチルシリル
オキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(260mg、0.
49mmol)を無水ジクロロメタン(3ml)と無水
ニトロメタン(1ml)の混合溶液に溶解した。この溶
液に、窒素雰囲気下、−60℃で塩化アルミニウム(2
61mg、4当量)のアニソ−ル(1ml)溶液を滴加
した。その後、この溶液を約1時間かけて−15℃まで
昇温させ、さらに約1時間撹拌した。その後、この溶液
をジクロロメタンで希釈し、炭酸水素ナトリウム(56
8mg、13.8当量)の水(6ml)溶液を加え、氷
冷下、約10分間撹拌した。反応液をハイフロス−パ−
セルを用いて濾過後、ジクロロメタンで洗浄し、CHP
−20Pカラムクロマトグラフィ−で精製することによ
り、(1S,6S)−6−((R)−1−ヒドロキシエ
チル)−1−メチル−2−((5S)−2−メチルイソ
オキサゾリジン−5−イル)−1−カルバ−2−ペネム
−3−カルボン酸ナトリウム塩を得た(102mg、収
率:65%)。この化合物の1H−NMRのデータを以
下に示す。
【0131】1H-NMR(CDCl3)δ: 1.23(d, J=7.6Hz, 3H),
1.30(d, J=6.4Hz, 3H),2.04〜2.28(m, 1H), 2.43〜3.5
1(m, 5H), 2.78(s, 3H), 4.17(dd,J=9.7Hz, 2.5Hz, 1
H), 4.25(quint, J=6.4Hz, 1H), 5.26(t,J=8.0Hz, 1
H)。
1.30(d, J=6.4Hz, 3H),2.04〜2.28(m, 1H), 2.43〜3.5
1(m, 5H), 2.78(s, 3H), 4.17(dd,J=9.7Hz, 2.5Hz, 1
H), 4.25(quint, J=6.4Hz, 1H), 5.26(t,J=8.0Hz, 1
H)。
【0132】実施例3、5および8で得られたカルバペ
ネム化合物の抗菌活性、血中濃度、AUC、尿中回収率
およびヒト腎臓デヒドロペプチダーゼ−1による分解
を、イミペネム、メロペネムおよびセファロスポリン誘
導体(A)および(B)を対照として評価した。その結
果を表1に示す。
ネム化合物の抗菌活性、血中濃度、AUC、尿中回収率
およびヒト腎臓デヒドロペプチダーゼ−1による分解
を、イミペネム、メロペネムおよびセファロスポリン誘
導体(A)および(B)を対照として評価した。その結
果を表1に示す。
【0133】
【表1】
【0134】<評価方法> 1)MIC(γ/ml) 表1に示す細菌発育阻止濃度により評価した。
【0135】2)血中濃度(γ/ml) マウス静注し、15分後の血中濃度を測定した 3)AUC(曲線下面積) 各時間における血中濃度を測定し、この測定値からTwo
compartment Modelに従って解析し、非線型最小二乗法
により曲線を求め、この曲線により曲線下面積を求め
た。
compartment Modelに従って解析し、非線型最小二乗法
により曲線を求め、この曲線により曲線下面積を求め
た。
【0136】4)尿中回収(%) マウス静注し、24時間後の尿中の含有量を測定し、こ
の値より尿中回収率を求めた。
の値より尿中回収率を求めた。
【0137】表1より、実施例3、5および8で得られ
たカルバペネム誘導体は、イミペネム、メロペネムおよ
びセファロスポリン誘導体(A)および(B)と比べ、
グラム陽性菌およびグラム陰性菌に対して優れた抗菌力
を有していることがわかる。さらに、実施例3、5およ
び8で得られたカルバペネム誘導体は、15分後の血中
濃度が高く、24時間後の尿中回収が高く、かつ体内に
おける加水分解速度が遅いことがわかる。
たカルバペネム誘導体は、イミペネム、メロペネムおよ
びセファロスポリン誘導体(A)および(B)と比べ、
グラム陽性菌およびグラム陰性菌に対して優れた抗菌力
を有していることがわかる。さらに、実施例3、5およ
び8で得られたカルバペネム誘導体は、15分後の血中
濃度が高く、24時間後の尿中回収が高く、かつ体内に
おける加水分解速度が遅いことがわかる。
【0138】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、広範囲な抗菌スペクトルを有し、かつグラム陽
性菌およびグラム陰性菌に強い抗菌活性を示す新規なカ
ルバペネム誘導体およびこのカルバペネム誘導体を含有
する抗菌剤を提供することができる。また本発明のカル
バペネム誘導体は、体内における加水分解速度が遅いた
め、長時間にわたり効果が持続する。
よれば、広範囲な抗菌スペクトルを有し、かつグラム陽
性菌およびグラム陰性菌に強い抗菌活性を示す新規なカ
ルバペネム誘導体およびこのカルバペネム誘導体を含有
する抗菌剤を提供することができる。また本発明のカル
バペネム誘導体は、体内における加水分解速度が遅いた
め、長時間にわたり効果が持続する。
Claims (6)
- 【請求項1】下記一般式(I)で表されるカルバペネム誘
導体。 【化1】 (式中、R1は水素原子または水酸基の保護基を表し、
R2は置換または無置換の低級アルキル基を表し、かつ
R3は水素原子、無機または有機塩基またはカルボキシ
ル基の保護基を表し、かつR4は下記一般式(II)から(V)
のいずれかを表し、: 【化2】 R5およびR6はそれぞれ独立して置換または無置換の低
級アルキル基を表す。) - 【請求項2】下記一般式(VI)で表されるカルバペネム誘
導体の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これをホス
ホニウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表されるカ
ルバペネム誘導体に変換する工程: 【化3】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1で規定した基と
同じである); 【化4】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1で規定した基と
同じであり、X1はハロゲン原子を表し、Yはアルキル
基またはアリール基を表す);該カルバペネム誘導体(V
II)をウィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表
されるカルバペネム誘導体に変換する工程: 【化5】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1で規定した基と
同じである);および該カルバペネム誘導体(VIII)と、
一般式R5NHOH(R5は請求項1で規定した基と同じ
である)で表されるヒドロキシルアミンと、ホルムアル
デヒドとを反応させることにより、イソオキサゾリジニ
ルカルバペネム誘導体(I-1)を得る工程: 【化6】 (式中、R1、R2、R3およびR5は請求項1で規定した
基と同じであり、*印の炭素原子の立体配置はRまたは
Sである);を包含する、カルバペネム誘導体の製造方
法。 - 【請求項3】下記一般式(VI)で表されるカルバペネム誘
導体の水酸基をハロゲンに置換し、次いで、これをホス
ホニウム塩に変換して、下記一般式(VII)で表されるカ
ルバペネム誘導体に変換する工程: 【化7】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1で規定した基と
同じである); 【化8】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1で規定した基と
同じであり、X1はハロゲン原子を表し、Yはアルキル
基またはアリール基を表す);該カルバペネム誘導体(V
II)をウィッティヒ反応により、下記一般式(VIII)で表
されるカルバペネム誘導体に変換する工程: 【化9】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1で規定した基と
同じである);該カルバペネム誘導体(VIII)と、一般式
R5NHOH(R5は請求項1で規定した基と同じであ
る)で表されるヒドロキシルアミンと、ホルムアルデヒ
ドとを反応させることにより、イソオキサゾリジニルカ
ルバペネム誘導体(I-1)を得る工程: 【化10】 (式中、R1、R2、R3およびR5は請求項1で規定した
基と同じである);および該イソオキサゾリジニルカル
バペネム誘導体(I-1)と一般式R6X2(R6は請求項1で
規定された基と同じであり、X2はハロゲン原子を表
す)で表されるアルキル化ハロゲンとを反応させること
により、イソオキサゾリジニウムカルバペネム誘導体(I
-2)を得る工程: 【化11】 (式中、R1、R2、R3、R5およびR6は請求項1で規
定した基と同じであり、**印の炭素原子の立体配置は
RまたはSである);を包含する、カルバペネム誘導体
の製造方法。 - 【請求項4】請求項1に記載のカルバペネム誘導体を有
効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項5】請求項1に記載のカルバペネム誘導体を有
効成分として含有する感受性細菌感染症治療剤。 - 【請求項6】請求項1に記載のカルバペネム誘導体を細
菌と接触させる工程を包含する静菌または殺菌方法。
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