JPH0458469B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、合成重合体等の有機物質用の光安定
剤として有用な2,2′−メチレンビス(4−第三
オクチル−6−ベンゾトリアゾリルフエノール)
を提供するものである。 2−ヒドロキシフエニルベンゾトリアゾール化
合物は合成樹脂等の各種有機材料用の光安定剤で
あることが知られているが、該化合物は低分子量
であるために樹脂の加工中に揮発したり、あるい
は水、有機溶剤等によつて樹脂中から抽出されて
しまい、結果として有機物質を長期に渡つて安定
化することができなかつた。 このため、大きな置換基を導入したり、あるい
は該化合物をアルデヒド類で二量化することも提
案されている。 例えば、特公昭55−39180号公報には高級アル
デヒド類で二量化することが記載されており、特
開昭49−61071号公報には特定の結合手で二量化
することが記載されており、また、同公報にはメ
チレンビス(ベンゾトリアゾリルフエノール)も
記載されている。 しかしながら、これらの化合物の効果は未だ充
分満足し得るものではなく、更に光安定化効果の
優れた化合物が求められていた。 本発明者等は光安定化効果に優れ、しかも耐熱
性及び耐抽出性の良好な化合物を得るために鋭意
検討を重ねた結果、次の式を有する2,2′−メチ
レンビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリア
ゾリルフエノール)が上記課題を全て解決するこ
とを見出し本発明に到達した。 上記化合物は、例えば、2−ベンゾトリアゾリ
ル−4−第三オクチルフエノールをホルムアルデ
ヒド類により二量化する方法、2,2′−メチレン
ビス(4−第三オクチルフエノール)を常法に従
いベンゾトリアゾリル化する方法等によつて容易
に製造することができる。 本発明の2,2′−メチレンビス(4−第三オク
チル−6−ベンゾトリアゾリルフエノール)は各
種合成樹脂、ゴム、ワツクス、油脂等の有機材料
ようの光安定剤として有用である。 本発明の化合物により安定化される有機材料と
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン−1、ポリ−3−メチルペンテン
等のα−オレフイン重合体またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体
等のα−オレフイン共重合体、ポリ塩化ビニル、
ポリ臭化ビニル、ポリ弗化ビニル、ホリ塩化ビニ
リデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピ
レン、ポリ弗化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−ウレタン共重合体等の含ハロゲ
ン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、ポリアクリロニトリル、スチレンと他の単
量体(例えば無水マレイン酸、ブタジエン、アク
リロニトリル等)との共重合体、アクリロニトリ
ル−ブタジエン−スチレン三元共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジエン−スチレン三元共重
合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリテトラメチレンエーテル
グリコールテレフタレート等の直鎖ポリエステル
またはポリエーテルエステル、ポリフエニレンオ
キシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、フエノ
ール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエ
ンゴム等の高分子物質及びこれらのブレンド物、
天然油脂、合成エステル油、鉱油等があげられ
る。 本発明を、以下の実施例によつて更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によつて制限
されるものではない。 実施例 1 2,2′−メチレンビス(4−第三オクチル−6
−ベンゾトリアゾリルフエノール)の製造 2−ベンゾトリアゾリル−4−第三オクチルフ
エノール32.3g、ジエチルアミン11.0g及びパラ
ホルムアルデヒド5.2gをブタノール25mlに溶解
し、還流下24時間撹拌した。 その後、減圧下に脱溶媒して2−ジエチルアミ
ノメチル−4−第三オクチル−6−ベンゾトリア
ゾリルフエノール39.2gを得た。 上記生成物37g及び2−ベンゾトリアゾリル−
4−第三オクチルフエノール25gをキシレン60ml
に溶解し、ナトリウムメトキサイド(28%メタノ
ール溶液)3.1gを添加した。 窒素ガスを通気しながら還流下に10時間撹拌
し、その後減圧下に脱溶媒し、粗生成物55.2gを
得、これをn−ヘプタンより再結晶し、融点200
℃の白色結晶を得た。 上記生成物を重クロロホルムに溶解し、NMR
を測定するとδ値4.9に一重線があり、目的物で
あることを確認した。 実施例 2 本発明化合物の優れた光安定化効果をみるため
に、下記配合により厚さ0.3mmのプレスシートを
作成し、このシートについて高圧水銀ランプによ
る耐光性の試験を行つた。また、80℃の熱水に48
時間浸漬後のシートについても耐光性の試験を行
つた。その結果を表−1に示す。 〔配合〕 ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネ
ート 0.1 安定剤(表−1参照) 0.2
剤として有用な2,2′−メチレンビス(4−第三
オクチル−6−ベンゾトリアゾリルフエノール)
を提供するものである。 2−ヒドロキシフエニルベンゾトリアゾール化
合物は合成樹脂等の各種有機材料用の光安定剤で
あることが知られているが、該化合物は低分子量
であるために樹脂の加工中に揮発したり、あるい
は水、有機溶剤等によつて樹脂中から抽出されて
しまい、結果として有機物質を長期に渡つて安定
化することができなかつた。 このため、大きな置換基を導入したり、あるい
は該化合物をアルデヒド類で二量化することも提
案されている。 例えば、特公昭55−39180号公報には高級アル
デヒド類で二量化することが記載されており、特
開昭49−61071号公報には特定の結合手で二量化
することが記載されており、また、同公報にはメ
チレンビス(ベンゾトリアゾリルフエノール)も
記載されている。 しかしながら、これらの化合物の効果は未だ充
分満足し得るものではなく、更に光安定化効果の
優れた化合物が求められていた。 本発明者等は光安定化効果に優れ、しかも耐熱
性及び耐抽出性の良好な化合物を得るために鋭意
検討を重ねた結果、次の式を有する2,2′−メチ
レンビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリア
ゾリルフエノール)が上記課題を全て解決するこ
とを見出し本発明に到達した。 上記化合物は、例えば、2−ベンゾトリアゾリ
ル−4−第三オクチルフエノールをホルムアルデ
ヒド類により二量化する方法、2,2′−メチレン
ビス(4−第三オクチルフエノール)を常法に従
いベンゾトリアゾリル化する方法等によつて容易
に製造することができる。 本発明の2,2′−メチレンビス(4−第三オク
チル−6−ベンゾトリアゾリルフエノール)は各
種合成樹脂、ゴム、ワツクス、油脂等の有機材料
ようの光安定剤として有用である。 本発明の化合物により安定化される有機材料と
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン−1、ポリ−3−メチルペンテン
等のα−オレフイン重合体またはエチレン−酢酸
ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体
等のα−オレフイン共重合体、ポリ塩化ビニル、
ポリ臭化ビニル、ポリ弗化ビニル、ホリ塩化ビニ
リデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピ
レン、ポリ弗化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−ウレタン共重合体等の含ハロゲ
ン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレ
ン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、ポリアクリロニトリル、スチレンと他の単
量体(例えば無水マレイン酸、ブタジエン、アク
リロニトリル等)との共重合体、アクリロニトリ
ル−ブタジエン−スチレン三元共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジエン−スチレン三元共重
合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリテトラメチレンエーテル
グリコールテレフタレート等の直鎖ポリエステル
またはポリエーテルエステル、ポリフエニレンオ
キシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、フエノ
ール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエ
ンゴム等の高分子物質及びこれらのブレンド物、
天然油脂、合成エステル油、鉱油等があげられ
る。 本発明を、以下の実施例によつて更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によつて制限
されるものではない。 実施例 1 2,2′−メチレンビス(4−第三オクチル−6
−ベンゾトリアゾリルフエノール)の製造 2−ベンゾトリアゾリル−4−第三オクチルフ
エノール32.3g、ジエチルアミン11.0g及びパラ
ホルムアルデヒド5.2gをブタノール25mlに溶解
し、還流下24時間撹拌した。 その後、減圧下に脱溶媒して2−ジエチルアミ
ノメチル−4−第三オクチル−6−ベンゾトリア
ゾリルフエノール39.2gを得た。 上記生成物37g及び2−ベンゾトリアゾリル−
4−第三オクチルフエノール25gをキシレン60ml
に溶解し、ナトリウムメトキサイド(28%メタノ
ール溶液)3.1gを添加した。 窒素ガスを通気しながら還流下に10時間撹拌
し、その後減圧下に脱溶媒し、粗生成物55.2gを
得、これをn−ヘプタンより再結晶し、融点200
℃の白色結晶を得た。 上記生成物を重クロロホルムに溶解し、NMR
を測定するとδ値4.9に一重線があり、目的物で
あることを確認した。 実施例 2 本発明化合物の優れた光安定化効果をみるため
に、下記配合により厚さ0.3mmのプレスシートを
作成し、このシートについて高圧水銀ランプによ
る耐光性の試験を行つた。また、80℃の熱水に48
時間浸漬後のシートについても耐光性の試験を行
つた。その結果を表−1に示す。 〔配合〕 ポリプロピレン 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス(3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネ
ート 0.1 安定剤(表−1参照) 0.2
【表】
【表】
実施例 3
本発明の化合物は優れた耐熱性を有しており、
過酷な加工条件下でもその効果を減ずることがな
い。本実施例においては、高温における押し出し
加工を繰り返すことによる影響をみた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分
間混合したあど、押し出し機でコンパウンドを作
成した(シリンダー温度230℃及び240℃、ヘツド
ダイス温度250℃、回転数20rpm)。 押し出しを5回繰り返した後、このコンパウン
ドを用いて試験片を射出成形機で作成した(シリ
ンダー温度240℃、ノズル温度250℃、射出圧475
Kg/cm2)。 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行つた。また、押し出し1回のコンパウ
ンドを用いた試験片についても耐光性試験を行つ
た。 その結果を表−2に示す。 〔配合〕 エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤(表−2参照) 0.2
過酷な加工条件下でもその効果を減ずることがな
い。本実施例においては、高温における押し出し
加工を繰り返すことによる影響をみた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分
間混合したあど、押し出し機でコンパウンドを作
成した(シリンダー温度230℃及び240℃、ヘツド
ダイス温度250℃、回転数20rpm)。 押し出しを5回繰り返した後、このコンパウン
ドを用いて試験片を射出成形機で作成した(シリ
ンダー温度240℃、ノズル温度250℃、射出圧475
Kg/cm2)。 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行つた。また、押し出し1回のコンパウ
ンドを用いた試験片についても耐光性試験を行つ
た。 その結果を表−2に示す。 〔配合〕 エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤(表−2参照) 0.2
【表】
表−1及び表−2の結果から、本願発明の化合
物は単量体ベンゾトリアゾリルフエノール及び類
似の二量体化合物よりも光安定化効果が著しく大
きく、しかも、耐抽出性及び耐熱性に優れている
ことが明らかである。
物は単量体ベンゾトリアゾリルフエノール及び類
似の二量体化合物よりも光安定化効果が著しく大
きく、しかも、耐抽出性及び耐熱性に優れている
ことが明らかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の式で表される2,2′−メチレンビス(4
−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリルフエノ
ール)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24137584A JPS61118373A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | ビス(ベンゾトリアゾリルフェノ−ル)化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24137584A JPS61118373A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | ビス(ベンゾトリアゾリルフェノ−ル)化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61118373A JPS61118373A (ja) | 1986-06-05 |
JPH0458469B2 true JPH0458469B2 (ja) | 1992-09-17 |
Family
ID=17073347
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24137584A Granted JPS61118373A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | ビス(ベンゾトリアゾリルフェノ−ル)化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61118373A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3709779A1 (de) * | 1987-03-25 | 1988-10-06 | Bayer Ag | Polydiorganosiloxan-polycarbonat- blockcokondensate mit verbessertem schutz gegen uv-licht |
DE69413750T2 (de) * | 1993-06-21 | 1999-05-27 | Mitsubishi Paper Mills Limited, Tokio/Tokyo | Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
KR960007643A (ko) * | 1994-08-17 | 1996-03-22 | 김준웅 | 자외선 차단성 폴리에스테르 중합체의 제조방법 |
JP4162274B2 (ja) * | 1996-07-31 | 2008-10-08 | 城北化学工業株式会社 | ビス(2−ヒドロキシフェニル−3−ベンゾトリアゾール)メタン類の製造方法 |
JP2001106677A (ja) * | 1999-10-06 | 2001-04-17 | Osaka Seika Kogyo Kk | ベンゾトリアゾール系化合物及び光安定剤 |
JP4993421B2 (ja) | 2001-06-07 | 2012-08-08 | 株式会社Adeka | 合成樹脂組成物 |
KR101773536B1 (ko) | 2009-09-04 | 2017-08-31 | 가부시키가이샤 아데카 | 자외선 흡수제를 함유한 자외선 차단용 화장료 조성물 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1670951A1 (de) * | 1967-11-21 | 1971-02-18 | Bayer Ag | Alkylen-bis-(benztriazolyl-phenole) |
US3936305A (en) * | 1973-12-03 | 1976-02-03 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Color photographic photosensitive material containing ultraviolet ray-absorbing compound |
JPS61113667A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-31 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 耐光性の改善された熱硬化性合成樹脂塗料組成物 |
-
1984
- 1984-11-15 JP JP24137584A patent/JPS61118373A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1670951A1 (de) * | 1967-11-21 | 1971-02-18 | Bayer Ag | Alkylen-bis-(benztriazolyl-phenole) |
US3936305A (en) * | 1973-12-03 | 1976-02-03 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Color photographic photosensitive material containing ultraviolet ray-absorbing compound |
JPS61113667A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-31 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 耐光性の改善された熱硬化性合成樹脂塗料組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61118373A (ja) | 1986-06-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |