JPH05263800A - Siphon control valve - Google Patents
Siphon control valveInfo
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- JPH05263800A JPH05263800A JP6242492A JP6242492A JPH05263800A JP H05263800 A JPH05263800 A JP H05263800A JP 6242492 A JP6242492 A JP 6242492A JP 6242492 A JP6242492 A JP 6242492A JP H05263800 A JPH05263800 A JP H05263800A
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- valve seat
- valve
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、サイホン原理を利用
した液体移送に使用するためのサイホン制御弁に関し、
特に、受圧部品の強度を向上させたことによって繰り返
し操作による受圧部品の破損が無く、移送する液体が高
放射性液体であっても安全にサイホンの圧力切り換え制
御ができるサイホン制御弁に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a siphon control valve for use in liquid transfer utilizing the siphon principle,
In particular, the present invention relates to a siphon control valve capable of safely controlling the pressure switching of a siphon even if the liquid to be transferred is a highly radioactive liquid by preventing the damage of the pressure receiving component due to repeated operations by improving the strength of the pressure receiving component.
【０００２】[0002]
【従来の技術】高放射性液体を１つの槽から別の槽へ移
送するに際しては、サイホンおよびサイホン制御弁を用
いた送液システムが従来から用いられている。この送液
システムの一例を図４を参照して説明すると、高放射性
液体を収容した槽Ａと、この液体を移す別の槽Ｂと、こ
れらの槽Ａ、Ｂを接続する配管と、配管からの分岐管に
取付けたデミスタとを、セル内部に配置する。デミスタ
からの配管をセル外部に導き、この配管にフィルタ、圧
空作動弁、槽Ｖ、サイホン制御弁をこの順に配置する。
サイホン制御弁は換気ライン（−数ｍｍＨ2 Ｏ）、真空
ライン（−９ｍＷＧ）および操作圧ラインと接続されて
いて、操作圧ラインは０．６ｋｇ／ｃｍ2の空気を送る
電磁弁Ｓ１および１．４ｋｇ／ｃｍ2 の空気を送る電磁
弁Ｓ２を備えている。また圧空作動弁は１．４ｋｇ／ｃ
ｍ2 の空気を送る電磁弁Ｓ３を備えている。2. Description of the Related Art A liquid transfer system using a siphon and a siphon control valve has been conventionally used for transferring a highly radioactive liquid from one tank to another tank. An example of this liquid transfer system will be described with reference to FIG. 4. A tank A containing a highly radioactive liquid, another tank B for transferring the liquid, a pipe connecting these tanks A and B, and a pipe. And the demister attached to the branch pipe of the above are placed inside the cell. A pipe from the demister is introduced to the outside of the cell, and a filter, a pneumatic valve, a tank V, and a siphon control valve are arranged in this pipe in this order.
Siphon control valve ventilation line (- Number mmH 2 O), be connected to the vacuum line (-9MWG) and operating pressure line, the operating pressure line solenoid valves S1 and 1 to send the air of 0.6 kg / cm 2. A solenoid valve S2 for sending 4 kg / cm 2 of air is provided. In addition, the pneumatically operated valve is 1.4 kg / c
A solenoid valve S3 for sending m 2 of air is provided.
【０００３】図５は従来のサイホン制御弁の構造を模式
的に示すものであって、操作圧ラインと連通する受圧室
５１、換気ラインと連通する換気ライン室５２、サイホ
ンラインと連通するサイホンライン室５３、および真空
ラインと連通する真空室５４を上方からこの順に有して
いる。下端に弁座部５６を有するセンターロッド５５
を、受圧室上方から受圧室５１および換気ライン室５２
を通してサイホンライン室５３まで貫通させてある。換
気ライン室５２内のセンターロッド５５外周面からセン
ターロッド内部を通って下端弁座部５６に開口する穿孔
５７を設けてある。受圧室頂部はダイアフラム５８で塞
がれており、受圧室５１と換気ライン室５２との間、お
よび換気ライン室５２とサイホンライン室５３との間は
ダイアフラム５９、６０により仕切られている。中心に
弁座部を有する弁座板６１をサイホンライン室５３と真
空室５４の間に配置する。センターロッド５５は、換気
ライン室５２に配置されたばね６２によって上方に付勢
されている。真空室５４内には、ばね６３により上方に
付勢されている弁台座６４を配置し、上ボール弁６５と
下ボール弁６６とを一体構造にした弁体を弁台座６４の
上に載置して、下ボール弁６６は弁座板６１の弁座部に
当接するように弁台座ばね６３によって上方に付勢さ
れ、上ボール弁６５はセンターロッド５５が下降したと
きにセンターロッド下端の弁座部５６と当接するように
されている。FIG. 5 schematically shows the structure of a conventional siphon control valve. The pressure receiving chamber 51 communicates with an operating pressure line, the ventilation line chamber 52 communicates with a ventilation line, and the siphon line communicates with a siphon line. A chamber 53 and a vacuum chamber 54 communicating with the vacuum line are provided in this order from above. Center rod 55 having a valve seat portion 56 at the lower end
From the upper side of the pressure receiving chamber to the pressure receiving chamber 51 and the ventilation line chamber 52.
Through to the siphon line chamber 53. A perforation 57 is provided which opens from the outer peripheral surface of the center rod 55 in the ventilation line chamber 52 to the lower end valve seat portion 56 through the inside of the center rod. The top of the pressure receiving chamber is closed by a diaphragm 58, and the pressure receiving chamber 51 and the ventilation line chamber 52 and the ventilation line chamber 52 and the siphon line chamber 53 are partitioned by diaphragms 59 and 60. A valve seat plate 61 having a valve seat portion at the center is arranged between the siphon line chamber 53 and the vacuum chamber 54. The center rod 55 is biased upward by a spring 62 arranged in the ventilation line chamber 52. A valve seat 64, which is biased upward by a spring 63, is arranged in the vacuum chamber 54, and a valve element having an upper ball valve 65 and a lower ball valve 66 integrally formed is placed on the valve seat 64. The lower ball valve 66 is urged upward by the valve seat spring 63 so as to come into contact with the valve seat portion of the valve seat plate 61, and the upper ball valve 65 controls the valve at the lower end of the center rod 55 when the center rod 55 descends. It is designed to abut the seat portion 56.
【０００４】図５はサイホン制御弁が位置（１）の状
態、すなわち図４における槽Ｖと換気ラインとが通気状
態とされサイホン作用は生じない状態を示している。こ
の状態においては、電磁弁Ｓ１およびＳ２は非励磁
（閉）とされ、電磁弁Ｓ３は非励磁（閉）とされ圧空作
動弁は作動せずに開とされている。かような位置（１）
においては、図５のサイホン制御弁の受圧室５１には操
作圧ラインから操作圧が送られず、そのためセンターロ
ッド５５はばね６２により付勢されて最も高い位置に置
かれ、上ボール弁６５はセンターロッド下端の弁座部５
６と当接せずに開となり、一方、下ボール弁６６はばね
６３により付勢されて弁座板６１の弁座に当接し閉とな
る。従って、換気ラインが、サイホン制御弁の換気ライ
ン室５２およびサイホンライン室５３を介して、槽Ｖ、
デミスタ、配管等と連通し換気されている。FIG. 5 shows a state in which the siphon control valve is in the position (1), that is, a state in which the tank V and the ventilation line in FIG. 4 are ventilated and the siphon action does not occur. In this state, the solenoid valves S1 and S2 are de-energized (closed), the solenoid valve S3 is de-energized (closed), and the compressed air actuated valve is open without being actuated. Such a position (1)
In FIG. 5, no operation pressure is sent from the operation pressure line to the pressure receiving chamber 51 of the siphon control valve in FIG. 5, so the center rod 55 is biased by the spring 62 and placed at the highest position, and the upper ball valve 65 is Valve seat 5 at the lower end of the center rod
The lower ball valve 66 is biased by the spring 63 to come into contact with the valve seat of the valve seat plate 61 to be closed. Therefore, the ventilation line is connected to the tank V through the ventilation line chamber 52 and the siphon line chamber 53 of the siphon control valve.
It is ventilated by communicating with demisters and piping.
【０００５】図４における槽Ａ内の液体を槽Ｂへサイホ
ン作用によって送液するに際しては、電磁弁Ｓ３を励磁
（開）して１．４ｋｇ／ｃｍ2 の空気を圧空作動弁へ送
りこの弁を閉とし、電磁弁Ｓ１とＳ２を励磁（開）して
操作圧ラインから１．４ｋｇ／ｃｍ2 の操作圧をサイホ
ン制御弁の受圧室５１に送る。これによって、サイホン
制御弁は図６に示した位置（３）の状態となる。すなわ
ち、操作圧により受圧室５１のダイアフラム５９が押し
下げられてセンターロッド５５は最も低い位置に置か
れ、上ボール弁６５はセンターロッド下端の弁座と当接
して閉とされ、さらに下ボール弁６６も押し下げられて
弁座板６１の弁座から離れて開となる。従って、真空ラ
インが、真空室５４およびサイホンライン室５３を介し
て槽Ｖと連通し、槽Ｖ内が真空とされる。When the liquid in the tank A in FIG. 4 is sent to the tank B by the siphon action, the solenoid valve S3 is excited (opened) and 1.4 kg / cm 2 of air is sent to the compressed air actuated valve. Is closed and the solenoid valves S1 and S2 are excited (opened) to send an operating pressure of 1.4 kg / cm 2 from the operating pressure line to the pressure receiving chamber 51 of the siphon control valve. This brings the siphon control valve to the position (3) shown in FIG. That is, the diaphragm 59 of the pressure receiving chamber 51 is pushed down by the operation pressure, the center rod 55 is placed at the lowest position, the upper ball valve 65 is brought into contact with the valve seat at the lower end of the center rod to be closed, and the lower ball valve 66. Is also pushed down to separate from the valve seat of the valve seat plate 61 and open. Therefore, the vacuum line communicates with the tank V through the vacuum chamber 54 and the siphon line chamber 53, and the inside of the tank V is evacuated.
【０００６】槽Ｖ内が十分に真空になった時点で、電磁
弁Ｓ２のみを非励磁（閉）として操作圧ラインから０．
６ｋｇ／ｃｍ2 の操作圧をサイホン制御弁の受圧室５１
に送る。これによって、サイホン制御弁は図７に示した
位置（２）の状態となる。すなわち、位置（３）のとき
より若干低い操作圧を受圧室５１に送ることによって、
受圧室のダイアフラム５９を位置（３）よりも弱く押し
下げ、その結果、センターロッド５５は最も高い位置
（１）（図５）と最も低い位置（３）（図６）の中間の
位置（２）（図７）に置かれる。これによって、上ボー
ル弁６５も下ボール弁６６も閉となり、サイホンライン
室５３は真空室５４とも換気ライン室５２とも連通しな
い状態となる。この状態において、電磁弁Ｓ３を非励磁
（閉）として圧空作動弁を開とすることによって、槽Ｖ
から配管までが減圧されてサイホン状態となり、槽Ａ内
の液体が槽Ｂへ移送されることになる。When the inside of the tank V is sufficiently evacuated, only the solenoid valve S2 is de-excited (closed) and the pressure is reduced to 0.
An operating pressure of 6 kg / cm 2 is applied to the pressure receiving chamber 51 of the siphon control valve.
Send to. This brings the siphon control valve to the position (2) shown in FIG. That is, by sending a slightly lower operating pressure to the pressure receiving chamber 51 than at the position (3),
The diaphragm 59 of the pressure receiving chamber is pushed down weaker than the position (3), and as a result, the center rod 55 is located at the intermediate position (2) between the highest position (1) (FIG. 5) and the lowest position (3) (FIG. 6). (Fig. 7). As a result, both the upper ball valve 65 and the lower ball valve 66 are closed, and the siphon line chamber 53 does not communicate with the vacuum chamber 54 or the ventilation line chamber 52. In this state, the electromagnetic valve S3 is de-excited (closed) and the compressed air actuated valve is opened, whereby the tank V
The pressure from the pipe to the pipe is reduced to be in a siphon state, and the liquid in the tank A is transferred to the tank B.
【０００７】所定量の液体の移送が終了した時点で電磁
弁Ｓ１を非励磁（閉）とすることにより、サイホン制御
弁の受圧室５１への操作圧の供給が停止し、センターロ
ッド５５はばね６２の付勢によって再び最高位置（１）
へ戻り、下ボール弁６６もばね６３により押し上げられ
て閉とされ、図５のような換気ラインとの接続状態に戻
る。その結果、サイホン作用がなくなり、槽Ｂへの液体
の移送も停止する。When the solenoid valve S1 is de-energized (closed) when the transfer of the predetermined amount of liquid is completed, the supply of operating pressure to the pressure receiving chamber 51 of the siphon control valve is stopped and the center rod 55 is spring-loaded. The highest position again (1) due to the bias of 62
Then, the lower ball valve 66 is pushed up by the spring 63 and closed, and the state of connection with the ventilation line as shown in FIG. 5 is restored. As a result, the siphon action disappears and the transfer of liquid to the tank B is stopped.
【０００８】なお、サイホン制御弁内部の弁の作動を確
認するために、センターロッドの上下動によって作動す
るマイクロスイッチ機構が受圧室上方に設けてある。す
なわち図５に示したように、受圧室５１上方にセンター
ロッド５５を突出させ、突出させたセンターロッドの所
定高さに接点板６７ａ、６７ｂを突設し、センターロッ
ドの上下動により接点板６７ａがマイクロスイッチ６８
ａと接触し、あるいは接点板６７ｂがマイクロスイッチ
６８ｂと接触することによって、上ボール弁６５および
下ボール弁６６の作動を確認することができるようにな
っている。In order to confirm the operation of the valve inside the siphon control valve, a micro switch mechanism which is operated by the vertical movement of the center rod is provided above the pressure receiving chamber. That is, as shown in FIG. 5, the center rod 55 is projected above the pressure receiving chamber 51, the contact plates 67a and 67b are provided at a predetermined height of the projected center rod, and the contact plate 67a is moved up and down by the center rod. Is a micro switch 68
The operation of the upper ball valve 65 and the lower ball valve 66 can be confirmed by making contact with a or contact plate 67b with microswitch 68b.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】上述したごとき構造の
従来のサイホン制御弁においては、受圧用および仕切り
用のダイアフラム５９、６０として高分子フィルムから
なるダイアフラムを使用しているため、繰り返し操作に
対して十分な強度が無く、通常使用状態で破損すること
が多い。特に高放射性液体を取り扱う場合に、ダイアフ
ラムの破損が生じると放射性ミスト等がサイホン制御弁
の外部に漏れだして放射能汚染を起こす可能性がある。
またダイアフラム等の破損によりサイホン制御弁を修理
するに際しては、放射能の除染を行う必要があり、この
除染作業においてさらに被曝の発生や放射能汚染の可能
性が生ずる。In the conventional siphon control valve having the above-described structure, since diaphragms made of a polymer film are used as the pressure-receiving and partitioning diaphragms 59 and 60, repeated operation is prevented. It does not have sufficient strength and often breaks in normal use. Particularly when handling a highly radioactive liquid, if the diaphragm is damaged, radioactive mist may leak to the outside of the siphon control valve and cause radioactive contamination.
Further, when repairing the siphon control valve due to damage to the diaphragm or the like, it is necessary to decontaminate radioactivity, and this decontamination work may cause further radiation exposure and radioactive contamination.
【００１０】さらに従来のサイホン制御弁は、受圧室５
１、換気ライン室５２、サイホンライン室５３、真空室
５４という４つのブロックから構成されていて構造が複
雑であり、機械的に弱い高分子フィルム製のダイヤフラ
ムを使用しているため、分解・組立に熟練を必要とす
る。Further, the conventional siphon control valve has a pressure receiving chamber 5
1) Ventilation line chamber 52, siphon line chamber 53, vacuum chamber 54, which has a complicated structure and uses a mechanically weak polymer film diaphragm. Requires skill.
【００１１】そこでこの発明は、繰り返し操作によって
も故障を生じ難く、その結果信頼性を向上でき、しかも
分解・組立等のしやすいように構造を簡単にした、新規
かつ改良されたサイホン制御弁を提供することを目的と
してなされたものである。Therefore, the present invention provides a new and improved siphon control valve which is less likely to cause a failure even if it is repeatedly operated, resulting in improved reliability, and a simple structure for easy disassembly and assembly. It was made for the purpose of providing.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】すなわちこの発明のサイ
ホン制御弁は、図１に示す実施例の参照番号を用いて述
べれば、上方に操作圧ラインと連通する受圧室１を、中
間に換気ラインおよびサイホンラインと連通する中間室
２を、下方に真空ラインと連通する真空室３を有し、中
心孔６を有する仕切板７を受圧室１と中間室２との間に
配置し、中心孔８を有する中間室仕切板９を中間室２内
に配置して上部の換気ライン室４と下部のサイホンライ
ン室５とに区分し、中心に弁座部１０を有する弁座板１
１を中間室２と真空室３との間に配置し、下端に弁座部
１２を有するセンターロッド１３を受圧室１上方から受
圧室１、仕切板７の中心孔６および中間室仕切板９の中
心孔８を通して中間室下部のサイホンライン室５まで貫
通させ、換気ライン室４内のセンターロッド１３外周面
からセンターロッド内部を通って下端弁座部１２に開口
する穿孔１４を設け、受圧室１内のセンターロッド１３
にベローズ支持板１５を突設して、仕切板７とベローズ
支持板１５との間にベローズ支持板１５を介してセンタ
ーロッドを上方に付勢するばね１６を配置するととも
に、仕切板７とベローズ支持板１５との間にステンレス
鋼製受圧室ベローズ１７を固着配設し、サイホンライン
室５内のセンターロッド１３にベローズ支持部１８を設
けて、中間室仕切板９とベローズ支持部１８との間にス
テンレス鋼製中間室ベローズ１９を固着配設し、ばね２
０により上方に付勢されている弁台座２１を真空室３内
に配置し、上ボール弁２２と下ボール弁２３とを一体構
造にした弁体２４を弁台座２１の上に載置して、下ボー
ル弁２３は弁座板１１の弁座部１０に当接するように弁
台座ばね２０によって付勢され、上ボール弁２２はセン
ターロッド１３が下降したときにセンターロッド下端の
弁座部１２と当接するようにされていることを特徴とす
るものである。That is, the siphon control valve of the present invention is described by using the reference numbers of the embodiment shown in FIG. 1. The siphon control valve has a pressure receiving chamber 1 communicating with an operating pressure line, and a ventilation line in the middle. Also, an intermediate chamber 2 communicating with the siphon line has a vacuum chamber 3 communicating with the vacuum line below, and a partition plate 7 having a central hole 6 is arranged between the pressure receiving chamber 1 and the intermediate chamber 2. An intermediate chamber partition plate 9 having 8 is arranged in the intermediate chamber 2 to be divided into an upper ventilation line chamber 4 and a lower siphon line chamber 5, and a valve seat plate 1 having a valve seat portion 10 at the center thereof.
1 is arranged between the intermediate chamber 2 and the vacuum chamber 3, and a center rod 13 having a valve seat portion 12 at its lower end is provided from above the pressure receiving chamber 1, the pressure receiving chamber 1, the center hole 6 of the partition plate 7, and the intermediate chamber partition plate 9. Through the center hole 8 of the intermediate chamber to the siphon line chamber 5 at the lower part of the intermediate chamber, and the perforation 14 is provided to open from the outer peripheral surface of the center rod 13 in the ventilation line chamber 4 to the lower end valve seat portion 12 through the inside of the center rod. Center rod 13 in 1
A bellows support plate 15 is provided so as to project to the partition plate 7, and a spring 16 for urging the center rod upward is disposed between the partition plate 7 and the bellows support plate 15 via the bellows support plate 15 and the partition plate 7 and the bellows A pressure receiving chamber bellows 17 made of stainless steel is fixedly disposed between the supporting plate 15 and the center rod 13 in the siphon line chamber 5, and a bellows supporting portion 18 is provided to connect the intermediate chamber partition plate 9 and the bellows supporting portion 18. A stainless steel intermediate chamber bellows 19 is fixedly arranged between the spring 2 and
The valve seat 21 which is biased upward by 0 is arranged in the vacuum chamber 3, and the valve body 24 in which the upper ball valve 22 and the lower ball valve 23 are integrated is placed on the valve seat 21. , The lower ball valve 23 is biased by the valve seat spring 20 so as to come into contact with the valve seat portion 10 of the valve seat plate 11, and the upper ball valve 22 causes the valve seat portion 12 at the lower end of the center rod 13 when the center rod 13 descends. It is characterized in that it is made to abut.
【００１３】[0013]
【作 用】操作圧ラインから受圧室１へ送る操作圧を変
化させることにより受圧室ベローズ１７の押圧程度を加
減でき、センターロッド１３を上下動させることができ
る。操作圧とセンターロッドの高さと上ボール弁２２、
下ボール弁２３の開閉との関係は、図５、図６および図
７に示した従来のサイホン制御弁と同じである。この関
係をまとめると下表のようになる。[Operation] By changing the operating pressure sent from the operating pressure line to the pressure receiving chamber 1, the pressing degree of the pressure receiving chamber bellows 17 can be adjusted and the center rod 13 can be moved up and down. Operating pressure, center rod height and upper ball valve 22,
The relationship with the opening and closing of the lower ball valve 23 is the same as that of the conventional siphon control valve shown in FIGS. 5, 6 and 7. This relationship is summarized in the table below.
【００１４】 操作圧 センターロッドの高さ ボール弁の開閉 位置（１） 図１ 最も低い 最も高い 上ボール弁開 下ボール弁閉 位置（３） 図２ 最も高い 最も低い 上ボール弁閉 下ボール弁開 位置（２） 図３ 中間 中間位置 上ボール弁閉 下ボール弁閉 Operating pressure Center rod height Ball valve open / closed position (1) Fig. 1 lowest highest upper ball valve open lower ball valve closed position (3) Fig. 2 highest lowest upper ball valve closed lower ball valve open position (2) Figure 3 middle intermediate position on the ball valve closed under the ball valve closed
【００１５】[0015]
【実施例】図１、図２および図３に示す好ましい実施例
を参照して、この発明のサイホン制御弁の構造を詳述す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of the siphon control valve of the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments shown in FIGS. 1, 2 and 3.
【００１６】この発明によるサイホン制御弁は、受圧室
１、中間室２および真空室３の３つのブロックをボルト
（図示せず）により連結して構成されており、従来のサ
イホン制御弁が受圧室、換気ライン室、サイホンライン
室および真空室の４つのブロックからなっているのに比
べて、構造的に簡略化されている。仕切板７および弁座
板１１は、それぞれ受圧室１と中間室２および中間室２
と真空室３とを連結する際にそれらの間に固定され、中
間室仕切板９は中間室２内にねじ（図示せず）により固
定される。受圧室１上方から貫通させたセンターロッド
１３と受圧室１頂部との間の隙間にはＯリングを配して
気密性が保たれるようにしてある。The siphon control valve according to the present invention is constructed by connecting three blocks of a pressure receiving chamber 1, an intermediate chamber 2 and a vacuum chamber 3 with bolts (not shown), and the conventional siphon control valve is a pressure receiving chamber. , The ventilation line chamber, the siphon line chamber and the vacuum chamber are composed of four blocks, which is structurally simplified. The partition plate 7 and the valve seat plate 11 are composed of a pressure receiving chamber 1, an intermediate chamber 2 and an intermediate chamber 2, respectively.
When the vacuum chamber 3 and the vacuum chamber 3 are connected to each other, the intermediate chamber partition plate 9 is fixed between them by a screw (not shown). An O-ring is arranged in the gap between the center rod 13 penetrating from above the pressure receiving chamber 1 and the top of the pressure receiving chamber 1 to maintain airtightness.
【００１７】この発明においては、従来のサイホン制御
弁で用いられていたダイアフラムに代えて、ＳＵＳ３１
６Ｌのごときステンレス鋼製のベローズ１７、１９を使
用している。受圧室ベローズ１７とベローズ支持板１５
および仕切板７との接続、中間室ベローズ１９とセンタ
ーロッドのベローズ支持部１８および中間室仕切板９と
の接続は、溶接固定によってなされている。この実施例
では、ベローズ支持部１８はセンターロッド１３外周面
に形成した肩部から構成されている。In the present invention, instead of the diaphragm used in the conventional siphon control valve, SUS31 is used.
6L stainless steel bellows 17 and 19 are used. Pressure chamber bellows 17 and bellows support plate 15
The connection with the partition plate 7, the connection between the intermediate chamber bellows 19, the bellows support portion 18 of the center rod, and the intermediate chamber partition plate 9 are made by welding. In this embodiment, the bellows support portion 18 is composed of a shoulder portion formed on the outer peripheral surface of the center rod 13.
【００１８】弁体２４は、下ボール弁２３に上ボール弁
２２をねじ込んで一体構造とされており、下ボール弁２
３は弁台座２１の上に単に載置されている。なお、ボー
ル弁２２、２３と当接する弁座部１２、１０には表面硬
化処理を施すことが好ましく、これによって繰り返し作
動による磨耗を防止することができる。The valve body 24 has a structure in which the upper ball valve 22 is screwed into the lower ball valve 23 to form an integrated structure.
3 is simply mounted on the valve seat 21. It is preferable that the valve seat portions 12 and 10 that come into contact with the ball valves 22 and 23 be subjected to a surface hardening treatment to prevent wear due to repeated operation.
【００１９】図１に示す位置（１）、図２に示す位置
（３）および図３に示す位置（２）は、それぞれ従来の
サイホン制御弁における図５の位置（１）、図６の位置
（３）および図７の位置（４）に相当する。すなわち、
図１の位置（１）においては、換気ラインが、サイホン
制御弁の換気ライン室４さらにはサイホンライン室５を
介して、槽Ｖ、デミスタ、配管等（図４参照）と連通し
換気されている状態となている。また図２の位置（３）
においては、真空ラインが、真空室３およびサイホンラ
イン室５を介して槽Ｖと連通し、槽Ｖ内が真空とされ
る。さらに図３の位置（２）においては、上ボール弁２
２も下ボール弁２３も閉となり、サイホンライン室５は
真空室３とも換気ライン室４とも連通しない状態とな
る。The position (1) shown in FIG. 1, the position (3) shown in FIG. 2 and the position (2) shown in FIG. 3 are the position (1) shown in FIG. 5 and the position shown in FIG. 6 in the conventional siphon control valve, respectively. (3) and position (4) in FIG. That is,
In the position (1) of FIG. 1, the ventilation line is communicated with the tank V, the demister, the piping and the like (see FIG. 4) through the ventilation line chamber 4 of the siphon control valve and further through the siphon line chamber 5. It is in a state of being. Also, position (3) in FIG.
In, the vacuum line communicates with the tank V through the vacuum chamber 3 and the siphon line chamber 5, and the inside of the tank V is evacuated. Further, in the position (2) of FIG. 3, the upper ball valve 2
Both 2 and the lower ball valve 23 are closed, and the siphon line chamber 5 is in a state of not communicating with the vacuum chamber 3 or the ventilation line chamber 4.
【００２０】図１の位置（１）から図３の位置（２）へ
の切換は、操作圧ラインから受圧室１に送られる操作圧
により受圧室ベローズ１７が押圧される押圧力が、受圧
室内のばね１６の弾性力に打ち勝ってばね１６を圧縮
し、これによりセンターロッド１３が押し下げられるこ
とによってなされるが、図示の実施例では、この切換点
の調整機構が設けられている。すなわち図３からわかる
ように、仕切板７の中心孔６近傍でばね１６を支持する
と共に、中心孔近傍の仕切板部分７ａをその周辺の仕切
板７ｂと別体として、中心孔近傍仕切板部分７ａを周辺
仕切板７ｂに捩じ込むことにより両者が一体とされてい
る。中心孔近傍仕切板部分７ａを回転して周辺仕切板７
ｂに対して上下させることによって、ばね１６の弾性力
を調整できるようになっている。かような受圧室１内の
ばね調整機構によって、位置（１）から位置（２）への
切換点を調整することができる。To switch from the position (1) in FIG. 1 to the position (2) in FIG. 3, the pressing force for pressing the pressure receiving chamber bellows 17 by the operating pressure sent from the operating pressure line to the pressure receiving chamber 1 is changed to the pressure receiving chamber. This is done by overcoming the elastic force of the spring 16 and compressing the spring 16, which pushes down the center rod 13. In the illustrated embodiment, a mechanism for adjusting this switching point is provided. That is, as can be seen from FIG. 3, the spring 16 is supported near the central hole 6 of the partition plate 7, and the partition plate portion 7a near the central hole is separated from the peripheral partition plate 7b to form a partition plate portion near the central hole. Both are integrated by screwing 7a into the peripheral partition plate 7b. The peripheral partition plate 7 is rotated by rotating the partition plate portion 7a near the central hole.
The elastic force of the spring 16 can be adjusted by moving it up and down with respect to b. With such a spring adjusting mechanism in the pressure receiving chamber 1, the switching point from the position (1) to the position (2) can be adjusted.
【００２１】さらに、図３の位置（２）から図２の位置
（３）への切換は、弁台座２１を押し上げるばね２０の
弾性力が、センターロッド１３の押し下げ力に打ち勝っ
てセンターロッドを押し上げることによってなされる
が、図示の実施例では、この切換点の調整機構が設けら
れている。すなわち図２からわかるように、弁台座２１
のばね２０下部に台座２５を設け、台座２５と螺合する
ねじ２６を真空室３外部から捩じ込んで、真空室外部か
らねじ２６を回転させて台座２５を上下させることによ
ってばね２０の弾性力を調整できるようになっている。
なお、ねじ２６と真空室底部との隙間はＯリングを配し
て、機密が保たれるようにされている。かような弁台座
２１のばね調整機構によって、位置（２）から位置
（３）への切換点を調整することができる。Further, when switching from the position (2) in FIG. 3 to the position (3) in FIG. 2, the elastic force of the spring 20 for pushing up the valve seat 21 overcomes the pushing down force of the center rod 13 and pushes up the center rod. However, in the illustrated embodiment, a mechanism for adjusting the switching point is provided. That is, as can be seen from FIG. 2, the valve seat 21
The pedestal 25 is provided in the lower part of the spring 20, and the screw 26 screwed into the pedestal 25 is screwed in from the outside of the vacuum chamber 3, and the screw 26 is rotated from the outside of the vacuum chamber to move the pedestal 25 up and down. The power can be adjusted.
An O-ring is provided in the gap between the screw 26 and the bottom of the vacuum chamber to keep the confidentiality. With such a spring adjusting mechanism of the valve seat 21, the switching point from the position (2) to the position (3) can be adjusted.
【００２２】サイホン制御弁内部の弁体２４の作動を確
認するために、図示の実施例においても従来と同様なマ
イクロスイッチ機構を設けてある。すなわち、図３から
わかるように、受圧室１上方にセンターロッド１３突出
させ、突出させたセンターロッドの所定高さに接点板３
０ａ、３０ｂを突設し、センターロッドの上下動により
接点板がマイクロスイッチ３１ａ、３１ｂと接触するこ
とによって、ボール弁２２、２３の作動を確認できる。
特に図示の実施例では、受圧室１上方に突出させたセン
ターロッド１３の外周にねじ（図示せず）を切り、接点
板を備えた環状部材３２ａ，３２ｂをセンターロッド１
３外周に螺合させ、環状部材３２ａ，３２ｂを回転して
センターロッドに対して上下させることによって接点板
３０ａ，３０ｂの高さを調整し、マイクロスイッチ３１
ａ，３１ｂの作動点を変えることができるようになって
いる。In order to confirm the operation of the valve body 24 inside the siphon control valve, a microswitch mechanism similar to the conventional one is provided in the illustrated embodiment. That is, as can be seen from FIG. 3, the center rod 13 is projected above the pressure receiving chamber 1, and the contact plate 3 is placed at a predetermined height of the projected center rod.
The operation of the ball valves 22 and 23 can be confirmed by projecting 0a and 30b and contacting the contact plates with the microswitches 31a and 31b by the vertical movement of the center rod.
Particularly, in the illustrated embodiment, a screw (not shown) is cut on the outer periphery of the center rod 13 protruding above the pressure receiving chamber 1, and the annular members 32a and 32b provided with the contact plates are attached to the center rod 1.
The height of the contact plates 30a and 30b is adjusted by screwing the outer periphery of the micro switch 31 to the outer periphery of the micro switch 31 by rotating the annular members 32a and 32b up and down with respect to the center rod.
The operating points of a and 31b can be changed.
【００２３】[0023]
【発明の効果】上述したところからわかるように、この
発明のサイホン制御弁においては、受圧手段として従来
のダイアフラムに代えてステンレス鋼製ベローズを使用
したことによって、強度がはるかに向上した結果、通常
使用状態において破損することが皆無となり、繰り返し
寿命も飛躍的に向上し、信頼性を高めることができる。
特に高放射性液体を取り扱う場合にも、サイホン制御弁
の破損に伴う放射性ミスト等の弁外への漏れが無くな
り、安全性が向上する。また放射能汚染発生の可能性も
皆無となるため、放射能除染作業の必要がなくなり、そ
の結果、部品の劣化や弁座漏れ等の機能障害の発生も無
くすことができる。As can be seen from the above, in the siphon control valve of the present invention, by using the stainless steel bellows as the pressure receiving means in place of the conventional diaphragm, the strength is much improved. There is no damage during use, the repeated life is dramatically improved, and the reliability can be improved.
Particularly when handling a highly radioactive liquid, leakage of radioactive mist or the like to the outside of the valve due to breakage of the siphon control valve is eliminated, and safety is improved. In addition, since there is no possibility of radioactive contamination occurring, there is no need for radioactive decontamination work, and as a result, functional impairment such as deterioration of parts and valve seat leakage can be eliminated.
【００２４】さらに、サイホン制御弁の構造を従来の４
ブロック構造から３ブロック構造としたことにより、分
解・組立が容易となり、作業者の熟練も不要となる。ま
た、受圧室内のばね調整機構を設けることによって位置
（１）から位置（２）への切換点の調整が可能となり、
さらには弁台座のばね調整機構を設けることによって位
置（２）から位置（３）への切換点の調整が可能とな
り、かような調整機構によりサイホン制御弁の確実な作
動を保証し、保全性・信頼性を向上させることができ
る。また、マイクロスイッチの作動点調整機構を設ける
ことによって弁作動の検出・確認がより一層確実とな
り、信頼性が向上する。Furthermore, the siphon control valve has a conventional structure of 4
By adopting a three-block structure instead of a block structure, disassembling and assembling becomes easy and the skill of the operator is not required. Further, by providing the spring adjusting mechanism in the pressure receiving chamber, it becomes possible to adjust the switching point from the position (1) to the position (2),
Furthermore, by providing a spring adjustment mechanism for the valve seat, it is possible to adjust the switching point from position (2) to position (3), and such an adjustment mechanism ensures a reliable operation of the siphon control valve and improves the integrity. -The reliability can be improved. Further, by providing the operating point adjusting mechanism of the micro switch, the detection and confirmation of the valve operation becomes more reliable and the reliability is improved.
【図１】この発明のサイホン制御弁の好ましい実施例の
断面図であり、位置（１）の状態を示している。FIG. 1 is a cross-sectional view of a preferred embodiment of the siphon control valve of the present invention, showing the position (1) state.
【図２】図１のサイホン制御弁における位置（３）の状
態を示す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing a state of a position (3) in the siphon control valve of FIG.
【図３】図１のサイホン制御弁における位置（２）の状
態を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a state of a position (2) in the siphon control valve of FIG.
【図４】サイホン制御弁の使用例を示す説明図。FIG. 4 is an explanatory view showing an example of use of a siphon control valve.
【図５】従来のサイホン制御弁の例を示す断面模式図で
あり、位置（１）の状態を示している。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional siphon control valve, showing a state at position (1).
【図６】図５のサイホン制御弁における位置（３）の状
態を示す断面模式図。6 is a schematic sectional view showing a state of a position (3) in the siphon control valve of FIG.
【図７】図５のサイホン制御弁における位置（２）の状
態を示す断面模式図。7 is a schematic sectional view showing a state of a position (2) in the siphon control valve of FIG.
１…受圧室、 ２…中間室、 ３…真空室、 ４
…換気ライン室、５…サイホンライン室、 ６…中心
孔、 ７…仕切板、８…中心孔、 ９…中間室仕切
板、 １０…弁座部、１１…弁座板、 １２…弁座
部、 １３…センターロッド、１４…穿孔、 １５
…ベローズ支持板、 １６…ばね、１７…受圧室ベロ
ーズ、 １８…ベローズ支持部、１９…中間室ベロー
ズ、 ２０…ばね、 ２１…弁台座、２２…上ボー
ル弁、 ２３…下ボール弁、 ２４…弁体。1 ... Pressure receiving chamber, 2 ... Intermediate chamber, 3 ... Vacuum chamber, 4
... Ventilation line room, 5 ... Siphon line room, 6 ... Central hole, 7 ... Partition plate, 8 ... Central hole, 9 ... Intermediate chamber partition plate, 10 ... Valve seat part, 11 ... Valve seat plate, 12 ... Valve seat part , 13 ... Center rod, 14 ... Perforation, 15
... Bellows support plate, 16 ... Spring, 17 ... Pressure receiving chamber bellows, 18 ... Bellows supporting part, 19 ... Intermediate chamber bellows, 20 ... Spring, 21 ... Valve seat, 22 ... Upper ball valve, 23 ... Lower ball valve, 24 ... Valve body.
Claims (5)
（１）を、中間に換気ラインおよびサイホンラインと連
通する中間室（２）を、下方に真空ラインと連通する真
空室（３）を有し、 中心孔（６）を有する仕切板（７）を受圧室と中間室と
の間に配し、中心孔（８）を有する中間室仕切板（９）
を中間室内に配して上部の換気ライン室（４）と下部の
サイホンライン室（５）とに区分し、中心に弁座部（１
０）を有する弁座板（１１）を中間室と真空室との間に
配し、 下端に弁座部（１２）を有するセンターロッド（１３）
を受圧室上方から受圧室、仕切板（７）の中心孔および
中間室仕切板（９）の中心孔を通して中間室下部のサイ
ホンライン室まで貫通させ、換気ライン室内のセンター
ロッド（１３）外周面からセンターロッド内部を通って
下端弁座部（１２）に開口する穿孔（１４）を設け、 受圧室内のセンターロッド（１３）にベローズ支持板
（１５）を突設して、仕切板（７）とベローズ支持板
（１５）との間にベローズ支持板を介してセンターロッ
ドを上方に付勢するばね（１６）を配置するとともに、
仕切板（７）とベローズ支持板（１５）との間にステン
レス鋼製受圧室ベローズ（１７）を固着配設し、 サイホンライン室内のセンターロッド（１３）にベロー
ズ支持部（１８）を設けて、中間室仕切板（９）とベロ
ーズ支持部（１８）との間にステンレス鋼製中間室ベロ
ーズ（１９）を固着配設し、 ばね（２０）により上方に付勢されている弁台座（２
１）を真空室内に配置し、上ボール弁（２２）と下ボー
ル弁（２３）とを一体構造にした弁体（２４）を弁台座
（２１）の上に載置して、下ボール弁（２３）は弁座板
（１１）の弁座部（１０）に当接するように弁台座ばね
（２０）によって付勢され、上ボール弁（２２）はセン
ターロッド（１３）が下降したときにセンターロッド下
端の弁座部（１２）と当接するようにされていることを
特徴とするサイホン制御弁。1. A pressure receiving chamber (1) communicating with an operating pressure line, an intermediate chamber (2) communicating with a ventilation line and a siphon line in the middle, and a vacuum chamber (3) communicating with a vacuum line below. A partition plate (7) having a central hole (6) is arranged between the pressure receiving chamber and the intermediate chamber, and a partition plate (9) of the intermediate chamber having a central hole (8) is provided.
Is placed in the intermediate chamber to divide into an upper ventilation line chamber (4) and a lower siphon line chamber (5), and the valve seat (1
0) is disposed between the intermediate chamber and the vacuum chamber, and the center rod (13) is provided with the valve seat portion (12) at the lower end.
Through the pressure receiving chamber, the center hole of the partition plate (7) and the center hole of the intermediate chamber partition plate (9) from above the pressure receiving chamber to the siphon line chamber below the intermediate chamber, and the outer peripheral surface of the center rod (13) in the ventilation line chamber. A perforation (14) that opens from the center rod to the lower end valve seat (12) is provided, and a bellows support plate (15) is projectingly provided on the center rod (13) in the pressure receiving chamber to form a partition plate (7). And a bellows support plate (15) between the bellows support plate and a spring (16) for urging the center rod upward through the bellows support plate.
A stainless steel pressure receiving chamber bellows (17) is fixedly arranged between the partition plate (7) and the bellows supporting plate (15), and a bellows supporting portion (18) is provided on the center rod (13) in the siphon line chamber. , A stainless steel intermediate chamber bellows (19) is fixedly disposed between the intermediate chamber partition plate (9) and the bellows support portion (18), and is urged upward by a spring (20) to a valve seat (2).
1) is placed in a vacuum chamber, and a valve body (24) in which an upper ball valve (22) and a lower ball valve (23) are integrated is placed on a valve seat (21), and a lower ball valve is placed. (23) is urged by the valve seat spring (20) so as to abut the valve seat portion (10) of the valve seat plate (11), and the upper ball valve (22) moves when the center rod (13) descends. A siphon control valve, which is adapted to come into contact with a valve seat portion (12) at a lower end of a center rod.
（１６）を支持すると共に、中心孔近傍の仕切板部分
（７ａ）をその周辺の仕切板（７ｂ）と別体として、中
心孔近傍仕切板部分（７ａ）を周辺仕切板（７ｂ）に捩
じ込むことにより両者が一体とされており、中心孔近傍
仕切板部分（７ａ）を回転して周辺仕切板（７ｂ）に対
して上下させることによってばね（１６）の弾性力を調
整できるようにした請求項１記載のサイホン制御弁。2. The partition plate (7) supports a spring (16) near the central hole (6) and separates the partition plate portion (7a) near the central hole from the peripheral partition plate (7b). , The central hole vicinity partition plate portion (7a) is screwed into the peripheral partition plate (7b) to integrate them, and the central hole vicinity partition plate portion (7a) is rotated to rotate the peripheral hole partition plate (7b). The siphon control valve according to claim 1, wherein the elastic force of the spring (16) can be adjusted by moving the spring (16) up and down.
座（２５）を設け、台座と螺合するねじ（２６）を真空
室（３）外部から捩じ込んで、真空室外部からねじ（２
６）を回転させて台座（２５）を上下させることによっ
てばね（２０）の弾性力を調整できるようにした請求項
１記載のサイホン制御弁。3. A pedestal (25) is provided below a spring (20) of a valve pedestal (21), and a screw (26) screwed to the pedestal is screwed in from the outside of the vacuum chamber (3) so as to be screwed from the outside of the vacuum chamber. Screw (2
The siphon control valve according to claim 1, wherein the elastic force of the spring (20) can be adjusted by rotating 6) to move the pedestal (25) up and down.
３）を突出させ、突出させたセンターロッドの所定高さ
に接点板（３０ａ、３０ｂ）を突設し、センターロッド
の上下動により接点板がマイクロスイッチ（３１ａ、３
１ｂ）と接触することによって弁体（２４）の作動を確
認できるようにした請求項１記載のサイホン制御弁。4. A center rod (1) above the pressure receiving chamber (1).
3) is projected, and the contact plates (30a, 30b) are projected at the predetermined height of the projected center rod.
The siphon control valve according to claim 1, wherein the operation of the valve body (24) can be confirmed by contacting with the valve 1b).
ロッド（１３）の外周にねじを切り、接点板（３０ａ、
３０ｂ）を備えた環状部材（３２ａ、３２ｂ）をセンタ
ーロッド（１３）外周に螺合させ、環状部材を回転して
センターロッドに対して上下させることによって接点板
（３０ａ、３０ｂ）の高さを調整できるようにした請求
項４記載のサイホン制御弁。5. A contact plate (30a, 30a) is formed by threading an outer periphery of a center rod (13) protruding above the pressure receiving chamber (1).
The height of the contact plates (30a, 30b) is increased by screwing annular members (32a, 32b) provided with 30b) onto the outer circumference of the center rod (13) and rotating the annular members up and down with respect to the center rod. The siphon control valve according to claim 4, wherein the siphon control valve is adjustable.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062424A JP2586773B2 (en) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | Siphon control valve |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062424A JP2586773B2 (en) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | Siphon control valve |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05263800A true JPH05263800A (en) | 1993-10-12 |
| JP2586773B2 JP2586773B2 (en) | 1997-03-05 |
Family
ID=13199765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4062424A Expired - Lifetime JP2586773B2 (en) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | Siphon control valve |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2586773B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002295708A (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Nok Corp | Solenoid valve |
| JP2008240674A (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Japan Atomic Energy Agency | Valve mechanism part replacable siphon control valve |
| GB2623475A (en) * | 2022-05-09 | 2024-04-24 | Clean Air Power Gt Ltd | Three-way valve |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP4062424A patent/JP2586773B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002295708A (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Nok Corp | Solenoid valve |
| JP4569025B2 (en) * | 2001-03-30 | 2010-10-27 | Ｎｏｋ株式会社 | Solenoid valve |
| JP2008240674A (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Japan Atomic Energy Agency | Valve mechanism part replacable siphon control valve |
| GB2623475A (en) * | 2022-05-09 | 2024-04-24 | Clean Air Power Gt Ltd | Three-way valve |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2586773B2 (en) | 1997-03-05 |
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