JP3347812B2 - 真空容器並びに該真空容器を用いた真空処理方法 - Google Patents

真空容器並びに該真空容器を用いた真空処理方法

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JP3347812B2 JP13914893A JP13914893A JP3347812B2 JP 3347812 B2 JP3347812 B2 JP 3347812B2 JP 13914893 A JP13914893 A JP 13914893A JP 13914893 A JP13914893 A JP 13914893A JP 3347812 B2 JP3347812 B2 JP 3347812B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空容器並びに該真空容
器を用いた真空処理方法に係り、特にウエハ等の被搬送
物を真空下で保管及び搬送する真空容器並びにこの真空
容器を用いウエハ等の被搬送物に各種処理を行うための
真空処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体を製造する過程で、ウエハ表面の
酸化等を防止する為に、ウエハを半導体プロセス装置に
搬入する前や、所定の工程を経て次の工程に搬送する
間、真空容器に入れて保管及び搬送することが提案され
ている。斯かる真空容器の一例として特開昭62−18
1441号に示されている真空キャリアがある。この真
空キャリアはキャリア本体と、キャリアカバーとからな
り、キャリア本体にはスリットが形成され、このスリッ
トにウエハが載置されるようになっている。
【0003】真空キャリアのキャリア本体とキャリアカ
バーとは、真空シールを介してその内外の圧力差によっ
て閉じられ、真空キャリア内は真空に保持されるように
なっている。
【0004】ウエハを真空キャリア内に入れる際には、
真空キャリア全体を上部ロードロック室に入れ、上部ロ
ードロック室の扉を閉じ、上部ロードロック室の内部を
真空排気装置により真空にした後、キャリアカバーを上
部ロードロック室に残したまま、エレベータを下降させ
てキャリア本体のみを下部ロードロック室へ移動する。
そして、ウエハ移載ロボットによってウエハをプロセス
チャンバからキャリア本体へ移載した後、エレベータを
上昇させてキャリア本体をキャリアカバーに接続する。
次に上部ロードロック室の真空破壊を行い、ウエハを収
容した真空キャリアを搬送し、次のプロセス装置にもっ
ていく。
【0005】次のプロセス装置にウエハを真空キャリア
から移載する際には、前述の動作と同様に、真空キャリ
アを上部ロードロック室に入れ、上部ロードロック室の
扉を閉じ、上部ロードロック室の内部を真空排気装置に
より真空にした後、キャリアカバーは上部ロードロック
室に残したまま、エレベータを下降させてキャリア本体
のみを下部ロードロック室へ移動する。そして、ウエハ
移載ロボットによってウエハをキャリア本体からプロセ
スチャンバへ移載する。上記工程を繰り返すことによっ
て、真空プロセス装置から次の真空プロセス装置へ、ウ
エハを真空雰囲気に保持したまま搬送することができ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の装置においては、搬送される真空キャリア自体
には真空排気装置がついていないため、ロードロック室
から切り離されている間は、容器内面等からのガス放出
や、真空シールを経由して容器内部に入ってくる外部か
らの漏れ込みにより、真空キャリア内部の真空度は、時
間の経過と共に、低下していく。一方、実際のウエハ製
造工程では、1つのプロセスが終了して次のプロセスへ
ウエハを持っていった時に、ウエハをプロセス装置に直
ちに移載できることは少なく、通常は前のウエハの処理
が終了するのを、待機することになる。この間に、真空
キャリア内部の真空度は低下し、真空キャリア内部にあ
るウエハ表面に自然酸化膜が発生してしまうという問題
点があった。
【0007】本発明は上述の事情に鑑みてなされたもの
で、ウエハ等の被搬送物の保管中にゲートを使用して簡
易に真空容器内を真空排気でき、真空容器内の真空度の
低下を防止して被搬送物の劣化(ウエハの場合にはウエ
ハ表面の自然酸化膜の発生)を防止できる真空容器を提
供することを目的とする。
【0008】また、本発明は上記真空容器のゲートを使
用して真空排気しつつ被搬送物を保管できるとともに真
空下で真空プロセス装置との間でウエハ等の被搬送物の
移載を行うことができ、又、真空容器のゲートを使用し
て真空容器内の真空を破壊して大気圧下でも真空プロセ
ス装置との間でウエハ等の被搬送物の移載を行うことが
できる真空処理方法及び装置を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明の真空容器は被搬送物の出入用の主開口部
を有した容器本体と、前記容器本体の開口部を開閉可能
に閉塞する蓋からなる搬送可能な真空容器において、前
記容器本体又は前記蓋に容器内の真空排気及び/又は真
空破壊用のゲートが設けられ、前記ゲートは、前記容器
本体又は前記蓋に設けられた補助開口部と、該補助開口
部を開閉可能に閉塞するプレートとからなり、該プレー
トは真空容器内外の差圧によって閉塞することを特徴と
するものである。
【0010】本発明の真空処理方法の第1の態様は、被
搬送物の出入用の主開口部を有した容器本体と、前記容
器本体の開口部を開閉可能に閉塞する蓋と、前記容器本
体又は前記蓋に設けられ容器内の真空排気及び/又は真
空破壊用のゲートとを備えた搬送可能な真空容器を用い
た真空処理方法であって、真空容器の蓋を開けて真空容
器内に被搬送物を入れた後に蓋を閉める工程と、被搬送
物の保管中に容器内を所定真空度に保つために、前記ゲ
ートを開いて真空容器内部を該ゲートを介して真空排気
しつつ保管する工程と、前記ゲートを閉塞して前記真空
容器をロードロック室まで搬送する工程と、前記真空容
器とロードロック室とを接続し、真空下で真空容器の蓋
を開放し被搬送物をロードロック室に移送する工程と、
を備えたことを特徴とするものである。
【0011】本発明の真空処理方法の第2の態様は、被
搬送物の出入用の主開口部を有した容器本体と、前記容
器本体の開口部を開閉可能に閉塞する蓋と、前記容器本
体又は前記蓋に設けられ容器内の真空排気及び/又は真
空破壊用のゲートとを備えた搬送可能な真空容器を用い
た真空処理方法であって、真空容器の蓋を開けて真空容
器内に被搬送物を入れた後に蓋を閉める工程と、被搬送
物の保管中に容器内を所定真空度に保つために、前記ゲ
ートを開いて真空容器内部を該ゲートを介して真空排気
しつつ保管する保管工程と、前記保管工程の後に、前記
ゲートを開いた状態で前記真空容器内に大気を導入し該
真空容器内の真空破壊を行う工程と、大気圧下で真空容
器の蓋を開放した後に被搬送物を真空容器から取り出し
てロードロック室に移送する工程と、を備えたことを特
徴とするものである。
【0012】本発明の真空処理装置の第1の態様は、請
求項1記載の真空容器と、前記真空容器のゲートに接続
可能であり被搬送物を収容した状態で真空容器内を真空
排気するとともに、容器内の真空破壊を行う真空排気真
空破壊装置と、前記真空容器と接続可能であり真空下で
真空容器内から被搬送物を取り出して移送するための真
空プロセス室に連通したロードロック室と、を備えたこ
とを特徴とするものである。
【0013】本発明の真空処理装置の第2の態様は、請
求項1記載の真空容器と、前記真空容器のゲートに接続
可能であり被搬送物を収容した状態で真空容器内を真空
排気するとともに、容器内の真空破壊を行う真空排気真
空破壊装置と、前記真空容器内を真空破壊した後に大気
圧下で真空容器内から被搬送物を取り出して移送するた
めの真空プロセス室に連通したロードロック室と、を備
えたことを特徴とするものである。前記真空排気真空破
壊装置は、前記ゲートのプレートを保持する機構を有し
かつ昇降機構と接続された昇降台と、内部が真空排気系
及び大気開放系に接続されるとともに前記ゲートと気密
に接続可能なハウジングとからなることを特徴とするも
のである。
【0014】
【作用】前述した構成からなる真空容器によれば、真空
容器に設けられたゲートを介して真空容器内を真空排気
することができる。したがって、真空容器内に被搬送物
を保管中に真空容器内の真空度が低下して酸化等により
被搬送物が劣化することを防止できる。
【0015】また、本発明の真空処理方法及び装置の1
態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送物を
保管した後、真空容器を真空プロセス装置までもってい
き、真空下で被搬送物をロードロック室に移載すること
ができる。
【0016】さらに、本発明の真空処理方法及び装置の
他の態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送
物を保管した後に真空容器内の真空破壊を行い、大気圧
下で被搬送物をロードロック室に移載することができ
る。
【0017】
【実施例】以下、本発明に係る真空容器並びに該真空容
器を用いた真空処理方法及び装置の実施例を図面を参照
して説明する。実施例の説明においては、被搬送物とし
てウエハを例に挙げて説明する。
【0018】図1は本発明の搬送可能な真空容器の一実
施例を示す断面図である。真空容器1は略円筒容器状の
容器本体2と、この容器本体2の下端にある主開口部2
aを開閉可能に閉塞する蓋3とから構成されている。被
搬送物であるウエハ4は蓋3上に載置されたウエハキャ
リア5に搭載して搬送保管されるようになっている。
【0019】容器本体2と蓋3との接触面にはOリング
からなる真空シール6が介装されている。蓋3にはその
中央部に真空排気及び真空破壊用の補助開口部3aが形
成され、その周縁には磁性材リング7が設けられてい
る。補助開口部3aを開閉するプレート8には、永久磁
石10aと、永久磁石10aの下方にある磁性材プレー
ト10bとが設けられており、蓋3とプレート8との接
触面にはOリングからなる真空シール9が介装されてい
る。
【0020】前記プレート8は容器内部が真空の時はそ
の圧力差による力により真空シール9を介して補助開口
部3aを閉塞するようになっており、これによって容器
内部は真空に保持される。そして、このプレート8を開
くことにより、真空容器1の内部を真空排気あるいは真
空破壊することができる。
【0021】図2は図1に示す真空容器1と真空排気真
空破壊装置11との接続状態を示す断面図である。真空
排気真空破壊装置11は真空容器1の蓋3に接続可能な
ハウジング12と、このハウジング12内に昇降可能に
設けられた昇降台16を有したエレベータ機構13とを
備えている。ハウジング12と真空容器1の蓋3との接
触面には、Oリングからなる真空シール14が介装され
ている。
【0022】前記エレベータ機構13は、上端部に電磁
石15を具備した昇降台16と、この昇降台16を昇降
させるエアシリンダ17とを備えている。そして、昇降
台16を上昇させて電磁石15によってプレート8を吸
着してプレート8を蓋3から離接させることによって真
空容器1の蓋3に形成された補助開口部3aの開閉操作
を行うことができるようになっている。
【0023】昇降台16の下面とハウジング12に固定
されたプレート19との間にはベローズ20が介装され
ており、昇降台16の外側の空間Aと内側の空間Bとを
画成し、空間Aに真空状態が形成できるようになってい
る。そして、空間Aは、バルブV1を介して真空排気ポ
ンプ21に連通されるとともにバルブV2を介して大気
22に連通されるようになっている。
【0024】次に、前述のように構成された真空排気真
空破壊装置の動作を図3及び図4を参照して説明する。
図3はプレート8を補助開口部3aより離脱させ、補助
開口部3aを開く動作を示す。このとき、真空容器1内
の空間Cと、空間Aとは同圧状態(ともに大気圧又はと
もに真空圧)にある。プレート8を補助開口部3aより
離脱させ開く場合には、先ずエアシリンダ17を作動さ
せて昇降台16を上昇させ、電磁石15をプレート8の
磁性材プレート10bに近接させる。プレート8に内蔵
された永久磁石10aの磁力による磁力線は、磁性材プ
レート10bを通して電磁石15の磁極に作用し、プレ
ート8は電磁石15の磁極に吸着される。
【0025】この状態で昇降台16をエアシリンダ17
により下降させることによって、プレート8を蓋3の補
助開口部3aより離脱させ、補助開口部3aを開く。補
助開口部3aを開放した状態でバルブV1を開けて真空
排気ポンプ21を稼働させ、空間Aを介して真空容器1
内の空間Cの真空排気を行うことができる。また、真空
容器1内の空間Cが真空状態にあるときには、バルブV
2を開け(このときバルブV1は閉)、空間A内に大気
を導入し真空容器1内の真空破壊を行うことができる。
【0026】図4はプレート8を補助開口部3aに係合
させ、補助開口部3aを閉じる動作を示す。図3に示す
状態で真空容器1内の真空排気を行った後、プレート8
を補助開口部3aに係合させ補助開口部3aを閉じる。
この動作は、まず昇降台16にプレート8を保持させた
状態で昇降台16を上昇させプレート8を補助開口部3
aに係合させる。そして、電磁石15に永久磁石10a
に対して反発する方向に磁力が形成されるように通電
し、プレート8を昇降台16から離脱させた後に昇降台
16を下降させる。
【0027】プレート8の永久磁石10aの磁力が磁性
材プレート10bを通して蓋3の磁性材リング7に作用
し吸着力が働き、プレート8は蓋3に吸着し、真空シー
ル9により真空容器1内は真空封止される。そして、電
磁石15に永久磁石10aに対して反発力を生じる方向
に通電しながら昇降台16が下降するので、プレート8
は電磁石15と切り離される。
【0028】このような状態では、プレート8の永久磁
石10aによって、その磁力線が磁性材プレート10b
を通って蓋3の磁性材リング7を通る磁気回路が形成さ
れる。そのため、プレート8は蓋3の補助開口部3aに
しっかりと吸着保持される。したがって、補助開口部3
を閉じた後には、常に真空シール9がプレート8の磁力
により押圧されているので、隣接する空間Aを大気解放
しても、真空容器1内の真空状態を安定に維持すること
ができる。更に、何らかの原因によりリークがあって、
真空容器1内の真空度が低下した場合も、プレート8は
蓋3の補助開口部3aに磁力により吸着されているの
で、プレート8が脱落することが防止される。また開閉
動作が昇降台16の昇降動作と電磁石15への通電のみ
によって行われるので、ワンタッチで自動開閉が可能で
ある。
【0029】上述の動作によって、プレート8により蓋
3の補助開口部3aを閉塞した後、バルブV2を開け
(このときバルブV1は閉)、空間A内に大気導入を行
い、真空容器1を真空排気真空破壊装置11から切り離
して搬送可能にする。
【0030】図5は本発明に係る搬送可能な真空容器の
第2実施例を示す。本実施例では、搬送可能な真空容器
31は容器本体32と、容器本体32の主開口部32a
を開閉可能に閉塞する蓋33とから構成されている。そ
して容器本体32の側壁部に真空排気及び真空破壊用の
補助開口部32bが形成され、この補助開口部32bが
プレート34によって開閉可能に閉塞されるようになっ
ている。
【0031】前記容器本体32と蓋33との接触面には
Oリングからなる真空シール35が介装されている。ま
た補助開口部32bの内側には、支持板36によって支
持された補助板37が設けられており、この補助板37
の中央には磁性体38が取り付けられている。
【0032】一方、補助開口部32bを閉塞するプレー
ト34は突出部34aを有し、この突出部34aに永久
磁石39が内設されている。また、プレート34には容
器本体32との接触面にOリングからなる真空シール4
0が設けられるとともに突出部34aの反対側の面に磁
性体41が取り付けられている。プレート34は、真空
容器31の内部が真空状態の時にはその圧力差により補
助開口部32bを閉塞するようになっている。なお、永
久磁石39と補助板37の磁性体38との間にも磁力が
作用して吸着するが、これはプレート34が容器本体3
2から外れないようにするための予備の吸着手段であ
り、必ずしも必要ではない。
【0033】また、容器本体32の頂部壁には、測定用
孔32cが形成されており、この測定用孔32cに真空
容器31内の圧力を測定する真空計43が取り付けられ
ている。そして、容器本体32の測定用孔32cよりや
や離間した位置に、T字状に形成されたメス端子を有す
る接触コネクタ44が固定されている。そして、接触コ
ネクタ44に真空計43のコード45の先端に設置され
たプラグ46が接続されている。
【0034】図6は図5に示す真空容器31と真空排気
真空破壊装置51を示す断面図である。図2に示す実施
例と同様に真空容器31は真空排気真空破壊装置51に
着脱可能に接続され、この真空排気真空破壊装置51に
よって真空容器31のプレート34を取り外して真空容
器31の内部の気体を排気し、その真空を維持せしめる
ように構成されている。以下、真空排気真空破壊装置5
1について説明する。
【0035】真空排気真空破壊装置51は、真空容器3
1の容器本体32に接続可能なハウジング52と、この
ハウジング52内に昇降可能に設けられた昇降台57を
有したエレベータ機構53とを備えている。ハウジング
52と真空容器31の容器本体32との接触面にはOリ
ングからなる真空シール54が介装されている。ハウジ
ング52の内部には空間Dが形成され、ハウジング52
の上部開口52aは真空容器31のプレート34を囲む
大きさに形成され、側部開口52bは配管55を介して
真空排気ポンプ(図示せず)及び大気(図示せず)に連
通されている。
【0036】前記エレベータ機構53は、上部に永久磁
石56aと、この永久磁石56aに巻回された電磁コイ
ル56bとからなる電磁石56を具備した昇降台57
と、この昇降台57を昇降させるためのねじ棒58と、
このねじ棒58に螺合されたプーリ60とを備えてい
る。プーリ60はベルト61を介してモータ62に連結
されるとともに軸受部63に回転可能に支持されてい
る。したがって、モータ62を正逆回転させることによ
ってプーリ60が回転し、プーリ60に螺合されたねじ
棒58が上下動し昇降台57が昇降するようになってい
る。
【0037】なお、ハウジング52の下端に固定された
プレート64と昇降台57の下部との間にはベローズ6
5が介装されており、空間Dが密封されるようになって
いる。
【0038】また、ハウジング52の側面にはガイドベ
アリング67が取付けられ、一方、固定台68にはガイ
ドレール69が固定され、両者によってハウジング52
は固定台68に対して上下動自在に支持されている。
【0039】また、軸受部63の下端はねじ棒70を介
してハウジング昇降装置71に連結されている。そし
て、ハウジング昇降装置71はねじ棒70を上下動させ
るためのプーリ、モータ等(図示せず)を備え、モータ
を駆動させることによってねじ棒70が上下動し、ハウ
ジング52が昇降するようになっている。
【0040】一方、前記配管55には真空計73が取付
けられ、配管55内の圧力を測定している。この真空計
73からコード75が導出され、図示しないゲージアン
プに接続されている。また、前記コネクタ44にはコー
ド76のプラグ77が差し込まれて前記コード45と電
気的に接続されている。そしてコード76の他端は図示
しないゲージアンプに接続されている。
【0041】また、配管55は図示しない真空排気ポン
プに連通された真空バルブと大気に連通されたリークバ
ルブに接続され、リークバルブを閉じて真空バルブを開
くと配管55内は真空となり、真空バルブを閉じてリー
クバルブを開くと配管55内は真空破壊されるようにな
っている。
【0042】次に前述のように構成された真空排気真空
破壊装置の動作を図6を参照して説明する。まず真空容
器31を搬送して固定台68上に載置し、図示しない固
定装置で真空容器31を固定する。真空容器31が固定
台68上に載置されたことをセンサ(図示せず)が検出
すると、ハウジング昇降装置71が作動してハウジング
52が真空容器31に当接するまで上昇する。
【0043】次に電磁コイル56bを励磁して永久磁石
56aの磁力を打ち消した状態で、モータ62を駆動し
てねじ棒58を介して昇降台57を上昇させて昇降台5
7の上面を容器本体32の補助開口部32bを閉塞して
いるプレート34に当接させる。このとき電磁石56は
消磁されているので、プレート34の磁性体41に接近
しても何ら磁力を生じず、吸着時の衝撃によって塵埃等
が発生することはない。そして、次に電磁コイル56b
の励磁をオフして永久磁石56aの磁力によって電磁石
56をプレート34の磁性体41に吸着させる。
【0044】次に配管55の図示しないリークバルブを
閉じて真空バルブを開き、配管55及び空間D内を真空
にする。そして真空計73によって検出された配管55
内の圧力が、真空計43によって検出された真空容器3
1内の圧力と同じか又はそれ以下になったときに、モー
タ62を逆回転させて昇降台57を下降させる。このと
き、真空容器31内の圧力と配管55内の圧力はほぼ同
一なので、プレート34は容器本体32に吸着しておら
ず、従ってプレート34は電磁石56の永久磁石56a
の磁力によって昇降台57上に吸着された状態で、昇降
台57とともに下降する(図6に示す状態となる)。
【0045】これによって真空容器31の内部は配管5
5を介して真空排気ポンプと連通され、真空容器31の
内部は真空排気され、その真空度は一定値以下に保たれ
る。なお真空容器31を真空排気真空破壊装置51上に
取り付けて保管しておく間は、常時真空容器31の真空
排気を継続しておいてもよいし、常時でなく定期的(断
続的)に真空排気してもよい。
【0046】次に真空容器31を真空排気真空破壊装置
51から取り外す際には、まずモータ62を駆動して昇
降台57を上昇させてプレート34を容器本体32の補
助開口部32bに係合させてこれを閉塞する。このとき
プレート34は永久磁石39の磁力によって磁性体38
に吸着し、仮止めされる。
【0047】次に、前記配管55に接続された図示しな
い真空バルブを閉じてリークバルブを開き、配管55内
及び空間D内を大気圧にする。これによって空間D内の
圧力は真空容器31の圧力よりも大きくなり、この圧力
差によって、プレート34は容器本体32に吸着され確
実に固定される。そして、モータ62を駆動して昇降台
57を下降させ、真空容器31を真空排気真空破壊装置
51から切り離して搬送可能にする。なお上記真空排気
真空破壊装置51を多数台並べて設置し、これらにそれ
ぞれ真空容器31を取り付けて、長期保管を行ってもよ
い。
【0048】図7は本発明に係る搬送可能な真空容器の
第3実施例を示す。本実施例では、図1に示す真空容器
に更にもう1個の補助開口部3aを設け、この補助開口
部3aを開閉する別のプレート8を設けたものである。
即ち、真空容器1は2個の補助開口部3a,3aと、2
個のプレート8,8を備えている。各プレート8が永久
磁石10a、磁性材プレート10bを備え、各補助開口
部3aの周縁には磁性材リング7が設けられていること
は図1の真空容器と同様である。
【0049】本実施例の真空容器1においては、1方の
補助開口部3aが真空排気用になっていて真空排気装置
11Aに接続可能であり、他方の補助開口部3aが真空
破壊用になっていて真空破壊装置11Bに接続可能であ
る。そして、真空排気装置11AはバルブV1を介して
真空ポンプ21に連通され、真空破壊装置11Bはバル
ブV2を介して大気22に連通されている。
【0050】一般に、真空排気時には、真空容器内部に
浮遊している粒子が、補助開口部を経由して真空容器か
ら真空排気系に吸引される。但しその吸引された粒子の
一部は真空排気真空破壊装置の内部の壁やベローズ等に
付着する。補助開口部が1箇所で真空排気と真空破壊を
1台の真空排気真空破壊装置で共用する場合、真空排気
時に真空排気真空破壊装置内部に付着した粒子が、真空
破壊時にその空気の流れにより剥離し、搬送用容器内部
に再び入り、保管されたウエハを汚染する可能性があ
る。
【0051】しかしながら、本実施例によれば、補助開
口部を真空容器に2箇所つけ、真空排気用と真空破壊用
の補助開口部3a,3aとし、これら補助開口部3a,
3aをそれぞれ真空排気装置11Aと真空破壊装置11
Bに接続可能としたため、真空破壊時の粒子汚染を更に
少なくすることができる。
【0052】次に図1及び図2に示す真空容器1及び真
空排気真空破壊装置11を用いた真空処理方法及び装置
の一実施例を説明する。本実施例においては、搬送用の
真空容器1に入ったウエハは、真空雰囲気のまま真空プ
ロセス室に移載される。真空処理装置は図8に示される
ように、ウエハを収納して搬送する真空容器1と、この
真空容器1内の真空排気及び真空破壊を行う真空排気真
空破壊装置11と、真空容器1に接続可能でありウエハ
を真空容器1との間で出し入れするロードロック室81
と、このロードロック室81にゲートバルブ82を介し
て接続されウエハの移載を行うロボット83aが配置さ
れているロボット室83と、ウエハに真空処理を施す真
空プロセス室84とを備えている。また、ロードロック
室81内には昇降機構86により昇降する昇降台87が
配設されている。なお、ロードロック室81は上部ロー
ドロック室81Aと下部ロードロック室81Bに画成さ
れている。
【0053】次に、前述のように構成された真空処理装
置による真空処理方法について説明する。まず大気圧下
で、プレート8が補助開口部3aを閉塞している蓋3を
真空排気真空破壊装置11の上におく。次にウエハを収
容したウエハキャリア5を蓋3上に載置し、蓋3上に容
器本体2をおく。図3に示す実施例で説明した方法によ
り、真空容器1の内部の真空排気を行い、ウエハを真空
状態で保管する。
【0054】次に、図4に示す実施例で説明した方法に
より、真空容器1を真空排気真空破壊装置11から切り
離して搬送可能な状態にする。この真空容器1をプロセ
ス装置へ搬送し、装置の近くにある別の真空排気真空破
壊装置11の上におき、真空容器1の内部の真空排気を
行い真空容器内部の真空度を一定に保つ。プロセス装置
があいたのを待ち、真空容器1をプロセス装置の上部ロ
ードロック室81Aに入れ、上部ロードロック室81A
の扉を閉じ上下部ロードロック室81A、81Bを真空
排気ポンプ(図示せず)により真空にした後、容器本体
2を上部ロードロック室81Aに残したまま昇降台87
を下降させてウエハキャリア5を載置した蓋3のみを下
部ロードロック室81Bへ移動する。そして、ウエハ移
載ロボット83aによってウエハをウエハキャリア5か
ら真空プロセス室84へ移載する。
【0055】このように図8に示す方法によれば、真空
を破壊せずにウエハを搬送用の真空容器1から、真空プ
ロセス室84内に移載し、所定の真空処理を行うことが
できる。所定の真空処理を行った後、ウエハを搬送用の
真空容器1内に戻し、先と逆の操作を行い、内部が真空
状態の真空容器1にウエハを入れた状態とする。そし
て、この真空容器1を次のプロセス装置へ搬送し、先と
同じ操作を行うことにより、真空を破壊せずに次のプロ
セス装置にウエハを移載することができる。
【0056】次に図1及び図2に示す真空容器1及び真
空排気真空破壊装置11を用いた真空処理方法及び装置
の別の実施例を図9を参照して説明する。本実施例にお
いては、搬送用の真空容器1に入ったウエハは、真空雰
囲気で真空プロセス装置近くまで搬送され、真空雰囲気
中で保管されプロセス処理を待機する。プロセス装置に
ウエハを入れる時は、真空容器1内の真空破壊を行い、
一旦ウエハキャリア5に入ったウエハを真空容器1から
大気に出して、次に通常のプロセス装置のロードロック
室にウエハキャリア5ごとウエハを入れる。
【0057】真空処理装置は図9に示されるように、ウ
エハを入れて搬送する真空容器1と、真空排気真空破壊
装置11と、ウエハキャリア5に入ったウエハを大気圧
状態で内部に入れて扉を閉めて真空排気する通常のロー
ドロック室91と、このロードロック室91にゲートバ
ルブ92を介して接続されウエハの移載を行うロボット
93aが配置されているロボット室93と、ウエハに真
空処理を施す真空プロセス室94とを備えている。ま
た、ロードロック室91内には昇降機構96により昇降
する昇降台97が配設されている。
【0058】次に前述のように構成された真空処理装置
による真空処理方法について説明する。プロセス装置ま
で真空容器1を搬送し、プロセス装置近くに設置されて
いる真空排気真空破壊装置11を使用して、真空容器1
内の真空度を維持して待機するまでは図8に示す実施例
と同様である。次に真空排気真空破壊装置11を使用し
て、図4に示す実施例で説明した方法により、真空容器
1内を真空破壊した後、一旦ウエハキャリア5に入った
ウエハを真空容器1から大気に出して、次に通常のプロ
セス装置のロードロック室91にウエハキャリア5ごと
ウエハを入れる。この後はロードロック室91内の圧力
を真空にし、ゲートバルブ92を開き、ロボット室93
内のロボット93aにより、ウエハを真空プロセス室9
4内に移載し、所定の真空処理を行う。所定の真空処理
を行った後、ウエハを搬送用の真空容器1内に戻し、真
空排気真空破壊装置11により真空容器1内を真空排気
しウエハの保管を行い、次の真空処理のために待機す
る。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空容器に設けられたゲートを介して真空容器内を真空排
気することができる。したがって、真空容器内に被搬送
物を保管中に真空容器内の真空度が低下して酸化等によ
り被搬送物が劣化することを防止できる。
【0060】また、本発明の真空処理方法及び装置の1
態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送物を
保管した後、真空容器を真空プロセス装置までもってい
き、真空下で被搬送物を真空プロセス装置に移載するこ
とができる。
【0061】さらに、本発明の真空処理方法及び装置の
他の態様によれば、真空容器内を真空排気しつつ被搬送
物を保管した後に真空容器内の真空破壊を行い、大気圧
下で被搬送物を真空プロセス装置に移載することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る真空容器の一実施例を示す断面図
である。
【図2】本発明に係る真空容器及び真空排気真空破壊装
置の一実施例を示す断面図である。
【図3】図2に示す真空容器及び真空排気真空破壊装置
の動作説明図である。
【図4】図2に示す真空容器及び真空排気真空破壊装置
の動作説明図である。
【図5】本発明に係る真空容器の第2実施例を示す断面
図である。
【図6】本発明に係る真空容器及び真空排気真空破壊装
置の他の実施例を示す断面図である。
【図7】本発明に係る真空容器の第3実施例を示す断面
図である。
【図8】本発明に係る真空処理方法及び装置の一実施例
を示す説明図である。
【図9】本発明に係る真空処理方法及び装置の他の実施
例を示す説明図である。
【符号の説明】
1,31 真空容器 2,32 容器本体 3,33 蓋 4,34 プレート 5 ウエハキャリア 8 プレート 11,51 真空排気真空破壊装置 12,52 ハウジング 16,57 昇降台 21 真空排気ポンプ 81,91 ロードロック室 83,93 ロボット室 84,94 真空プロセス室
フロントページの続き (72)発明者 松村 正夫 神奈川県藤沢市本藤沢4丁目2番1号 株式会社 荏原総合研究所内 (72)発明者 吉岡 毅 神奈川県藤沢市本藤沢4丁目2番1号 株式会社 荏原総合研究所内 (56)参考文献 特開 平5−95041(JP,A) 特開 平4−294766(JP,A) 特開 平4−184958(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 3/00 - 3/04 H01L 21/00 - 21/98

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被搬送物の出入用の主開口部を有した容
    器本体と、前記容器本体の開口部を開閉可能に閉塞する
    蓋からなる搬送可能な真空容器において、前記容器本体
    又は前記蓋に容器内の真空排気及び/又は真空破壊用の
    ゲートが設けられ、前記ゲートは、前記容器本体又は前
    記蓋に設けられた補助開口部と、該補助開口部を開閉可
    能に閉塞するプレートとからなり、該プレートは真空容
    器内外の差圧によって閉塞することを特徴とする搬送可
    能な真空容器。
  2. 【請求項2】 前記プレートは永久磁石を具備し、前記
    補助開口部の近傍には前記永久磁石の磁力が作用する磁
    性体が設けられていることを特徴とする請求項1記載の
    搬送可能な真空容器。
  3. 【請求項3】 被搬送物の出入用の主開口部を有した容
    器本体と、前記容器本体の開口部を開閉可能に閉塞する
    蓋と、前記容器本体又は前記蓋に設けられ容器内の真空
    排気及び/又は真空破壊用のゲートとを備えた搬送可能
    な真空容器を用いた真空処理方法であって、 真空容器の蓋を開けて真空容器内に被搬送物を入れた後
    に蓋を閉める工程と、被搬送物の保管中に容器内を所定
    真空度に保つために、前記ゲートを開いて真空容器内部
    該ゲートを介して真空排気しつつ保管する工程と、 前記ゲートを閉塞して前記真空容器をロードロック室ま
    で搬送する工程と、 前記真空容器とロードロック室とを接続し、真空下で真
    空容器の蓋を開放し被搬送物をロードロック室に移送す
    る工程と、 を備えたことを特徴とする真空処理方法。
  4. 【請求項4】 被搬送物の出入用の主開口部を有した容
    器本体と、前記容器本体の開口部を開閉可能に閉塞する
    蓋と、前記容器本体又は前記蓋に設けられ容器内の真空
    排気及び/又は真空破壊用のゲートとを備えた搬送可能
    な真空容器を用いた真空処理方法であって、 真空容器の蓋を開けて真空容器内に被搬送物を入れた後
    に蓋を閉める工程と、 被搬送物の保管中に容器内を所定真空度に保つために、
    前記ゲートを開いて真空容器内部を該ゲートを介して
    空排気しつつ保管する保管工程と、 前記保管工程の後に、前記ゲートを開いた状態で前記真
    空容器内に大気を導入し該真空容器内の真空破壊を行う
    工程と、 大気圧下で真空容器の蓋を開放した後に被搬送物を真空
    容器から取り出してロードロック室に移送する工程と、 を備えたことを特徴とする真空処理方法。
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