JPH05193982A - X線吸収性ガラス - Google Patents

X線吸収性ガラス

Info

Publication number
JPH05193982A
JPH05193982A JP4199866A JP19986692A JPH05193982A JP H05193982 A JPH05193982 A JP H05193982A JP 4199866 A JP4199866 A JP 4199866A JP 19986692 A JP19986692 A JP 19986692A JP H05193982 A JPH05193982 A JP H05193982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
accounts
account
sro
sio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4199866A
Other languages
English (en)
Inventor
James V Jones
ブイ.ジョーンズ ジェームズ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PPG Industries Inc
Original Assignee
PPG Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by PPG Industries Inc filed Critical PPG Industries Inc
Publication of JPH05193982A publication Critical patent/JPH05193982A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/08Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/095Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/08Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
    • C03C4/087Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for X-rays absorbing glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/86Vessels; Containers; Vacuum locks
    • H01J29/863Vessels or containers characterised by the material thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 慣用的フロートガラス溶融及び成形法及び装
置によって製造するのに特に適合し、異常なX線吸収性
を示すガラス。 【構成】 0.6 Åで測定して、ガラス厚さ1cm当たり24
の最低線吸収係数を有し、電子褐色化及び(又は)X線
褐色化に対する優れた抵抗性を有し、重量%で次の成
分:約57.0〜66.0%のSiO2 ;約0〜5.0 %のAl2
3 ;約7.0 〜11.0%のK2 O;約4.0 〜8.0 %のNa
2O;約0〜13.0%のBaO;約11.0〜21.0%のSr
O;及び約0.1 〜1.0 %のCeO2 ;を含有する異常な
X線吸収性を示すガラス。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特に慣用的ガラス溶融
炉で溶融され、溶融錫浴上で成形されるのに適合するガ
ラスで、異常なX線吸収性を示し、電子褐色化及び(又
は)X線褐色化に対し良好な抵抗性を有するガラスに関
する。
【0002】
【従来の技術】X線は、運動する電子が物質の原子と衝
突することにより減速又は停止された時に生ずる。この
X線の強度は、加速電圧、電子流、及び衝突された物質
の原子番号の関数である。
【0003】X線管では、加熱陰極からの電子が小さな
点へ焦点を結び、陽極又はターゲットへ加速される。テ
レビ画像管は、X線管と同じ基本的要素、即ち、焦点を
結ぶ電子ビーム及び高D.C.加速電圧を含んでいる。
【0004】コンピューターモニター及びカラーテレビ
ジョン画像管の用途では、「白黒」用よりも高い電圧が
用いられており、特にガラス管前面板の領域では、X線
放射吸収が非常に重要な考慮すべき要件になっている。
【0005】従来技術としてX線吸収に関するガラス組
成物が豊富にあり、例えば、米国特許第3,464,932 号、
第4,015,966 号、第4,065,696 号、第4,065,697 号明細
書がある。従来技術に開示されているガラス組成物の多
くは、適切にX線放射を吸収するが、「標準的」ガラス
製造方法をかなり阻害する或る水準の物質を含んでい
る。
【0006】ガラス組成物はガラス溶融及び成形装置で
用いられる耐火物と両立できるのがよく、ガラス溶融及
び成形中、加速された速度で耐火物の溶解を起こさない
ようなものであるべきである。更に、ガラス組成物はガ
ラス溶融及び成形中に揮発する材料を含まないのがよ
い。なぜなら、それは耐火物の超構造を損傷したり、毒
性の匂いやガスを発生することがあるからである。
【0007】米国特許第3,220,816 号及び第3,843,346
号明細書に記載されているように、慣用的溶融錫フロー
トガラス形成法が用いられた場合、ガラス組成物は溶融
錫と両立できるべきであり、錫/ガラス界面のガラス上
に膜の形成を起こすような容易に還元することができる
酸化物を含むべきではない。容易に還元することができ
る酸化物は、後に形成されたガラス中の欠陥を生ずるこ
とがある望ましくない物質と共に、錫浴を汚染する傾向
も持つ。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】X線吸収性ガラス組成
物のあるものは、これらの重要な問題の幾つかを満足す
るが、これらガラス組成物の中で、慣用的フロートガラ
ス溶融及び成形法及び装置によって製造するのに特に適
用され、異常なX線吸収を示すガラスを与えているもの
はない。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、慣用的ガラス
溶融及び成形法及び装置により製造するのに特に適合す
るガラスで、異常なX線吸収性を示し、特に0.6 Åで測
定して、ガラスの厚さ1cm当たり24の最少線吸収係数を
示すガラスを与える。そのガラスは電子褐色化及びX線
褐色化に対する良好な抵抗性も示す。本発明の一つの特
別な態様として、ガラス組成物は、SiO2 とAl23
が一緒になってガラス組成物の約57.0〜68.0重量%を占
め、SiO2 が約57.0〜66.0重量%を占め、Al23
約0〜5.0 重量%を占め;K2 OとNa2Oが一緒になっ
てガラス組成物の約10.0〜18.0重量%を占め、K2 Oが
約7.0 〜11.0重量%を占め、Na2Oが約4.0 〜8.0 重量
%を占め;BaOとSrOが一緒になってガラス組成物
の約16.0〜24.0重量%を占め、BaOが約0〜13.0重量
%を占め、SrOが約11.0〜21.0重量%を占め;そして
CeO2 がガラス組成物の約0.1 〜1.0 重量%を占め
る;諸成分を含む。
【0010】〔本発明の詳細な記述〕ガラスを製造する
方法は、欠陥のない最終生成物を作るためにはかなりの
エネルギーを消費する必要があるエネルギー集中的なも
のである。従って、本発明により一般的に目的とされる
種類のガラス組成物は、1460℃(2650°F)より低い温
度でlog10 粘度=2.0 を持つ比較的溶融し易いものであ
ることが極めて望ましい。log10 粘度=2.0 〜6.0 の範
囲についての温度を測定するのに用いられる方法は、A
STM C965-81法に従っている。
【0011】ガラス組成物は、そのlog10 粘度=4.0 で
の温度と液相温度との間の差として定義される確実な作
業範囲を有することも望ましい。液相温度は、冷却した
時に最初の結晶が形成される温度、又は加熱した時結晶
が最初に溶解する温度として定義される。ASTM C
829-81法は液相温度を測定する一つの方法である。
【0012】ガラスが陰極線管(CRT)の前面板とし
て用いられる場合、膨張係数及び歪点のガラス特性は、
CRTの漏斗状部分に前面板を融着させなければならな
いので重要である。然る後、CRTを密封し、組立てた
管の内部に真空を適用し、そのため全ガラス管構造体に
歪みを生ずる。前面板と漏斗状部分との間の融着領域
は、ガラス管構造体の他の部分よりも一般に歪みが大き
くなる領域である。従って、前面板の膨張係数と歪点の
両方は、二つのガラス組成物を一緒に融着した共通の領
域又は接合部で応力が蓄積しないように、漏斗状管の膨
張係数と歪点の両方によくあっていなければならない。
ASTM E228-71の方法は膨張係数を測定する一つの
方法であり、ASTM C336-71の方法は徐冷範囲及び
歪点を測定する方法である。
【0013】上記望ましいのガラスの性質は、全て本発
明のガラスによって実証されており、これらの性質の記
録された数値の幾つかの例を、本発明の記載で幾らか詳
細に下に記述する。
【0014】ガラス組成物が、溶融中ガラスと接触する
耐火物を溶解せず、揮発してガラス溶融装置内の上部空
間内に用いられた耐火物と反応するような材料をガラス
が含まないことも非常に重要である。ASTM C621-
68の方法は、耐火物の腐食抵抗を試験する一つの方法で
ある。
【0015】本発明のガラスは、典型的な従来のX線吸
収ガラスよりも耐火物に対する腐食性が低く、特にフロ
ートガラス形成法を用いて形成するのに適合したガラス
よりも腐食性が低い。フロートガラス形成法はよく知ら
れた従来の方法であり、米国特許第3,220,816 号及び第
3,843,346 号明細書に記載されている。
【0016】次の表1は、ASTM C621-68の試験方
法に基づいて、ガラス製造炉で用いられる耐火物に対す
る典型的なソーダ石灰シリカフロート法ガラス(「A」
として示す)と、本発明のガラス(「B」として示す)
との48時間試験での金属線カットの差を示している。
【0017】フロートガラス形成法により形成され、下
の表1で用いられた典型的なソーダ石灰シリカガラスの
組成の一例(重量%)は次の通りである; SiO2 73.07 SO3 0.24 Na2O 13.77 Fe23 0.088 K2 O 0.04 Al23 0.12 MgO 3.84 SrO 0.007 ZrO2 0.009 CaO 8.81
【0018】
【表1】 表1 耐火物に対するガラスの金属線カット ガラス組成 耐火物* 温度(℃) 金属線カット(cm) A(従来法) モノフラックスS3 1454 0.081 B(本発明) モノフラックスS3 1454 0.043 A モノフラックスS3 1510 0.208 B モノフラックスS3 1510 0.066 A モノフラックスM 1454 0.226 B モノフラックスM 1454 0.079 A モノフラックスM 1510 0.396 B モノフラックスM 1510 0.262 A モノフラックスZ 1454 0.109 B モノフラックスZ 1454 0.097 A モノフラックスZ 1510 0.417 B モノフラックスZ 1510 0.302 * 上記表1に列挙した耐火物の各々は、ニューヨーク
州ナイアガラのカーボランダム社(Carborundum Corpora
tion)により上記商標名、モノフラックス(MONOFRAX)と
して製造されているものである。
【0019】例えば、カラーテレビ画像管用途のガラス
前面板のように、ガラスが高電圧X線に曝されると、殆
どの従来のガラス組成物は変色即ち「褐色」になる。従
って、大きな光伝導度を維持するためには褐色化を防ぐ
物質をガラス組成物が含有していることが極めて望まし
い。酸化セリウムはこの機能を本発明の組成物で非常に
よく果たしている。
【0020】溶融錫フロートガラス形成法を用いてガラ
ス組成物を形成するためには、錫を強く還元する物質を
ガラスは含んでいない方がよい。もし錫が一つ又は幾つ
かのガラス成分によって還元されると、形成されたガラ
スの下表面上に錫の膜が形成され、それがガラスを通る
光の伝導をひどく妨げる。ガラス中のそのような望まし
くない成分は、溶融錫浴中に拡散し易く、錫浴に「汚染
(poisoned)」を惹き起こし、同じ浴上で形成された続く
ガラス組成物中に欠陥を生ずる結果になる。或る従来技
術のガラス組成物中に見出されているそのような望まし
くないガラス成分の一例は酸化鉛である。酸化鉛は或る
X線吸収性ガラス組成物に一般に用いられている。なぜ
なら、それはX線を吸収し易くするからである。
【0021】従来のガラス製造炉で溶融することがで
き、溶融錫浴上で成形することができるX線吸収性ガラ
ス組成物の上記条件に合うようにするのに必要な六つの
成分が存在する。一般に用いられるそれら六つのバッチ
成分は、砂、ソーダ灰、炭酸カリウム、炭酸バリウム、
炭酸ストロンチウム、及び炭酸セリウムである。他のバ
ッチ材料も、それらが下に列挙する必要な酸化物を含む
限り用いることができるであろう。その場合、得られた
ガラス生成物は次の本質的酸化物を含む:二酸化珪素
(SiO2 )、酸化ナトリウム(Na2O)、酸化カリウ
ム(K2 O)、酸化バリウム(BaO)、酸化ストロン
チウム(SrO)、及び酸化セリウム(CeO2)。
【0022】本発明のガラスを溶融する前に、特定のタ
ンク中で他のガラス組成物を溶融してもよいので、最終
生成物は、前に溶融したガラス組成物の残留物及び(又
は)ガラス炉から溶融した少量の耐火物を含んでいるこ
とがある。本発明のガラスは希望の光伝導性を与えるた
めにガラスを着色するために通常用いられる少量の成分
を含んでいてもよいが、着色剤は本発明にとって必須の
成分ではない。
【0023】従って、本発明のガラスは着色剤、溶解し
た耐火物、バッチ材料からの不純(tramp)成分、又は炉
中で前に溶融した組成物の残留物を2%未満含んでい
る。これら2%未満の成分の中で、本発明の要件を満た
すのに必須のものは一つもなく、本発明のガラスの希望
の性質に一般に悪影響を与えることもないであろう。
【0024】このガラス組成物中のSiO2 の機能は、
網目構造形成剤として働くことであり、ガラスマトリッ
クスの基本的構造を与える。本発明のガラス中の他の少
量の網目構造形成剤には、酸化アルミニウム(Al
23 )、三酸化イオン(SO3)、及び酸化物セリウム
(CeO2)が含まれる。
【0025】Na2O及びK2 Oは本発明のガラス組成物
に用いられるアルカリ分であり、ガラスを溶融するのを
助け、組成物の膨張係数を調節するのに役立つ。
【0026】本発明のガラスの上述の極めて望ましい物
理的性質の幾つかは、図1〜9に示されている。
【0027】図1及び2に描かれている膨張係数は、陰
極線管の前面板ガラスと漏斗状ガラスの膨張が非常によ
く「合って」いなければならない点で、重要な物理的性
質である。前者と後者は密封融着される。本発明のガラ
スの膨張係数は、それらの間の効率的及び効果的融着を
確実に与えるように、典型的な漏斗状ガラスの膨張係数
範囲に合うように調節することができる。
【0028】図1は、網目構造形成剤対全アルカリ分の
比率が低下すると、膨張係数が増大することを示すグラ
フである。
【0029】図2は、網目構造形成剤の全量が減少する
と、膨張係数が増大することを示すグラフである。
【0030】図3〜6に描かれている液相温度も、低い
液相温度を維持することが必須である点で重要な物理的
性質である。低い液相温度により、あらゆる型のガラス
形成操作に悪影響を与える自然的結晶化についての問題
を起こすことなく、ガラスの形成を行うことができる。
【0031】図3は、SrO対BaOの比率が減少する
と、液相温度が低下することを示すグラフである。Sr
O及びBaOの両方は、本発明のガラス中の主たるX線
吸収剤としての機能を果たす。SrOはBaOより比較
的良好なX線吸収剤であるが、BaOは本発明のガラス
の液相温度を低く維持するのに必須である。
【0032】図4は、SrO対Na2Oの比率が低下する
と、液相温度が低下することを示すグラフである。
【0033】図5は、SiO2 とSrOの比率を増大し
ても、液相温度が減少することを示すグラフである。
【0034】図6は、SiO2 対BaOの比率が15より
低いと、液相温度が1016℃(1850°F)より低くなるこ
とを示すグラフである。
【0035】図7及び8に描いたガラス密度も、それが
ガラスのX線吸収を向上させる点で重要な物理的性質で
ある。質量X線吸収係数は、電子工業協会(EIA)出
版No.TEP-194の第20頁表5に記載された方法(EI
A管工業諮問委員会により作られた)により0.6 Åで計
算された。
【0036】図7は、アルカリ土類の濃度(即ち、Sr
O+BaO+CaO+MgO)が増大すると、ガラスの
密度は増大することを示すグラフである。
【0037】図8は、Na2OとK2 Oの比率が減少する
と、ガラスの密度は増大することを示すグラフである。
【0038】図9に描いた歪点も別な重要な物理的性質
である。CRTの前面板を漏斗状管に融着する時、歪点
が低いことが非常に重要になる。これらの管部品の融着
は、融着接合部領域に何等応力を発生することなく達成
されるべきである。
【0039】図9は、SrOとBaOとの間の比率が減
少すると、歪点が低下することを示すグラフである。
【0040】前に示した如く、CeO2 は良好なX線吸
収剤であり、本発明のガラス組成物でその機能を果たす
と共に、X線褐色化を防ぐ第一の機能も果たす。上で述
べたように、X線褐色化はガラスの光透過性を低下さ
せ、典型的にはX線を放射する高電圧電子源にガラスを
曝すと起きる。
【0041】下の表2は、酸化物を基にした重量部で表
した多くのガラス組成物を記録したものであり、本発明
のパラメーターを例示している。個々の成分の合計は10
0 に極めて近いので、全ての実際的目的にとって表示し
た値は重量%を表していると考えてもよいであろう。各
ガラスのためのバッチを実際に構成する成分は、酸化物
でも或は他の化合物でも、一緒に溶融した時、適当な割
合の希望の酸化物に変化するどのような材料からなって
いてもよい。前に示した如く、本発明のガラスはAl2
3 、SO3 及びCeO2 を含めた他の少量の網目構造形
成剤を含んでいてもよい。同じく前に示したように、本
発明のガラスは、着色剤、清澄化剤、溶解耐火物、バッ
チ材料からの不純成分、又は同じ炉で前に溶融した成分
の残留物を含んでいてもよい。特にバッチは、NiO、
CoO、Se、及びFe23 の如き(それらに限定され
るものではない)着色剤、及びNa2SO4 及びCaF2
の如き(それらに限定されるものではない)清澄化剤を
含んでいてもよい。これらの材料の合計は、バッチ組成
の2重量%まで、好ましくは1重量%未満である。同様
に、ZrO2 (それに限定されるものではない)の如き
溶解耐火物、TiO 2 (それに限定されるものではな
い)の如き不純物質、及びCaO及びMgO(それらに
限定されるものではない)の如き残留物質の合計は、バ
ッチ組成の1重量%まで、好ましくは0.5 重量%未満で
ある。
【0042】表3は、上に示した試験方法を用いて試料
に対して行われた物理的性質の測定値を報告するもので
ある。
【表2】 表2 酸化物 実施例1 実施例2 実施例3 実施例4 実施例5 実施例6 SiO2 57.79 65.20 59.63 59.97 63.85 65.48 Na2O 6.43 7.04 6.64 4.78 6.60 6.80 K2 O 8.06 8.83 8.33 10.46 9.00 7.50 SrO 11.29 20.55 17.59 11.73 12.00 15.00 BaO 11.96 0.00 2.45 12.43 7.90 2.42 Al23 1.89 0.00 4.73 0.00 0.00 2.00 CeO2 0.13 0.28 0.53 0.53 0.50 0.50表2(続き) 酸化物 実施例7 実施例8 SiO2 64.00 64.40 Na2O 7.00 6.16 K2 O 7.50 8.52 SrO 13.00 11.36 BaO 7.75 7.10 Al23 0.00 1.86 CeO2 0.50 0.50
【0043】
【表3】 表3 性質 実施例1 実施例2 実施例3 実施例4 歪点(℃) 491 492 507 490 20℃での密度(g/cc) 2.824 2.756 2.714 2.871 25-300℃の膨張係数(×10-6/℃) 10.57 10.66 10.28 11.01 24時間液相温度(℃) 985 1075 1116 938 線吸収係数 (ガラス厚さ1cm当たり) 32.2 36.9 33.8 34.1 表3(続き) 性質 実施例5 実施例6 実施例7 実施例8 歪点(℃) 463 491 469 479 20℃での密度(g/cc) 2.739 2.661 2.756 2.695 25-300℃の膨張係数(×10-6/℃) 10.08 9.52 10.95 9.97 24時間液相温度(℃) 890 999 877 873 線吸収係数 (ガラス厚さ1cm当たり) 29.7 29.5 31.1 27.9
【0044】表2のガラス組成物は次のようにして調製
された: (a) バッチ成分を実験室用秤で秤量し、次にV字型混合
機で約10分間混合した。
【0045】(b) 混合したバッチ成分0.68kg(約1.5 ポ
ンド)を、直径10.2cm×高さ10.2cm(直径4in、高さ4
in)の白金/ロジウムの坩堝中で1399℃(2550°F)で
2時間溶融した。
【0046】(c) 次にガラスを、流水で冷却した容器中
に注意深く注ぐことによりフリットにした。それによっ
てガラスは砕け、然る後、水を捨て、ガラスを坩堝へ戻
した。
【0047】(d) フリットにしたガラスを1482℃(2700
°F)で4時間溶融した。
【0048】(e) ガラスを鋳鋼テーブル上に注ぎ、名目
上0.64cm(0.25in)の厚さまでロール掛けした。
【0049】(f) ガラスを炉中で649 ℃(1200°F)の
温度から徐冷した。ガラスは約16時間に亙ってゆっくり
冷却された。次にガラスを試料片に切断した。
【0050】次にガラス試料片を、上で言及した試験方
法を用いて試験に掛けた。
【0051】網目構造形成剤及びアルカリ分の全量は、
夫々ガラス試料の線膨張係数に反対の仕方で影響を与え
ることが観察された。特に、網目構造形成剤の全量が増
大すると膨張係数が低下した。逆にアルカリ分の全量を
増大すると、膨張係数が増大した。結局本発明で限定す
るものではないが、本発明の好ましい態様として、Si
2 とAl23 の形の網目構造形成剤は、一緒になって
ガラスバッチの約57〜68重量%を構成し、SiO2 は約
57〜66重量%を構成し、Al23 は約0〜5重量%を構
成する。更に、K2 OとNa2Oの形のアルカリ分は一緒
になって約10〜28重量%を構成し、K2 Oは約7〜11重
量%を構成し、Na2Oは約4〜8重量%を構成する。本
発明の一層好ましい態様として、SiO2 とAl2
3 は、一緒になって約61〜67重量%を構成し、SiO2
は約61〜66重量%を構成し、Al23は約0〜3重量%
を構成し、K2 OとNa2Oは、一緒になってガラスバッ
チの14〜17重量%を構成し、K2 Oは約7.5 〜9.5 重量
%を構成し、Na2Oは約6.5 〜7.5 重量%を構成する。
【0052】更に、BaOとSrOの量が増大すると、
ガラスバッチの液相温度は上昇し、ガラス中に欠陥を形
成する結果になり、そのためガラスが冷却された時、ガ
ラスの割れを起こすことが観察された。その結果、本発
明で限定するものではないが、BaOとSrOは一緒に
なってガラスバッチの16〜24重量%を構成し、BaOが
約0〜13重量%を構成し、SrOは約11〜21重量%を構
成するのが好ましい。更に、BaOとSrOは一緒にな
ってガラスバッチの約17〜22重量%を構成し、BaOが
約3〜8重量%を構成し、SrOは約11.5〜15重量%を
構成するのが一層好ましい。
【0053】上記表2及び3及び本発明についての前の
説明から判断して、特許請求した発明の範囲に入るガラ
ス組成物は、希望の溶融及び成形挙動及び物理的性質を
含めた希望の性質を示すことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【図1】網目構造形成剤対全アルカリ分と、そのガラス
膨張係数に対する影響との関係を示すグラフである。
【図2】ガラス膨張係数に対する網目構造形成剤の関係
を示すグラフである。
【図3】酸化ストロンチウム対酸化バリウムと、そのガ
ラス液相温度に対する影響との関係を示すグラフであ
る。
【図4】酸化ストロンチウム対酸化ナトリウムと、その
ガラス液相温度に対する影響との関係を示すグラフであ
る。
【図5】二酸化珪素対酸化ストロンチウムと、そのガラ
ス液相温度に対する影響との関係を示すグラフである。
【図6】二酸化珪素対酸化バリウムと、そのガラス液相
温度に対する影響との関係を示すグラフである。
【図7】アルカリ土類の合計(即ち、SrO+BaO+
CaO+MgO)の変化と、それらのガラス密度に対す
る影響を示すグラフである。
【図8】酸化ナトリウム対酸化カリウムと、そのガラス
密度に対する影響との関係を示すグラフである。
【図9】酸化ストロンチウム対酸化バリウムと、そのガ
ラス歪点に対する影響との関係を示すグラフである。

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 0.6 Åで測定して、ガラス厚さ1cm当た
    り24の最低線吸収係数を有し、電子褐色化及び(又は)
    X線褐色化に対する優れた抵抗性を有し、重量%で次の
    成分:約57.0〜66.0%を占めるSiO2 ;約0〜5.0 %
    を占めるAl23 ;約7.0 〜11.0%を占めるK2 O;約
    4.0 〜8.0 %を占めるNa2O;約0〜13.0%を占めるB
    aO;約11.0〜21.0%を占めるSrO;及び約0.1 〜1.
    0 %を占めるCeO2 ;を含有する、異常なX線吸収性
    を示すガラス。
  2. 【請求項2】 SiO2 が約61.0〜66.0%を占め、Al2
    3 が約0〜3.0 %を占め、K2 Oが約7.5 〜9.5 %を
    占め、Na2Oが約6.5 〜7.5 %を占め、BaOが約3.0
    〜8.0 %を占め、SrOが約11.5〜15.0%を占め、Ce
    2 が約0.2〜0.6 %を占める請求項1に記載の異常な
    X線吸収性を示すガラス。
  3. 【請求項3】 SiO2 とAl23 が約57.0〜68.0%を
    占め、K2 OとNa2Oが約10.0〜18.0%を占め、BaO
    とSrOが約16.0〜24.0%を占め、そしてCeO2 が約
    0.1 〜1.0 %を占める請求項1に記載の異常なX線吸収
    性を示すガラス。
  4. 【請求項4】 SiO2 とAl23 が約61.0〜67.0%を
    占める請求項3に記載の異常なX線吸収性を示すガラ
    ス。
  5. 【請求項5】 K2 OとNa2Oが約14.0〜17.0%を占め
    る請求項3に記載の異常なX線吸収性を示すガラス。
  6. 【請求項6】 BaOとSrOが約17.0〜22.0%を占め
    る請求項3に記載の異常なX線吸収性を示すガラス。
  7. 【請求項7】 CeO2 が約0.2 〜0.6 %を占める請求
    項3に記載の異常なX線吸収性を示すガラス。
  8. 【請求項8】 SiO2 とAl23 が約61.0〜67.0%を
    占め、SiO2 が約61.0〜66.0%を占め、Al23 が約
    0〜3.0 %を占める請求項3に記載の異常なX線吸収性
    を示すガラス。
  9. 【請求項9】 K2 OとNa2Oが約14.0〜17.0%を占
    め、K2 Oが約7.5 〜9.5 %を占め、Na2Oが約6.5 〜
    7.5 %を占める請求項3に記載の異常なX線吸収性を示
    すガラス。
  10. 【請求項10】 BaOとSrOが約17.0〜22.0%を占
    め、BaOが約3.0〜8.0 %を占め、SrOが約11.5〜1
    5.0%を占める請求項3に記載の異常なX線吸収性を示
    すガラス。
  11. 【請求項11】 SiO2 とAl23 が約61.0〜67.0%
    を占め、SiO2 が約61.0〜66.0%を占め、Al23
    約0〜3.0 %を占め、K2 OとNa2Oが約14.0〜17.0%
    を占め、K2 Oが約7.5 〜9.5 %を占め、Na2Oが約6.
    5 〜7.5 %を占め、BaOとSrOが約17.0〜22.0%を
    占め、BaOが約3.0 〜8.0 %を占め、SrOが約11.5
    〜15.0%を占め、CeO2 が約0.2 〜0.6 %を占める請
    求項3に記載の異常なX線吸収性を示すガラス。
  12. 【請求項12】 前記ガラスが更に溶解耐火物、バッチ
    材料からの不純成分、及び前に溶融したガラスバッチの
    残留物を、全ガラス重量の1重量%を越えない量で含ん
    でいる請求項1に記載の異常なX線吸収性を示すガラ
    ス。
  13. 【請求項13】 前記ガラスが更に清澄化剤及び着色剤
    を、全ガラス重量の2重量%を越えない量で含んでいる
    請求項1に記載の異常なX線吸収性を示すガラス。
  14. 【請求項14】 前記ガラスが溶融錫フロート法により
    形成される請求項1に記載の異常なX線吸収性を示すガ
    ラス。
  15. 【請求項15】 漏斗状ガラス部分と、それと気密に融
    着されたガラス前面板と、陰極線管内に配置され高電圧
    X線を発する電子銃とを有する陰極線管において、少な
    くとも該前面板が、0.6 Åで測定してガラス厚さ1cm当
    たり24の最低線吸収係数を有し、電子褐色化及び(又
    は)X線褐色化に対する優れた抵抗性を有し、重量%で
    次の成分:約57.0〜66.0%を占めるSiO2 ;約0〜5.
    0 %を占めるAl23 ;約7.0 〜11.0%を占めるK
    2 O;約4.0 〜8.0 %を占めるNa2O;約0〜13.0%を
    占めるBaO;約11.0〜21.0%を占めるSrO;及び約
    0.1 〜1.0 %を占めるCeO2 ;を含有する、異常なX
    線吸収性を示すガラスから形成されている陰極線管。
  16. 【請求項16】 SiO2 が約61.0〜66.0%を占め、A
    l23 が約0〜3.0%を占め、K2 Oが約7.5 〜9.5 %
    を占め、Na2Oが約6.5 〜7.5 %を占め、BaOが約3.
    0 〜8.0 %を占め、SrOが約11.5〜15.0%を占め、C
    eO2 が約0.2 〜0.6 %を占める請求項15に記載の陰極
    線管。
  17. 【請求項17】 SiO2 とAl23 が約57.0〜68.0%
    を占め、Na2OとK 2 Oが約10.0〜18.0%を占め、Ba
    OとSrOが約16.0〜24.0%を占る請求項15に記載の陰
    極線管。
  18. 【請求項18】 SiO2 とAl23 が約61.0〜67.0%
    を占め、Na2OとK 2 Oが約14.0〜17.0%を占め、Ba
    OとSrOが約17.0〜22.0%を占め、CeO 2 が約0.2
    〜0.6 %を占める請求項17に記載の異常なX線吸収性を
    示すガラス。
  19. 【請求項19】 SiO2 とAl23 が約61.0〜67.0%
    を占め、SiO2 が約61.0〜66.0%を占め、Al23
    約0〜3.0 %を占め、K2 OとNa2Oが約14.0〜17.0%
    を占め、K2 Oが約7.5 〜9.5 %を占め、Na2Oが約6.
    5 〜7.5 %を占め、BaOとSrOが約17.0〜22.0%を
    占め、BaOが約3.0 〜8.0 %を占め、SrOが約11.5
    〜15.0%を占め、CeO2 が約0.2 〜0.6 %を占める請
    求項17に記載の陰極線管。
JP4199866A 1991-07-29 1992-07-27 X線吸収性ガラス Pending JPH05193982A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US737110 1991-07-29
US07/737,110 US5215944A (en) 1991-07-29 1991-07-29 X-ray absorbing glass compositions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05193982A true JPH05193982A (ja) 1993-08-03

Family

ID=24962618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4199866A Pending JPH05193982A (ja) 1991-07-29 1992-07-27 X線吸収性ガラス

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5215944A (ja)
EP (1) EP0525555A1 (ja)
JP (1) JPH05193982A (ja)
KR (1) KR940011124B1 (ja)
CA (1) CA2074053C (ja)
MX (1) MX9204409A (ja)
SG (1) SG42997A1 (ja)
TW (1) TW202421B (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3368953B2 (ja) * 1993-11-12 2003-01-20 旭硝子株式会社 紫外線吸収着色ガラス
DE4341381C2 (de) * 1993-12-04 1997-12-18 Bernd Dr Hamann Verwendung von recyceltem Bildröhrenglas
AU696443B2 (en) * 1994-10-26 1998-09-10 Asahi Glass Company Limited Glass having low solar radiation and ultraviolet ray transmittance
US5468692A (en) 1994-12-19 1995-11-21 Corning Incorporated Non-browning cathode ray tube glasses
FR2758550B1 (fr) * 1997-01-17 1999-02-12 Saint Gobain Vitrage Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications
KR100515065B1 (ko) * 1998-07-02 2005-12-14 삼성코닝 주식회사 음극선관용 패널유리
FR2866328B1 (fr) * 2004-02-16 2006-05-26 Saint Gobain Verre plat au plomb par flottage sur un bain de metal
DE102011084501B3 (de) * 2011-10-14 2013-03-21 Schott Ag Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58120537A (ja) * 1982-01-14 1983-07-18 Asahi Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS62288134A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS63215533A (ja) * 1987-02-27 1988-09-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPH0312337A (ja) * 1989-06-09 1991-01-21 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE463281A (ja) * 1942-11-05
GB589202A (en) * 1945-03-19 1947-06-13 British Thomson Houston Co Ltd Improved glass composition
BE487887A (ja) * 1948-03-15
BE515501A (ja) * 1951-11-14
GB734444A (en) * 1953-03-18 1955-08-03 Gen Electric Co Ltd Improvements in or relating to glass compositions
LU36044A1 (ja) * 1957-05-03
US2901366A (en) * 1957-12-12 1959-08-25 Pittsburgh Plate Glass Co Glass composition
GB946030A (en) * 1961-07-20 1964-01-08 Gen Electric Co Ltd Improvements in or relating to glass compositions and glass-to-metal seals
NL297603A (ja) * 1962-09-10
NL6504105A (ja) * 1965-04-01 1966-10-03
US3457183A (en) * 1966-04-28 1969-07-22 Owens Illinois Inc Laser glasses having a relatively low thermal expansion
NL6609666A (ja) * 1966-07-09 1968-01-10
US3382393A (en) * 1966-09-08 1968-05-07 Nat Video Corp Color television tube with faceplate panel of high transmittance in the red color
NL296596A (ja) * 1966-11-22
US3464932A (en) * 1968-09-06 1969-09-02 Corning Glass Works X-ray absorbing glass compositions
US4065697A (en) * 1969-02-17 1977-12-27 Owens-Illinois, Inc. Cathode-ray tube
NL6907310A (ja) * 1969-05-13 1970-11-17
US3640890A (en) * 1969-06-06 1972-02-08 Owens Illinois Inc Lithia silica glass laser containing various other alkali oxides
US3610994A (en) * 1970-08-31 1971-10-05 Sheldon Edward E Cathode-ray tubes of television type for x-rays protection
US3805107A (en) * 1972-02-17 1974-04-16 Corning Glass Works Faceplate for television picture tube
US3819972A (en) * 1972-02-28 1974-06-25 Owens Illinois Inc Novel glass compositions and cathode-ray tubes made therefrom
US3843346A (en) * 1973-03-06 1974-10-22 Ppg Industries Inc Manufacture of sheet glass by continuous float process
US4015966A (en) * 1976-06-01 1977-04-05 Owens-Illinois, Inc. Manufacture of X-ray absorbing glass composition by a float glass process
US4179638A (en) * 1978-06-29 1979-12-18 Corning Glass Works Cathode ray tube panel
NL7906579A (nl) * 1979-09-03 1981-03-05 Philips Nv Glas, kathodestraalbuis voorzien van een scherm vervaardigd uit een dergelijk glas.
US4277286A (en) * 1980-02-19 1981-07-07 Corning Glass Works Lead-free glasses of high x-ray absorption for cathode ray tubes
US4366252A (en) * 1980-03-13 1982-12-28 Owens-Illinois, Inc. Fluorine-free, zirconia-free, X-ray absorbing silica based glass, containing oxides of lead, barium and strontium plus oxides of calcium, magnesium, sodium, potassium, cerium, titanium, arsenic and antimony
US4331770A (en) * 1980-04-21 1982-05-25 Corning Glass Works Low liquidus glasses for television tube faceplates
JPS575251A (en) * 1980-06-12 1982-01-12 Nippon Electric Glass Co Ltd Cathode ray tube glass
US4390637A (en) * 1980-09-10 1983-06-28 Nippon Electric Glass Company, Limited X-Ray absorbing glass for a color cathode ray tube having a controlled chromaticity value and a selective light absorption
DE3228826C2 (de) * 1982-08-02 1986-09-25 Schott Glaswerke, 6500 Mainz Hochabsorbierendes Pb-haltige Gläser für Kathodenstrahlröhrenbildschirme
US4547696A (en) * 1984-01-18 1985-10-15 Zenith Electronics Corporation Tension mask registration and supporting system
FR2560870B1 (fr) * 1984-03-09 1991-06-21 Corning Glass Works Verres a faible teneur en oxyde de plomb utiles pour la realisation de composants electriques
US4712041A (en) * 1985-08-20 1987-12-08 Zenith Electronics Corporation Color CRT tension mask support assembly with a glass frame
US4737681A (en) * 1986-05-21 1988-04-12 Zenith Electronics Corporation Support means for a tensioned foil shadow mask
GB8615899D0 (en) * 1986-06-30 1986-08-06 Pilkington Brothers Plc Television face plates
US4716334A (en) * 1986-10-31 1987-12-29 Zenith Electronics Corporation Faceplate assembly for securing a tension mask support structure to a faceplate
US4752265A (en) * 1986-10-31 1988-06-21 Zenith Electronics Corporation Process for securing a tension mask support structure to a faceplate
US4734388A (en) * 1986-11-04 1988-03-29 Corning Glass Works Glass for cathode ray tube faceplates
US4739215A (en) * 1986-12-30 1988-04-19 Zenith Electronics Corporation Electrical conduction means for use in tension mask color cathode ray tubes
US4745330A (en) * 1987-01-23 1988-05-17 Zenith Electronics Corporation Faceplate front assembly with improved ceramic tension mask support structure
US4897371A (en) * 1987-02-03 1990-01-30 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass article protected from coloring by electron rays and method of using
US4778427A (en) * 1987-06-09 1988-10-18 Zenith Electronics Corporation Negative interference fixturing means and process for use in the manufacture of a tension mask color cathode ray tube
US4830990A (en) * 1988-08-31 1989-05-16 Corning Glass Works Glass for projection cathode ray tube faceplate
US5108960A (en) * 1991-02-13 1992-04-28 Corning Incorporated Glasses for cathode ray tube faceplates

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58120537A (ja) * 1982-01-14 1983-07-18 Asahi Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS62288134A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS63215533A (ja) * 1987-02-27 1988-09-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPH0312337A (ja) * 1989-06-09 1991-01-21 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス

Also Published As

Publication number Publication date
EP0525555A1 (en) 1993-02-03
TW202421B (ja) 1993-03-21
KR930002258A (ko) 1993-02-22
SG42997A1 (en) 1997-10-17
US5215944A (en) 1993-06-01
KR940011124B1 (ko) 1994-11-23
CA2074053A1 (en) 1993-01-30
CA2074053C (en) 1996-10-08
MX9204409A (es) 1993-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4520115A (en) High absorbance Pb-containing glass for cathode ray tube picture screen
US4337410A (en) Cathode-ray tube face-plate
JPH0640740A (ja) 陰極線管前面板用ガラス
EP0719740A1 (en) Colorless ophthalmic glasses
JPH05193982A (ja) X線吸収性ガラス
JPH07108787B2 (ja) 陰極線管フェースプレート用ガラス
US4366252A (en) Fluorine-free, zirconia-free, X-ray absorbing silica based glass, containing oxides of lead, barium and strontium plus oxides of calcium, magnesium, sodium, potassium, cerium, titanium, arsenic and antimony
US6251811B1 (en) Funnel glass for a cathode ray tube
JP2525737B2 (ja) 陰極線管パネルガラス
JP3007653B2 (ja) 陰極線管パネルガラス
EP0131399B1 (en) Glass for cathode ray tube faceplate
JPH07101748A (ja) ガラス製パネル用基板
US6956000B2 (en) Panel glass for cathode ray tube
JPH07237933A (ja) パッケージ用ガラス及びその製造方法
JPS6311295B2 (ja)
US4608351A (en) Low PbO-containing glass for electrical devices
JP2001302277A (ja) 陰極線管パネルガラス
US6822383B2 (en) CRT panel glass containing SrO and BaO
JP3777635B2 (ja) 陰極線管用ガラス組成物
KR100243063B1 (ko) X선 고흡수 영상표시판넬 유리조성물
JPH07206471A (ja) ブラウン管用ネック管ガラス
KR830002473B1 (ko) 음극 선관
JP2002211948A (ja) 陰極線管用ファンネルガラス
KR100561554B1 (ko) 음극선관용 패널유리 조성물
JP2001302276A (ja) 陰極線管用ガラス組成物及びネック管ガラス組成物