JPH0456135A - 積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法 - Google Patents
積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法Info
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- JPH0456135A JPH0456135A JP16337490A JP16337490A JPH0456135A JP H0456135 A JPH0456135 A JP H0456135A JP 16337490 A JP16337490 A JP 16337490A JP 16337490 A JP16337490 A JP 16337490A JP H0456135 A JPH0456135 A JP H0456135A
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Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は電極及び配線等の積層構造の金属層を有する半
導体装置の製造方法に関する。
導体装置の製造方法に関する。
[従来の技術]
従来、半導体装置の電極及び配線等の金属層には、層間
絶縁膜との密着性及び下地とのバリア性を向上させるた
めに、積層構造が広く使用されている。このような積層
構造の金属層を形成する場合、金属材料の組合せは蝕刻
工程の簡便さから、以下に示す考えに基づいて選定され
ている。即ち、第1の金属材料として塩素系ガスにより
蝕刻可能なもの、例えばアルミニウム又はアルミニウム
合金を使用する場合は、第2の金属材料も塩素ガス系に
より蝕刻可能なもの、例えばチタン又はチタン合金を使
用する。これにより、蝕刻工程においては主に塩素系ガ
スを使用することができ、連続して蝕刻処理できるため
、作業を簡略化することができる。一方、フッ素系ガス
により蝕刻する場合は、第1の金属材料としてタングス
テン等を使用し、これに組み合わせる第2の金属材料と
してタングステンシリサイド等を使用する。
絶縁膜との密着性及び下地とのバリア性を向上させるた
めに、積層構造が広く使用されている。このような積層
構造の金属層を形成する場合、金属材料の組合せは蝕刻
工程の簡便さから、以下に示す考えに基づいて選定され
ている。即ち、第1の金属材料として塩素系ガスにより
蝕刻可能なもの、例えばアルミニウム又はアルミニウム
合金を使用する場合は、第2の金属材料も塩素ガス系に
より蝕刻可能なもの、例えばチタン又はチタン合金を使
用する。これにより、蝕刻工程においては主に塩素系ガ
スを使用することができ、連続して蝕刻処理できるため
、作業を簡略化することができる。一方、フッ素系ガス
により蝕刻する場合は、第1の金属材料としてタングス
テン等を使用し、これに組み合わせる第2の金属材料と
してタングステンシリサイド等を使用する。
第3図(a)及び(b)は従来の積層構造の金属電極を
有する半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図であ
る。
有する半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図であ
る。
先ず、第3図(a)に示すように、シリコン基板23上
にタングステンシリサイド膜22及びタングステン膜2
1を順次積層形成する。次に、タングステン膜21上に
フォトレジスト膜24を被着した後に、フォトリソグラ
フィによりフォトレジスト膜24をパターン形成する。
にタングステンシリサイド膜22及びタングステン膜2
1を順次積層形成する。次に、タングステン膜21上に
フォトレジスト膜24を被着した後に、フォトリソグラ
フィによりフォトレジスト膜24をパターン形成する。
次に、第3図(b)に示すように、フォトレジスト膜2
4をマスクとして、フッ素系ガスを使用した反応性イオ
ンエツチング(RIE)により、タングステン膜21及
びタングステンシリサイド膜22を順次選択的に除去す
る。このようにして、積層構造の金属電極をパターン形
成することができる。なお、反応性イオンエツチングに
おいては、塩素系ガス又はフッ素系ガスを基本ガスとし
、必要に応じてフロン等の添加ガスを加えることができ
る。
4をマスクとして、フッ素系ガスを使用した反応性イオ
ンエツチング(RIE)により、タングステン膜21及
びタングステンシリサイド膜22を順次選択的に除去す
る。このようにして、積層構造の金属電極をパターン形
成することができる。なお、反応性イオンエツチングに
おいては、塩素系ガス又はフッ素系ガスを基本ガスとし
、必要に応じてフロン等の添加ガスを加えることができ
る。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述した従来の積層構造の金属層を有す
る半導体装置の製造方法においては、積層された相互に
異なる金属間において、使用する反応ガス(塩素系ガス
又はフッ素系ガス)に対する蝕刻速度が異なる。このた
め、異種金属からなる積層構造の金属層を、同一種類の
ガスを使用した反応性イオンエツチングにより選択的に
除去すると、例えば、第3図に示すように、タングステ
ンシリサイド膜22が選択的にサイドエツチングされて
しまう。そして、このようなサイドエツチングが生じる
と、電極及び配線等の金属層が剥がれ、又は金属層の電
気抵抗が増加するため、半導体装置の品質が低下すると
いう問題点がある。
る半導体装置の製造方法においては、積層された相互に
異なる金属間において、使用する反応ガス(塩素系ガス
又はフッ素系ガス)に対する蝕刻速度が異なる。このた
め、異種金属からなる積層構造の金属層を、同一種類の
ガスを使用した反応性イオンエツチングにより選択的に
除去すると、例えば、第3図に示すように、タングステ
ンシリサイド膜22が選択的にサイドエツチングされて
しまう。そして、このようなサイドエツチングが生じる
と、電極及び配線等の金属層が剥がれ、又は金属層の電
気抵抗が増加するため、半導体装置の品質が低下すると
いう問題点がある。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
サイドエツチング等の不良の発生を防止することができ
、品質を向上させることができる積層構造の金属層を有
する半導体装置の製造方法を提供することを目的とする
。
サイドエツチング等の不良の発生を防止することができ
、品質を向上させることができる積層構造の金属層を有
する半導体装置の製造方法を提供することを目的とする
。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る積層構造の金属層を有する半導体装置の製
造方法は、半導体基板上にフッ素系ガスにより蝕刻可能
の第1の金属膜及び塩素系ガスにより蝕刻可能の第2の
金属膜を積層形成する工程と、前記フッ素系ガス及び前
記塩素系ガスにより夫々前記第1及び前記第2の金属膜
を蝕刻する工程とを有することを特徴とする。
造方法は、半導体基板上にフッ素系ガスにより蝕刻可能
の第1の金属膜及び塩素系ガスにより蝕刻可能の第2の
金属膜を積層形成する工程と、前記フッ素系ガス及び前
記塩素系ガスにより夫々前記第1及び前記第2の金属膜
を蝕刻する工程とを有することを特徴とする。
[作用]
本発明においては、第1の金属膜としてフッ素系ガスに
よる蝕刻速度が第2の金属膜よりも大きいものを使用し
、第2の金属膜として塩素系ガスによる蝕刻速度が第1
の金属膜よりも大きいものを使用する。そして、前記第
1及び前記第2の金属膜を適宜組み合わせて半導体基板
上に積層形成した後に、前記第1及び前記第2の金属膜
を夫々フッ素系ガス及び塩素系ガスにより蝕刻する。こ
のため、従来のように同一種類のガスを使用して多層構
造の金属層を連続的に蝕刻する場合とは異なって、第1
の金属膜(上層又は下層)を蝕刻する際に第2の金属膜
(下層又は上層)は蝕刻されに<<、第2の金属膜を蝕
刻する際に第1の金属膜は蝕刻されにくい。従って、本
発明によれば、電極及び配線等の多層構造の金属層を有
する半導体装置を製造する場合、サイドエツチング等の
不良の発生を防止することができるので、前記金属層の
剥離及び電気抵抗の増加を防止することができ、半導体
装置の品質を向上させることができる。
よる蝕刻速度が第2の金属膜よりも大きいものを使用し
、第2の金属膜として塩素系ガスによる蝕刻速度が第1
の金属膜よりも大きいものを使用する。そして、前記第
1及び前記第2の金属膜を適宜組み合わせて半導体基板
上に積層形成した後に、前記第1及び前記第2の金属膜
を夫々フッ素系ガス及び塩素系ガスにより蝕刻する。こ
のため、従来のように同一種類のガスを使用して多層構
造の金属層を連続的に蝕刻する場合とは異なって、第1
の金属膜(上層又は下層)を蝕刻する際に第2の金属膜
(下層又は上層)は蝕刻されに<<、第2の金属膜を蝕
刻する際に第1の金属膜は蝕刻されにくい。従って、本
発明によれば、電極及び配線等の多層構造の金属層を有
する半導体装置を製造する場合、サイドエツチング等の
不良の発生を防止することができるので、前記金属層の
剥離及び電気抵抗の増加を防止することができ、半導体
装置の品質を向上させることができる。
また、本発明においては、金属層は2層構造に限定され
ることはなく、第1及び第2の金属膜を交互に積層形成
することにより、2層以上の積層構造にすることができ
る。そして、この場合も、第1及び第2の金属膜を蝕刻
する場合は夫々フッ素系ガス及び塩素系ガスを使用する
。
ることはなく、第1及び第2の金属膜を交互に積層形成
することにより、2層以上の積層構造にすることができ
る。そして、この場合も、第1及び第2の金属膜を蝕刻
する場合は夫々フッ素系ガス及び塩素系ガスを使用する
。
フッ素系ガスとしては、六フッ化硫黄(SFs)等の反
応ガスを使用することができる。一方、塩素系ガスとし
ては、三塩化ボロン(BC13)等の反応ガスを使用す
ることができる。また、従来と同様にして、反応ガスに
は必要に応じてフロン23(CHF3)等の添加ガスを
加えることができる。そして、第1及び第2の金属膜は
、上述の反応ガスのプラズマを使用した乾式蝕刻法によ
り蝕刻することができる。
応ガスを使用することができる。一方、塩素系ガスとし
ては、三塩化ボロン(BC13)等の反応ガスを使用す
ることができる。また、従来と同様にして、反応ガスに
は必要に応じてフロン23(CHF3)等の添加ガスを
加えることができる。そして、第1及び第2の金属膜は
、上述の反応ガスのプラズマを使用した乾式蝕刻法によ
り蝕刻することができる。
第1の金属膜はタングステン又はタングステンシリサイ
ド等により構成することができる。一方、第2の金属膜
はチタン又はチタン合金等により構成することができる
。特に、フッ素系ガスによるタングステン膜の蝕刻速度
はフッ素系ガスによるチタン膜の蝕刻速度に比して著し
く速く、塩素系ガスによるチタン膜の蝕刻速度は塩素系
ガスによるタングステン膜の蝕刻速度に比して著しく速
い。
ド等により構成することができる。一方、第2の金属膜
はチタン又はチタン合金等により構成することができる
。特に、フッ素系ガスによるタングステン膜の蝕刻速度
はフッ素系ガスによるチタン膜の蝕刻速度に比して著し
く速く、塩素系ガスによるチタン膜の蝕刻速度は塩素系
ガスによるタングステン膜の蝕刻速度に比して著しく速
い。
このため、第1の金属膜としてタングステン膜を使用し
、第2の金属膜としてチタン膜を使用することが好まし
い。
、第2の金属膜としてチタン膜を使用することが好まし
い。
[実施例コ
次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。
明する。
第1図(a)乃至(e)は本発明の第1の実施例に係る
積層構造の金属電極を有する半導体装置の製造方法を工
程順に示す断面図である。なお、本実施例は主たる電極
材料としてタングステンを使用し、バリアメタルとして
チタンを使用した2層構造の電極を有するものである。
積層構造の金属電極を有する半導体装置の製造方法を工
程順に示す断面図である。なお、本実施例は主たる電極
材料としてタングステンを使用し、バリアメタルとして
チタンを使用した2層構造の電極を有するものである。
先ず、第1図(a)に示すように、スパッタリング法に
よりシリコン基板3上に厚さが例えば約1500人のチ
タン膜2を成長させ、更にこのチタン膜2上に厚さが例
えば約8000人のタングステン膜1を成長させる。
よりシリコン基板3上に厚さが例えば約1500人のチ
タン膜2を成長させ、更にこのチタン膜2上に厚さが例
えば約8000人のタングステン膜1を成長させる。
次に、第1図(b)に示すように、タングステン膜1上
にフォトレジスト膜4を被着した後に、フォトリングラ
フィ工程においてフォトレジスト114をパターン形成
する。
にフォトレジスト膜4を被着した後に、フォトリングラ
フィ工程においてフォトレジスト114をパターン形成
する。
次に、第1図(C)に示すように、フォトレジスト膜4
をマスクとして反応性イオンエツチング(RIE)によ
り、タングステン膜1を選択的に平行平板電極を有する
RIE装置により行うことができる。なお、タングステ
ン膜のエツチングはフッ素系ガスを使用することにより
一層促進され、高速のエツチング速度が得られることが
知られている(Solid 5tate Techno
logy、 日本版、1988年B月号、第23乃至3
5頁)。この場合、反応ガスとして六フッ化硫黄(SF
6)及びフロン23(CHF3 )を夫々20cc/分
及び25cc/分の速度で前記RIE装置に導入し、こ
れらの反応ガスの圧力を15Paに調整する。また、前
記平行平板電極に約300Wの高周波電力(13,56
MH2)を供給することにより、前記反応ガスを励起さ
せてプラズマを発生させる。このガスプラズマによりタ
ングステンIllをエツチングする。このとき、タング
ステン膜1のエツチング速度は約2000λ/分であり
、チタン膜2のエツチング速度は約500λ/分である
。このように、上述のプラズマエツチングにおいて、タ
ングステン膜1のエツチング速度はチタン膜2のエツチ
ング速度に比して約4倍速いので、タングステン膜1は
高速でエツチングされるものの、チタン膜2に到達した
ときにエツチングが実質的に停止する。
をマスクとして反応性イオンエツチング(RIE)によ
り、タングステン膜1を選択的に平行平板電極を有する
RIE装置により行うことができる。なお、タングステ
ン膜のエツチングはフッ素系ガスを使用することにより
一層促進され、高速のエツチング速度が得られることが
知られている(Solid 5tate Techno
logy、 日本版、1988年B月号、第23乃至3
5頁)。この場合、反応ガスとして六フッ化硫黄(SF
6)及びフロン23(CHF3 )を夫々20cc/分
及び25cc/分の速度で前記RIE装置に導入し、こ
れらの反応ガスの圧力を15Paに調整する。また、前
記平行平板電極に約300Wの高周波電力(13,56
MH2)を供給することにより、前記反応ガスを励起さ
せてプラズマを発生させる。このガスプラズマによりタ
ングステンIllをエツチングする。このとき、タング
ステン膜1のエツチング速度は約2000λ/分であり
、チタン膜2のエツチング速度は約500λ/分である
。このように、上述のプラズマエツチングにおいて、タ
ングステン膜1のエツチング速度はチタン膜2のエツチ
ング速度に比して約4倍速いので、タングステン膜1は
高速でエツチングされるものの、チタン膜2に到達した
ときにエツチングが実質的に停止する。
次いで、第1図(d)に示すように、フォトレジスト膜
4及びタングステン膜1をマスクとしてRIEにより、
チタン膜2を選択的に除去する。
4及びタングステン膜1をマスクとしてRIEにより、
チタン膜2を選択的に除去する。
このチタン膜2のエツチングは平行平板電極を有するR
IE装置により行うことができる。なお、チタン膜のエ
ツチングは塩素系ガスを使用することにより一層促進さ
れ、高速のエツチング速度が得られることが知られてい
る( JJac、5clenceTechno log
y 、B7 (4)、1989年、第627乃至632
頁)。
IE装置により行うことができる。なお、チタン膜のエ
ツチングは塩素系ガスを使用することにより一層促進さ
れ、高速のエツチング速度が得られることが知られてい
る( JJac、5clenceTechno log
y 、B7 (4)、1989年、第627乃至632
頁)。
この場合、反応ガスとして三塩化ボロン(BCl2)を
20cc/分の流量で前記RIE装置に供給し、この反
応ガスの圧力を1OPaに調整する。
20cc/分の流量で前記RIE装置に供給し、この反
応ガスの圧力を1OPaに調整する。
また、前記平行平板電極に約200Wの高周波電力(1
3,56MHz)を供給することにより、前記反応ガス
を励起させてプラズマを発生させる。このガスプラズマ
によりチタン膜2をエツチングする。このとき、チタン
膜2のエツチング速度は約1000λ/分であり、タン
グステン膜1のエツチング速度は約100λ/分である
。このように、上述のプラズマエツチングにおいて、チ
タン膜2のエツチング速度はタングステン膜1のエツチ
ング速度に比して約10倍速いので、チタン膜2は高速
でエツチングされるものの、タングステン膜1は殆どエ
ツチングされない。このため、チタン膜2のエツチング
中にタングステン膜1にサイドエツチングが生しること
はない。
3,56MHz)を供給することにより、前記反応ガス
を励起させてプラズマを発生させる。このガスプラズマ
によりチタン膜2をエツチングする。このとき、チタン
膜2のエツチング速度は約1000λ/分であり、タン
グステン膜1のエツチング速度は約100λ/分である
。このように、上述のプラズマエツチングにおいて、チ
タン膜2のエツチング速度はタングステン膜1のエツチ
ング速度に比して約10倍速いので、チタン膜2は高速
でエツチングされるものの、タングステン膜1は殆どエ
ツチングされない。このため、チタン膜2のエツチング
中にタングステン膜1にサイドエツチングが生しること
はない。
その後、第1図(e)に示すように、フォトレジスト膜
3を剥離する。このようにして、タングステン膜1及び
チタン膜2からなる2層構造の電極が得られる。
3を剥離する。このようにして、タングステン膜1及び
チタン膜2からなる2層構造の電極が得られる。
本実施例においては、塩素系ガスにより工・ソチングさ
れやすいチタン膜2と、フッ素系ガスによりエツチング
されやすいタングステン膜1とを積層した後、先ずフッ
素系ガスによりタングステン膜1をエツチングし、次い
で塩素系ガスによりチタン膜2をエツチングする。この
ため、従来のように同一種類のエツチングガスを使用し
て連続的にエツチングする場合とは異なって、タングス
テン膜1及びチタン膜2にサイドエツチングが生じるこ
とはなく、垂直な側壁形状を有する積層構造の金属電極
を形成することができる。従って、配線の剥離及び電気
抵抗の増加を防止することができ、半導体装置の品質を
向上させることができる。
れやすいチタン膜2と、フッ素系ガスによりエツチング
されやすいタングステン膜1とを積層した後、先ずフッ
素系ガスによりタングステン膜1をエツチングし、次い
で塩素系ガスによりチタン膜2をエツチングする。この
ため、従来のように同一種類のエツチングガスを使用し
て連続的にエツチングする場合とは異なって、タングス
テン膜1及びチタン膜2にサイドエツチングが生じるこ
とはなく、垂直な側壁形状を有する積層構造の金属電極
を形成することができる。従って、配線の剥離及び電気
抵抗の増加を防止することができ、半導体装置の品質を
向上させることができる。
第2図(a)乃至(c)は本発明の第2の実施例に係る
積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法を工程
順に示す断面図である。なお、本実施例はエツチングバ
ックによりピアホール内に金属層を埋め込む場合に応用
したものである。
積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法を工程
順に示す断面図である。なお、本実施例はエツチングバ
ックによりピアホール内に金属層を埋め込む場合に応用
したものである。
先ず、第2図(a)に示すように、シリコン基板14上
に厚さが例えば約1μmの層間絶縁膜13を形成した後
に、フォトリソグラフィ及びエツチングにより層間絶縁
膜12を選択的に除去してピアホールを開孔する。その
後、全面に厚さが例えば約3000人のチタン膜12を
成長させる。このチタン膜12は、タングステン膜と下
地との間の密着性を向上させると共に、双方のバリア性
を確保するものである。次いで、化学気相成長法(CV
D法)により、全面に眉間絶縁膜12上での厚さが例え
ば約7000人のタングステン膜11を成長させ、前記
ピアホール内にタングステンを埋め込む。
に厚さが例えば約1μmの層間絶縁膜13を形成した後
に、フォトリソグラフィ及びエツチングにより層間絶縁
膜12を選択的に除去してピアホールを開孔する。その
後、全面に厚さが例えば約3000人のチタン膜12を
成長させる。このチタン膜12は、タングステン膜と下
地との間の密着性を向上させると共に、双方のバリア性
を確保するものである。次いで、化学気相成長法(CV
D法)により、全面に眉間絶縁膜12上での厚さが例え
ば約7000人のタングステン膜11を成長させ、前記
ピアホール内にタングステンを埋め込む。
次に、第2図(b)に示すように、RIEによりタング
ステン膜11をエツチングバックする。
ステン膜11をエツチングバックする。
このタングステン膜11のエツチングバックは平行平板
電極を有するRIE装置により行うことができる。この
場合、反応ガスとして六フッ化硫黄(SF、)を50c
c/分の速度で前記RIE装置に導入し、この反応ガス
の圧力を15Paに調整する。
電極を有するRIE装置により行うことができる。この
場合、反応ガスとして六フッ化硫黄(SF、)を50c
c/分の速度で前記RIE装置に導入し、この反応ガス
の圧力を15Paに調整する。
また、前記平行平板電極に約300Wの高周波電力(x
3.se[Iz)を供給することにより、前記反応ガス
を励起させてプラズマを発生させる。このガスプラズマ
によりタングステン膜11をエツチングバックする。こ
のとき、タングステン膜11のエツチング速度は約40
00λ/分であり、チタン膜12のエツチング速度は約
300λ/分である。このように、上述のプラズマエツ
チングにおいて、タングステン膜11のエツチング速度
はチタンM12のエツチング速度に比して約10倍以上
速いので、タングステン膜11は高速でエツチングされ
るものの、チタン膜2に到達したときにエツチングが実
質的に停止する。このようにして、タングステン膜11
を所定の深さ(層間絶縁膜13の上面)までエツチング
バックする。
3.se[Iz)を供給することにより、前記反応ガス
を励起させてプラズマを発生させる。このガスプラズマ
によりタングステン膜11をエツチングバックする。こ
のとき、タングステン膜11のエツチング速度は約40
00λ/分であり、チタン膜12のエツチング速度は約
300λ/分である。このように、上述のプラズマエツ
チングにおいて、タングステン膜11のエツチング速度
はチタンM12のエツチング速度に比して約10倍以上
速いので、タングステン膜11は高速でエツチングされ
るものの、チタン膜2に到達したときにエツチングが実
質的に停止する。このようにして、タングステン膜11
を所定の深さ(層間絶縁膜13の上面)までエツチング
バックする。
次いで、第2図(C)に示すように、RIEによりチタ
ン膜12をエツチングバックする。このチタン膜12の
エツチングバックは平行平板電極を有するRIE装置に
より行うことができる。この場合、反応ガスとして三塩
化ボロン(BCL )を20cc/分の流量で前記RI
E装置に導入し、この反応ガスの圧力を1OPaに調整
する。また、前記平行平板電極に約200Wの高周波電
力(13,58MIIZ)を供給することにより、前記
反応ガスを励起させてプラズマを発生させる。このガス
プラズマによりチタン膜12をエツチングバックする。
ン膜12をエツチングバックする。このチタン膜12の
エツチングバックは平行平板電極を有するRIE装置に
より行うことができる。この場合、反応ガスとして三塩
化ボロン(BCL )を20cc/分の流量で前記RI
E装置に導入し、この反応ガスの圧力を1OPaに調整
する。また、前記平行平板電極に約200Wの高周波電
力(13,58MIIZ)を供給することにより、前記
反応ガスを励起させてプラズマを発生させる。このガス
プラズマによりチタン膜12をエツチングバックする。
このとき、チタン膜12のエツチング速度は約1000
λ/分であり、タングステン膜11のエツチング速度は
約100λ/分である。このように、上述のプラズマエ
ツチングにおいて、チタン膜12のエツチング速度はタ
ングステン膜11のエツチング速度に比して約10倍速
いので、チタン膜12は高速でエツチングされるものの
、タングステン膜11は殆どエツチングされない。
λ/分であり、タングステン膜11のエツチング速度は
約100λ/分である。このように、上述のプラズマエ
ツチングにおいて、チタン膜12のエツチング速度はタ
ングステン膜11のエツチング速度に比して約10倍速
いので、チタン膜12は高速でエツチングされるものの
、タングステン膜11は殆どエツチングされない。
このようにして、ピアホール内にタングステン膜11及
びチタン膜12からなる金属層を埋め込むことができる
。
びチタン膜12からなる金属層を埋め込むことができる
。
本実施例によれば、タングステン膜11及びチタン膜1
2を夫々穴フッ化硫黄及び三塩化ボロンによりエツチン
グするため、エツチング速度の違いにより、タングステ
ン膜11、チタン膜12及び層間絶縁膜13の上面に段
差が形成されることはない。従って、半導体装置の品質
を向上させることができる。
2を夫々穴フッ化硫黄及び三塩化ボロンによりエツチン
グするため、エツチング速度の違いにより、タングステ
ン膜11、チタン膜12及び層間絶縁膜13の上面に段
差が形成されることはない。従って、半導体装置の品質
を向上させることができる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、半導体基板上にフ
ッ素系ガスにより蝕刻可能の第1の金属膜と、塩素系ガ
スにより蝕刻可能の第2の金属膜とを交互に積層し、前
記第1の金属膜は前記フッ素系ガスにより蝕刻し、前記
第2の金属膜は前記塩素系ガスにより蝕刻するから、前
記第1及び前記第2の金属膜を蝕刻する際に夫々前記第
2及び前記第1の金属膜が蝕刻されることはない。従っ
て、電極及び配線等の多層構造の金属層を有する半導体
装置を製造する場合、サイドエツチング等の不良の発生
を防止することができるので、前記金属層の剥離及び電
気抵抗の増加を防止することができ、半導体装置の品質
を向上させることができる。
ッ素系ガスにより蝕刻可能の第1の金属膜と、塩素系ガ
スにより蝕刻可能の第2の金属膜とを交互に積層し、前
記第1の金属膜は前記フッ素系ガスにより蝕刻し、前記
第2の金属膜は前記塩素系ガスにより蝕刻するから、前
記第1及び前記第2の金属膜を蝕刻する際に夫々前記第
2及び前記第1の金属膜が蝕刻されることはない。従っ
て、電極及び配線等の多層構造の金属層を有する半導体
装置を製造する場合、サイドエツチング等の不良の発生
を防止することができるので、前記金属層の剥離及び電
気抵抗の増加を防止することができ、半導体装置の品質
を向上させることができる。
第1図(a)乃至(e)は本発明の第1の実施例に係る
積層構造の金属電極を有する半導体装置の製造方法を工
程順に示す断面図、第2図(a)乃至(C)は本発明の
第2の実施例に係る積層構造の金属層を有する半導体装
置の製造方法を工程順に示す断面図、第3図(a)及び
(b)は従来の積層構造の金属電極を有する半導体装置
の製造方法を工程順に示す断面図である。 1.11.21;タングステン膜、2.12;チタン膜
、3.14,23;シリコン基板、4゜24;フォトレ
ジスト膜、13:層間絶縁膜、22;タングステンシリ
サイド膜 (b)
積層構造の金属電極を有する半導体装置の製造方法を工
程順に示す断面図、第2図(a)乃至(C)は本発明の
第2の実施例に係る積層構造の金属層を有する半導体装
置の製造方法を工程順に示す断面図、第3図(a)及び
(b)は従来の積層構造の金属電極を有する半導体装置
の製造方法を工程順に示す断面図である。 1.11.21;タングステン膜、2.12;チタン膜
、3.14,23;シリコン基板、4゜24;フォトレ
ジスト膜、13:層間絶縁膜、22;タングステンシリ
サイド膜 (b)
Claims (5)
- (1)半導体基板上にフッ素系ガスにより蝕刻可能な第
1の金属膜を形成する工程と、この第1の金属膜上に塩
素系ガスにより蝕刻可能な第2の金属膜を形成する工程
と、前記塩素系ガスにより前記第2の金属膜を蝕刻する
工程と、前記フッ素系ガスにより前記第1の金属膜を蝕
刻する工程とを有することを特徴とする積層構造の金属
層を有する半導体装置の製造方法。 - (2)半導体基板上に塩素系ガスにより蝕刻可能な第2
の金属膜を形成する工程と、この第2の金属膜上にフッ
素系ガスにより蝕刻可能な第1の金属膜を形成する工程
と、前記フッ素系ガスにより前記第1の金属膜を蝕刻す
る工程と、前記塩素系ガスにより前記第2の金属膜を蝕
刻する工程とを有することを特徴とする積層構造の金属
層を有する半導体装置の製造方法。 - (3)半導体基板上にフッ素系ガスにより蝕刻可能な第
1の金属膜と塩素系ガスにより蝕刻可能な第2の金属膜
とを交互に積層形成する工程と、前記フッ素系ガス及び
前記塩素系ガスにより夫々前記第1及び前記第2の金属
膜を交互に蝕刻する工程とを有することを特徴とする積
層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法。 - (4)金属膜を蝕刻する方法はプラズマを使用した乾式
蝕刻法であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれ
か1項に記載の積層構造の金属層を有する半導体装置の
製造方法。 - (5)前記第1の金属膜はタングステン膜であると共に
、前記第2の金属膜はチタン膜であることを特徴とする
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の積層構造の金属
層を有する半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16337490A JPH0456135A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16337490A JPH0456135A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0456135A true JPH0456135A (ja) | 1992-02-24 |
Family
ID=15772671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16337490A Pending JPH0456135A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | 積層構造の金属層を有する半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0456135A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6287752B1 (en) | 1999-02-12 | 2001-09-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device, method of manufacturing a semiconductor device, and method of forming a pattern for semiconductor device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63232336A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Hitachi Ltd | 二層配線膜のエツチング方法 |
JPH01251758A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Seiko Epson Corp | 高融点金属ゲートmos fet |
JPH02155271A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP16337490A patent/JPH0456135A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63232336A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-28 | Hitachi Ltd | 二層配線膜のエツチング方法 |
JPH01251758A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Seiko Epson Corp | 高融点金属ゲートmos fet |
JPH02155271A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6287752B1 (en) | 1999-02-12 | 2001-09-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device, method of manufacturing a semiconductor device, and method of forming a pattern for semiconductor device |
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