JPH05179243A - ポリカルボン酸腐蝕抑制剤の流動性水性分散系 - Google Patents
ポリカルボン酸腐蝕抑制剤の流動性水性分散系Info
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- JPH05179243A JPH05179243A JP4131896A JP13189692A JPH05179243A JP H05179243 A JPH05179243 A JP H05179243A JP 4131896 A JP4131896 A JP 4131896A JP 13189692 A JP13189692 A JP 13189692A JP H05179243 A JPH05179243 A JP H05179243A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 長期貯蔵後でも不均質化したり固化しないポ
リカルボン酸腐蝕抑制剤の流動性水性分散系を提供す
る。 【構成】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤２５〜５７重量
％、水４０〜７２重量％、分散剤０．１〜２重量％及び
増粘剤０．０１〜０．５重量％を含む流動性水性分散
系。式Ｉ，II又はIII で表されるポリカルボン酸腐蝕抑
制剤が好ましい。 〔式中、Ｚはアルキレン、シクロヘキシレン又はフェニ
レン基、ｍは０又は１、ｎは２〜１０、ＸはＯ，Ｓ又は
ＮＨ、Ｒ1 〜Ｒ11はＨ、アルキル、ヒドロキシアルキ
ル、フェニル、−Ｚ−ＣＯＯＨ等、又Ｒ8 とＲ9 は一緒
になって直接結合を表してよいが、Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及
びＲ11の少なくとも二つはカルボキシル基又はカルボキ
シルアルキル基を表す〕
リカルボン酸腐蝕抑制剤の流動性水性分散系を提供す
る。 【構成】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤２５〜５７重量
％、水４０〜７２重量％、分散剤０．１〜２重量％及び
増粘剤０．０１〜０．５重量％を含む流動性水性分散
系。式Ｉ，II又はIII で表されるポリカルボン酸腐蝕抑
制剤が好ましい。 〔式中、Ｚはアルキレン、シクロヘキシレン又はフェニ
レン基、ｍは０又は１、ｎは２〜１０、ＸはＯ，Ｓ又は
ＮＨ、Ｒ1 〜Ｒ11はＨ、アルキル、ヒドロキシアルキ
ル、フェニル、−Ｚ−ＣＯＯＨ等、又Ｒ8 とＲ9 は一緒
になって直接結合を表してよいが、Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及
びＲ11の少なくとも二つはカルボキシル基又はカルボキ
シルアルキル基を表す〕
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリカルボン酸腐蝕抑制
剤の流動性高濃縮水性分散系(aqueous dispersion)に及
びそれを製造するための特別の方法に関する。
剤の流動性高濃縮水性分散系(aqueous dispersion)に及
びそれを製造するための特別の方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特定のポリカルボン酸、なかんずくＵＳ
−Ａ−４０２９０７又はＥＰ−Ａ−１２９５０６に開示
されている複素環式ポリカルボン酸は、金属接触水性系
(aqueous systems in contact with metals)のための非
常に好適な腐蝕抑制剤であることが知られている。金属
接触水性系には、冷却水系(cooling water systems) 、
蒸気発生プラント(steam generating plants) 、水性機
械加工液(aqueous machining fluids)又は水性圧媒液(a
queous hydraulic fluids)が含まれる。殆どのポリカル
ボン酸は限られた水溶性しか有しないので、ポリカルボ
ン酸はその水溶性塩の形態で使用される；即ちそれらは
使用に先立ち中和されるか又はそれらは塩基性水性系に
加えられる。しかしながら、貯蔵及び市販の形態は通常
遊離ポリカルボン酸である。
−Ａ−４０２９０７又はＥＰ−Ａ−１２９５０６に開示
されている複素環式ポリカルボン酸は、金属接触水性系
(aqueous systems in contact with metals)のための非
常に好適な腐蝕抑制剤であることが知られている。金属
接触水性系には、冷却水系(cooling water systems) 、
蒸気発生プラント(steam generating plants) 、水性機
械加工液(aqueous machining fluids)又は水性圧媒液(a
queous hydraulic fluids)が含まれる。殆どのポリカル
ボン酸は限られた水溶性しか有しないので、ポリカルボ
ン酸はその水溶性塩の形態で使用される；即ちそれらは
使用に先立ち中和されるか又はそれらは塩基性水性系に
加えられる。しかしながら、貯蔵及び市販の形態は通常
遊離ポリカルボン酸である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】遊離カルボン酸は通常
固体である。それらの合成においてそれらは通常水性相
から濾過により単離される。濾過生成物は慣習的に水で
洗浄され、次いで乾燥される。乾燥に必要なエネルギー
を節約するために、水性系で使用するための市販品形態
として最近では湿った濾過ケーク(the moist filter ca
ke) が提供される傾向にある。
固体である。それらの合成においてそれらは通常水性相
から濾過により単離される。濾過生成物は慣習的に水で
洗浄され、次いで乾燥される。乾燥に必要なエネルギー
を節約するために、水性系で使用するための市販品形態
として最近では湿った濾過ケーク(the moist filter ca
ke) が提供される傾向にある。
【０００４】しかしながら、湿った濾過ケークの欠点は
流動性でないことである。それは傾斜(tipping) 又は注
ぎ(pouring) によって加えることはできず、手操作で(m
anually)例えばシャベルですくうことによって加えられ
る。
流動性でないことである。それは傾斜(tipping) 又は注
ぎ(pouring) によって加えることはできず、手操作で(m
anually)例えばシャベルですくうことによって加えられ
る。
【０００５】そうした固体のポリカルボン酸腐蝕抑制剤
の高濃縮分散系は、特別の方法により湿った濾過ケーク
から製造できることが今になって発見された。これらの
分散系は流動性であり、それゆえ通常液体に使用される
容器で輸送され得、また通常の計量装置で加えられ得
る。そうして得られた分散系は数カ月間以上にわたって
これらの物性を保つ；すなわちそれらは不均質化したり
固化する傾向がない。
の高濃縮分散系は、特別の方法により湿った濾過ケーク
から製造できることが今になって発見された。これらの
分散系は流動性であり、それゆえ通常液体に使用される
容器で輸送され得、また通常の計量装置で加えられ得
る。そうして得られた分散系は数カ月間以上にわたって
これらの物性を保つ；すなわちそれらは不均質化したり
固化する傾向がない。
【０００６】特に本発明は、腐蝕抑制剤２５〜５７重量
％、水４０〜７２重量％、分散剤０．１〜２重量％及び
増粘剤０．０１〜０．５重量％からなる固体ポリカルボ
ン酸腐蝕抑制剤の流動性水性分散系に関する。
％、水４０〜７２重量％、分散剤０．１〜２重量％及び
増粘剤０．０１〜０．５重量％からなる固体ポリカルボ
ン酸腐蝕抑制剤の流動性水性分散系に関する。
【０００７】好ましい分散系は、式Ｉ，II又はIII で表
される化合物４０〜５３重量％、水４５〜５８重量％、
分散剤０．１〜２重量％及び増粘剤０．０１〜０．５重
量％からなる。
される化合物４０〜５３重量％、水４５〜５８重量％、
分散剤０．１〜２重量％及び増粘剤０．０１〜０．５重
量％からなる。
【０００８】ポリカルボン酸腐蝕抑制剤は好ましくは次
式Ｉ，II又はIII
式Ｉ，II又はIII
【化２】 〔式中、Ｚは炭素原子数１ないし１１のアルキレン基、
シクロヘキシレン基又はフェニレン基を表し、Ｒ1 及び
Ｒ2 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし４
のアルキル基又は基−Ｚ−ＣＯＯＨを表し、Ｒ3 は炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基又は基−
Ｎ（Ｒ4 ）（Ｒ5 ），−ＯＲ6 又は−ＳＲ6 を表し、Ｒ
4 及びＲ5 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４のヒドロ
キシアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は基
−Ｚ−ＣＯＯＨを表すか、又はＲ4 及びＲ5 は一緒にな
った場合に炭素原子数４ないし６のアルキレン基又は３
−オキサペンチレン基を表し、Ｒ6 は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基又はフェニル基を表し、
ｍは０又は１を表し、Ｘは硫黄原子、酸素原子又はＮＨ
を表し、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
キル基、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし４のアルコ
キシ基、カルボキシ基、アミノ基又はニトロ基を表し、
Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及びＲ11は互いに独立して水素原子、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１な
いし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６
のカルボキシアルキル基、炭素原子数２ないし１０のア
ルコキシアルキル基、カルボキシル基、フェニル基又は
ベンジル基を表し、またＲ8 とＲ9 は一緒になった場合
に直接結合を表すが、基Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及びＲ11の少
なくとも二つはカルボキシル基又はカルボキシルアルキ
ル基を表し、そしてｎは２ないし１０を表す。〕で表さ
れるジカルボン酸もしくはトリカルボン酸、又はそのア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩であ
る。
シクロヘキシレン基又はフェニレン基を表し、Ｒ1 及び
Ｒ2 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし４
のアルキル基又は基−Ｚ−ＣＯＯＨを表し、Ｒ3 は炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基又は基−
Ｎ（Ｒ4 ）（Ｒ5 ），−ＯＲ6 又は−ＳＲ6 を表し、Ｒ
4 及びＲ5 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４のヒドロ
キシアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は基
−Ｚ−ＣＯＯＨを表すか、又はＲ4 及びＲ5 は一緒にな
った場合に炭素原子数４ないし６のアルキレン基又は３
−オキサペンチレン基を表し、Ｒ6 は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基又はフェニル基を表し、
ｍは０又は１を表し、Ｘは硫黄原子、酸素原子又はＮＨ
を表し、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
キル基、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし４のアルコ
キシ基、カルボキシ基、アミノ基又はニトロ基を表し、
Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及びＲ11は互いに独立して水素原子、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１な
いし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６
のカルボキシアルキル基、炭素原子数２ないし１０のア
ルコキシアルキル基、カルボキシル基、フェニル基又は
ベンジル基を表し、またＲ8 とＲ9 は一緒になった場合
に直接結合を表すが、基Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及びＲ11の少
なくとも二つはカルボキシル基又はカルボキシルアルキ
ル基を表し、そしてｎは２ないし１０を表す。〕で表さ
れるジカルボン酸もしくはトリカルボン酸、又はそのア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩であ
る。
【０００９】分散系がポリカルボン酸の塩を含む場合、
該塩は部分的な又は完全な塩であってよい。特に好適な
アルカリ塩はナトリウム塩である。アミン塩は第一、第
二又は第三アミンであってよく、例えばブチルアミン、
オクチルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、
テトラデシルアミン、オクタデシルアミン、ジエチルア
ミン、ジブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチル
アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリヘ
キシルアミン、シクロヘキシルアミン、ピペリジン、モ
ルホリン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ジ
−又はトリエタノールアミンの塩である。
該塩は部分的な又は完全な塩であってよい。特に好適な
アルカリ塩はナトリウム塩である。アミン塩は第一、第
二又は第三アミンであってよく、例えばブチルアミン、
オクチルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、
テトラデシルアミン、オクタデシルアミン、ジエチルア
ミン、ジブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチル
アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリヘ
キシルアミン、シクロヘキシルアミン、ピペリジン、モ
ルホリン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ジ
−又はトリエタノールアミンの塩である。
【００１０】ことさらには、腐蝕抑制剤は、Ｚが炭素原
子数１ないし８のアルキレン基を表し、Ｒ1 及びＲ2 が
水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ3 が基−Ｎ（Ｒ4 ）（Ｒ5 ）を表し、Ｒ4 が水素
原子、シクロヘキシル基又は炭素原子数１ないし１２の
アルキル基を表し、Ｒ5 が炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、フェニル基又は基−Ｚ−ＣＯＯＨを表すか、
又はＲ4 とＲ5 が一緒になって１，５−ペンチレン基又
は３−オキサ−１，５−ペンチレン基を表し、ｍが０又
は１を表し、Ｘが硫黄原子を表し、Ｒ7 が水素原子、メ
チル基又は塩素原子を表し、Ｒ8 及びＲ10が水素原子を
表し、Ｒ9 及びＲ11がカルボキシル基又は原子数２ない
し４のカルボキシアルキル基を表し、そしてｎが４ない
し８を表す式Ｉ，II又はIII で表される化合物又はその
アルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩であ
る。
子数１ないし８のアルキレン基を表し、Ｒ1 及びＲ2 が
水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
し、Ｒ3 が基−Ｎ（Ｒ4 ）（Ｒ5 ）を表し、Ｒ4 が水素
原子、シクロヘキシル基又は炭素原子数１ないし１２の
アルキル基を表し、Ｒ5 が炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、フェニル基又は基−Ｚ−ＣＯＯＨを表すか、
又はＲ4 とＲ5 が一緒になって１，５−ペンチレン基又
は３−オキサ−１，５−ペンチレン基を表し、ｍが０又
は１を表し、Ｘが硫黄原子を表し、Ｒ7 が水素原子、メ
チル基又は塩素原子を表し、Ｒ8 及びＲ10が水素原子を
表し、Ｒ9 及びＲ11がカルボキシル基又は原子数２ない
し４のカルボキシアルキル基を表し、そしてｎが４ない
し８を表す式Ｉ，II又はIII で表される化合物又はその
アルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩であ
る。
【００１１】特に、式中、Ｚがペンタメチレン基を表
し、Ｒ1 及びＲ2 が水素原子を表し、Ｒ3 が基−ＮＨ−
（ＣＨ2 ）5 −ＣＯＯＨを表し、Ｘが硫黄原子を表し、
Ｒ7 が水素原子を表し、ｍが０又は１を表し、Ｒ8 及び
Ｒ10が水素原子を表し、Ｒ9 がカルボキシル基を表し、
Ｒ11がカルボキシメチル基を表し、そしてｎが８を表す
式Ｉ，II又はIII で表される腐蝕抑制剤又はそのアルカ
リ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩を使用する
のが好都合である。
し、Ｒ1 及びＲ2 が水素原子を表し、Ｒ3 が基−ＮＨ−
（ＣＨ2 ）5 −ＣＯＯＨを表し、Ｘが硫黄原子を表し、
Ｒ7 が水素原子を表し、ｍが０又は１を表し、Ｒ8 及び
Ｒ10が水素原子を表し、Ｒ9 がカルボキシル基を表し、
Ｒ11がカルボキシメチル基を表し、そしてｎが８を表す
式Ｉ，II又はIII で表される腐蝕抑制剤又はそのアルカ
リ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩を使用する
のが好都合である。
【００１２】式Ｉで表される化合物はＵＳ−Ａ−４４０
２９０７に水性系用の腐蝕抑制剤として開示されてい
る。この特許はまた、これらの化合物の製法が記載され
ている文献を引用している。
２９０７に水性系用の腐蝕抑制剤として開示されてい
る。この特許はまた、これらの化合物の製法が記載され
ている文献を引用している。
【００１３】式Ｉで表される化合物の代表例は次の通り
である：２，４，６−トリス（５’−カルボキシペンチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６，−
トリス（カルボキシメチルアミノ）−１，３，５−トリ
アジン、２，４，６，−トリス（３’−カルボキシプロ
ピルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６，
−トリス（２’−カルボキシエチルアミノ）−１，３，
５−トリアジン、２，４，６，−トリス（４’−カルボ
キシブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，
４，６，−トリス（１１’−カルボキシウンデシルアミ
ノ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６，−トリス
（５’−カルボキシペンチル−Ｎ−メチルアミノ）−
１，３，５−トリアジン、２，４，６，−トリス（カル
ボキシメチル−Ｎ−メチルアミノ）−１，３，５−トリ
アジン、２，４，６，−トリス（３’−カルボキシプロ
ピル−Ｎ−メチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６
−エチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−ｎ−オク
チルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−シクロヘキ
シルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−ジエチルア
ミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（５’−
カルボキシペンチルアミノ）−６−（２''−ヒドロキシ
エチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（２’−カルボキシエチルアミノ）−６−ｎ−オクチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（２’−カルボキシエチルアミノ）−６−ジエチルアミ
ノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２’−カ
ルボキシエチルアミノ）−６−ブチルアミノ−１，３，
５−トリアジン、２，４−ビス（２’−カルボキシエチ
ルアミノ）−６−エチルアミノ−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）
−６−アニリノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（３’−カルボキシプロピルアミノ）−６−エチルア
ミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−
カルボキシプロピルアミノ）−６−ｎ−オクチルアミノ
−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−カル
ボキシプロピルアミノ）−６−ｎ−プロピルアミノ−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（カルボキシメ
チル）−６−ｎ−オクチルアミノ−１，３，５−トリア
ジン、２，４−ビス（カルボキシメチル）−６−シクロ
ヘキシルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（カルボキシメチル）−６−ドデシルアミノ−１，
３，５−トリアジン、２，４−ビス（５’−カルボキシ
ペンチル−ｎ−メチルアミノ）−６−エチルアミノ−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−カルボ
キシプロピル−Ｎ−メチルアミノ）−６−ｎ−オクチル
アミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（カル
ボキシメチル−Ｎ−メチルアミノ）−６−ｎ−オクチル
アミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２’
−カルボキシエチル−Ｎ−メチルアミノ）−６−ｎ−オ
クチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−（２''−カ
ルボキシエチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６
−（カルボキシメチルアミノ）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（３’−カルボキシプロピルアミノ）
−６−（２''−カルボキシエチルアミノ）−１，３，５
−トリアジン、２，４−ビス（２’−カルボキシエチル
アミノ）−６−（５''−カルボキシペンチルアミノ）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−カルボ
キシプロピルアミノ）−６−（５''−カルボキシペンチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−メトキシ−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２’−カルボ
キシエチルアミノ）−６−ブチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、２，４−ビス（２’−カルボキシエチルアミ
ノ）−６−ｎ−オクチルオキシ−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（３’−カルボキシプロピルアミノ）
−６−ｎ−ドデシルチオ−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６
−フェノキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−メチルチオ
−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（５’−カル
ボキシペンチルアミノ）−６−エトキシ−１，３，５−
トリアジン、及びこれらの酸の塩。
である：２，４，６−トリス（５’−カルボキシペンチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６，−
トリス（カルボキシメチルアミノ）−１，３，５−トリ
アジン、２，４，６，−トリス（３’−カルボキシプロ
ピルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６，
−トリス（２’−カルボキシエチルアミノ）−１，３，
５−トリアジン、２，４，６，−トリス（４’−カルボ
キシブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，
４，６，−トリス（１１’−カルボキシウンデシルアミ
ノ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６，−トリス
（５’−カルボキシペンチル−Ｎ−メチルアミノ）−
１，３，５−トリアジン、２，４，６，−トリス（カル
ボキシメチル−Ｎ−メチルアミノ）−１，３，５−トリ
アジン、２，４，６，−トリス（３’−カルボキシプロ
ピル−Ｎ−メチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６
−エチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−ｎ−オク
チルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−シクロヘキ
シルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−ジエチルア
ミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（５’−
カルボキシペンチルアミノ）−６−（２''−ヒドロキシ
エチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（２’−カルボキシエチルアミノ）−６−ｎ−オクチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（２’−カルボキシエチルアミノ）−６−ジエチルアミ
ノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２’−カ
ルボキシエチルアミノ）−６−ブチルアミノ−１，３，
５−トリアジン、２，４−ビス（２’−カルボキシエチ
ルアミノ）−６−エチルアミノ−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）
−６−アニリノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（３’−カルボキシプロピルアミノ）−６−エチルア
ミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−
カルボキシプロピルアミノ）−６−ｎ−オクチルアミノ
−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−カル
ボキシプロピルアミノ）−６−ｎ−プロピルアミノ−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（カルボキシメ
チル）−６−ｎ−オクチルアミノ−１，３，５−トリア
ジン、２，４−ビス（カルボキシメチル）−６−シクロ
ヘキシルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビ
ス（カルボキシメチル）−６−ドデシルアミノ−１，
３，５−トリアジン、２，４−ビス（５’−カルボキシ
ペンチル−ｎ−メチルアミノ）−６−エチルアミノ−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−カルボ
キシプロピル−Ｎ−メチルアミノ）−６−ｎ−オクチル
アミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（カル
ボキシメチル−Ｎ−メチルアミノ）−６−ｎ−オクチル
アミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２’
−カルボキシエチル−Ｎ−メチルアミノ）−６−ｎ−オ
クチルアミノ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−（２''−カ
ルボキシエチルアミノ）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６
−（カルボキシメチルアミノ）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（３’−カルボキシプロピルアミノ）
−６−（２''−カルボキシエチルアミノ）−１，３，５
−トリアジン、２，４−ビス（２’−カルボキシエチル
アミノ）−６−（５''−カルボキシペンチルアミノ）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（３’−カルボ
キシプロピルアミノ）−６−（５''−カルボキシペンチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−メトキシ−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２’−カルボ
キシエチルアミノ）−６−ブチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、２，４−ビス（２’−カルボキシエチルアミ
ノ）−６−ｎ−オクチルオキシ−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（３’−カルボキシプロピルアミノ）
−６−ｎ−ドデシルチオ−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６
−フェノキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（５’−カルボキシペンチルアミノ）−６−メチルチオ
−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（５’−カル
ボキシペンチルアミノ）−６−エトキシ−１，３，５−
トリアジン、及びこれらの酸の塩。
【００１４】式IIで表される化合物は水性系用の腐蝕抑
制剤としてＥＰ−Ａ−１２９５０６に開示されている。
それらの製法もこの文献に記載されている。
制剤としてＥＰ−Ａ−１２９５０６に開示されている。
それらの製法もこの文献に記載されている。
【００１５】式IIで表される個々の化合物の代表例は、
ベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、５−メチル
ベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、６−エチル
ベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、４−イソプ
ロピルベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、７−
第三ブチルベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、
６−メトキシベンゾチアゾール−２−イルチオコハク
酸、７−エトキシベンゾチアゾール−２−イルチオコハ
ク酸、４−フルオロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、５−クロロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、７−ブロモベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、６−クロロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、６−ニトロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、５−カルボキシベンゾチアゾール−２−イルチ
オコハク酸、６−アミノベンゾチアゾール−２−イルチ
オコハク酸、１−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）
プロパン−１，２−ジカルボン酸、３−（ベンゾチアゾ
ール−２−イルチオ）プロパン−１，２−ジカルボン
酸、３−（６−アミノベンゾチアゾール−２−イル）プ
ロパン−１，２−ジカルボン酸、１−（ベンゾチアゾー
ル−２−イルチオ）プロパン−１，３−ジカルボン酸、
２−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）プロパン−
１，３−ジカルボン酸、２−（ベンゾチアゾール−２−
イルチオ）ブタン−２，３−ジカルボン酸、１−（ベン
ゾチアゾール−２−イルチオ）ブタン−２，４−ジカル
ボン酸、４−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）ブタ
ン−１，２，３−トリカルボン酸、１−（ベンゾチアゾ
ール−２−イルチオ）ヘキサン−１，６−ジカルボン
酸、１−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）プロパン
−１，２，３−トリカルボン酸、１−（ベンゾチアゾー
ル−２−イルチオ）−３−ヒドロキシプロパン−１，２
−ジカルボン酸、１−（ベンゾチアゾール−２−イルチ
オ）−２−フェニルコハク酸、１−（ベンゾチアゾール
−２−イルチオ）−２−ベンジルコハク酸、ベンゾオキ
サゾール−２−イルチオコハク酸、５−メチルベンゾオ
キサゾール−２−イルチオコハク酸、４−イソプロピル
ベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク酸、６−エト
キシベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク酸、５−
クロロベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク酸、５
−カルボキシベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク
酸、６−アミノベンゾオキサゾール−２−イルチオコハ
ク酸、１−（ベンゾオキサゾール−２−イルチオ）プロ
パン−１，２−ジカルボン酸、３−（ベンゾオキサゾー
ル−２−イルチオ）プロパン−１，２−ジカルボン酸、
２−（ベンゾオキサゾール−２−イルチオ）プロパン−
１，３−ジカルボン酸、２−（ベンゾオキサゾール−２
−イルチオ）ブタン−２，３−ジカルボン酸、１−（ベ
ンゾオキサゾール−２−イルチオ）プロパン−１，２，
３−トリカルボン酸、ベンズイミダゾール−２−イルチ
オコハク酸、１−（ベンズイミダゾール−２−イルチ
オ）プロパン−１，２−ジカルボン酸、３−（ベンズイ
ミダゾール−２−イルチオ）プロパン−１，２−ジカル
ボン酸、１−（ベンズイミダゾール−２−イルチオ）プ
ロパン−１，３−ジカルボン酸、１−（ベンズイミダゾ
ール−２−イルチオ）ブタン−１，２−ジカルボン酸、
４−（ベンズイミダゾール−２−イルチオ）ブタン−
１，２，３−トリカルボン酸、２−（ベンズイミダゾー
ル−２−イルチオ）ブタン−２，３−ジカルボン酸、１
−（ベンズイミダゾール−２−イルチオ）プロパン−
１，２，３−トリカルボン酸、１−（ベンズイミダゾー
ル−２−イルチオ）フェニルコハク酸、及びこれらの酸
の塩である。
ベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、５−メチル
ベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、６−エチル
ベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、４−イソプ
ロピルベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、７−
第三ブチルベンゾチアゾール−２−イルチオコハク酸、
６−メトキシベンゾチアゾール−２−イルチオコハク
酸、７−エトキシベンゾチアゾール−２−イルチオコハ
ク酸、４−フルオロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、５−クロロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、７−ブロモベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、６−クロロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、６−ニトロベンゾチアゾール−２−イルチオコ
ハク酸、５−カルボキシベンゾチアゾール−２−イルチ
オコハク酸、６−アミノベンゾチアゾール−２−イルチ
オコハク酸、１−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）
プロパン−１，２−ジカルボン酸、３−（ベンゾチアゾ
ール−２−イルチオ）プロパン−１，２−ジカルボン
酸、３−（６−アミノベンゾチアゾール−２−イル）プ
ロパン−１，２−ジカルボン酸、１−（ベンゾチアゾー
ル−２−イルチオ）プロパン−１，３−ジカルボン酸、
２−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）プロパン−
１，３−ジカルボン酸、２−（ベンゾチアゾール−２−
イルチオ）ブタン−２，３−ジカルボン酸、１−（ベン
ゾチアゾール−２−イルチオ）ブタン−２，４−ジカル
ボン酸、４−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）ブタ
ン−１，２，３−トリカルボン酸、１−（ベンゾチアゾ
ール−２−イルチオ）ヘキサン−１，６−ジカルボン
酸、１−（ベンゾチアゾール−２−イルチオ）プロパン
−１，２，３−トリカルボン酸、１−（ベンゾチアゾー
ル−２−イルチオ）−３−ヒドロキシプロパン−１，２
−ジカルボン酸、１−（ベンゾチアゾール−２−イルチ
オ）−２−フェニルコハク酸、１−（ベンゾチアゾール
−２−イルチオ）−２−ベンジルコハク酸、ベンゾオキ
サゾール−２−イルチオコハク酸、５−メチルベンゾオ
キサゾール−２−イルチオコハク酸、４−イソプロピル
ベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク酸、６−エト
キシベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク酸、５−
クロロベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク酸、５
−カルボキシベンゾオキサゾール−２−イルチオコハク
酸、６−アミノベンゾオキサゾール−２−イルチオコハ
ク酸、１−（ベンゾオキサゾール−２−イルチオ）プロ
パン−１，２−ジカルボン酸、３−（ベンゾオキサゾー
ル−２−イルチオ）プロパン−１，２−ジカルボン酸、
２−（ベンゾオキサゾール−２−イルチオ）プロパン−
１，３−ジカルボン酸、２−（ベンゾオキサゾール−２
−イルチオ）ブタン−２，３−ジカルボン酸、１−（ベ
ンゾオキサゾール−２−イルチオ）プロパン−１，２，
３−トリカルボン酸、ベンズイミダゾール−２−イルチ
オコハク酸、１−（ベンズイミダゾール−２−イルチ
オ）プロパン−１，２−ジカルボン酸、３−（ベンズイ
ミダゾール−２−イルチオ）プロパン−１，２−ジカル
ボン酸、１−（ベンズイミダゾール−２−イルチオ）プ
ロパン−１，３−ジカルボン酸、１−（ベンズイミダゾ
ール−２−イルチオ）ブタン−１，２−ジカルボン酸、
４−（ベンズイミダゾール−２−イルチオ）ブタン−
１，２，３−トリカルボン酸、２−（ベンズイミダゾー
ル−２−イルチオ）ブタン−２，３−ジカルボン酸、１
−（ベンズイミダゾール−２−イルチオ）プロパン−
１，２，３−トリカルボン酸、１−（ベンズイミダゾー
ル−２−イルチオ）フェニルコハク酸、及びこれらの酸
の塩である。
【００１６】式III で表される化合物は市販されてお
り、異なる用途に適する公知化合物である。式III で表
される個々の化合物の代表例は、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン
酸又はデカン−１，１０−ジカルボン酸及びそれらの
塩、好ましくはナトリウム塩である。
り、異なる用途に適する公知化合物である。式III で表
される個々の化合物の代表例は、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン
酸又はデカン−１，１０−ジカルボン酸及びそれらの
塩、好ましくはナトリウム塩である。
【００１７】特に好ましいカルボン酸腐蝕抑制剤は２，
４，６−トリス（５−カルボキシペンチルアミノ）−
１，３，５−トリアジン又はベンゾチアゾール−２−イ
ルチオコハク酸である。
４，６−トリス（５−カルボキシペンチルアミノ）−
１，３，５−トリアジン又はベンゾチアゾール−２−イ
ルチオコハク酸である。
【００１８】本発明の好ましい具体例において、腐蝕抑
制剤はアントラニル酸を１０〜５０％、好ましくは２０
〜４０％含むことができる。
制剤はアントラニル酸を１０〜５０％、好ましくは２０
〜４０％含むことができる。
【００１９】好適な分散剤は全ての界面活性化合物、好
ましくは陰イオン性及び非イオン性界面活性剤である。
望ましい分散剤の例は以下の化合物類である：
ましくは陰イオン性及び非イオン性界面活性剤である。
望ましい分散剤の例は以下の化合物類である：
【００２０】１．陰イオン性界面活性剤 1.1 芳香族スルホン酸とホルムアルデヒドの縮合物、好
適にはホルムアルデヒドとナフタレンスルホン酸との、
又はホルムアルデヒドとナフタレンスルホン酸及びベン
ゼンスルホン酸との縮合物、又は粗クレゾール、ホルム
アルデヒド及びナフタレンスルホン酸の縮合物。
適にはホルムアルデヒドとナフタレンスルホン酸との、
又はホルムアルデヒドとナフタレンスルホン酸及びベン
ゼンスルホン酸との縮合物、又は粗クレゾール、ホルム
アルデヒド及びナフタレンスルホン酸の縮合物。
【００２１】1.2 リグニンスルホネート、代表的にはス
ルフィット（亜硫酸塩，亜硫酸エステル）又はクラフト
プロセス(kraft process)により得られるもの；好まし
くは、これらは多少、加水分解、酸化又は脱スルホネー
ト化され、そして分子量又はスルホン化の程度により公
知方法で分別された製品である。スルフィット及びクラ
フト−リグニンスルホネートの混合物が非常に効果的で
ある。
ルフィット（亜硫酸塩，亜硫酸エステル）又はクラフト
プロセス(kraft process)により得られるもの；好まし
くは、これらは多少、加水分解、酸化又は脱スルホネー
ト化され、そして分子量又はスルホン化の程度により公
知方法で分別された製品である。スルフィット及びクラ
フト−リグニンスルホネートの混合物が非常に効果的で
ある。
【００２２】1.3 アルキル部分が枝分れしているか又は
枝分れしていないジアルキルスルホサクシネート、例え
ばジプロピルスルホサクシネート、ジイソブチルスルホ
サクシネート、ジアミルスルホサクシネート、ビス（２
−エチルヘキシル）スルホサクシネート又はジオクチル
スルホサクシネート。
枝分れしていないジアルキルスルホサクシネート、例え
ばジプロピルスルホサクシネート、ジイソブチルスルホ
サクシネート、ジアミルスルホサクシネート、ビス（２
−エチルヘキシル）スルホサクシネート又はジオクチル
スルホサクシネート。
【００２３】1.4 硫酸化又はスルホン化された脂肪酸又
は脂肪酸の脂肪酸エステル（硫酸化されたオレイン酸、
エライジン酸又はリシノール酸、及びそれらの低級アル
キルエステル例えばエチル、プロピル又はブチルエステ
ルを含む）。また対応する硫酸化又はスルホン化された
油脂例えばオリーブ油、ナタネ油及び好ましくはヒマシ
油も非常に好適である。
は脂肪酸の脂肪酸エステル（硫酸化されたオレイン酸、
エライジン酸又はリシノール酸、及びそれらの低級アル
キルエステル例えばエチル、プロピル又はブチルエステ
ルを含む）。また対応する硫酸化又はスルホン化された
油脂例えばオリーブ油、ナタネ油及び好ましくはヒマシ
油も非常に好適である。
【００２４】1.5 エチレンオキシド及び／又はプロピレ
ンオキシドと、飽和もしくは不飽和脂肪酸、脂肪族アル
コール、脂肪族アミン、脂環式アルコール、又は末端部
位が酸素含有無機酸又は多塩基酸でエステル化された脂
肪族−芳香族炭化水素類との反応生成物。そのような化
合物は、好ましくは次式
ンオキシドと、飽和もしくは不飽和脂肪酸、脂肪族アル
コール、脂肪族アミン、脂環式アルコール、又は末端部
位が酸素含有無機酸又は多塩基酸でエステル化された脂
肪族−芳香族炭化水素類との反応生成物。そのような化
合物は、好ましくは次式
【化３】Ｒ−Ａ−（ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ）p −Ｑ 〔式中、Ｒは炭素原子数８ないし２２の脂肪族炭化水素
基又は炭素原子数１０ないし２２の脂肪族−芳香族炭化
水素基を表し、Ａは−Ｏ−、−ＮＨ−又は−ＣＯ−Ｏ−
を表し、Ｑは無機多塩基性酸の酸基又はポリ塩基性カル
ボン酸の基を表し、そしてｐは１ないし２０、好ましく
は１ないし５の数を表す〕で表される化合物である。基
Ｒ−Ａ−は、デシルアルコール、ラウリルアルコール、
トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチル
アルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコー
ル、アラキジルアルコール、ヒドロアビエチルアルコー
ル又はベヘニルアルコールのような高級アルコールか
ら；及びまたステアリルアミン、パルミチルアミン又は
オレイルアミンのような脂肪族アミンから；カプリル
酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、アラキドン酸、ベヘニン酸、ヤシ
脂肪（Ｃ8 −Ｃ18）酸、デセン酸、ドデセン酸、テトラ
デセン酸、ヘキサデセン酸、オレイン酸、リノール酸、
リノレイン酸、エイコセン酸、ドコセン酸又は鰯酸のよ
うな脂肪酸から；又はブチルフェノール、ヘキシルフェ
ノール、ｎ−オクチルフェノール、ｎ−ノニルフェノー
ル、ｐ−第三オクチルフェノール、ｐ−第三ノニルフェ
ノール、デシルフェノール、ドデシルフェノール、テト
ラデシルフェノール又はヘキサデシルフェノールのよう
なアルキルフェノールから誘導される。
基又は炭素原子数１０ないし２２の脂肪族−芳香族炭化
水素基を表し、Ａは−Ｏ−、−ＮＨ−又は−ＣＯ−Ｏ−
を表し、Ｑは無機多塩基性酸の酸基又はポリ塩基性カル
ボン酸の基を表し、そしてｐは１ないし２０、好ましく
は１ないし５の数を表す〕で表される化合物である。基
Ｒ−Ａ−は、デシルアルコール、ラウリルアルコール、
トリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチル
アルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコー
ル、アラキジルアルコール、ヒドロアビエチルアルコー
ル又はベヘニルアルコールのような高級アルコールか
ら；及びまたステアリルアミン、パルミチルアミン又は
オレイルアミンのような脂肪族アミンから；カプリル
酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン酸、アラキドン酸、ベヘニン酸、ヤシ
脂肪（Ｃ8 −Ｃ18）酸、デセン酸、ドデセン酸、テトラ
デセン酸、ヘキサデセン酸、オレイン酸、リノール酸、
リノレイン酸、エイコセン酸、ドコセン酸又は鰯酸のよ
うな脂肪酸から；又はブチルフェノール、ヘキシルフェ
ノール、ｎ−オクチルフェノール、ｎ−ノニルフェノー
ル、ｐ−第三オクチルフェノール、ｐ−第三ノニルフェ
ノール、デシルフェノール、ドデシルフェノール、テト
ラデシルフェノール又はヘキサデシルフェノールのよう
なアルキルフェノールから誘導される。
【００２５】酸基Ｑは通常マレイン酸、マロン酸、コハ
ク酸又はスルホコハク酸のようなジカルボン酸から誘導
され、エステル架橋を通じて基Ｒ−Ａ−（ＣＨ2 −ＣＨ
2 −Ｏ）p −に結合する。しかしながら、Ｑは好ましく
はオルト燐酸又は硫酸のような無機多塩基性酸から誘導
される。酸基Ｑは塩形態、即ちアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩又はアミン塩であるのが好ましい。そのような
塩の例は、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、トリ
メチルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン
又はトリエタノールアミン塩である。
ク酸又はスルホコハク酸のようなジカルボン酸から誘導
され、エステル架橋を通じて基Ｒ−Ａ−（ＣＨ2 −ＣＨ
2 −Ｏ）p −に結合する。しかしながら、Ｑは好ましく
はオルト燐酸又は硫酸のような無機多塩基性酸から誘導
される。酸基Ｑは塩形態、即ちアルカリ金属塩、アンモ
ニウム塩又はアミン塩であるのが好ましい。そのような
塩の例は、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、トリ
メチルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン
又はトリエタノールアミン塩である。
【００２６】陰イオン性分散剤は通常それらのアルカリ
金属塩、それらのアンモニウム塩又はそれらの水溶性ア
ミン塩の形態にある。電解質分の低い分散剤が好ましく
使用される。
金属塩、それらのアンモニウム塩又はそれらの水溶性ア
ミン塩の形態にある。電解質分の低い分散剤が好ましく
使用される。
【００２７】２．非イオン性界面活性剤 エチレンオキシドと高級脂肪酸、飽和もしくは不飽和脂
肪族アルコール、メルカプタン、脂肪酸アミド、脂肪酸
アルコールアミド又は脂肪族アミンとの、或はアルキル
フェノール又はアルキルチオフェノールとのポリ付加物
類のエチレンオキシド付加物（該ポリ付加物は好ましく
は該化合物１モル当り５ないし１００モルのエチレンオ
キシドを含む）、並びにエチレンオキシド−プロピレン
オキシドブロックポリマー及びエチレンジアミン−エチ
レンオキシド−プロピエンオキシドのポリ付加物。こう
した非イオン性界面活性剤には次のものが含まれる：
肪族アルコール、メルカプタン、脂肪酸アミド、脂肪酸
アルコールアミド又は脂肪族アミンとの、或はアルキル
フェノール又はアルキルチオフェノールとのポリ付加物
類のエチレンオキシド付加物（該ポリ付加物は好ましく
は該化合物１モル当り５ないし１００モルのエチレンオ
キシドを含む）、並びにエチレンオキシド−プロピレン
オキシドブロックポリマー及びエチレンジアミン−エチ
レンオキシド−プロピエンオキシドのポリ付加物。こう
した非イオン性界面活性剤には次のものが含まれる：
【００２８】2.1 アルコール１モル当りエチレンオキシ
ド２０ないし１００モル含む炭素原子数８ないし２２の
飽和及び／又は不飽和脂肪族アルコールの、好ましくは
アルコール１モル当り２５ないし８０モル好ましくは２
５モル含む飽和線状Ｃ16−Ｃ18アルコールの反応生成
物；
ド２０ないし１００モル含む炭素原子数８ないし２２の
飽和及び／又は不飽和脂肪族アルコールの、好ましくは
アルコール１モル当り２５ないし８０モル好ましくは２
５モル含む飽和線状Ｃ16−Ｃ18アルコールの反応生成
物；
【００２９】2.2 酸１モル当りエチレンオキシド５ない
し２０モル含む炭素原子数８ないし２０の飽和及び／又
は不飽和脂肪酸の反応生成物；
し２０モル含む炭素原子数８ないし２０の飽和及び／又
は不飽和脂肪酸の反応生成物；
【００３０】2.3 炭素原子数７ないし１２のアルキルフ
ェノールと、フェノール性ヒドロキシ基１モル当り５な
いし２５モルのエチレンオキシドとの反応生成物、好ま
しくは、フェノール性ヒドロキシ基１モル当り１０ない
し２０モルのエチレンオキシドを含むモノ−又はジアル
キルフェノールの反応生成物；
ェノールと、フェノール性ヒドロキシ基１モル当り５な
いし２５モルのエチレンオキシドとの反応生成物、好ま
しくは、フェノール性ヒドロキシ基１モル当り１０ない
し２０モルのエチレンオキシドを含むモノ−又はジアル
キルフェノールの反応生成物；
【００３１】2.4 炭素原子を２０個まで含む飽和及び／
又は不飽和脂肪酸アミドと、酸アミド１モル当り５ない
し２０モルのエチレンオキシドとの反応生成物、好まし
くは酸アミド１モル当り８ないし１５モルのエチレンオ
キシドを含むオレイルアミド；
又は不飽和脂肪酸アミドと、酸アミド１モル当り５ない
し２０モルのエチレンオキシドとの反応生成物、好まし
くは酸アミド１モル当り８ないし１５モルのエチレンオ
キシドを含むオレイルアミド；
【００３２】2.5 炭素原子を８ないし２０個まで含む飽
和及び／又は不飽和脂肪酸アミンと、アミン１モル当り
５ないし２０モルのエチレンオキシドとの反応生成物、
好ましくは酸アミド１モル当り８ないし１５モルのエチ
レンオキシドを含むオレイルアミン；
和及び／又は不飽和脂肪酸アミンと、アミン１モル当り
５ないし２０モルのエチレンオキシドとの反応生成物、
好ましくは酸アミド１モル当り８ないし１５モルのエチ
レンオキシドを含むオレイルアミン；
【００３３】2.6 １０〜８０％のエチレンオキシドを含
み１０００〜８００００の分子量を有するエチレンオキ
シド−プロピレンオキシドブロックポリマー；2.7 エチ
レンオキシド−プロピレンオキシドとエチレンジアミン
のポリ付加物。
み１０００〜８００００の分子量を有するエチレンオキ
シド−プロピレンオキシドブロックポリマー；2.7 エチ
レンオキシド−プロピレンオキシドとエチレンジアミン
のポリ付加物。
【００３４】３．合成モノマーの、好ましくはカルボキ
シル基含有モノマーのコポリマー、好適には２−ビニル
ピロリドンと３−ビニルプロピオン酸のコポリマー又は
マレイン酸コポリマー及びその塩。
シル基含有モノマーのコポリマー、好適には２−ビニル
ピロリドンと３−ビニルプロピオン酸のコポリマー又は
マレイン酸コポリマー及びその塩。
【００３５】増粘剤は分散系を安定にするので、それら
は安定剤と呼ばれてもよい。使用に適する典型的な安定
剤は、キサンテン，アルギネート、寒天又はセルロース
タイプの変性ポリサッカライドであるのが好ましい。こ
れらの増粘剤には、セルロースエーテル例えばメチルセ
ルロース又はカルボキシメチルセルロース、又は側鎖に
マンノース又はグルクロン酸基を含むヘテロポリサッカ
ライドが含まれる。そのような増粘剤は市販されてい
る。
は安定剤と呼ばれてもよい。使用に適する典型的な安定
剤は、キサンテン，アルギネート、寒天又はセルロース
タイプの変性ポリサッカライドであるのが好ましい。こ
れらの増粘剤には、セルロースエーテル例えばメチルセ
ルロース又はカルボキシメチルセルロース、又は側鎖に
マンノース又はグルクロン酸基を含むヘテロポリサッカ
ライドが含まれる。そのような増粘剤は市販されてい
る。
【００３６】分散剤及び増粘剤とは別に、本新規分散系
は更なる変性剤、例えば尿素又はキシレンスルホン酸ナ
トリウムのようなヒドロトロープ剤(hydrotropic agent
s)；エチレン又はプロピレングリコール、ジエチレンク
リコール、グリセロール又はソルビトールのような凍結
防止剤；ポリエチレングリコール又はグリセロールのよ
うな保湿剤；クロロアセタミド、ホルマリン又は１，２
−ベンズイソチアゾリン−３−オンのような殺生物剤；
又はニトリロトリ酢酸三ナトリウムのようなキレート化
剤を含むことができる。
は更なる変性剤、例えば尿素又はキシレンスルホン酸ナ
トリウムのようなヒドロトロープ剤(hydrotropic agent
s)；エチレン又はプロピレングリコール、ジエチレンク
リコール、グリセロール又はソルビトールのような凍結
防止剤；ポリエチレングリコール又はグリセロールのよ
うな保湿剤；クロロアセタミド、ホルマリン又は１，２
−ベンズイソチアゾリン−３−オンのような殺生物剤；
又はニトリロトリ酢酸三ナトリウムのようなキレート化
剤を含むことができる。
【００３７】殺生物剤、好ましくは水性分散系中の菌成
長を防止するための殺菌剤の添加は特に重要である。殺
生物剤は好ましくは分散系に基づいて０．０５ないし
０．５重量％の量で加えられる。
長を防止するための殺菌剤の添加は特に重要である。殺
生物剤は好ましくは分散系に基づいて０．０５ないし
０．５重量％の量で加えられる。
【００３８】これらの分散系を製造するためには、分散
剤及び増粘剤及び必要により必要量の水及び他の所望の
添加剤が加えられる湿った濾過ケークから出発するのが
好都合である。その後、該混合物は流動性均質分散系が
得られるまで攪拌される。
剤及び増粘剤及び必要により必要量の水及び他の所望の
添加剤が加えられる湿った濾過ケークから出発するのが
好都合である。その後、該混合物は流動性均質分散系が
得られるまで攪拌される。
【００３９】濾過ケークが既に所望量の水を含む場合、
当然ながら水は加えられない。濾過中、濾過ケークの残
留水分がたったの４０％又はそれ以下になる程度にポリ
カルボン酸を逐い出すことができる。次いで攪拌した濾
過ケークに水がゆっくりと流動性分散系を与えるのに十
分な量で加えられる。一度、水の最適量が決定されたな
らば、濾過ケークが所望の水分を有するように濾過中の
圧力を選択することができる。
当然ながら水は加えられない。濾過中、濾過ケークの残
留水分がたったの４０％又はそれ以下になる程度にポリ
カルボン酸を逐い出すことができる。次いで攪拌した濾
過ケークに水がゆっくりと流動性分散系を与えるのに十
分な量で加えられる。一度、水の最適量が決定されたな
らば、濾過ケークが所望の水分を有するように濾過中の
圧力を選択することができる。
【００４０】攪拌は慣用の混合装置、好ましくは攪拌さ
れる物質が強圧を受けるミキサー中で行なわれる。有用
なミキサーは例えばスピンドルミル(spindle mills) 、
ツースミル(tooth mills) 、コロイドミル(colloid mil
ls) 又はスクリュー型ミキサーである。
れる物質が強圧を受けるミキサー中で行なわれる。有用
なミキサーは例えばスピンドルミル(spindle mills) 、
ツースミル(tooth mills) 、コロイドミル(colloid mil
ls) 又はスクリュー型ミキサーである。
【００４１】使用されるミキサーの型に依るが、流動性
分散系を得るのに必要な時間は約半時間ないし１時間で
ある。攪拌は好ましくは室温で行なわれるが、或る場合
には攪拌材料を僅かに冷却するのが有利であり得る。
分散系を得るのに必要な時間は約半時間ないし１時間で
ある。攪拌は好ましくは室温で行なわれるが、或る場合
には攪拌材料を僅かに冷却するのが有利であり得る。
【００４２】そうして得られた分散系は、室温で並びに
４０℃までの温度で数ヵ月間安定である。それらは、そ
れらの流動性を保持し不均質化しない。これは分散系の
貯蔵及び移送にとって重要な性質である。
４０℃までの温度で数ヵ月間安定である。それらは、そ
れらの流動性を保持し不均質化しない。これは分散系の
貯蔵及び移送にとって重要な性質である。
【００４３】水性媒質中で分散系を使用するために、分
散系が液体として取り扱われ、そして計量添加のために
ポンプ移送され得ることは有利である。他の長所は分散
系がアルカリ性水性系に非常に早く溶解することであ
る。分散系がポリカルボン酸の塩からなる場合、それら
は中性水性系にも溶解する。また溶解を攪拌により促進
することができる。
散系が液体として取り扱われ、そして計量添加のために
ポンプ移送され得ることは有利である。他の長所は分散
系がアルカリ性水性系に非常に早く溶解することであ
る。分散系がポリカルボン酸の塩からなる場合、それら
は中性水性系にも溶解する。また溶解を攪拌により促進
することができる。
【００４４】新規分散系を使用することのできる水性系
の例は、冷却水系、空気調節プラント、蒸気発生プラン
ト、海水脱塩プラント、加熱及び冷却水系、水性圧媒
液、そして特には水性機械加工液である。
の例は、冷却水系、空気調節プラント、蒸気発生プラン
ト、海水脱塩プラント、加熱及び冷却水系、水性圧媒
液、そして特には水性機械加工液である。
【００４５】
【実施例】以下、本発明を非限定的な実施例により更に
説明するが、部及び％は重量による。
説明するが、部及び％は重量による。
【００４６】実施例１：水を５０％含む２，４，６−ト
リス（５−カルボキシペンチルアミノ）−１，３，５−
トリアジン〔レオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉19
0 ）／チバ−ガイギー社(Ciba-Geigy AG) 〕の濾過ケー
ク９９．２部を、流動性稠度(flowableconsistency)が
得られるまでタービンミキサー〔ポリトロン(Polytro
n)〕中で１０００ｒｐｍの回転速度で攪拌する。要した
時間は約１５分である。次いでジナフチルメタンジスル
ホン酸ナトリウムの４０％水溶液をベースとする分散剤
ＣＣ〔Ｄispersant ＣＣ／チバ−ガイギー社(Ciba-Geig
y AG) 〕０．５部を加える。更に１５分間攪拌した後、
キサンテンタイプのポリサッカライド増粘剤〔ロドポー
ル23（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）／ローン−プーラン
(Rhone-Poulenc) 社〕０．１部及び１，２−ベンズイソ
チアゾリン−３−オン〔プロキセルＢＤ（Proxel〈登録
商標〉ＢＤ）／ジェイシージェイ社(JCJ Ltd.)〕の３５
％水性分散系形態の殺生物剤０．２部を加え、そして更
に１５分間攪拌を続ける。得られた分散系は約５０％の
水を含み、２０℃で１７０ｍＰａ・ｓ-1の粘度〔ＤＩＮ
２５測定システムでロータリー粘度計により測定〕を有
する。安定性試験のために、分散系を室温及び４０℃で
貯蔵する。６週後にも相分離は起こらない。
リス（５−カルボキシペンチルアミノ）−１，３，５−
トリアジン〔レオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉19
0 ）／チバ−ガイギー社(Ciba-Geigy AG) 〕の濾過ケー
ク９９．２部を、流動性稠度(flowableconsistency)が
得られるまでタービンミキサー〔ポリトロン(Polytro
n)〕中で１０００ｒｐｍの回転速度で攪拌する。要した
時間は約１５分である。次いでジナフチルメタンジスル
ホン酸ナトリウムの４０％水溶液をベースとする分散剤
ＣＣ〔Ｄispersant ＣＣ／チバ−ガイギー社(Ciba-Geig
y AG) 〕０．５部を加える。更に１５分間攪拌した後、
キサンテンタイプのポリサッカライド増粘剤〔ロドポー
ル23（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）／ローン−プーラン
(Rhone-Poulenc) 社〕０．１部及び１，２−ベンズイソ
チアゾリン−３−オン〔プロキセルＢＤ（Proxel〈登録
商標〉ＢＤ）／ジェイシージェイ社(JCJ Ltd.)〕の３５
％水性分散系形態の殺生物剤０．２部を加え、そして更
に１５分間攪拌を続ける。得られた分散系は約５０％の
水を含み、２０℃で１７０ｍＰａ・ｓ-1の粘度〔ＤＩＮ
２５測定システムでロータリー粘度計により測定〕を有
する。安定性試験のために、分散系を室温及び４０℃で
貯蔵する。６週後にも相分離は起こらない。
【００４７】実施例２：実施例１の操作を繰り返す。レ
オコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190 ）濾過ケーク
（水分：５０％）９０．６部を、１０％水溶液の形態に
あるホルムアルデヒドと芳香族スルホン酸の縮合物をベ
ースとする陰イオン性界面活性剤〔分散剤Ｈ（Ｄispers
ant Ｈ）／チバ−ガイギー社(Ciba-Geigy AG) 〕１部、
ロドポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）０．２部及
びプロキセルＢＤ（Ｐroxel 〈登録商標〉ＢＤ）０．２
部と攪拌する。得られた分散系は２５０ｍＰａ・ｓ-1の
粘度を有し、２０℃で４カ月の貯蔵後でも変化しない。
オコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190 ）濾過ケーク
（水分：５０％）９０．６部を、１０％水溶液の形態に
あるホルムアルデヒドと芳香族スルホン酸の縮合物をベ
ースとする陰イオン性界面活性剤〔分散剤Ｈ（Ｄispers
ant Ｈ）／チバ−ガイギー社(Ciba-Geigy AG) 〕１部、
ロドポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）０．２部及
びプロキセルＢＤ（Ｐroxel 〈登録商標〉ＢＤ）０．２
部と攪拌する。得られた分散系は２５０ｍＰａ・ｓ-1の
粘度を有し、２０℃で４カ月の貯蔵後でも変化しない。
【００４８】実施例３：下記成分を混合して実施例１の
操作を繰り返す： レオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190 ）濾過ケー
ク（水分：５０％）９０．６部 分散剤としてのエチレンオキシド−プロピレンオキシド
ブロックコポリマー〔プルロニックＦ108 （Ｐluronic
〈登録商標〉Ｆ108 ）／バスフ−ウィンドッテ社（ＢＡ
ＳＦ−Ｗyandotte Ｃorp.〕０．５部 増粘剤としてのロドポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉
２３） ０．２部 殺生物剤としてのプロキセルＢＤ（Ｐroxel 〈登録商
標〉ＢＤ） ０．２部 得られた分散系は２５０ｍＰａ・ｓ-1の粘度を有する。
操作を繰り返す： レオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190 ）濾過ケー
ク（水分：５０％）９０．６部 分散剤としてのエチレンオキシド−プロピレンオキシド
ブロックコポリマー〔プルロニックＦ108 （Ｐluronic
〈登録商標〉Ｆ108 ）／バスフ−ウィンドッテ社（ＢＡ
ＳＦ−Ｗyandotte Ｃorp.〕０．５部 増粘剤としてのロドポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉
２３） ０．２部 殺生物剤としてのプロキセルＢＤ（Ｐroxel 〈登録商
標〉ＢＤ） ０．２部 得られた分散系は２５０ｍＰａ・ｓ-1の粘度を有する。
【００４９】実施例４〜８：分散剤及び組成物の量を下
記表１の如く変えて実施例１の操作を繰り返す。
記表１の如く変えて実施例１の操作を繰り返す。
【表１】 全ての分散系は２０℃で４カ月間、貯蔵安定性である。
【００５０】実施例９：水５４％を含むベンゾチアゾー
ル−２−イルチオコハク酸〔レオコール 152（Ｒeocor
〈登録商標〉152 ）／チバ−ガイギー社(Ciba-Geigy A
G) 〕の濾過ケーク５ｋｇを、実施例１に記載されてい
るように分散剤ＣＣ（Ｄispersant CC）２５ｇ及びロド
ポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉２３）５ｇと分散さ
せる。分散系は２５℃で６０ｍＰａ・ｓ-1の粘度（粘度
計ＶＴ５００で８回測定）を有する。室温でこの分散系
は６週間の貯蔵後にも変化を示さない。
ル−２−イルチオコハク酸〔レオコール 152（Ｒeocor
〈登録商標〉152 ）／チバ−ガイギー社(Ciba-Geigy A
G) 〕の濾過ケーク５ｋｇを、実施例１に記載されてい
るように分散剤ＣＣ（Ｄispersant CC）２５ｇ及びロド
ポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉２３）５ｇと分散さ
せる。分散系は２５℃で６０ｍＰａ・ｓ-1の粘度（粘度
計ＶＴ５００で８回測定）を有する。室温でこの分散系
は６週間の貯蔵後にも変化を示さない。
【００５１】実施例１０：リグニンスルホネート〔リー
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ）〕３ｇを、ス
テンレススチールスクリュー撹拌機を備える１．５リッ
トルのガラス容器内の水４４ｇ中に溶解する。次いで約
５０％の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商
標〉190 ）の濾過ケーク９００ｇを１５分にわたって５
０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で加え、約３０分間５０〜７
０ｒｐｍで均質化される液体分散系とする。次いで水５
０ｇ中のロドポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）１
ｇの溶液を加え、その分散系をその後７５ｒｐｍで１時
間撹拌する。そうして得られた分散系は２００ｍＰａ・
ｓ-1の粘度（２５℃）を有する。それは腐蝕抑制剤４５
％、水５４．５％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％
を含む。
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ）〕３ｇを、ス
テンレススチールスクリュー撹拌機を備える１．５リッ
トルのガラス容器内の水４４ｇ中に溶解する。次いで約
５０％の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商
標〉190 ）の濾過ケーク９００ｇを１５分にわたって５
０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で加え、約３０分間５０〜７
０ｒｐｍで均質化される液体分散系とする。次いで水５
０ｇ中のロドポール23（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）１
ｇの溶液を加え、その分散系をその後７５ｒｐｍで１時
間撹拌する。そうして得られた分散系は２００ｍＰａ・
ｓ-1の粘度（２５℃）を有する。それは腐蝕抑制剤４５
％、水５４．５％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％
を含む。
【００５２】実施例１１：約５０％の水を含むレオコー
ル 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190 ）の濾過ケーク８０
０ｇを、分散剤ＣＣ（Ｄispersant CC）１０ｇ及び水１
３５ｇ中のポリエチレンオキシド（ＭＧ１０6 ）２ｇ
に、１５分にわたって５０〜６０ｒｐｍの撹拌速度で加
える。次いで水５０ｇ中のロドポール23（Ｒhodopol
〈登録商標〉23）１ｇの溶液及びプロキセルＢＤ（Ｐro
xel 〈登録商標〉ＢＤ）２ｇを加える。次いでその分散
系を７５ｒｐｍで１時間均質化すると、腐蝕抑制剤４０
％、水５９％、分散剤０．４％、増粘剤０．１％、殺生
物剤０．２％及び潤滑剤（ポリエチレンオキシド）０．
２％を含む流動性分散系が得られる。
ル 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190 ）の濾過ケーク８０
０ｇを、分散剤ＣＣ（Ｄispersant CC）１０ｇ及び水１
３５ｇ中のポリエチレンオキシド（ＭＧ１０6 ）２ｇ
に、１５分にわたって５０〜６０ｒｐｍの撹拌速度で加
える。次いで水５０ｇ中のロドポール23（Ｒhodopol
〈登録商標〉23）１ｇの溶液及びプロキセルＢＤ（Ｐro
xel 〈登録商標〉ＢＤ）２ｇを加える。次いでその分散
系を７５ｒｐｍで１時間均質化すると、腐蝕抑制剤４０
％、水５９％、分散剤０．４％、増粘剤０．１％、殺生
物剤０．２％及び潤滑剤（ポリエチレンオキシド）０．
２％を含む流動性分散系が得られる。
【００５３】実施例１２：リグニンスルホネート〔リー
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ）〕１．２ｇ
を、ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６０
０mlのガラス容器内の水９１ｇ中に溶解する。次いで約
５０％の水を含むレオコール 190（Ｒeocor〈登録商
標〉190 ）の濾過ケーク２５６ｇを１５分にわたって５
０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で加える。該液体分散系に次
いでアントラニル酸３２ｇを１５分間にわたって加え、
その後それを５０〜７０ｒｐｍで３０分間均質化する。
次いで水１９．６ｇ中のロドポール 23 （Ｒhodopol
〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液を加え、その分散系を
７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そうして得られた分散系
は２００ｍＰａ・ｓ-1の粘度（２５℃）を有する。それ
は腐蝕抑制剤〔レオコール190 （Ｒeocor 190 ）８０部
及びアントラニル酸２０部の割合〕４０％、水５９．６
％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ）〕１．２ｇ
を、ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６０
０mlのガラス容器内の水９１ｇ中に溶解する。次いで約
５０％の水を含むレオコール 190（Ｒeocor〈登録商
標〉190 ）の濾過ケーク２５６ｇを１５分にわたって５
０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で加える。該液体分散系に次
いでアントラニル酸３２ｇを１５分間にわたって加え、
その後それを５０〜７０ｒｐｍで３０分間均質化する。
次いで水１９．６ｇ中のロドポール 23 （Ｒhodopol
〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液を加え、その分散系を
７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そうして得られた分散系
は２００ｍＰａ・ｓ-1の粘度（２５℃）を有する。それ
は腐蝕抑制剤〔レオコール190 （Ｒeocor 190 ）８０部
及びアントラニル酸２０部の割合〕４０％、水５９．６
％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。
【００５４】実施例１３：リグニンスルホネート〔リー
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ〕１．２ｇを、
ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６００ml
ガラス容器内の水１２３ｇ中に溶解する。次いで約５０
％の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉19
0 ）の濾過ケーク１９２ｇを１５分にわたって５０〜７
０ｒｐｍの撹拌速度で加える。該液体分散系に次いでア
ントラニル酸（９９％）６４ｇを１５分間にわたって加
え、その後それを５０〜７０ｒｐｍで３０分間均質化す
る。次いで水１９．６ｇ中のロドポール 23 （Ｒhodopo
l 〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液を加え、その分散系
を７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そうして得られた分散
系は２００ｍＰａ・ｓ-1の粘度（２５℃）を有する。そ
れは腐蝕抑制剤〔レオコール 190 （Ｒeocor 190 ）６
０部及びアントラニル酸４０部の割合〕４０％、水５
９．６％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ〕１．２ｇを、
ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６００ml
ガラス容器内の水１２３ｇ中に溶解する。次いで約５０
％の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉19
0 ）の濾過ケーク１９２ｇを１５分にわたって５０〜７
０ｒｐｍの撹拌速度で加える。該液体分散系に次いでア
ントラニル酸（９９％）６４ｇを１５分間にわたって加
え、その後それを５０〜７０ｒｐｍで３０分間均質化す
る。次いで水１９．６ｇ中のロドポール 23 （Ｒhodopo
l 〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液を加え、その分散系
を７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そうして得られた分散
系は２００ｍＰａ・ｓ-1の粘度（２５℃）を有する。そ
れは腐蝕抑制剤〔レオコール 190 （Ｒeocor 190 ）６
０部及びアントラニル酸４０部の割合〕４０％、水５
９．６％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。
【００５５】実施例１４：リグニンスルホネート〔リー
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ〕１．２ｇを、
ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６００ml
ガラス容器内の水１９ｇ中に溶解する。次いで約５０％
の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190
）（モノナトリウム塩* ）の濾過ケーク３６０ｇを１
５分にわたって５０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で加えて液
体分散系とし、その後それを５０〜７０ｒｐｍで３０分
間均質化する。次いで水１９．６ｇ中のロドポール 23
（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液を加え、
その分散系を７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そうして得
られた分散系は２００ｍＰａ・ｓ-1の粘度（２５℃）を
有する。それは腐蝕抑制剤４５％、水５４．６％、分散
剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。 * ）燐酸水素二ナトリウムの溶液がレオコール 190（Ｒ
eocor 190 ）の濾過ケークの水性懸濁液に加えられる。
モノナトリウム塩は単離されリークス（Ｒeax ）分散剤
で液化される。
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ〕１．２ｇを、
ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６００ml
ガラス容器内の水１９ｇ中に溶解する。次いで約５０％
の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190
）（モノナトリウム塩* ）の濾過ケーク３６０ｇを１
５分にわたって５０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で加えて液
体分散系とし、その後それを５０〜７０ｒｐｍで３０分
間均質化する。次いで水１９．６ｇ中のロドポール 23
（Ｒhodopol 〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液を加え、
その分散系を７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そうして得
られた分散系は２００ｍＰａ・ｓ-1の粘度（２５℃）を
有する。それは腐蝕抑制剤４５％、水５４．６％、分散
剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。 * ）燐酸水素二ナトリウムの溶液がレオコール 190（Ｒ
eocor 190 ）の濾過ケークの水性懸濁液に加えられる。
モノナトリウム塩は単離されリークス（Ｒeax ）分散剤
で液化される。
【００５６】実施例１５：リグニンスルホネート〔リー
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ〕１．２ｇを、
ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６００ml
ガラス容器内の水１９ｇ中に溶解する。次いで約５０％
の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190
）（モノジエタノールアミン塩* ）の濾過ケーク３６
０ｇを１５分にわたって５０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で
加えて液体分散系とし、その後それを５０〜７０ｒｐｍ
で３０分間均質化する。次いで水１９．６ｇ中のロドポ
ール 23 （Ｒhodopol 〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液
を加え、その分散系を７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そ
うして得られた分散系は腐蝕抑制剤４５％、水５４．６
％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。 * ）化学量論的量のジエタノールアミンがレオコール19
0 （Ｒeocor 190 ）の濾過ケークの水性懸濁液に加えら
れる。モノジエタノールミン塩は単離されリークス（Ｒ
eax ）分散剤で液化される。
クス 85-Ａ（Ｒeax 〈登録商標〉 85-Ａ〕１．２ｇを、
ステンレススチールスクリュー撹拌機を備える６００ml
ガラス容器内の水１９ｇ中に溶解する。次いで約５０％
の水を含むレオコール 190（Ｒeocor 〈登録商標〉190
）（モノジエタノールアミン塩* ）の濾過ケーク３６
０ｇを１５分にわたって５０〜７０ｒｐｍの撹拌速度で
加えて液体分散系とし、その後それを５０〜７０ｒｐｍ
で３０分間均質化する。次いで水１９．６ｇ中のロドポ
ール 23 （Ｒhodopol 〈登録商標〉23）０．４ｇの溶液
を加え、その分散系を７５ｒｐｍで１時間撹拌する。そ
うして得られた分散系は腐蝕抑制剤４５％、水５４．６
％、分散剤０．３％及び増粘剤０．１％を含む。 * ）化学量論的量のジエタノールアミンがレオコール19
0 （Ｒeocor 190 ）の濾過ケークの水性懸濁液に加えら
れる。モノジエタノールミン塩は単離されリークス（Ｒ
eax ）分散剤で液化される。
フロントページの続き (72)発明者 マルティン ホラー スイス国，4312 マクデン，シュルシュト ラーセ11 (72)発明者 サンドル ガーティ スイス国，4123 アルシュヴィル，オクセ ンガッセ 48
Claims (13)
- 【請求項１】 下記腐蝕抑制剤２５〜５７重量％、水４
０〜７２重量％、分散剤０．１〜２重量％及び増粘剤
０．０１〜０．５重量％を含む固体ポリカルボン酸腐蝕
抑制剤の流動性水性分散系。 - 【請求項２】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤が次式Ｉ，II
又はIII 【化１】 〔式中、 Ｚは炭素原子数１ないし１１のアルキレン基、シクロヘ
キシレン基又はフェニレン基を表し、 Ｒ1 及びＲ2 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１
ないし４のアルキル基又は基−Ｚ−ＣＯＯＨを表し、 Ｒ3 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル
基又は基−Ｎ（Ｒ4 ）（Ｒ5 ），−ＯＲ6 又は−ＳＲ6
を表し、 Ｒ4 及びＲ5 は互いに独立して水素原子、炭素原子数１
ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４のヒド
ロキシアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又は
基−Ｚ−ＣＯＯＨを表すか、又はＲ4 及びＲ5 は一緒に
なった場合に炭素原子数４ないし６のアルキレン基又は
３−オキサペンチレン基を表し、 Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基
又はフェニル基を表し、 ｍは０又は１を表し、 Ｘは硫黄原子、酸素原子又はＮＨを表し、 Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、
ハロゲン原子、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、
カルボキシ基、アミノ基又はニトロ基を表し、 Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及びＲ11は互いに独立して水素原子、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１な
いし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし６
のカルボキシアルキル基、炭素原子数２ないし１０のア
ルコキシアルキル基、カルボキシル基、フェニル基又は
ベンジル基を表し、またＲ8 とＲ9 は一緒になった場合
に直接結合を表すが、基Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10及びＲ11の少
なくとも二つはカルボキシル基又はカルボキシルアルキ
ル基を表し、そしてｎは２ないし１０を表す。〕で表さ
れる化合物又はそのアルカリ金属塩、アンモニウム塩も
しくはアミン塩である請求項１記載の分散系。 - 【請求項３】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤が式Ｉ，II又
はIII 〔式中、Ｚは炭素原子数１ないし８のアルキレン
基を表し、Ｒ1 及びＲ2 は水素原子又は炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表し、Ｒ3 は基−Ｎ（Ｒ4 ）（Ｒ
5 ）を表し、Ｒ4 は水素原子、シクロヘキシル基又は炭
素原子数１ないし１２のアルキル基を表し、Ｒ5 は炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、フェニル基又は基−
Ｚ−ＣＯＯＨを表すか、又はＲ4 とＲ5 は一緒になって
１，５−ペンチレン基又は３−オキサ−１，５−ペンチ
レン基を表し、ｍは０又は１を表し、Ｘは硫黄原子を表
し、Ｒ7 は水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、Ｒ
8 及びＲ10は水素原子を表し、Ｒ9 及びＲ11はカルボキ
シル基又は原子数２ないし４のカルボキシアルキル基を
表し、そしてｎは４ないし８を表す。〕で表される化合
物又はそのアルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはア
ミン塩である請求項１記載の分散系。 - 【請求項４】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤が式Ｉ，II又
はIII 〔式中、Ｚはペンタメチレン基を表し、Ｒ1 及び
Ｒ2 は水素原子を表し、Ｒ3 は基−ＮＨ−（ＣＨ2 ）5
−ＣＯＯＨを表し、Ｘは硫黄原子を表し、Ｒ7 は水素原
子を表し、ｍは０又は１を表し、Ｒ8 及びＲ10は水素原
子を表し、Ｒ9 はカルボキシル基を表し、Ｒ11はカルボ
キシメチル基を表し、そしてｎは８を表す。〕で表され
る化合物又はそのアルカリ金属塩、アンモニウム塩もし
くはアミン塩である請求項１記載の分散系。 - 【請求項５】ポリカルボン酸腐蝕抑制剤が２，４，６−
トリス（５−カルボキシペンチルアミノ）−１，３，５
−トリアジン又はベンゾチアゾール−２−イルチオコハ
ク酸である請求項１記載の分散系。 - 【請求項６】 式Ｉ，II又はIII で表される化合物又は
そのアルカリ金属塩、アンモニウム塩もしくはアミン塩
４０〜５３％、水４５〜５８％、分散剤０．１〜２％及
び増粘剤０．０１〜０．５％からなる請求項１記載の分
散系。 - 【請求項７】 分散剤が陰イオン性又は非イオン性界面
活性剤である請求項１記載の分散系。 - 【請求項８】 増粘剤が変性ポリサッカライドである請
求項１記載の分散系。 - 【請求項９】 更に殺生物剤好ましくは殺菌剤を０．０
５〜０．５重量％含む請求項１記載の分散系。 - 【請求項１０】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤がアントラ
ニル酸を１０〜５０％含む請求項１記載の分散系。 - 【請求項１１】 ポリカルボン酸腐蝕抑制剤がアントラ
ニル酸を２０〜４０％含む請求項１記載の分散系。 - 【請求項１２】 腐蝕抑制剤の湿った濾過ケークと、分
散剤及び増粘剤そして必要ならば必要量の水とを混合
し、その混合物が流動性となるまで攪拌することからな
る、上記腐蝕抑制剤２５〜５７重量％、水４０〜７２重
量％、分散剤０．１〜２重量％及び増粘剤０．０１〜
０．５重量％を含むポリカルボン酸腐蝕抑制剤の流動性
水性分散系の製造方法。 - 【請求項１３】 攪拌が室温で行なわれる請求項１２記
載の方法。
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