JPH052229B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（発明の利用分野） 本発明は新規な光重合性組成物に関するもので
あり、更に詳しくは、有機溶剤を含有しない弱ア
ルカリ水溶液によつて現像できる改善された光重
合性組成物に関する。 （従来技術） 従来、光重合性組成物の現像液として有機溶剤
が使用されてきたが有機溶剤は一般に高価で、有
毒であり、かつ可燃性でもある。その上使用に当
つては労働衛生対策および公害対策設備等に多額
の費用を必要とする。そのため、このような有機
溶剤を使用しないで現像できる光重合性組成物が
長い間熱望されてきた。一般に光重合性組成物の
溶解性およびその他の性質を決定するのは光重合
性組成物の結合剤成分である。 アルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物に
関する文献の代表的なものには、次のようなもの
がある。特公昭35−14065号（結合剤は側鎖酸素
含有重合体である）、特公昭46−32714号（結合剤
は例えばメタクリル酸メチル／メタクリル酸共重
合体である）、特公昭54−34327号（結合剤は例え
ばメタクリル酸メチル／メタクリル酸−２−エチ
ルヘキシル／メタクリル酸の三元共重合体であ
る）、特公昭55−38961号（結合剤は例えばスチレ
ン／マレイン酸モノｎ−ブチルエステル共重合体
である）、特公昭56−33413号（結合剤は例えばメ
タクリル酸エチル／アクリル酸エチル／メタクリ
ル酸の三元共重合体である。）、特公昭54−25957
号（結合剤は例えばスチレン／メタクリル酸メチ
ル／アクリル酸エチル／メタクリル酸の四元共重
合体である）、特開昭52−99810号（結合剤は例え
ばメタクリル酸ベンジル／メタクリル酸共重合体
である）、特公昭58−12577号（結合剤は例えばア
クリロニトリル／メタクリル酸−２−エチルヘキ
シル／メタクリル酸の三元共重合体である）、特
公昭55−6210号（結合剤は例えばメタクリル酸メ
チル／アクリル酸エチル／アクリル酸三元共重合
体とイソプロパノールで一部分エステル化したス
チレン／マレイン酸無水物共重合体の２種であ
る）、および特開昭58−1142号（結合剤は例えば
メタクリル酸メチル／メタクリル酸／アクリル酸
２−エチルヘキシル三元共重合体又はメタクリル
酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸２−エチル
ヘキシル／メタクリル酸ｎ−ブチル四元共重合体
である）。 しかしこれらの文献に記載されている光重合性
組成物は、ある用途においては利点があるが、し
かし特にフオトレジストとして使用された場合に
は以下に述べる如き欠点を示すのである。通常は
銅である金属箔を積層した基体を用いてプリント
配線基板を作成するに際し、その基体上に感光性
の固体フイルムを圧着積層する工程を含むいわゆ
るドライフイルムレジスト法については特公昭45
−25231号に記載されている。この方法に適合し
うる光重合性組成物は例えば現像性およびレジス
ト剥離性（ただし重合された状態においてはエツ
チング又はメツキ溶液に対する抵抗性）、低い粘
着性、基体に対する高い接着性および可撓性が適
当にバランスしていることが必要である。 従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合
性組成物は、それらが粘着性でありすぎるか又は
脆すぎること、または高分解性の画像を与えるに
は不十分な基体への接着性と耐膨潤性を有してい
ること、またはそれがアルカリ水溶液で現像でき
るとしても現像時間がかかりすぎるというよう
な、１つまたはそれ以上の不利な点を有してい
る。 また特に近年、プリント配線の高密度化が望ま
れ、そのために原稿に忠実で高解像力のレジスト
画線像を与えるドライフイルムレジストが必要と
なつてきた。 従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合
性組成物は、この目的に対し不十分であつた。こ
れは主としてフオトレジスト層の現像液に対する
耐膨潤性および基板への接着性の欠除に基づくも
のである。 （発明の目的） 本発明の目的は、従来のアルカリ水溶液で現像
可能な光重合性組成物の不利な点を克服すること
にある。すなわち目的とする組成物は、短時間で
弱アルカリ水溶液で現像でき、ドライフイルムと
して基体に積層するに十分な可撓性を持ち、そし
て基体に対して高度の接着性を有し、そして表面
の粘着性は少なく、また保存時にコールドフロー
を起すほどには軟質でなく、そして画像露光によ
つて重合した部分の現像液への耐膨潤性が優れて
いるが、さらに有機溶剤を含有しない強アルカリ
の希薄水溶液で処理することにより速い剥離が可
能である。さらに本発明の目的は原稿に対する忠
実な画線像の再現であり、高解像力の発現であ
る。 本発明者等は、次のような光重合性組成物を用
いることでこれらの目的が達成されることを見出
し本出願に到つた。 （発明の構成） 本発明の光重合性組成物は、分子中に少なくと
も２個のエチレン性不飽和二重合結合を含有する
付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤および結
合剤を含有し、該結合剤がつぎの一般式（）で
表わされ、重量平均分子量が10000〜500000の四
元共重合体であることを特徴とする。 一般式（） 式中、ｗ，ｘ，ｙ，ｚは共重合組成（モル％）
を表わし、各々次の範囲である。ｗ：45〜65、ｘ
＝５〜18、ｙ：２〜10、ｚ：20〜40。Ｒは水素原
子又はメチル基を表わす。 本発明の光重合成組成物の各成分につき以下に
説明する。 重合体を構成するこれらメチルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、ベンジル
メタクリレート（又はベンジルアクリレート）及
びメタクリル酸の各単位は結合剤として必要な性
能を満足するために好ましい含有量の範囲が存在
する。即ち、メチルメタクリレート単位はレジス
トの未露光時の感光層の硬さ、露光部のアルカリ
現像液、エツチング液、メツキ液等の薬品に対す
る耐性を付与する成分であり、45〜65モル％が好
ましい含有量である。２−エチルヘキシルアクリ
レート単位は未露光時の感光層の柔軟性を付与す
るために必要なだけ含有されるが、５モル％未満
では柔軟性が不足し、18モル％を越えると耐コー
ルドフロー性が劣化する傾向にある。 ベンジルメタクリレート（又はベンジルアクリ
レート）単位はレジストの密着性、および感光層
の耐コールドフロー性の向上のために必要であ
り、２〜10モル％が好ましい。２モル％未満では
密着性、耐コールドフロー性が劣り、10モル％を
越えると現像スピードが低下する。メタクリル酸
単位は感光層の弱アルカリ水溶液への現像性を付
与するものであり、20〜40モル％が好ましい。20
モル％未満では現像が困難であり、他方40モル％
を越えると、硬化したレジスト像の弱アルカリ水
溶液に対する耐性が不足してレジスト像に欠陥を
生じ易い。 重合体の重量平均分子量は、感光層の現像スピ
ードと耐コールドフロー性を決定し、10000〜
500000が好ましい。10000未満では耐コールドフ
ロー性が劣化し、500000を越えると現像スピード
が低下する。特に好ましくは50000〜250000の範
囲である。 本発明における結合剤の含有量は光重合性組成
物の全重量基準で、好ましくは約40〜80重量％、
そしてより好ましくは約50〜70重量％である。 本発明に用いられる結合剤として好ましい重合
体の具体例を表に示すが、これのみに限定され
るものではない。これらの重合体は、当業者には
公知の任意の重合技術により製造することができ
る。

【表】

【表】 本発明の光重合性組成物に好適に用いられる、
重合性不飽和化合物は、分子中に少なくとも２個
のエチレン不飽和二重結合を含有するものであり
付加重合しうるものであればよい。 重合性不飽和化合物として１種又は２種以上の
化合物を存在させることができる。好ましい具体
例としては、特公昭35−5093号、特公昭35−
14719号、特公昭44−28727号に記載されている、
ポリオールのアクリル酸又はメタクリル酸エステ
ル類、すなわちジエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリ
レート等、又はビス（メタ）アクリルアミド類、
すなわちメチレンビス（メタ）アクリルアミド、
エチレンビス（メタ）アクリルアミド、ｍ−キシ
リレンビス（メタ）アクリルアミド等、あるいは
ウレタン基を含有する化合物、すなわち、ジ−
（２−メタクリロキシエチル）−２，４−トリレン
ジウレタン、ジ−（２−アクリロキシエチル）ヘ
キサメチレンジウレタン、又はポリオールとジイ
ソシアネートとを予め反応させて得られる末端イ
ソシアネート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキ
ル（メタ）アクリレートを反応せしめることで得
られる（メタ）アクリルウレタンオリゴマー、例
えば、２，４−トリレンジイソシアネートを４モ
ルとエチレングリコールを３モルとの反応生成物
に１モルのβ−ヒドロキシエチルアクリレートを
反応して得られるオリゴマー等が挙げられる。 重合性不飽和化合物の含有量は光重合性組成物
の全重量基準で、好ましくは約7.5〜55重量％、
そしてより好ましくは約15〜45重量％である。 本発明の組成物に好適に用いられる光重合開始
剤としては、前記重合性不飽和化合物の重合を開
始させうる単一の化合物、または二種以上の化合
物を組合せた光重合開始剤系はすべて用いること
ができる。好ましくは、この光重合開始剤又は光
重合開始剤系は約3000〜8000Å、好ましくは3300
〜5000Åの範囲内に少なくとも約50の分子吸光係
数を有する成分を少なくとも一種含有している。 光重合開始剤の好ましい具体例として、次の化
合物を挙げることができる。芳香族ケトン類、例
えばベンゾフエノン、４，4′−ビス（ジメチルア
ミノ）ベンゾフエノン、４，4′−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフエノン、４−メトキシ−4′−ジ
メチルアミノベンゾフエノン、４，4′−ジメトキ
シベンゾフエノン、４−ジメチルアミノベンゾフ
エノン、４−ジメチルアミノアセトフエノン、ベ
ンジル、アントラキノン、２−tert−ブチルアン
トラキノン、２−メチルアントラキノン、フエナ
ントラキノン、キサントン、チオキサントン、２
−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチ
オキサントン、フルオレノン、アクリドンおよび
ベンゾイル、ベンゾイルエーテル類、例えばベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインフエニルエーテ
ル、および２，４，５−トリアリールイミダゾー
ル二量体類、例えば２−（ｏ−クロロフエニル）−
４，５−ジフエニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−クロロフエニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキ
シフエニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フ
ルオロフエニル）−４，５−ジフエニルイミダゾ
ール二量体、２−（ｏ−メトキシフエニル）−４，
５−ジフエニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−
メトキシフエニル）−４，５−ジフエニルイミダ
ゾール二量体、およびポリハロゲン化合物、例え
ば四臭化炭素、フエニルトリブロモメチルスルホ
ン、フエニルトリクロロメチルケトン、および特
開昭53−133428号、特公昭57−1819号、特公昭57
−6096号、米国特許第3615455号に開示されてい
る化合物。二種以上の組合せ、例えば２，４，５
−トリアリールイミダゾール二量体と２−メルカ
プトベンズオキサゾール又はロイコクリスタルバ
イオレツト等との組合せ、また米国特許第
3427161号に記載の４，4′−ビス（ジメチルアミ
ノ）ベンゾフエノンとベンゾフエノン又はベンゾ
インメチルエーテルとの組合せおよび米国特許第
4239850号に記載の、ベンゾイル−Ｎ−メチルナ
フトチアゾリンと２，４−ビス（トリクロロメチ
ル）−６−４−メトキシフエニルトリアゾールの
組合せ、また特開昭57−23602号に記載のジメチ
ルチオキサントンと４−ジアルキルアミノ安息香
酸エステルの組合せが挙げられる。 光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は光
重合性組成物の総重量基準で、好ましくは約0.1
〜10重量％、そしてより好ましくは約0.2〜６重
量％である。 本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤とエ
チレン不飽和化合物と結合剤を必須成分とする
が、必要に応じて熱重合防止剤、可塑剤、色素、
変色剤、単官能エチレン不飽和化合物、さらに基
体表面への密着促進剤およびびその他の助剤類を
併用してもよく、これによつて目的とするフオト
レジストの写真性、焼出し性、膜物性等の性質を
調節することができる。 熱重合防止剤は、本発明の光重合性組成物の熱
的な重合又は経時的な重合を防止するために添加
するもので、例えば、ｐ−メトキシフエノール、
ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロ
ール、２−ヒドロキシベンゾフエノン、４−メト
キシ−２−ヒドロキシベンゾフエノン、塩化第１
鋼、フエノチアジン、クロラニル、ナフチルアミ
ン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベン
ゼン、ピクリン酸、ｐ−トルイジン等が挙げられ
る。 可塑剤は、膜物性をコントロールするために添
加するもので、例えば、ジブチルフタレート、ジ
ヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジ
アリルフタレート等のフタル酸エステル類；トリ
エチレングリコールジアセテート、テトラエチレ
ングリコールジアセテート等のグリコールエステ
ル類；トリクレジルホスフエート、トリフエニル
ホスフエート等のリン酸エステル類；ｐ−トルエ
ンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ
−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソ
ブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメ
チルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチ
ルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエ
ン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリ
ントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、
４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジ
カルボン酸ジオクチル等が挙げられる。 色素の例は、ブリリアントグリーン、エオシ
ン、エチルバイオレツト、エリスロシンＢ、メチ
ルグリーン、クリスタルバイオレツト、ベイシツ
クフクシン、フエノールフタレイン、１，３−ジ
フエニルトリアジン、アリザリンレツドＳ、チモ
ールフタレイン、メチルバイオレツト2B、キナ
ルジンレツド、ローズベンガル、メタニルイエロ
ー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブ
ルー、メチルオレンジ、オレンジ、ジフエニル
チオカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイ
ン、パラメチルレツド、コンゴーレツド、ベンゾ
プルプリン4B、α−ナフチルレツド、ナイルブ
ルーＡ、フエナセタリン、メチルバイオレツト、
マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブル
ー＃603〔オリエント化学工業(株)製〕、ビクトリア
ピユアブルーBOH、スピロンブルーGN〔保土谷
化学工業(株)製〕、ローダミンＢ、ローダミン6Gな
どである。 変色剤は、露光により可視像を与えることがで
きるように光重合組成物中に添加される。これら
の具体例として、前記色素の他にジフエニルアミ
ン、ジベンジルアニリン、トリフエニルアミン、
ジエチルアニリン、ジフエニル−ｐ−フエニレン
ジアミン、ｐ−トルイジン、４，4′−ビフエニル
ジアミン、ｏ−クロロアニリン、ｐ，p′，p″−ヘ
キサメチルトリアミノトリフエニルメタン、ｐ，
p′−テトラメチルジアミノトリフエニルメタン、
ｐ，p′，p″−トリアミノトリフエニルカルビノー
ル、ロイコメチルバイオレツト等が挙げられる。 密着促進剤の具体例としては、ベンズイミダゾ
ール、ベンズチアゾール、ベンズオキサゾール、
ベンズトリアゾールなど特公昭50−9177号に記載
の化合物、２−メルカプトベンズチアゾール、２
−メルカプトベンズイミダゾールなど特開昭53−
702号に記載の化合物等が挙げられる。 本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分
を溶媒中に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の
方法により塗布して用いられる。その場合に使用
される溶媒としてはエチレンジクロリド、モノク
ロルベンゼン、シクロヘキサノン、メチルエチル
ケトン、アセトン、酢酸メチルセロソルブ、酢酸
エチル、酢酸メチル、メチルセロソルブ、１−メ
トキシ−２−プロパノール、トルエン、キシレン
などの単独、又は混合物である。 本発明の光重合性組成物は、ドライフイルムレ
ジストのフオトレジスト層として好適である。そ
の場合、フオトレジスト層の厚みとしては0.1μか
ら500μが適当であり、特に好ましくは1μから
200μの範囲である。また本発明の光重合性組成
物を用いて感光性平版印刷版を製造する場合、塗
布量は一般的に乾燥時0.1〜10.0ｇ／m²が適当で
あり特に好ましくは0.5〜5.0ｇ／m²である。 本発明の光重合性組成物をドライフイルムレジ
ストとして使用する場合、好適な支持体としては
ポリアミド、ポリオレフイン、ポリエステル、ビ
ニル重合体およびセルロースエステルなどのフイ
ルムから選ばれる3μから100μの厚みを持つもの
がよい。特に好適な支持体フイルムは約10から
25μの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタレ
ートフイルムである。又この場合好適な保護フイ
ルムとしてはポリオレフインが挙げられ、特に好
ましいものとしては20〜25μの厚さのポリエチレ
ンフイルムを挙げることができる。 また本発明の光重合性組成物をフオトマスク用
フイルムの製造に使用する場合、好適な支持体と
してはアルミニウム、アルミニウム合金やクロム
を蒸着させたポリエチレンテレフタレートフイル
ムや着色層を設けたポリエチレンテレフタレート
フイルムを挙げることができる。 また本発明の光重合性組成物を感光性平版印刷
版の感光層として使用する場合の好適な支持体と
しては、親水性処理したアルミニウム板、たとえ
ばシリケート処理したアルミニウム板、陽極酸化
したアルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム
板、シリケート電着したアルミニウム板があり、
それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板、クローム
処理銅板、親水化処理したプラスチツクフイルム
や紙を挙げることができる。 また印刷用カラープルーフ、オーバーヘツドプ
ロジエクター用フイルム、第２原図用フイルムの
製造に、本発明の光重合性組成物を用いる場合、
これらに適する支持体としてはポリエチレンテレ
フタレートフイルム、三酢酸セルローズフイルム
等の透明フイルムや、これらのプラスチツクフイ
ルムの表面を化学的又は物理的に粗面化したもの
を挙げることができる。 本発明の光重合性組成物は、弱アルカリ水溶液
によつて現像できる。また水と混和性の有機溶剤
を少量（約20重量％以下）含んでいてもよい。添
加する適当な塩基としてはアルカリ金属又はアン
モニウム、４級アンモニウムの水酸化物、炭酸
塩、重炭酸塩、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸
塩、酢酸塩及びアミン類から選ばれる。それらの
具体的な例としては、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウ
ム、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシ
ド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウ
ム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリ
ン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、ジエタノール
アミントリエタノールアミンが挙げられる。特に
炭酸ナトリウムの１〜２％水溶液が好ましい。 （発明の効果） 本発明の結合剤を含む光重合性組成物が、フイ
ルム形成時の可塑性、基体との密着性に優れ容易
なレジスト剥離性を有し、しかも原稿画像の忠実
な再現性および高い解像力を与えることは驚くべ
きことである。その結果として、高精度での基体
の加工が可能となる。 さらに本発明の光重合性組成物は耐コールドフ
ロー性が優れていて、表面の粘着性の低いフオト
レジスト表面を与える。また基体への密着性が優
れているため通常の塩化第二鉄水溶液、過硫酸ア
ンモニウム水溶液等のエツチング液に対してもま
たハンダメツキ、ピロリン酸銅メツキ、硫酸銅メ
ツキ、酸性金メツキやその他の通常のメツキ処理
中においても十分なレジスト性を有ししている。 本発明の組成はフオトレジストに特に好ましく
適用できるが、別の用途にも有利である。例え
ば、本発明の組成物は、予め感光性を付与した平
版印刷版（PS版）の製造にも使用することがで
きる。 実施例１〜12及び比較例Ａ〜Ｅ 本発明の表に記載した結合剤あるいは比較の
ために表に記載した比較用結合剤を含み、他の
要素は同一の下記感光液を調製し、ロツドコータ
ーで、25μ厚のポリエチレンテレフタレートフイ
ルムに乾燥膜厚が約50μになるように塗布し、
100℃のオーブン中で２分間乾燥した。 結合剤（表及び表記載）の35重量％溶液
（溶媒は表及び表に記載の重合溶媒と同じ）
42.9ｇ エチルミヒラーズケトン 0.04ｇ ベンゾフエノン 0.45ｇ トリブロモメチルフエニルスルホン 0.15ｇ ポリプロピレングリコールジアクリレート
（MW＝822） 7.0ｇ ポリエチレングリコールジアクリレート（MW
＝742） 2.0ｇ ３，６−ビス（ジフエニルアミノ）フルオラン
0.09ｇ １−フエニル−３−モルホリノメチル−１，
３，４−トリアゾール−２−チオン 0.01ｇ ビクトリアピユアブルーBOH 0.01ｇ 整面し、乾燥した銅張積層板上に、上記塗膜面
が銅表面に接触するように、A24型ラミネーター
（Du Pont 社製）を用いて120℃でラミネートし
た。配線パターン（導体パターン（線幅100μ）
が不透明背景上に透明部分として現れている高コ
ントラスト透明体画像）を通して140mJ／cm²で露
光した（3KW超高圧水銀灯両面同時露光装置
HMW−６−Ｎ型（オーク(株)製）を使用）。ポリ
エチレンテレフタレートフイルムを剥ぎ取り、30
℃の１重量％炭酸ナトリウム水溶液を1.5Kg／cm²
でスプレーすることにより未露光部を除去した。
得られるレジスト像の画像の形成状況や画線の切
れを観察し、更に画線幅の太りを測定した。次に
配線パターンの代りに解像力チヤートを焼きつけ
て、上記と同様に未露光部を除去してレジスト像
が判別できる線幅を観察して解像力とした。ま
た、内径2.5mmのスルホール100個を有する両面銅
張積層板の両側に、同様にしてレジストフイルム
をラミネートし、3KW超高圧水銀灯両面同時露
光装置HMW−６−Ｎ型（オーク(株)製）により、
スルホール上にランド径3.0mmの円形パターンを
焼きつけて上記と同様に未露光部を除去してテン
トを形成した。テントの強度を評価するため、こ
の板を54℃で５Kg／cm²の熱風スプレーを通過させ
た後で破れないで残つているテントの数を数え
て、テントの残存率（％）を求めた。 導体パターンを焼き付け現像した銅張積層板を
塩化第２鉄の35％水溶液のスプレー（40℃、1.5
Kg／cm²）でエツチングした。エツチングはレジス
ト画線に覆われていない部分の銅が完全に溶解す
るまで実施した。エツチングした板を水洗し、乾
燥して未だレジストで被覆されている銅の導体パ
ターンを得た。このレジストを50℃の３％水酸化
カリウム水溶液中に浸漬して、銅の表面から剥離
する時間（剥離スピード）調べた。これらの結果
を表に示す。

【表】

【表】 表の結果より明らかなように、本発明の重合
体を用いた場合には、現像スピードが大で、レジ
スト画線の質が良好で、画線幅の再現性に優れか
つ、高解像力が得られる。またテントの強度も高
く、剥離スピードも良好である。 実施例 13 下記組成の感光液を調製し、ロツドコーター
で、25μ厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ムに乾燥膜厚が約50μになるように塗布し、100
℃のオーブン中で２分間乾燥して、感光層を形成
した。 ２，４−ジエチルチオキサントン 0.1ｇ ４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
0.2ｇ エチルミヒラーズケトン 0.04ｇ ベンゾフエノン 0.45ｇ ポリプロピレングリコールジアクリレート
（MW＝822） 7.0ｇ ポリエチレングリコールジアクリレート（MW
＝742） 2.0ｇ ３，６−ビス（ジフエニルアミノ）フルオラン
0.09ｇ トリブロモメチルフエニルスルホン 0.15ｇ １−フエニル−３−モルホリノメチル−１，
３，４−トリアゾール−２−チオン 0.01ｇ ビクトリアピユアブルーBOH 0.008ｇ 重合体（表の番号１）の１−メトキシ−２−
プロパノール／メチルエチルケトン（1/2）35
重量％溶液 42.9ｇ このドライフイルムレジストを実施例１と同様
にして銅張積層板上にラミネートした。光学濃度
差0.15のステツプウエツジを重ね、HMW−6N、
3KW超高圧水銀灯両面同時露光装置（オーク(株)
製）で80mJ／cm²露光した。ポリエチレンテレフ
タレートフイルムを剥ぎ取つた後で、30℃の１％
炭酸ナトリウム水溶液を53秒間スプレーすること
で未露光部を溶解した。こうして得られるステツ
プウエツジの画像の段数を読みとつたところ、８
段まで硬化していた。 また本組成物を用いて得られた配線パターンの
レジスト像は50μの解像力を持ち原稿の忠実な線
幅の再現を示した。また、塩化第二鉄のエツチン
グ液、硫酸銅メツキ液、ピロ銅メツキ液、ハンダ
メツキ液に十分耐えるものであつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和
   二重結合を含有する付加重合性不飽和化合物と光
   重合開始剤および結合剤を含有する光重合性組成
   物において、前記結合剤が次の一般式（）で表
   わされ、重量平均分子量が10000〜500000の四元
   共重合体であることを特徴とする光重合性組成
   物。 一般式（） 式中、ｗ、ｘ、ｙ、ｚは共重合組成（モル％）
   を表わし、各々次の範囲である。ｗ：45〜65、ｘ
   ＝５〜18、ｙ：２〜10、ｚ：20〜40。Ｒは水素原
   子又はメチル基を表わす。