JPS60159743A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPS60159743A
JPS60159743A JP1482084A JP1482084A JPS60159743A JP S60159743 A JPS60159743 A JP S60159743A JP 1482084 A JP1482084 A JP 1482084A JP 1482084 A JP1482084 A JP 1482084A JP S60159743 A JPS60159743 A JP S60159743A
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JP
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binder
photopolymerizable composition
acrylate
methacrylate
glass transition
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JP1482084A
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English (en)
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Masayuki Iwasaki
政幸 岩崎
Kazuo Maemoto
一夫 前本
Minoru Maeda
稔 前田
Fumiaki Shinozaki
文明 篠崎
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
(発明の利用分野) 本発明は新規な光重合性組成物に関するものであシ、更
に詳しくは、有機溶剤を含有しない弱アルカリ水溶液に
よって現像できる改善された光重合性組成物に関する。 (従来技術) 従来、光重合性組成物の現像液として有機溶剤が使用さ
れてきたが有機溶剤は一般に高価で、有毒であシ、かつ
可燃性でもある。その上使用に当っては労働衛生対策お
よび公害対策設備等に多額の費用を必要とする。そのた
め、このような有機溶剤を使用しないで現像できる光重
合性組成物が長い間熱型されてきた。一般に光重合性組
成物の溶解性およびその他の性質を決定するのは光重陰
性組成物の結合剤成分である。 アルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物に関する文
献の代表的表ものには、次のようなものがある。特公昭
31−117061号(結合剤は側鎖酸素酸含有重合体
である)、特公昭1it−327/4A号(結合剤は例
えばメタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体である
)、特公昭jμm3μ327号(結合剤は例えばメタク
リル酸メチル/メタクリル酸−コーエチルヘキシル/メ
タクリル酸の三元共重合体である)、特公昭!!;−3
1961号(結合剤は例えばスチレン/マレイン酸モノ
n−ブチルエステル共重合1本である)、特公昭j4−
33μ13号(結合剤は例えばメタクリル酸エチル/ア
クリル酸エチル/メタクリル酸の三元共重合体である。 )、特公昭jグー2jり57号
【結合剤は例えばスチレ
ン/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリ
ル酸の四元共重合体である)、特開昭!コータタrio
号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/メタクリル
酸共重合体である)、特公昭61ニーlJ、577号(
結合剤は例えはアクリロニトリル/メタクリル酸−コー
エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体でおる)
および特公昭jj−6210号(結合剤は例えばメタク
リル酸メチル/アクリル酸エチル/アクリル酸三元共東
合体とイソプロノξノール〒一部分エステル化したスチ
レン/マレイン酸無水物共重合体の2種である)。 しかしこれら参考文献に記載されている組成物は、ある
用途においてに利点があるが、しかし特にフォトレジス
トとして使用された場合にはある種の欠点を示すのであ
る。通常は銅である金属箔を積層した基体を用いてプリ
ント配線基板を作成するに際し、その基体上に感光性の
固体フィルムを圧着積層する工程を含むいわゆるドライ
フィルムレジスト法については待公昭弘J’−2j23
ノ号に記載されている。この方法に適合しうる光重合性
組成物は例えば現像性および剥膜性(ただし重合された
状態においてはエツチング又はメッキ溶液に対する抵抗
性)、低い粘着性、基体に対する高い接着性および可撓
性が適当にバランスしていることが必要である。 従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重a性mg’
sは、それらが粘着性であシすぎるか又は脆すぎること
、または高分解能の画像を与えるには不十分な基体への
接着性と耐膨潤性を有していること、またはそれがアル
カリ水溶液で視像できるとしても現像時間がかかりすぎ
るというような、一つま*Uそれ以上の不利な点を有し
ている。 また特に近年、プリント配線の高密度化が望まれ、その
ために原稿に忠実で高解像力のレジスト画線像を与える
ドライフィルムレジストが必要となってき7t。 従来公知のアルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物
は、この目的に対し不十分であった。これは王としてフ
ォトレジスト層の現像液に対する耐膨潤性および基板へ
の接着性の欠除に基づくものである。 【発明の目的】 本発明の目的は、従来のアルカリ水溶液現像可能な光重
合性組成物の不利な点を克服することにある。すなわち
目的とする組成物は、短時間で弱アルカリ水溶液で現像
でき、ドライフィルムとして基体に積層するに十分な可
撓性を持ち、そして基体に対して高度の接着性を有し、
そして表面の粘着性は少なく、また保存時にコールドフ
ローを起すほどには軟質でなく、そして画像露光によっ
て重合した部分の現1象液への耐膨潤性が優れているが
、さらに有機溶剤を含有しない強アルカリの希薄水溶液
で処理することにより剥膜が可能である。さらに本発明
の目的は原稿に対する忠実な画線像の再現であシ、高群
f家力の発見である。 本発明者等は、次のような光重合性組成物を用いること
でこれらの目的が達成されることを見出し本出願に到っ
た。 (発明の構成) 本発明の光重合性組成物は、分子中に少なくとも2個の
エチレン性不飽和二重結合を含有する付加重合性不飽和
化合物と光重合開始剤および結き剤を含有し、結合剤が
次の(A)、(Bl、(C)の各群から少くとも1種ず
つ選ばれfcm返し単位から成シ、数平均分子量が60
00−/ 、000 。 OθOの多元共重合体であることを特徴とする。 iA) ホモポリマーのガラス転移温度がjo0c以上
で、炭素数が3〜IO個のアルキル基を有するメタクリ
レート又はベンジルメタクリレート単位 TB) ホモポリマーのガラス転移温度が1lO0C以
下で炭素数が/、4個のアルキル基を有するアクリレー
ト単位 TC) α、β−エチレン不飽和カルボン酸単位本発明
の結き剤を構成する繰返し単位の好ましい具体例を以下
に示す。 成分(A)の好ましい具体例としてインプロピルメタク
リレート、インブチルメタクリレート、5ee−ブチル
メタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シ
クロヘキシルメタクリレート、インボルニルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレートの各単位が挙げられる。 特に好ましく(ま、シクロヘキシルメタクリレート及び
ベンジルメタクリレート単位である。 成分(B)の好ましい具体例としては、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート
、イソプロピルアクリレート、n−プチルアクリレート
、シクロヘキシルアクリレート、5ee−ブチルアクリ
レートの各単位を挙げることができる。特に好ましくは
メチルアクリレート又はエチルアクリレート単位である
。 成分(C)の好ましい具体例としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸又は
その無水物、マレモノ峻モノアルキルエステル、フマル
酸、フマル離モノアルキルエステル、p−ビニル安息香
酸を挙げることができる。詩に好ましいのはアクリル酸
又はメタクリル酸単位である。 結合剤として好ましい重合体の具体例は表1に示すが、
これのみに限定されるものではない。これらの重合体は
、当業者には公知の任意の重合技術によシ製造すること
ができる。 重合体を構成するこれら(A)(B)(C)の肝はそれ
ぞれが結合剤として必安な性能を満すために好ましい含
有量の範囲が存在する。成分(C)μ弱アルカリ水溶液
への′lJ!隙性を付与するものであシ、20〜jOモ
ルチが好°ましい。20モル係以下では弱アルカリ水で
現1象が困難であるのに対しjOモル係係上上は光重合
し硬化したレジスト淑の羽アルカリ水に対する耐性が不
足してレジスト像に欠陥を生じやすい。一方、成分(A
)はレジストのアルカリ現像液、エツチング液、メッキ
液等の薬品に対する耐性を付与する成分であシ、5〜7
0モル係が好ましい含有量の範囲である。 jモル係よ)少ないとdu記薬品への耐性が不足し、7
0モル俤より多いと耐アルカリ性が高ずき゛るため現像
性が不足する。成分(B)は感光ノーに柔軟性を付与す
るために必要なだけ含有されるがj〜70モル係が好ま
しい。ぞしてSモル係以下では柔軟性が不足し、、70
モル係以上では過度に軟質本発明の光重合性組成物に好
適に用いられる、重合性不飽和化合物は、分子中に少な
くとも2個のエチレン不飽和二重結合を含有するもので
あシ付加重合しうるものであればよい。 1種又は、2種以上の化合物を存在させることができる
。好ましい具体例としては、背公昭3j−so73号、
特公昭3j−1l/−71り号、特公昭μμm2172
7号の各明細書に記載されている、ポリオールのアクリ
ル酸又はメタクリル酸エステル類、すなわちジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコール
レジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ/セントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ
)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ
)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ
)アクリレート、116−ヘキサンシオールジ(メタ)
アクリレート等、又はビス(メタ)アクリルアミド類、
すなわちメチレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレ
ンビス(メタ)アクリルアミド、nl−キシリレンビス
(メタ)アクリルアミド等、するいはウレタン基を含有
する化合物、すなわち、ジ(λ−メタクリロキシエチル
)λ、μ−トリレンジウレタン、ジー(λ−アクリロキ
シエチル)へキサメチレンジウレタン、又はポリオール
とジインシアネートとを予め反応させて得られる末端イ
ンシアネート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレートを反応せしめることで得られる(メタ
)アクリルウレタンオリゴマー、例えばすなわち、21
”−トリレンジイソシアネートをμモルとエチレングリ
コールを3モルとの反応生成物に1モルのβ−ヒドロキ
シエチルアクリレートを反応して得られるオリゴマー等
が挙けられる。 重合性不飽和化合物の含有量は光重合性組成物の全重量
基準で、好ましくは約7.5〜よ!重歓チ、セしてよシ
好ましくは約lj−≠!電蓋係である。 本発明の組成物に好適に用いられる光重合開始剤として
は、前記重合性不飽和化合物の重合を開始させつる単一
の化合物、または二種以上の化合物の組合せた光重合開
始剤系はすべて用いることができる。好ましくは、この
光重谷間始剤又は光重合開始剤系は約3000−to 
o OA1好ましくけ3300〜5oooAの範囲内に
少なくとも約jOの分子吸光係数を有する成分を少なく
とも一種含有している。 光重合開始剤の好ましい具体例として、次の化合物を挙
げることができる。芳香族ケトンa%例えばベンゾフェ
ノン、仏、4c′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、≠、4A′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、μmメトキシ−μ′−ジメチルアミノベンゾフェ
ノン、≠、≠′−ジメトキシベンンフエノン、μmジメ
チルアミノベベンゾエノン、μmジメチルアミノアセト
フェノン、ベンジル、アントラキノン、2−tert−
ブチルアントラキノン、λ−メチルアントラキノン、フ
エナントラキノン、キサントン、チオキサントン、コー
クロルーチオキサントン、29μmジエチルチオキサン
トン、フルオレノン、アクリドンおよびベンゾイン、ベ
ンツインエーテル類、例えばベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインエチル、エーテル、ベンゾインプロピルエ
ーテル、ペンツインインプロピルエーテル、ベンゾイン
フェニルエーテル、およヒコ、≠、j−トリアリールイ
ミダノールニ量体類、例えばλ−(0−クロロフェニル
)−μ、r−ジフェニルイミタンールニ量体、λ−(0
−クロロフェニル)−弘、j−ジ(m−メトキシフェニ
ル)イミダゾールニ量体、2−1 o −フルオロフェ
ニル)−a、Z−ジフェニルイミダンールニ量体、2−
(o−メトキシフェニル)−4A、s−ジフェニルイミ
ダンール二重体、2−(p−メトキシフェニル)−4t
、s−ジフェニルイミダゾールニ量体、およびポリハロ
ゲン化縫物、例えば四臭化炭素フェニルトリブロモメチ
ルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン、および
特開昭!!−133≠2f号、待公詔j7−If/り号
、特公昭、t7−60り6号、米国特許fjfl 3 
A / j # 、t j号各公報類に開示されている
化合物。二種以上の組合せ、例えばλ、 4A、 j 
−トリアリールイミダソールニ量体とコーメルカプトベ
ンズオキサゾール又はロイコクリスタルバイオレット等
との組合せ、また米国特許側3μ、27/l/号明刹1
書に記載のμ、μ′−ビス(ジメチルアミノ)ベンツフ
ェノンとペンツフェノン又はベンツインメチルエーテル
との組合せおよび米国特許第11232tSO号明細書
に記載の、ベンゾイル−N−メチルナフトチアンリンと
、2.lA−ビス(トリクロロメチル)−7−≠−メト
キシフェニルトリアンールの組合せ、まfc特開昭57
−231.0.2号公報に記載のジメチルチオキサント
ンとび一ジアルキルアミノ安息査酸エステルの組合せが
挙げられる。 光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は好ましくは
光重合性組成物の総重量基準で約0.7〜/”ONN量
子してより好ましくは約O12〜6重量子である。 本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤とエチレン不
飽和化合物と結合剤を必須成分とするが、必要に応じて
熱重合防止剤、可塑剤、色素、変色剤、単官能エチレン
不飽和化合物、さらに基体表面への密着促進剤およびそ
の他の助剤類を併用してもよく、これによって目的とす
るフォトレジストの写真性、焼出し性、膜物性等の性質
を調節することができる。 熱重合防止剤は、本発明の光重合性組成物の熱的なI合
又は経時的な重合を防止するために添加するもので、例
えば、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、t−ブ
チルカテコール、ピロガロール、コーヒドロキシベンゾ
フエノン、グーメトキシーコーヒドロキシベンノフエノ
ン、塩化i/銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、コ、t−ジーt−ブチルー
p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、
ピクリン酸、p−トルイジン等が挙げられる。 可塑剤な、膜物性をコントロールするために添加するも
ので、例えば、ジブチルフタレート、ジアリルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジアリルフタレート等のフ
タル酸エステル類;トリエチレングリコールジアセテー
ト、テトラエチレングリコールジアセテート等のグリコ
ールエステルa;lクレジルホスフェート、トリフェニ
ルホスフェート等のリン酸エステル% ; p、 −ト
Ayエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、N
−n−ブチルアセトアミド等のアミド類;ジインブチル
アジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪
族二塩基酸エステル類;クエン酸トリエチル、クエン酸
トリブチル、グリセリントリアゼチルエステル、ラウリ
ン酸ブチル、弘。 j−ジエポキ7シクロヘギサンー11.2−ジカルボン
酸ジオクチル等が挙けられる。 色素の例は、ブリリアントグリーン、゛エオシン、エチ
ルバイオレット、エリスロシンB1メチルグリーン、ク
リスタルバイ第1ノツト、ペイシックツクシン、フェノ
ールフタレイン、l、3−ジフェニルトリアジン、アリ
ザリンレッドS1チモールフタレイン、メチルバイオレ
ット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニ
ル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノー
ルブルー、メチルオl/ンジ、オレンジ■、ジフェニル
チオカルバノン、λ、7−ジクロロフルオレセイン、バ
ラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンツブルーリンμ
B1α−ナフチル−レッド、ベンゾプルプリン4AB、
α−ナフチルレツド、ナイルブルーA1フエナセタリン
、メチルバイオレット、マ之カイトクリーン、ノミラッ
クシン、オイルブルー#tθ3 〔オリエント化学工業
■製〕、ビクトリアピュアブール−BOH,スピロンプ
ルーGN[保士谷化学工業#PJ3、ローダミンB10
−ダミン6Gなどである。 変色剤は、露光によシ可視像を与えることができるよう
に光重合組成物中に添加される。これらの具体例1とし
て、前記色素の他にジフェニルアミン、ジベンジルアニ
リン、トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェ
ニル−p−フエニレンジアミン、p−トルイジン、μ、
μ′−ビフェニルジアミン、0−クロロアニリン、p、
p 、p−ヘキサメチルトリアミントリフェニルメタン
、p・p′−テトラメチルジアミノトリフェニルメタン
、p、p’、p“−トリアミノトリフェニルカルビノー
ル、ロイコメチルバイオレット等が挙げられる。 密着促進剤の具体例としては、ペンズイミダンール、ペ
ンズチアンール、ベンズオー! −1?−7’ −k、
ベンズトリアソールなど特公昭jO−タ/77号に記載
の化合物、コーメルカブトベンズチアゾール、コーメル
カブトベンズイミダノールなど特開昭jj−702号に
記載の化合物等が挙げられる。 本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、所望の支持体上に公知の方法によシ塗布
して用いられる。その場合に使用される溶媒としてはエ
チレンジクロリド、モノクロルベンゼン、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルセロ
ソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、メチルセロソルフ、
トルエン、キシレンなどの単独、又は混合物である。 本発明の光重合性組成物は、ドライフィルムレジストの
フォトレジスト層として好適である。その場合、フォト
レジスト層の厚みとしてf−40,/μからSOOμが
適当であシ、特に好ましくはlμから200μの範囲で
ある。また本発明の光重′合性組成物を用いて感光性平
版印刷版を製造する場合、塗布曾は一般的に乾燥時o、
i、io、。 97m が適当であり特に好ましくは0.1−j。 077m である。 本発明の光重合性組成物をドライフィルムレジストとし
て使用する場合、好適な支持体としてポリアミド、ポリ
オレフィン、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロ
ースエステルなどのフィルムから選ばれ3μからioo
μの厚みを持つものがよい。特に好適な支持体フィルム
は約U、tμの厚さを持つ透明なポリエチレンテレフタ
レートフィルムである。又この場合好適な保護フィルム
としてはポリオレフィンが挙げられ、特に好ましいもの
として20〜2jμの厚さのポリエチレンフィルムを挙
げることができる。 また本発明の光重合性組成物をフォトマスク用フィルム
の製造に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニ
ウム、アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチ
レンテレフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチ
レンテレフタレートフィルムを皐げることができる。 また本発明の光重合性組成物ケ感光性平版印刷版の感光
層として使用する場合の好適な支持体としては、親水化
処理したアルミニウム板、たとえばシリケート処理した
アルミニウム板、陽極酸化したアルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板が、fl)、それ以外にも、亜鉛板、ステンレス板
、クローム処理銅板、親水化処理したプラスチックフィ
ルムや紙を挙げることができる。 また印刷用カラープルーフ、オーバーヘッドプロジェク
タ−用フィルム、第2原図用フィルムの製造に、本発明
の光重合性組成物を用いる場合、これらに適する支持体
としてはポリエチレンテレフタレートフィルム、三酢酸
セルローズフィルム等の透明フィルムや、これらのプラ
スチックフィルムの表面を化学的又は物理的にマット化
したものを挙げることができる。 本発明の光重合性組成物は、弱アルカリ水浴液、によっ
て観像できる。また水と混和性の有機溶剤を少量(約2
0重量子以下)含んでいてもよい。 添加する適当な塩基としてはアルカリ金属又はアンモニ
ウム、り級アンモニウムの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩
、ケイ酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩、酢酸塩及びアミ
ン類から選ばれる。それらの具体的な例としては、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化アンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウムヒド
ロキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム
、酢酸ナトリウム、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミンが挙げられる。特に炭酸ナトリウムの/、2%
水溶液が好ましい。 本発明の結合剤を含む光重合性組成物が、フィルム形成
時の可撓性、基体との密着性に優れ容易なレジスト剥膜
性を有し、しかも原稿画像の忠実な再現性および高い解
像力を与えることf′i驚くべきことである。結果とし
て、1G精度で基体の加工が可能となる。 さらに本発明の光重合性組成物は耐コールドフロー性が
優れていて、表面の粘着性の低いフォトレジスト表面を
与える。また基体への密着性が優れているため通常の塩
化第二鉄水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液等のエツチ
ング液に対してもまたハンダメッキ、ビロリン酸銅メッ
キ、硫酸銅メッキやその他の通常のメッキ処理中におい
ても十分なレジスト性を有している。 本発明の組成はフォトレジストに杵に好ましく適用でき
るが、別の用途にも有利である。例えば、本発明の組成
物は、予め感光性を付与した平版印刷版(PS版)の製
造にも使用することができる。 実施例1〜23 本発明の表工に記載した結合剤あるいは比較のために表
Hに記載した比較用結合剤を含み、他の要素は同一の下
記感光液を調製し、ロッドコーター”’C1,2jμJ
iノホIJエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚
が約SOμになるように塗布し、1OO0Cのオーブン
中で2分間乾燥した。 結合剤i8I及び表■記載)の びよ233重量%溶液 エチルミヒラーズケトン o、oay ベンゾフェノン 0.17j? トリフロモメチルフエニルスル 0.37fホン トリメチロールプロパントリア 6. !?クリレート トリメチロールプロパントアク 3.3タリレート ロイコクリスタルバイオレット o、oざVl−フェニ
ル−3−モルホリノ θ、0♂1メチルー/、J、II
−)リア ゾール−λ−チオン ビクトリアピュアブルーBOHo、olyn−プロノミ
ノール lθを 整面し、#、燥した銅張vt層板上に、上記塗膜面が銅
表面に接触するように、A211型ラミネーター (D
u Pont社製)を用い−(lsoocで−yミネー
トした。配線パターン(導体パターン(線幅7θOμ)
が不透明背景上に透明部分として現れている高コントラ
スト透明体画像)を通して露光した1、2KW超高圧水
銀灯ニジエツトライト(オークφυ製)を使用)。ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを剥ぎ取ル、ダo0c
の1重量子炭酸ナトリウム水浴液をハよに9/C!n2
でioo秒間スプレーすることによル未h9光那を除去
した。得られるレジストf象の画像の形成状況や画線の
切れを観察し、更に画線幅の太夛を測定した。次に配線
パターンの代シに解像力チャートを焼きつけて、上記と
同様に未露光部を除去してレジスト像が判別できる線幅
を観票して解像力とじた。また、内径2.5IIII1
1のスルホールioo個を有する両面銅張横層板の両側
に、同様にしてレジストン1′ルムをラミネートし、j
KW超高圧水銀灯両面同時露光装置t)IMW−j−N
型(オーク■製)にょシ、スルホール上にランド径j、
’OTImの円形パターンを焼きつけて上記と同様に未
露光部を除去してテントを形成した。テントの強Ink
評価するため、この板をj4A’(’でj Kg / 
cm 2の熱水スプレーを通過させた後で破れないで残
っているテントの数を数えて、テントの残存率(係)を
めた。 導体パターンを焼き付は観像しだ銅張横層板を塩化第λ
鉄の3.を気水溶液のスプレー1弘θoc/、jKg/
cm2)でエツチングした。エツチングはレジスト画線
に榎ゎれてぃない部分の銅が完全に溶解する筐で笑施し
た。エツチングした板を水洗し、乾燥して未だレジスト
で被接されている銅の導体ノぐターンを得た。このレジ
ストヶ4to 6 (:の+1水酸化ナトリウム水溶液
で2分間スプレーして銅の表面から剥膜して剥脱性を調
べた。これらの結果を表■に示す。 表JIIの結果よシ明らかなように、本発明の重合体を
用いた場合には、レジスト画線の質が良好で、画線幅の
再現件に優れかつ、品別1象力が得られる。 またテントの強度も冒<、剥膜性も良好である。 実施例24 下記組成の感光液を調製し、ロッドコーターで、2jμ
厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が
約SOμに々るように索布し、100°Cのオーブン中
で2分間乾燥して、感光層を形成した。 λ、弘−ジメチルチオキサントン 0.32弘−N、N
−ジメチルアミン安息 0.3f香酸エチル トリメチロールプロパンシアクリ 3.8ル−ト トリメチロールプロ/eントリアク 6.j2リレート ロイコメチルバイオレット θ、ory1− IJ−i
ロモメチルフェニルスルホ O0≠Vン /−フェニル−3−モルホリ/メ O,0g2チルー/
、3.II−トリアゾー ルーコーチオン ビクトリアピュアーブルーBOHo、oo♂2重合体(
人工の番号l)のメチル 弘よ?セロソルブ/メチルエ
チルケト ン(///)33重量%溶液 メチルセロソルブ 10f このドライフィルムレジストを実施′VAllと同様に
して銅張積層板上にラミネートした。光学濃度差θ、/
Jのステップウェッジを重ね、ジェットライト(オーク
■製)で20カウント露光した。 ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥ぎ取った後で
、≠o0Cの7%炭酸ナトリウム水溶液を100秒間ス
プレーすることで未藤光部を溶解した。こうして得られ
るステップウェッジの画家の段数を読みとったところ、
r段まで硬化していた。 また本組成物を用いて得られた配線パターンのレジスト
1家はSOμの解像力を持ち原稿の忠実な線幅の再現を
示した。また、塩化第二鉄のエツチング液、硫酸銅メッ
キ液、ピロ銅メッキ液、ハンダメッキ液に十分耐えるも
のであった。 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 ( 昭和60年λ月2日 特許庁長官殿 遭 1、 J1件の人手 昭和!2年特願第14′J−2θ
号2、発明の名称 光重合性組成物 3、抽圧をする者 事件との関係 特許出願人 件 所 神奈川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒1
06東京都港区西麻布2丁目26番30号4、補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。 (11第25頁8行目の 「エチルミヒラーズケトン」の後に r(4,4’−ビス(N、N−ジエチル)ベンゾフェノ
ン)」 を挿入する。 (2)表■に記載した重合体番号21の「ベンジルメタ
クリレート(83) Jを「ベンジルメタクリレート(
73) Jと補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を
    含有する付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤および
    結合剤を含有する光重合性組成物において、前記結合剤
    が次のlA)、(B)、[C)の各群から少なくとも1
    種ずつ選ばれた繰返し単位から成シ、数平均分子量が6
    .000〜/ 、000.000の多元共重体であるこ
    とを特徴とする光重合性組成物。 (A) ホモポリマーのガラス転移温度が3’00C以
    上で、炭素数が3〜10個のアルキル基を有するメタク
    リレート又はベンジルメタクリレート単位 (B) ホモポリマーのガラス転移温度が/ / Qo
    (:以下で、炭素数が/、A個のアルキル基を有するア
    クリレート単位 (C) α、β−エチレン不飽和カルボン酸単位
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