JPH0446858Y2

JPH0446858Y2 -

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Publication number: JPH0446858Y2
Application number: JP1985195988U
Authority: JP
Priority date: 1985-12-19
Filing date: 1985-12-19
Publication date: 1992-11-05
Also published as: JPS62103478U

Description

【考案の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本考案は、フオトマスクブランク、透明導電膜
付基板等の被エツチング層を有する多角形の基板
上にレジスト膜を形成する回転塗布装置に関する
ものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の装置は第４図に示すものがあつ
た。なお、同図ａは平面図であり、同図ｂはX₄
−X₄線断面図である。この回転塗布装置は、主
表面が四角形のフオトマスクブランク等の基板１
を載置する環状突起部２５を固設した円板状の保
持部２と、この保持部２を回転させるための回転
軸（図示せず。）を嵌合・挿入させるための嵌合
部４が設けられた円筒状の回転軸受部５とを具備
していた。そして、この保持部２は、その直径
が、基板１の対角線の寸法よりも小さく、さらに
保持部２の環状突起部２５の内側には、基板１を
環状突起部２５に吸着させるための４個の真空吸
着用穴２６が設けられ、一方、回転軸受部５の内
部には真空吸着用穴２６と連結している穴７が設
けられている。

この回転塗布装置によつて、基板１上にレジス
ト膜を形成する方法は、先ず保持部２の環状突起
部２５上に基板１を載置し、真空吸着用穴２２と
穴７とを介して真空ポンプ（図示せず。）によつ
て基板１を真空吸着する。次に、基板１の主表面
上にレジスト液を滴下し、所望する回転数及び回
転時間で、保持部２を回転、すなわち基板１を回
転してレジスト膜を、基板１の主表面上に形成す
る。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかしながら、従来の回転塗布装置では、第５
図に示すように基板１の裏面１ａ（レジスト膜を
形成した面と相対向する主表面）の角の付近に
は、剥離してゴミとなる、レジストの糸状物３が
付着してしまう欠点があつた。すなわち、保持部
２に基板１を保持し、回転したとき、保持部２か
ら外側の、基板１の部分（図で示す一点鎖線より
も外側の部分）のみならず、一点鎖線の内側にも
糸状物３が付着してしまう欠点があつた。これ
は、基板１が回転すると、基板１の保持部２から
外に出ている角に対する空気抵抗が大きく、その
空気抵抗によつて、裏面１ａの角の付近に、回転
中に基板１から飛散したレジストの糸状物３が付
着することによる。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は、前述した問題点を除去するためにな
されたもので、その特徴は主表面が多角形の基板
を保持し、回転させる保持部を具備し、前記基板
の一主表面にレジスト膜を形成する回転塗布装置
において、前記保持部は、円形又は多角形状の保持面と、
前記基板の角の下方に位置する部分のみが切り欠
かれた切欠部とを具備し、かつ前記保持面の直径
又は対角線の長さが、前記基板の主表面の対角線
の長さ以上であることを特徴とする回転塗布装置
である。

〔作用〕

本考案は、回転塗布装置の保持部の保持面の直
径又は対角線の長さが、基板の主表面の対角線の
長さ以上であることから、空気抵抗を抑えること
ができ、これによりレジストの糸状物が基板裏面
に付着することを減少させることができる。ま
た、基板の角に対するところが切り欠かれた切欠
部を有していることから、基板を保持部から外す
ことも効率よく行うことができる。

〔実施例〕

本考案の回転塗布装置の実施例を図に基づいて
以下に詳述する。

〔実施例１〕本例を第１図に基づき説明する。なお、同図ａ
は平面図、同図ｂはその部分拡大平面図、同図ｃ
は同図ａのX₁−X₁線断面図及び同図ｄはその部
分拡大断面図である。

本例の回転塗布装置１０は、環状突起部１１ａ
（内径：120mm、幅：0.5mm、高さ：0.5mm）を設
け、この環状突起部１１ａ上に主表面が矩形（５
インチ×５インチで、対角線の寸法は177.8mmで
ある。）の例えば被エツチング層としてCr膜から
なる遮光性膜を有するフオトマスクブランク１を
載置して、真空吸着により保持する円板状の保持
部１１（保持面１１ｂの直径は183mmであり、厚
さは７mmである。）と、従来と同様の嵌合部４と
穴７とを有する回転軸受部５とを具備している。
なお、環状突起部１１ａは保持部１１に対して同
心円状に配置している。

本例の保持部１１には、４個の切欠部１２，１
３，１４，１５（奥行L₁：7.2mm、幅L₂：12.8mm、
傾斜角θ：20°）が、保持部１１の周縁に設けら
れており、さらに従来と同様に真空吸着用穴１１
ｃが４個設けられている。尚、上記切欠部１２〜
１５は、保持部１１の周縁部に向かつて下方に傾
斜している。

この切欠部１２，１３，１４，１５は、それぞ
れフオトマスクブランク１を保持部１１に保持し
たとき、フオトマスクブランク１の四つの角１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄが配置するような位置に設
けられている。さらに、第１図ｂに示すように、
例えば角１ａに対する切欠部１２は、第１図ａに
示す矢印方向に基板１が回転するとき、角１ａと
切欠部１２の一方の側面１２ａとの距離L₂₁と、
角１ａと切欠部１２のもう一方の側面１２ｂとの
距離L₂₂とは異なり、距離L₂₁の方が距離L₂₂より
も短く（例えば、L₂₁は3.6mm、L₂₂は9.2mmであ
る。）なるように設けられている。そして、角１
ａは切欠部１２上方において突出している（突出
距離L₁₁：約４mm）。他の角１ｂ，１ｃ，１ｄに対
するそれぞれの切欠部１３，１４，１５も同様に
保持部１１に設けられている。また、これら切欠
部１２，１３，１４，１５は、平面的に見て、保
持部１１と同心円状のリングの一部となつてい
る。

本例においてレジスト膜を形成する方法は、従
来と同様に、先ず基板（フオトマスクブランク）
１を環状突起部１１ａ上に、基板１の中心と保持
部１１との中心とをほぼ一致させて載置し、真空
吸着用穴１１ｃにより吸引して真空吸着する。次
に、基板１の主表面上にレジスト液（例えば、粘
度30cpのポジ型の電子線レジストであるポリブ
テン−１−スルホン）を滴下する。次に、所望す
る回転数、回転時間で基板１を回転してレジスト
膜を形成する。

本例によれば、先ず保持部１１の直径に対して
基板１の対角線の長さが小さいことから、基板１
の裏面の角の稜の付近にのみ、レジストの糸状物
が付着し、従来のように多くの糸状物は付着して
いなかつた。また、本例では、基板１の下方に位
置する保持部１１に切欠部１２〜１５が設けられ
ていることから、レジスト膜を形成した後、基板
１を保持部１１から容易に取り外すことができ
る。また、切欠部１２〜１５の設けられている位
置を、角１ａ〜１ｄから距離L₂₁を距離L₂₂に対し
て小となるように決定していることから、本例の
回転方向のときは、切欠部１２〜１５を設けるこ
とによつて回転時に生ずる空気抵抗も、抑えるこ
とができ、レジストの糸状物を付着させることは
ない。また、切欠部１２〜１５が、平面的にはリ
ング状の一部であることから、切欠部１２〜１５
による空気抵抗も抑えることができる。さらに、
基板１の下方に切欠部１２〜１５を設けている
が、角１ａ〜１ｄの下方に位置する保持部を完全
に切り欠いてはいないことから、空気抵抗を抑え
る効果がある。

〔実施例２〕本例を第２図に基づき説明する。同図ａは平面
図、同図ｂはその部分拡大平面図、同図ｃは同図
ａのX₂−X₂線断面図及び同図ｄはその部分拡大
断面図である。

本例の回転塗布装置１０′と前記実施例１の回
転塗布装置１０とは、保持部及び保持部に設けら
れた切欠部が異なり、他は同様であることから、
保持部及び切欠部について説明し、他の説明は省
略する。

先ず、保持部１６は、保持面１６ａが矩形
（140×140mm）である薄板（厚さ：７mm）からな
り、この保持部１６の４角には、三角錘状に切り
欠かれた切欠部１７，１８，１９，２０が設けら
れている。そして、この切欠部１７〜２０につい
てさらに詳述する。第２図ｂ及び同図ｄに示す切
欠部１７は、底面が直角三角形状であり、その直
角を挟む二辺の長さL₃，L₄は共に6.5mmであり、
底面の斜辺の長さL₅は、約9.1mmである。また、
この切欠部１７は、傾斜角θ（例えば、約20°）に
切り欠かれる。これにより、切欠部１７は保持部
１６の周縁部に向かつて下方に傾斜している。他
の切欠部１８〜２０についても同様に形成されて
いる。また、この保持部１６に保持される基板１
は、基板１の主表面が５インチ×５インチである
こから、保持部１６の保持面１６ａ内に配置さ
れ、かつ、基板１の４角１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ
はそれぞれ、切欠部１７，１８，１９，２０の上
方に、保持面１６ａの対角線と基板１の主表面の
対角線と一致して配置されている。なお、１６ｂ
及び１６ｃは、それぞれ環状突起部及び真空吸着
用穴を示す。

この保持部１６により、基板１の主表面にレジ
スト膜を形成する方法は、前記実施例１と同様で
ある。

以上、本考案は前記実施例１，２に限らず、下
記のものであつてもよい。

先ず、切欠部の形状は、第３図に示すようなも
のであつてもよい。すなわち、切欠部２２は、保
持部２１が実施例１と同様に円板状であり、基板
１の角に対する保持部２１の周縁のところが切り
落とされた形状のものである。これは、実施例２
で示した主表面が矩形状の保持部に対しても同様
に切り落とされた形状にすることができる。

また、保持部は、前記実施例１，２のような円
板状、主表面が矩形の薄板に限らず、他の形状、
例えば、主表面が長方形等の多角形状の薄板であ
つてもよく、また環状突起部を設けていない保持
部であつてもよい。また、保持面に基板の位置決
め用ピンを設けた保持部でもよい。また、本考案
によれば、レジストは前述したポジ型の電子線レ
ジストに限らず、フオトレジスト等の他のレジス
トであつてもよいが、特に粘度の高いレジスト、
すなわち30cp以上の粘度のレジストに対して効
果がある。

さらに、本考案によれば、基板は、前述した遮
光層を被エツチング層として有するフオトマスク
ブランクに限らず、他の基板、例えばインジウ
ム・テイン・オキサイド等からなる透明導電膜を
被エツチング層として有する基板にも適用するこ
とができ、基板の主表面が矩形に限らず、長方形
等の他の多角形の基板にも適用することができ
る。また、本考案によれば、保持部の基板の角の
下方に位置する部分のみに切欠部を有しているの
で、基板の裏面にレジストの糸状物が付着する面
積および付着箇所が最小限に押さえられる。な
お、切欠部は基板の角の下方に位置する部分の少
なくとも１ケ所以上に設ければよい。

〔考案の効果〕

本考案は以上のような構造であることから、基
板の裏面にレジストの糸状物の付着を防止するこ
とができ、したがつて、糸状物が剥離してゴミを
生ずることもなくなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の回転塗布装置の一実施例を示
す図であり、同図ａは平面図、同図ｂはその部分
拡大平面図、同図ｃは同図ａのX₁−X₁線断面図
及び同図ｄはその部分拡大断面図である。第２図
は本考案の他の実施例を示す図であり、同図ａは
平面図、同図ｂはその部分拡大平面図、同図ｃは
同図ａのX₂−X₂線断面図及び同図ｄはその部分
拡大断面図であり、第３図はさらに他の実施例を
示す図であり、同図ａは部分拡大平面図及び同図
ｂは部分拡大断面図である。第４図は従来の回転
塗布装置を示す図であり、同図ａは平面図及び同
図ｂは同図ａのX₄−X₄線断面図であり、第５図
は基板の裏面に付着したレジストの糸状物を示す
平面図である。１……基板、１０，１０′……回転塗布装置、
１１，１６，２１……保持部、１２〜１５，１７
〜２０，２２……切欠部。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】 (1) 主表面が多角形の基板１を保持し、回転させ
る保持部１１，１６，２１を具備し、前記基板
１の一主表面にレジスト膜を形成する回転塗布
装置において、前記保持部１１，１６，２１は、円形又は多
角形状の保持面１１ｂ，１６ａと、前記基板１
の角の下方に位置する部分のみが切り欠かれた
切欠部１２〜１５，１７〜２０，２２とを具備
し、かつ前記保持面１１ｂ，１６ａの直径又は
対角線の長さが、前記基板１の主表面の対角線
の長さ以上であることを特徴とする回転塗布装
置。 (2) 前記切欠部１２〜１５，１７〜２０，２２
は、保持部１１，１６，２１の周縁部に向かつ
て下方に傾斜して形成されていることを特徴と
する実用新案登録請求の範囲第１項記載の回転
塗布装置。