JPH0467246B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は金属磁性体を用いた記録および再生用
の磁気ヘツドに関する。

〔従来技術〕

従来より、磁気ヘツドコアを構成する磁性材料
としてフエライトを用いた磁気ヘツドが実用化さ
れている。フエライト材よりなる磁気ヘツドは、
高透磁率を有し再生能率が高く、また耐摩耗性に
も優れているためVTR用ビデオヘツドとして広
く用いられている。しかし、最近ではVTRの高
性能化、小型軽量化の要請にともない、磁気テー
プの保持力が従来の500〜600エルステツド（酸化
物テープ）から1200〜1500エルステツド（メタル
テープ）に移行しつつある。このように磁気テー
プの保磁力が高くなると従来のフエライト（飽和
磁束密度約5000ガウス）では記録が不十分とな
る。一方、磁気ヘツドコア材を構成する他の磁性
体として、センダスト（Fe−Al−Si合金）ある
いは非晶質磁性合金のような金属磁性体を用いた
磁気ヘツドは、素材の飽和磁束密度がフエライト
より高く、前記高保磁力メタルテープに対しても
十分記録可能なものが得られ、かつ摺動雑音が低
いという優れた特性を有する。しかし、一般に使
用されるヘツド形状でのコア厚さではビデオ周波
数領域での実効透磁率がフエライトより低く、従
つて再生能率は低くなる。さらに最大の問題点と
して耐摩耗性に劣るという欠点がある。

最近では上記問題を解決するには、トラツク幅
の厚みを有する金属磁性体と耐摩耗性に優れた保
護材とを組み合せた磁気ヘツドが提案されてい
る。例えば、第１図に示すように磁気回路を構成
した金属磁性体１０の両側面に保護材１１，１
１′が設けられている（特開昭53−109613号）。こ
こで、図中１２は非磁性材を介したギヤツプ、１
３はコイル巻線用窓である。このような磁気ヘツ
ドコアは第２図のような工程で接合ブロツクが作
られる。第２図ａは保護材１１の上にトラツク幅
に等しい厚みの金属磁性体１０が蒸着あるいはス
パツタリング法によつて形成され、もう一方の保
護材１１′を金属磁性体１０の面で接合して、第
２図ｂに示すような接合ブロツク１４を得る。こ
の時の接合材としては樹脂、ガラス、ロー材等が
ある。一方、コア材の金属磁性体に対して保護材
は耐摩耗性、熱膨張係数、加工性等を適当に設定
したガラス、セラミツク等の電導性の低い材料の
中から選ばれる。しかし、これら保護材を金属磁
性体と組み合せて接合する場合、前記、樹脂、ガ
ラス、ロー材を用いると、一方が接合され易くも
う一方が接合され難いという欠点を持つている。
例えば、樹脂は比較的容易に接合可能であるが、
精度や湿度に対して信頼に欠け、またテープ走行
中に表面に樹脂がしみ出してしまうという最大の
欠点をもつている。一方、ガラスは保護材との接
合強度は強いが金属との接合強度が弱い。またロ
ー材はその逆である。というようにどちらも異種
材料の接合に対して一長一短があり十分満足する
ものではない。たとえ中間膜を介して接合されて
もその接合強度は弱く、加工中にはく離してしま
うというような問題が起り、加工歩留りが悪いと
いう欠点がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は前記従来の欠点を解消し、金属
磁性体と保護材を組み合せた磁気ヘツドにおいて
接合強度が高く、かつ、耐摩耗性にも優れ、加工
歩留りの優れた磁気ヘツドの構造を提供すること
にある。

〔発明の概要〕

本発明は保護材に用いるガラス、セラミツク等
の酸化物がガラスとの接合強度が高いということ
に注目し、主な接合部が保護材面で行なわれるよ
うなヘツド構造にすることによつて解決した。

本発明は磁気ヘツドの形状を有する金属磁性体
の主磁路形成面を２個の保護基板で挟んだ磁気ヘ
ツドにおいて、少なくとも一方の保護基板面に浅
設を設け該溝にトラツク幅にほぼ等しい厚みの金
属磁性体を埋め込み、主な接合強度を２個の保護
基板面の接合部で構成した磁気ヘツドである。具
体的な一例を第３図に示す。すなわち、保護材１
１および１１′の少なくとも一方の面にほぼトラ
ツク幅に等しい深さの浅溝を形成し、該浅溝に金
属磁性体１０を充填してなり、保護材１１および
１１′の主たる接合は保護材同志の接合面１５，
１５′で行なわれる。上記の接合ブロツクは磁気
コア半体１６，１６′に分割され、少なくとも一
方のコア半体にコイル巻線溝１３を形成して後、
ギヤツプ突き合せ面に非磁性ギヤツプ材を介して
コア半体１６，１６′を接合して磁気ヘツドコア
を得る。この時の主な接合は同様に保護材面で行
なわれ、他にコイル巻線窓の一部もしくはコア後
部に接合補強材を充填してもよい。

以下実施例によつて磁気ヘツド構造の特徴およ
びその製造方工程を詳細に説明する。

〔発明の実施例〕

第４図は本発明の磁気ヘツドを製造する工程の
第１の実施例を示す。工程順を示すイ等はそれぞ
れ第４図のイ等に対応する。

(イ) 磁気ヘツドの一方の側面を形成する保護基板
２０を用意する。該保護基板は、非磁性セラミ
ツク材からなり、幅ａはコア幅で、約３mm、長
さｂはコア高さで約2.5mm（２個取りの長さが
示してある）、厚みｃはコア厚みの半分で約１
mm、それぞれ加工代を含めた寸法である。上面
２１はもう一方の保護基板（後述）との接合面
となる。接合面２１に金属磁性体を充填するた
めの浅溝２２が形成される。浅溝２２は磁気ヘ
ツドのトラツク幅より若干深めに形成され、溝
幅をコア幅より狭くし、保護材での接合面を残
すように加工する。加工は砥石あるいはマスク
エツチングによつて行なわれる。

(ロ) 次に上記浅溝２２に金属磁性体、例えばセン
ダストあるいは非晶質磁性合金２３を蒸着ある
いはスパツタリング等の薄膜形成技術によつて
形成する。

(ハ) 次に上記の磁性膜形成工程で生じた余分の金
属磁性体を研削、研摩等によつて除去し、接合
面を形成する。この時、金属磁性体膜の厚みは
トラツク幅ｔにほぼ等しくし、両端面は保護基
板面が現われるようにする。

(ニ) 次に前記研摩面（接合面）にガラス２４をス
パツタリング等の手段によつて設ける。

(ホ) 次にもう一方の保護基板２０′を重ね合せる。
保護基板２０′の接合面は鏡面研摩しておくこ
とが望ましく、場合によつては上記研摩面にも
ガラス膜を形成すれば接合強度を良好にするこ
とができる。

(ヘ) 次に上記重ね合せた保護基板を加圧しながら
加熱して接合体２５を形成する。

(ト) 次に上記接合体２５を中央で分割し１組のコ
アブロツク半体２６，２６′形成して後、再び
突き合せて接合するギヤツプ突き合せ面２７，
２７′を鏡面研摩を行なう。

(チ) 次に少なくとも一方のギヤツプ突き合せ面に
コイル巻線用の溝２８形成する。その後、ギヤ
ツプ突き合せ面２７，２７′に非磁性ギヤツプ
膜をスパツタ法によつて規定の厚さだけ形成す
る。この場合、ヘツドコアの前部突き合せ部分
には高融点ガラスを、後部突き合せ部分には接
合材となる低融点ガラスを形成するとよい。

(リ) 次に、２個のコアブロツク２６，２６′を突
き合せて、加熱しながら加圧して接合し、磁気
ヘツドコアブロツク２９を形成する。この時補
強材として、窓の一部にもガラスを補充するこ
とによつて強度を高めることができる。主な接
合部の強度は保護材の接合部、３１，３１′に
よつて保障される。すなわち、酸化物系の保護
材はガラスとのぬれ性がよく、接合強度も優れ
ているため、加工工程においてはく難などの問
題がほとんど起らない。次に点線部で切断して
(ヌ)に示すような一個のヘツドコア３２を得る。

次に（ル）、に示すようにコア幅Ｔ（約150μｍ）
に切断してヘツドコアチツプ３３が完成する。

第５図〜および第６図に本発明の他の実施
例を示す。工程は保護基板２０に金属磁性体を
充填するための浅溝２２を設ける。この時、浅溝
の端部に傾斜を設け、該浅溝に充填された金属磁
性体の端縁と作動ギヤツプが平行部を持たないよ
うにアジマス損失を与え、金属磁性体端部が疑似
ギヤツプとして作動しないようにしている。傾斜
部の角度θは60°〜30°の範囲とした。浅溝の深さ
は30μｍとした。工程は上記浅溝が埋まる程度
にセンダスト合金２３をスパツタリングする。

工程は上記センダスト合金膜の不用の部分を
研削、研摩して除去し、センダスト膜厚をトラツ
ク幅ｔ（25μｍ）となるように規定した。以後の
工程は第４図ニ〜ルまでの工程によつて作製さ
れ、工程に示すようなテープ摺動面の構造を持
つヘツドコアを完成する。また、トラツク幅の広
いヘツドコアを作製する場合には、第６図に示す
ようにセンダスト合金膜が充填された２個のブロ
ツクを重ね合せることによつて得ることができ
る。

また、センダスト合金膜は単層膜でもよく、絶
縁膜を中間に挾んで多層膜にしてもよい。特にト
ラツク幅の広いヘツドコアにおいては渦電流損失
が低減できるために高周波特性が劣化しない。

本発明によれば、作動ギヤツプｇと金属磁性体
２３の端部が平行部を形成しないため、雑音信号
として再生することが解消される。

本発明の他の実施例を第７図〜に示す。第
７図は堆積された金属磁性体の厚膜をトラツク幅
とするものである。すなわち、工程に示すよう
に保護基板２０に設けた浅溝をトラツク幅より若
干深く形成し、これに金属磁性体をトラツク幅の
厚みだけ堆積し、さらにその上に非磁性保護材３
４を堆積した構造を有する。

工程は研削、研摩によつて不用の非磁性保護
材および金属磁性体を除去する。この時、非磁性
保護材を残すようにすれば、金属磁性体の膜厚が
トラツク幅となるため、トラツク幅精度が向上す
る。

〔発明の効果〕

本発明によれば磁気ヘツドの形状を有する金属
磁性体の側面を２個の保護基板で挾んだ磁気ヘツ
ドにおいて、少なくとも一方の保護基板に浅溝を
設け、該溝にトラツク幅にほぼ等しい厚みの金属
磁性体を埋め込み、主な接合強度を２個の保護基
板面の接合部で構成された構造を有するため、保
護基板に酸化物系の非磁性、高硬度の材料を用い
ることによつて、接合材となるガラスとの接合強
度が高くなり、ヘツド加工工程においてのはく離
の問題がほとんどなくなり、ヘツド加工歩留りが
著しく向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の磁気ヘツドの構造を示す斜視
図、第２図ａ，ｂは従来の磁気ヘツドの作製法を
示すブロツク斜視図、第３図は本発明の磁気ヘツ
ドの一例を示すコア斜視図、第４図イ〜ルは本発
明の磁気ヘツド製造工程を説明するための斜視図
および平面図、第５図〜、第６図、第７図
〜は本発明の他の実施例を説明する磁気ヘツド
製造工程図およびヘツド先端平面図である。 １０，２３……金属磁性体、１１，２０……保
護体、２２……金属磁性体充填用浅溝、２４……
接合材。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 磁気ヘツドの磁路の少なくとも一部を形成す
   る磁性層の主磁路形成面を２個の保護基板で挟ん
   だ磁気ヘツドにおいて、少なくとも一方の保護基
   板面に溝を設け該溝に上記磁性層を埋め込んだこ
   とを特徴とする磁気ヘツド。 ２ 前記保護基板の溝の端部が傾斜しており、該
   溝に設けられた前記磁性層端縁が作動ギヤツプと
   平行部を持たないことを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の磁気ヘツド。 ３ 前記溝に設けた磁性層の上に非磁性膜を有す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   磁気ヘツド。 ４ 前記磁性層が異種の膜を積層して形成されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の磁気ヘツド。