JPH05203952A - 液晶配向剤 - Google Patents

液晶配向剤

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JPH05203952A
JPH05203952A JP3133992A JP3133992A JPH05203952A JP H05203952 A JPH05203952 A JP H05203952A JP 3133992 A JP3133992 A JP 3133992A JP 3133992 A JP3133992 A JP 3133992A JP H05203952 A JPH05203952 A JP H05203952A
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JP
Japan
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liquid crystal
synthesis example
compound
polymer
dianhydride
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Withdrawn
Application number
JP3133992A
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English (en)
Inventor
Michinori Nishikawa
通則 西川
Takeshi Miyamoto
宮本  剛
Yasuaki Yokoyama
泰明 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】ポリアミック酸及び/またはポリイミドの分子
中にアミド基を有する化合物を導入することを特徴とす
る液晶配向剤。 【効果】液晶の配向性が良好で、表示の残像の少ない液
晶配向剤を得ることが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶配向剤に関する。さ
らに詳しくは、液晶の配向性が良好で駆動時の残像が少
ない、特にTN型液晶表示素子に有用な液晶配向剤に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、正の誘電異方性を有するネマチッ
ク型液晶を、ポリイミドなどからなる液晶配向膜を有す
る透明電極付き基板でサンドイッチ構造にし、液晶分子
の長軸が基板間で90度連続的に捻れるようにしてなる
TN型液晶セルを有する液晶表示素子(TN型液晶表示
素子)が知られている。このTN型液晶表示素子におけ
る液晶の配向は、ラビング処理が施された液晶配向膜に
より形成されているが、駆動時に配向膜表面に電荷を蓄
積するため、新たな駆動信号を入力しても、前の表示の
残像が生じてしまうという問題がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は液晶配
向剤を提供することにある。本発明の他の目的は、前記
従来の問題点を解決し、液晶の配向性が良好で、駆動時
の残像が少なく、特にTN型液晶表示素子の液晶配向膜
用として好適に用いることができる液晶配向剤を提供す
ることにある。本発明のさらに他の目的および利点は以
下の説明から明らかとなろう。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、下記一般式(I)
【0005】
【化3】
【0006】で表わされるテトラカルボン酸二無水物
(以下「化合物I」という)及び下記一般式(II)
【0007】
【化4】
【0008】で表わされる化合物(以下「化合物II」
という)を含有するジアミンとを反応させて得られる重
合体(以下「特定重合体I」という)及び/またはその
イミド化重合体(以下「特定重合体II」という)を含
有することを特徴とする液晶配向剤によって達成され
る。
【0009】本発明において用いられるテトラカルボン
酸二無水物は上記式(I)で表わされる。上記式中、R
1はテトラカルボン酸二無水物から無水物基を除去した
残基に相当する。
【0010】かかる化合物Iとしては、例えばブタンテ
トラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタン
テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペン
タンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボ
キシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカル
ボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5
−フランテトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テ
トラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3
a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−テトラヒドロ−2,
5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]
−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテト
ラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]
−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸
二無水物などの脂肪族及び脂環族テトラカルボン酸二無
水物;
【0011】ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,
3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二
無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,
4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水
物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水
物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
ジフェニルプロパン二無水物、4,4’−ヘキサフルオ
ロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3’,4,
4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フ
タル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−
フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、
m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水
物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェ
ニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)
−4,4’−ジフェニルメタン二無水物などの芳香族テ
トラカルボン酸二無水物を挙げることができる。
【0012】これらのうちではブタンテトラカルボン酸
二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン
酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル
酢酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフ
ラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジ
カルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサ
ヒドロ−5−テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フ
ラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオ
ンなどが好ましい。
【0013】化合物IIは、一般式(II)で表わされ
る。かかる化合物IIは、例えば特定の反応性基を有す
るニトロ化合物と、特定の反応性基を有する化合物を反
応せしめた後、ニトロ基を還元することによって得られ
る。
【0014】すなわち、上記一般式(II)中、R3
後述する特定の反応性基を有する化合物から反応性基を
除外した残基部分を意味する。また、R2及びR4は −NH−C(=O)− 及び −C(=O)−NH− より選ばれる2価の有機基を示す。
【0015】また、nは1〜100の整数を示し、好ま
しくは1〜10の整数である。化合物IIの合成方法と
しては、例えば酸クロライド基を有するニトロ化合物と
ジアミンを溶媒中、塩基性触媒の存在下で反応させた
後、その反応生成物を還元してニトロ基をアミノ基に変
換する方法、あるいはアミノ基を有するニトロ化合物と
酸クロライド基を2個有する化合物を溶媒中、塩基性触
媒の存在下で反応させた後、その反応生成物を還元して
ニトロ基をアミノ基に変換する方法が挙げられる。
【0016】これらの反応に用いられる溶媒としては、
例えばジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチ
ルブチルエーテルなどのエーテル、テトラヒドロフラ
ン、アセトン、トルエンなどを挙げることができる。塩
基性触媒としては、例えばピリジン、トリエチルアミン
などを挙げることができる。
【0017】反応の生成物の還元には、例えば亜鉛、
鉄、スズ、塩化スズ(II)、硫化ナトリウム(Na2
S、Na22、Na2x)、ナトリウムヒドロスルフィ
ド、亜ニチオン酸ナトリウム、硫化アンモニウムなどの
還元剤が有利に用いられる。また、例えばパラジウム−
炭素、白金、ラネーニッケル、白金黒、ロジウム−アル
ミナ、硫化白金炭素などを触媒とし、水素ガス、ヒドラ
ジン、塩酸などによって還元を行うこともできる。
【0018】還元反応の溶媒としては、例えばエタノー
ル、メタノール、2−プロパノールなどのアルコール、
ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルブチ
ルエーテルなどのエーテル、アンモニア水、トルエン、
水、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジクロロメタ
ンなどが用いられる。
【0019】酸クロライド基を有するニトロ化合物とし
ては、例えばo−ニトロ安息香酸クロライド、m−ニト
ロ安息香酸クロライド、p−ニトロ安息香酸クロライド
などが挙げられる。これらのうち、m−ニトロ安息香酸
クロライド及びp−ニトロ安息香酸クロライドが好まし
い。
【0020】アミノ基を有するニトロ化合物としては、
例えばo−ニトロアニリン、m−ニトロアニリン、p−
ニトロアニリンなどが挙げられる。これらのうち、m−
ニトロアニリン及びp−ニトロアニリンが好ましい。
【0021】ジアミンとしては、例えばp−フェニレン
ジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミ
ノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエ
タン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,
4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、
3,3−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,
4’−ジアミノベンズアニリド、3,4’−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,3’−ジアミノベンゾフェノ
ン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジア
ミノベンゾフェノン、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]スルホン、1,4−ビス(4−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)
−10−ヒドロアントラセン、9,9−ビス(4−アミ
ノフェニル)フルオレン、4,4’−メチレン−ビス
(2−クロロアニリン)、2,2’,5,5’−テトラク
ロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジクロ
ロ−4,4’−ジアミノ−5,5’−ジメトキシビフェニ
ル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニ
ルなどの芳香族ジアミン;
【0022】ジアミノテトラフェニルチオフェンなどの
ヘテロ原子を有する芳香族ジアミン;1,1−メタキシ
リレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチ
レンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレ
ンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノ
ヘプタメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキ
サン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペン
タジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノ
インダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6,2,
1,02.7]−ウンデシレンジメチルジアミンなどの脂肪
族または脂環族ジアミン;下記式
【0023】
【化5】
【0024】(式中、Rはメチル基、エチル基、プロピ
ル基などのアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基またはフェニル基などのアリール基のような
炭素数1〜12の炭化水素基を示し、pは1〜3、qは
1〜20のそれぞれ整数を示す)などで表されるジアミ
ノオルガノシロキサンが挙げられる。これらの中でp−
フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメ
タン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン 、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミ
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,1−メタキ
シリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラ
メチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチ
レンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミ
ノヘプタメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘ
キサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペ
ンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタ
ノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6,
2,1,02.7]−ウンデシレンジメチルジアミンなどが
好ましい。
【0025】酸クロライド基を2個有する化合物として
は、例えばシュウ酸ジクロライド、マロン酸ジクロライ
ド、コハク酸ジクロライド、フマル酸ジクロライド、グ
ルタル酸ジクロライド、アジピン酸ジクロライド、ムコ
ン酸ジクロライドなどの脂肪族ジカルボン酸ジクロライ
ド;1,2−シクロプロパンジカルボン酸ジクロライ
ド、1,3−シクロブタンジカルボン酸ジクロライド、
1,3−シクロペンタンジカルボン酸ジクロライド、1,
3−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド、1,4
−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド、1,4−
(2−ノルボルネン)ジカルボン酸ジクロライド、1,
4−ビシクロ[2.2.2]オクタンジカルボン酸ジクロ
ライド、2,5−ジオキソ−1,4−ビシクロ[2.2.
2]オクタンジカルボン酸ジクロライド、1,3−アダ
マンタンジカルボン酸ジクロライド、4,8−ジオキソ
−1,3−アダマンタンジカルボン酸ジクロライド、2,
6−スピロ[3.3]ヘプタンジカルボン酸ジクロライ
ドなどの脂環族ジカルボン酸ジクロライド;
【0026】イソフタル酸クロライド、テレフタル酸ク
ロライド、1,4−ナフタレンジカルボン酸ジクロライ
ド、1,5−(9−オキソフルオレン)ジカルボン酸ジ
クロライド、1,4−アントラセンジカルボン酸ジクロ
ライド、1,4−アントラキノンジカルボン酸ジクロラ
イド、2,5−ビフェニルジカルボン酸ジクロライド、
1,5−ビフェニレンジカルボン酸ジクロライド、4,
4”−p−ターフェニルジカルボン酸ジクロライド、
4,4’−メチレン二安息香酸ジクロライド、4,4’−
イソプロピリデン二安息香酸ジクロライド、4,4’−
ビベンジルジカルボン酸ジクロライド、4,4’−スチ
ルベンジカルボン酸ジクロライド、4,4’−トランジ
カルボン酸ジクロライド、4,4’−カルボニル二安息
香酸ジクロライド、4,4’−オキシ二安息香酸ジクロ
ライド、4,4’−スルホニル二安息香酸ジクロライ
ド、4,4’−ジチオ二安息香酸ジクロライド、p−フ
ェニレン二酢酸ジクロライド、3,3’−p−フェニレ
ンジプロピオン酸ジクロライド、4−カルボキシ桂皮酸
ジクロライド、3t,3’t−p−フェニレンジアクリ
ル酸ジクロライド,3,3’−[4,4’−(メチレンジ
−p−フェニレン)]ジプロピオン酸ジクロライド、
4,4’−[4,4’−(オキシジ−p−フェニレン)]
ジプロピオン酸ジクロライド、4,4’−[4,4’−
(オキシジ−p−フェニレン)]二酪酸ジクロライド、
(イソプロピリデンジ−p−フェニレンジオキシ)二酢
酸ジクロライド、ビス(p−カルボキシフェニル)ジメ
チルシランジクロライドなどの芳香族ジカルボン酸ジク
ロライドを挙げることができる。
【0027】これらのうち、脂肪族ジカルボン酸ジクロ
ライド、脂環族ジカルボン酸ジクロライド、イソフタル
酸クロライド、テレフタル酸クロライド、1,4−ナフ
タレンジカルボン酸ジクロライド、2,5−ビフェニル
ジカルボン酸ジクロライド、1,5−ビフェニレンジカ
ルボン酸ジクロライド、4,4’−メチレン二安息香酸
ジクロライド、4,4’−イソプロピリデン二安息香酸
ジクロライド及び4,4’−ビベンジルジカルボン酸ジ
クロライドが好ましい。
【0028】本発明に用いられる特定重合体Iは、化合
物Iと化合物IIとを反応させて得られる。かかる反応
は有機溶媒中で、通常0〜150℃、好ましくは0〜1
00℃の反応温度で行われる。
【0029】また、化合物IIの他に、本発明の効果を
失わない程度で、他のジアミンを併用することができ
る。この他のジアミンとしては、先に述べた化合物と同
様の化合物が用いられ、これらのうち、p−フェニレン
ジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、9,
9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン 、2,2−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサ
フルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンなどが好ましい。
【0030】かかる他のジアミンの使用は、全ジアミン
中、通常0〜99.9モル%、好ましくは0〜95モル
%である。
【0031】化合物Iと全ジアミンの使用割合は、全ジ
アミン中のアミノ基1等量に対して化合物Iの酸無水物
基を0.2〜2等量とするのが好ましく、より好ましく
は0.3〜1.2等量である。
【0032】反応に用いられる上記有機溶媒としては、
反応で生成する特定重合体Iを溶解しうるものであれば
特に制限はない。例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミ
ドなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシ
レノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフ
ェノール系溶媒を挙げることができる。有機溶媒の使用
量は、通常、化合物I及び全ジアミンの総量が、反応溶
液の全量に対して0.1〜30重量%になるようにする
のが好ましい。
【0033】本発明に用いられる特定重合体IIは、上
記した特定重合体Iを、加熱して、または脱水剤及びイ
ミド化触媒の存在下でイミド化することにより得られ
る。加熱によりイミド化する場合の反応温度は、通常6
0〜200℃、好ましくは100〜170℃である。反
応温度が60℃未満では反応の進行が遅れ、また200
℃を越えると特定重合体IIの分子量が大きく低下する
ことがある。また、脱水剤及びイミド化触媒の存在下で
イミド化する場合の反応は、前記した有機溶媒中で行う
ことができる。反応温度は、通常0〜180℃、好まし
くは60〜150℃である。脱水剤としては、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸
無水物を用いることができる。また、イミド化触媒とし
ては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチ
ルアミンなどの3級アミンを用いることができるが、こ
れらに限定されるものではない。脱水剤の使用量は、特
定重合体Iの繰り返し単位1モルに対して1.6〜20
モルとするのが好ましい。また、イミド化触媒の使用量
は使用する脱水剤1モルに対し、0.5〜10モルとす
るのが好ましい。
【0034】前記有機溶媒には、貧溶媒であるアルコー
ル類、ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロゲン化
炭化水素類、炭化水素類などを生成する重合体が析出し
ない程度に併用することができる。かかる貧溶媒として
は、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソ
プロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレング
リコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオ
ール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロ
ン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレングリコール
メチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、
エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレン
グリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコー
ル−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタ
ン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロ
ルベンゼン、o−ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを挙
げることができる。
【0035】このようにして得られる特定重合体Iまた
はIIの固有粘度[ηinh=(lnηrel/C、C=
0.5g/dl、30℃、N−メチル−2−ピロリドン
中、以下同条件にて固有粘度を測定]は、通常、0.0
5〜10dl/g、好ましくは0.05〜5dl/gで
ある。
【0036】本発明の液晶配向剤は、特定重合体I及び
/またはIIを含有するが、これらの特定重合体の分子
量を調節し、最適な基板への塗布性を実現するために、
モノアミンを反応時に添加してもよい。
【0037】この際に用いるモノアミンとして、例えば
アニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、
n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチ
ルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n
−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシル
アミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミ
ン、n−ペンタデシルアミン、n−ヘキサデシルアミ
ン、n−ヘプタデシルアミン、n−オクタデシルアミ
ン、n−エイコシルアミンなどを挙げることができる。
【0038】また、本発明の液晶配向剤は、特定重合体
I及び/またはIIと基板との接着性を改善する目的
で、官能性シラン含有化合物を含有することができる。
【0039】官能性シラン含有化合物としては、例えば
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルト
リメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプ
ロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリ
エトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル
−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエ
トキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−ト
リメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、1
0−トリメトキシイシリル−1,4,7−トリアザデカ
ン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデ
カン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニル
アセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザ
ノニルアセテート、N−ベンジル−3−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、N−ビス(オキシエチレ
ン)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビ
ス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリエトキ
シシランなどが挙げられる。
【0040】本発明の液晶配向剤を用いて得られる液晶
表示素子は、例えば次の方法によって製造することがで
きる。まず、透明導電膜が設けられた基板の透明導電膜
側に、本発明の液晶配向剤をロールコーター法、スピン
ナー法、印刷法などで塗布し、80〜200℃、好まし
くは120〜200℃の温度で加熱して塗膜を形成させ
る。この塗膜は、通常、0.001〜1μm、好ましく
は0.005〜0.5μmである。
【0041】形成された塗膜は、ナイロンなどの合成繊
維からなる布を巻き付けたロールでラビング処理を行う
ことにより、液晶配向膜とされる。上記基板としては、
例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートなどのプ
ラスチックフィルムからなる透明基板を用いることがで
きる。
【0042】上記透明導電膜としては、SnO2からな
るNESA膜、In23−SnO2からなるITO膜な
どを用いることができ、これらの透明導電膜のパターニ
ングには、フォト・エッチング法、予めマスクを用いる
方法などが用いられる。
【0043】液晶配向剤の塗布に際しては、基板及び透
明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、
基板及び透明導電膜上に、予め官能性シラン含有化合
物、チタネートなどを塗布することもできる。
【0044】液晶配向膜が形成された基板は、その2枚
を液晶配向膜をラビング方向が直交または逆平行となる
よう対向させ、基板の間の周辺部をシール剤でシール
し、液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セルとし、そ
の両面に偏光方向がそれぞれ基板の液晶配向膜のラビン
グ方向と一致または直交するように張り合わせることに
より液晶表示素子とされる。
【0045】上記シール剤としては、例えば硬化剤及び
スペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有したエポ
キシ樹脂などを用いることができる。上記液晶として
は、ネマティック型液晶、スメクティック型液晶、その
中でもネマティック型液晶を形成させるものが好まし
く、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフ
ェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステ
ル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキ
サン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビ
シクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などが用いられ
る。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライ
ド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネー
トなどのコレステリック液晶や商品名C−15,CB−
15(メルク社製)として販売されているようなカイラ
ル剤などを添加して使用することもできる。さらに、p
−デシロキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブ
チルシンナメートなどの強誘電性液晶も使用することが
できる。
【0046】液晶セルの外側に使用される偏光板として
は、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ
素を吸収させたH膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース
保護膜で挟んだ偏光板、またはH膜そのものからなる偏
光板などを挙げることができる。
【0047】
【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、液晶表示素子の残像の評価は、10
Vの直流電圧を30分間印加した後、逆電圧2Vを印加
した時の表示残りを顕微鏡で観察することにより行っ
た。また、液晶セルの配向性評価は、電圧をオン・オフ
させた時の液晶セル中の異常ドメインの有無を偏光顕微
鏡で観察し、異常ドメインの認められない場合を良好と
した。
【0048】合成例1 p−ニトロ安息香酸クロライド44.54gとp−フェ
ニレンジアミン10.81gをトルエン500gに溶解
させた後、ピリジン40gを徐々に滴下し、25℃で1
0時間反応させた。次いで、反応液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で3回洗浄した後、溶媒を除去した。その後、
エタノールより再結晶を行い、黄色結晶のジニトロ化合
物を得た(収率82.4%)。
【0049】合成例2 合成例1で得られたジニトロ化合物100gをエタノー
ル1000gに溶解させ、Pd/C 1g及びヒドラジ
ン1水和物50gを添加し、6時間還流した。室温まで
冷却した後、析出物を濾別し、エタノールにより再結晶
を行い、アミド基を有する化合物IIaを得た(収率5
0.4%)。
【0050】合成例3 2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
44.83g及び化合物IIa69.26gをN−メチル
−2−ピロリドン1027gに溶解させ、室温で6時間
反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール
に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノール
で洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させて、固有粘
度1.31dl/gの特定重合体Ia85.2gを得た。
【0051】合成例4 合成例3で得られた特定重合体Ia30.0gを570
gのγ−ブチロラクトンに溶解し、30.79gのピリ
ジンと26.22gの無水酢酸を添加し、120℃で3
時間イミド化反応反応をさせた。次いで、反応生成液を
合成例1と同様に沈澱させ、固有粘度1.35dl/g
の特定重合体IIa24.6gを得た。
【0052】合成例5 合成例3において、化合物IIa69.26gを4,4’
−ジアミノジフェニルメタン19.83g及び化合物I
Ia34.63gとした以外は、合成例3と同様にして
特定重合体Ibを得、さらにこの特定重合体Ibを用い
て合成例4と同様にしてイミド化反応を行い、固有粘度
1.16dl/gの特定重合体IIb22.2gを得た。
【0053】合成例6 合成例3において、テトラカルボン酸二無水物をシクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物39.2gとした以外
は合成例3と同様にして、固有粘度1.26dl/g特
定重合体Ic36.8gを得た。
【0054】合成例7 合成例1において、p−フェニレンジアミンの代わりに
1,4−ジアミノシクロヘキサン11.42gを用いた以
外は、合成例1と同様にして、ジニトロ化合物を得(収
率79.2%)、合成例2と同様に還元反応を行い、ア
ミド基を有する化合物IIbを得た(収率46.3
%)。
【0055】合成例8 合成例3において、化合物IIaの代わりに化合物II
b70.47gを用いた以外は、合成例3と同様にして
特定重合体Idを得、さらにこの特定重合体Idを用い
て合成例4と同様にしてイミド化反応を行い、固有粘度
1.05dl/gの特定重合体IId22.2gを得た。
【0056】合成例9 合成例1において、p−フェニレンジアミンの代わりに
4,4’−ジアミノベンズアニリド22.73gを用いた
以外は、合成例1と同様にして、ジニトロ化合物を得
(収率77.2%)、合成例2と同様に還元反応を行
い、アミド基を有する化合物IIcを得た(収率47.
3%)。
【0057】合成例10 合成例3において、化合物IIaの代わりに化合物II
c93.09gを用いた以外は、合成例3と同様にして
特定重合体Ieを得、さらにこの特定重合体Ieを用い
て合成例4と同様にしてイミド化反応を行い、固有粘度
1.25dl/gの特定重合体IIe25.2gを得た。
【0058】合成例11 合成例1において、p−フェニレンジアミンの代わりに
ヘキサメチレンジアミン11.62gを用いた以外は、
合成例1と同様にして、ジニトロ化合物を得(収率8
1.6%)、合成例2と同様に還元反応を行い、アミド
基を有する化合物IIdを得た(収率47.7%)。
【0059】合成例12 合成例3において、化合物IIaの代わりに化合物II
d70.87gを用いた以外は、合成例3と同様にして
特定重合体Ifを得、さらにこの特定重合体Ifを用い
て合成例4と同様にしてイミド化反応を行い、固有粘度
0.89dl/gの特定重合体IIf20.5gを得た。
【0060】合成例13 p−ニトロアニリン33.15gとテレフタル酸ジクロ
ライド20.3gをトルエン500gに溶解させた後、
ピリジン40gを徐々に滴下し、25℃で10時間反応
させた。次いで、反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液で
3回洗浄した後、溶媒を除去した。その後、エタノール
より再結晶を行い、黄色結晶のジニトロ化合物を得た
(収率78.4%)。
【0061】合成例14 合成例13で得られたジニトロ化合物100gをエタノ
ール1000gに溶解させ、Pd/C 1g及びヒドラ
ジン1水和物50gを添加し、6時間還流した。室温ま
で冷却した後、析出物を濾別し、エタノールにより再結
晶を行い、アミド基を有する化合物IIeを得た(収率
51.4%)。
【0062】合成例15 合成例3において、化合物IIaの代わりに化合物II
e69.25gを用いた以外は、合成例3と同様にして
特定重合体Igを得、さらにこの特定重合体Igを用い
て合成例4と同様にしてイミド化反応を行い、固有粘度
1.26dl/gの特定重合体IIg24.5gを得た。
【0063】合成例16 合成例13において、テレフタル酸クロライドの代わり
に1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド2
0.7gを用いた以外は、合成例13と同様にして、ジ
ニトロ化合物を得(収率81.1%)、合成例2と同様
に還元反応を行い、アミド基を有する化合物IIfを得
た(収率48.7%)。
【0064】合成例17 合成例3において、化合物IIaの代わりに化合物II
f69.25gを用いた以外は、合成例3と同様にして
特定重合体Ihを得、さらにこの特定重合体Ihを用い
て合成例4と同様にしてイミド化反応を行い、固有粘度
1.16dl/gの特定重合体IIh20.5gを得た。
【0065】合成例18 ピロメリット酸二無水物43.62g及び4,4’−ジア
ミノジフェニルエーテル40.04gをN−メチル−2
−ピロリドン753gに溶解させ、室温で6時間反応さ
せた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノールに注
ぎ、反応生成物を沈澱させた。その後、メタノールで洗
浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させて、固有粘度
1.51dl/gの特定重合体Ii75.2gを得た。
【0066】実施例1 合成例3で得られた重合体Iaをγ−ブチロラクトン7
2gに溶解させて、固形分濃度4重量%の溶液とし、こ
の溶液を孔径1μmのフィルターで濾過し、液晶配向剤
溶液を調製した。この溶液を、ITO膜からなる透明電
極付きガラス基板の上に透明電極面に、回転数3000
rpmで3分間スピンナーを用いて塗布し、180℃で
1時間乾燥し、乾燥膜厚0.05μmの塗膜を形成し
た。この塗膜にナイロン製の布を巻き付けたロールを有
するラビングマシーンにより、ロールの回転数500r
pm、ステージの移動速度1cm/秒でラビング処理を
行った。
【0067】次に、一対のラビング処理された基板の液
晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径17μmの酸
化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン
印刷塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対する
ように、しかもラビング方向が直交するように重ね合わ
せて圧着し、接着剤を硬化させた。
【0068】次いで、液晶注入口より一対の基板間に、
ネマティック型液晶(メルク社製、ZLI−1565)
を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止
し、基板の外側の両面に偏光板を、偏光板の偏光方向が
それぞれの基板の液晶配向膜のラビング方向と一致する
ように張り合わせ、液晶表示素子を作製した。得られた
液晶表示素子の配向性は良好であり、逆電圧印加後の残
像は認められなかった。
【0069】実施例2〜9 実施例1において、合成例4、5、6、8、10、1
2、15及び17で得られた特定重合体IIa、II
b、Ic、IId、IIe、IIf、IIg及びIIh
を用いた以外は、実施例1と同様にして液晶表示素子を
作製し、その液晶表示素子の配向性及び逆電圧印加後の
残像を測定し、結果を表1に示した。
【0070】
【表1】
【0071】比較例1 合成例18で得られた特定重合体Iiを用いた以外は、
実施例1と同様にして液晶表示素子を作製し、その評価
を行ったところ、液晶の配向に乱れが生じており、ま
た、逆電圧印加後5分たっても画面上に残像が認められ
た。
【0072】
【発明の効果】本発明の液晶配向剤によれば、配向性が
良好で、かつ、液晶表示素子の駆動時の残像が少ない、
特にTN型液晶表示素子用として好適な液晶配向膜が得
られる。また、本発明の液晶配向剤を用いて形成した液
晶配向膜を有する液晶表示素子は、使用する液晶を選択
することにより、SBE(Super Birefringency Effec
t)型液晶表示素子、SH(Super Homeotropic)型液晶
表示素子及び強誘電液晶表示素子にも好適に使用するこ
とができる。さらに、本発明の液晶配向剤を用いて形成
した配向膜を有する液晶表示素子は、液晶の配向性及び
信頼性に優れ、種々の装置に有効に使用でき、例えば卓
上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、ワードプロセ
ッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビなどの表
示装置に用いられる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 で表わされるテトラカルボン酸二無水物及び下記一般式
    (II) 【化2】 で表わされる化合物を含有するジアミンとを反応させて
    得られる重合体及び/またはそのイミド化重合体を含有
    することを特徴とする液晶配向剤。
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