JPH05198455A - Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法 - Google Patents
Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法Info
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- JPH05198455A JPH05198455A JP1012292A JP1012292A JPH05198455A JP H05198455 A JPH05198455 A JP H05198455A JP 1012292 A JP1012292 A JP 1012292A JP 1012292 A JP1012292 A JP 1012292A JP H05198455 A JPH05198455 A JP H05198455A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、磁気ヘッド、薄膜トランス、薄膜イ
ンダクタに利用可能な高磁束密度軟磁性薄膜に関し、低
保持力かつ高透磁率の軟磁気特性に優れたＦｅ−Ｃｏ−
Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法を提案する。 【構成】Ｆｅ，Ｃｏを主成分としＦｅとＣｏの原子比が
Ｃｏ／Ｆｅ≦２．３３である軟磁性薄膜材料を、Ｎ2 分
圧が０．０１〜０．１５ＰａのＮ2 を含んだ雰囲気中で
その膜厚が７００〜２０００Åとなるように成膜する。
ンダクタに利用可能な高磁束密度軟磁性薄膜に関し、低
保持力かつ高透磁率の軟磁気特性に優れたＦｅ−Ｃｏ−
Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法を提案する。 【構成】Ｆｅ，Ｃｏを主成分としＦｅとＣｏの原子比が
Ｃｏ／Ｆｅ≦２．３３である軟磁性薄膜材料を、Ｎ2 分
圧が０．０１〜０．１５ＰａのＮ2 を含んだ雰囲気中で
その膜厚が７００〜２０００Åとなるように成膜する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッド、薄膜トラ
ンス、薄膜インダクタに利用可能な高磁束密度軟磁性薄
膜に関する。
ンス、薄膜インダクタに利用可能な高磁束密度軟磁性薄
膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ヘッド用材料や薄膜トランス
用磁心材料として、高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜
の研究・開発が盛んである。これらの磁性薄膜材料の中
でも、Ｆｅを主成分とした磁性薄膜では、窒化、多層
化、合金化等により低保持力かつ高飽和磁束密度の軟磁
性薄膜が得られている。
用磁心材料として、高飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜
の研究・開発が盛んである。これらの磁性薄膜材料の中
でも、Ｆｅを主成分とした磁性薄膜では、窒化、多層
化、合金化等により低保持力かつ高飽和磁束密度の軟磁
性薄膜が得られている。
【０００３】一方、Ｆｅ−Ｃｏ合金は、Ｆｅの持つ飽和
磁束密度（約２１．５ｋＧ）を上まわる合金であり、特
にＣｏ／Ｆｅ≒０．５付近では、約２４．５ｋＧもの飽
和磁束密度を有するにも拘らず、Ｆｅに比べ磁歪が大き
く、薄膜化した際の内部応力のために軟磁性化しにくい
という欠点があった。
磁束密度（約２１．５ｋＧ）を上まわる合金であり、特
にＣｏ／Ｆｅ≒０．５付近では、約２４．５ｋＧもの飽
和磁束密度を有するにも拘らず、Ｆｅに比べ磁歪が大き
く、薄膜化した際の内部応力のために軟磁性化しにくい
という欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記問題点
を解決するために、低保持力かつ高透磁率の軟磁気特性
に優れたＦｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法を提案
するものである。
を解決するために、低保持力かつ高透磁率の軟磁気特性
に優れたＦｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法を提案
するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、実験的研究を実施した結果、Ｆｅ−Ｃｏ系薄膜をＮ
2 を含んだ雰囲気中で成膜した場合に７００〜２０００
Åの膜厚において保磁力が顕著に低下することが判明し
た。一方、Ｎ2 を含まない雰囲気中で成膜した場合に
は、このような保磁力低下は確認されなかった（図１参
照）。
に、実験的研究を実施した結果、Ｆｅ−Ｃｏ系薄膜をＮ
2 を含んだ雰囲気中で成膜した場合に７００〜２０００
Åの膜厚において保磁力が顕著に低下することが判明し
た。一方、Ｎ2 を含まない雰囲気中で成膜した場合に
は、このような保磁力低下は確認されなかった（図１参
照）。
【０００６】即ち、本発明は、Ｆｅ，Ｃｏを主成分とし
ＦｅとＣｏの原子比がＣｏ／Ｆｅ≦２．３３である軟磁
性薄膜材料を、Ｎ2 分圧が０．０１〜０．１５ＰａのＮ
2 雰囲気中でその膜厚が７００〜２０００Åとなるよう
に成膜することを特徴とする、優れた軟磁性薄膜の製造
方法に関するものであり、これまで磁歪が大きく軟磁気
特性が得られなかったＦｅ−Ｃｏ系薄膜の軟磁気特性を
改善するものである。
ＦｅとＣｏの原子比がＣｏ／Ｆｅ≦２．３３である軟磁
性薄膜材料を、Ｎ2 分圧が０．０１〜０．１５ＰａのＮ
2 雰囲気中でその膜厚が７００〜２０００Åとなるよう
に成膜することを特徴とする、優れた軟磁性薄膜の製造
方法に関するものであり、これまで磁歪が大きく軟磁気
特性が得られなかったＦｅ−Ｃｏ系薄膜の軟磁気特性を
改善するものである。
【０００７】
【作用】本発明は、Ｆｅ−Ｃｏ組成を原子比にてＣｏ／
Ｆｅ≦２．３３とし、Ｎ2 を含んだ雰囲気でスパッタリ
ング等により成膜するものであるため、結晶粒が微細化
され、前述の図１に示したように膜厚７００〜２０００
Åの範囲にて保磁力が顕著に低下した。ここでＣｏ／Ｆ
ｅが２．３３を超えると、Ｆｅ−Ｃｏ合金はα相単相で
なく、その飽和磁束密度は、純Ｆｅのそれを下まわる。
したがって、Ｃｏ／Ｆｅ≦２．３３とする。一方Ｎ2 分
圧０．１５Ｐａを超えるＮ2 を含んだ雰囲気では、保磁
力の低下は見られるものの、飽和磁束密度が著しく低下
する。Ｎ2分圧が０．０１Ｐａ未満では保持力の十分な
低下が見られない。従って、本発明のＮ2 分圧は０．０
１〜０．１５Ｐａとした。
Ｆｅ≦２．３３とし、Ｎ2 を含んだ雰囲気でスパッタリ
ング等により成膜するものであるため、結晶粒が微細化
され、前述の図１に示したように膜厚７００〜２０００
Åの範囲にて保磁力が顕著に低下した。ここでＣｏ／Ｆ
ｅが２．３３を超えると、Ｆｅ−Ｃｏ合金はα相単相で
なく、その飽和磁束密度は、純Ｆｅのそれを下まわる。
したがって、Ｃｏ／Ｆｅ≦２．３３とする。一方Ｎ2 分
圧０．１５Ｐａを超えるＮ2 を含んだ雰囲気では、保磁
力の低下は見られるものの、飽和磁束密度が著しく低下
する。Ｎ2分圧が０．０１Ｐａ未満では保持力の十分な
低下が見られない。従って、本発明のＮ2 分圧は０．０
１〜０．１５Ｐａとした。
【０００８】
【実施例】基板としてコーニング７０５９のガラス基板
（５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．５ｍｍｔ）を用い、Ｆｅ−
Ｃｏ合金からなるターゲットを使用してＤＣマグネトロ
ンスパッタリングにより成膜を行ったが、この時の雰囲
気はＡｒとＮ2 の混合ガスで全圧０．３Ｐａ一定とし
た。
（５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．５ｍｍｔ）を用い、Ｆｅ−
Ｃｏ合金からなるターゲットを使用してＤＣマグネトロ
ンスパッタリングにより成膜を行ったが、この時の雰囲
気はＡｒとＮ2 の混合ガスで全圧０．３Ｐａ一定とし
た。
【０００９】図２は各条件にて作成したＦｅ−Ｃｏ−Ｎ
膜の保磁力と膜厚の関係を示したものである。図からも
明らかのように膜厚７００〜２０００Åの範囲にて保磁
力が極小となり、軟磁気特性の優れた薄膜が得られた。
また、表１に代表的な薄膜の磁気特性を示す。
膜の保磁力と膜厚の関係を示したものである。図からも
明らかのように膜厚７００〜２０００Åの範囲にて保磁
力が極小となり、軟磁気特性の優れた薄膜が得られた。
また、表１に代表的な薄膜の磁気特性を示す。
【００１０】
【表１】
【００１１】
【発明の効果】本発明によって、これまで磁歪が大きく
軟磁気特性が困難であったＦｅ−Ｃｏ組成薄膜に対し、
所定のＮ2 雰囲気中で所定の膜厚に制御された薄膜を生
成することにより、優れた軟磁気特性を得ることが可能
となった。これは、Ｆｅよりもさらに高いＢｓを有する
Ｆｅ−Ｃｏ組成をベースにするものであり、産業上大い
に有用である。
軟磁気特性が困難であったＦｅ−Ｃｏ組成薄膜に対し、
所定のＮ2 雰囲気中で所定の膜厚に制御された薄膜を生
成することにより、優れた軟磁気特性を得ることが可能
となった。これは、Ｆｅよりもさらに高いＢｓを有する
Ｆｅ−Ｃｏ組成をベースにするものであり、産業上大い
に有用である。
【図１】Ｆｅ70Ｃｏ30組成においてＮ2 雰囲気を用いる
場合と用いない場合の薄膜の保磁力Ｈｃを示したもので
ある。
場合と用いない場合の薄膜の保磁力Ｈｃを示したもので
ある。
【図２】本発明によるＦｅ−Ｃｏ−Ｎ薄膜の保持力と膜
厚の関係を示したグラフであり、７００〜２０００Åに
おいて保磁力が極小値を示している。
厚の関係を示したグラフであり、７００〜２０００Åに
おいて保磁力が極小値を示している。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｆｅ，Ｃｏを主成分としＦｅとＣｏの原
子比がＣｏ／Ｆｅ≦２．３３である軟磁性薄膜材料を、
Ｎ2 分圧が０．０１〜０．１５ＰａのＮ2 を含んだ雰囲
気中でその膜厚が７００〜２０００Åとなるように成膜
することを特徴とするＦｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1012292A JPH05198455A (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1012292A JPH05198455A (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05198455A true JPH05198455A (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=11741496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1012292A Withdrawn JPH05198455A (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ系軟磁性薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05198455A (ja) |
-
1992
- 1992-01-23 JP JP1012292A patent/JPH05198455A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |