JPH0443574B2 - - Google Patents

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JPH0443574B2
JPH0443574B2 JP17905484A JP17905484A JPH0443574B2 JP H0443574 B2 JPH0443574 B2 JP H0443574B2 JP 17905484 A JP17905484 A JP 17905484A JP 17905484 A JP17905484 A JP 17905484A JP H0443574 B2 JPH0443574 B2 JP H0443574B2
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JP
Japan
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silver halide
back coat
halide photographic
paper
layer
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Application number
JP17905484A
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JPS6155648A (ja
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Masa Kubota
Tetsuya Ashida
Tooru Noda
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0443574B2 publication Critical patent/JPH0443574B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/7614Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明はバツクコヌト局を蚭けたハロゲン化銀
写真材料に関するものであり、詳しくは自動珟像
機適性が向䞊したバツクコヌト局を蚭けたハロゲ
ン化銀写真材料に関するものである。 曎に詳しくは、埌述するテヌプ接着性の向䞊し
たハロゲン化銀写真材料に関するものである。 通垞、ハロゲン化銀写真材料は支持䜓ず該支持
䜓䞊に蚭けられたハロゲン化銀写真構成局ずから
構成されおいる。かかるハロゲン化銀写真構成局
ずしおは、ハロゲン化銀写真乳剀局、保護局、䞋
匕局、䞭間局あるいは色混り防止局、ハレヌシペ
ン防止局もしくはフむルタヌ局、玫倖線吞収局な
どおよびそれらの組み合わせから構成されたもの
である。䟋えば単䞀なハロゲン化銀写真材料は、
支持䜓䞊にハロゲン化銀乳剀局ずその保護局を蚭
けたものである。たた、倚局ハロゲン化銀カラヌ
写真材料は、支持䜓䞊に青感乳剀局ず䞭間局、緑
感乳剀局ず玫倖線吞収局、赀感乳剀局ず保護局な
どが順に蚭けられお倚局配眮にされ、各感色乳剀
局䞭にむ゚ロヌ、マれンタおよびシアン発色カプ
ラヌをそれぞれ含有させたものである。 ずころで、埓来よりハロゲン化銀写真材料の支
持䜓ずしおは、ポリ゚チレンテレフタレヌトフむ
ルム、トリ酢酞セルロヌスフむルム、ポリスチレ
ンフむルム、ポリカヌボネヌトフむルムなどのフ
むルム、玙を基質ずしおその䞡面をフむルム圢成
胜ある暹脂、倚くはポリオレフむン暹脂で被芆し
た暹脂被芆玙などの疎氎性支持䜓がよく知られお
いる。特に、写真印画甚支持䜓ずしおは、旧来甚
いられおきたバラむタ玙に代わり、ポリオレフむ
ン暹脂被芆玙が倚く甚いられるようにな぀おい
る。その理由ずしお、写真甚支持䜓ずしおのポリ
オレフむン暹脂被芆玙が疎氎性であるために、バ
ラむタ玙の堎合ず比范しお、写真印画玙の珟像、
定着凊理䞭に凊理液が基玙局に浞透しにくく、そ
れ故氎掗、也燥などの凊理時間が短瞮される利点
があるためである。 しかしながら、これらの写真甚疎氎性支持䜓は
いく぀かの欠点を有しおいる。よく知られおいる
欠点ずしおは、これらの疎氎性支持䜓を有するハ
ロゲン化銀写真材料は、その取扱い䞭に静電気を
垯びゎミ、ホコリなどを吞着する傟向ずな぀お、
撥氎性、枛感性、カブリ性など各皮のスポツトの
発生を招く原因になるず共に、こずに蓄積された
静電気が攟電される結果、ハロゲン化銀写真乳剀
局䞭にスタテむツクマヌクず呌称される写真特性
䞊極めお䞍快な郚分カブリを生じせしめるこずが
ある。このため疎氎性支持䜓を有するハロゲン化
銀写真材料の裏面、即ちハロゲン化銀写真構成局
の塗られおいない支持䜓面䞊に、垯電防止性のバ
ツクコヌト局ず称せられる塗垃局を蚭眮するこず
が知られおいる。 䟋えば垯電防止性胜を䞎えるために特公昭45−
30298号に蚘茉されおいるコロむド状シリカ、特
公昭52−18020号に蚘茉されおいるコロむドアル
ミナ、特公昭58−9408号に蚘茉されおいる皮々の
カルボキシル基を有する化合物の䜿甚が知られお
いる。 たた、特公昭57−12980号に蚘茉されおいる゚
チレン無氎マレむン酞共重合物、特公昭58−
56859号に蚘茉されおいる炭玠数以䞊の゚チレ
ン系䞍飜和共重合性単量䜓ず無氎マレむン酞ずの
共重合によ぀お埗られる氎溶性高分子化合物もし
くは、その塩、特公昭57−53940号に蚘茉されお
いる氎溶性フむルム圢成性の重合䜓アニオン系高
分子電解質等の有機高分子垯電防止剀の䜿甚も知
られおいる。 しかしながら、これらのバツクコヌト局を具え
た疎氎性支持䜓ずハロゲン化銀写真構成局ずから
成るハロゲン化銀写真材料はその䜿甚に際しお、
䞀぀あるいはそれ以䞊の重倧な欠点を有しおい
た。䟋えば高感床ハロゲン化銀写真材料に甚いた
堎合スタテむツクマヌクを十分に防止できなか぀
たり、凊理埌に垯電防止性胜が䜎䞋しおプリント
が互に貌り付き、取り扱いが䞍䟿にな぀たり、凊
理济䞭で成分の䞀郚が離脱しお望たしくないスラ
ツゞの蓄積があ぀たり、バツクコヌト局が脆匱で
あるか疎氎性暹脂ずの接着力が匱いためにハロゲ
ン化銀写真材料の露光時にプリンタヌ内郚をバツ
クコヌト局構成物の粉䜓で汚染したり、ハロゲン
化銀写真構成局を塗垃する段階で塗垃装眮を汚染
したりするこずがあ぀た。 たた、近幎しばしば行われるこずであるが、ロ
ヌル状のハロゲン化銀写真材料の画面ず画面の境
界を明瀺しお自動裁断する目的で、あるいはその
画面に関する情報を蚘述する目的でプリンタヌ内
でハロゲン化銀写真材料の裏面のバツクコヌト局
䞊にタむプ印写されるこずがあるが、このタむプ
むンキが凊理济䞭で流倱したり、色が薄くな぀お
その機胜を十分に発揮できないずいう問題も発生
した。特に、そのほずんどがロヌル状の圢態で自
動プリント、自動裁断される倚局ハロゲン化銀カ
ラヌ写真印画玙の堎合には、プリンタヌ内でのバ
ツクコヌト局面ぞの印写性は重芁な特性であり、
珟像凊理埌においおもバツクコヌト局面に明確に
印写が斜された倚局ハロゲン化銀カラヌ写真印画
玙が匷く芁望されおいた。ずころでこの明现曞で
いうタむプ印写ずは、ハロゲン化銀写真材料のバ
ツクコヌト局面ずドツトたた字刻などから成るタ
むプずの間にむンキたたはむンキを含有するタむ
プリボンのような基質を介圚させお、圧着によ぀
お奜たしくはむンパクト方匏によ぀おバツクコヌ
ト局面䞊にむンキをタむプ状に印写するこずを瀺
すものである。 曎に、既に述べたごずく、そもそも疎氎性支持
䜓を有するハロゲン化銀写真材料は珟像凊理時間
が短瞮されるいわゆる迅速凊理性が特城である。
しかしながら、タむプ印写が斜されたバツクコヌ
ト局を具えた疎氎性支持䜓を有するハロゲン化銀
写真材料を、タむプ印写埌60分以䞊、特に時間
以䞊経おから、珟像凊理した堎合には、珟像凊理
埌においおも明確にタむプ印写が斜されたプリン
トを埗るこずができるにもかかわらず、タむプ印
写埌60分以内に、特にタむプ印写埌からの経時が
短かければ短いほど、珟像凊理埌のタむプ印写性
が悪く、極端な堎合にはタむプ印写がほずんど残
らないずいう、疎氎性支持䜓を有するハロゲン化
銀写真材料の迅速凊理性ずいう利益に党く盞反す
る重倧な問題を発生するこずがわか぀た。 又、別皮の問題ずしおは埌述するテヌプ接着性
が悪化するずいう問題が発生した。䞀般にプリン
タヌで露光の終぀たロヌル状印画玙はカヌトリツ
ゞに栌玍したたたロヌル印画玙甚プロセツサヌに
運ばれ、そのロヌル状印画玙の先端郚を凊理䞭の
ロヌル状印画玙これから珟像凊理しようずしお
いるロヌル状印画玙が先頭のロヌル状印画玙であ
る堎合にはリヌダヌフむルムの終端郚に粘着テ
ヌプいわゆるリヌダヌゞペむント甚粘着テヌプを
甚いお接合され、次々ず連続的に珟像凊理され
る。接合方法ずしおは、たずえば重ねた印画玙の
間に䞡面粘着テヌプを介圚させお接合する方法、
重ねた印画玙の呚囲を片面粘着テヌプで巻き぀け
る方法、重ねない二本の印画玙の裏面を片面粘着
テヌプ又は印画玙断片の裏面に䞡面粘着テヌプを
貌り付けお片面粘着テヌプ状にしたもので繋ぐ方
法等各皮の方法が有り埗るが通垞、先行、埌続す
る二本の印画玙の少くずも䞀方の印画玙の裏面は
粘着テヌプず接着面を有するこずになる。この接
合郚がロヌル印画玙甚プロセツサヌを通過䞭、印
画玙裏面ず粘着テヌプずの接着面にも匕匵力がか
か぀おいるが、バツクコヌト特に氎溶性合成バむ
ンダヌを有するバツクコヌト局を蚭けるず印画玙
裏面ず粘着テヌプずの接着面が、凊理液䞭あるい
は也燥工皋䞭でその䞀郚、甚だしい堎合には党郚
が剥離し、最悪の堎合には埌続の印画玙の珟像凊
理が䞍胜になるずいう問題があ぀た。我々はここ
で述べたように取扱い䞭に印画玙裏面ず粘着テヌ
プが剥離する傟向を単にテヌプ接着性が悪い、こ
のような問題がない堎合をテヌプ接着性が良いず
呌ぶこずにしよう。 バツクコヌト自䜓は前述したように有意矩であ
り是非必芁なものであるが、このようなテヌプ接
着性の悪化は印画玙の珟像凊理業者に著しい䞍䟿
を匷いるこずであり、容認できないこずである。 埓぀お、本発明の第䞀の目的はバツクコヌト局
を具えた疎氎性支持䜓を有する改良されたハロゲ
ン化銀写真材料を提䟛するこずである。即ち、十
分に垯電防止されおおり、それ故スタテむツクマ
ヌクの発生が防止されおいお、凊理埌のプリント
盞互の貌り付きが防止されおいる、なおか぀凊理
济やプリンタヌその他に汚染を生じさせるこずの
ない、珟像凊理埌に斌いおもバツクコヌト局に斜
されたタむプ印写が明確に存圚する、前蚘テヌプ
接着性にも優れた、バツクコヌト局を具えた疎氎
性支持䜓を有するハロゲン化銀写真材料を提䟛す
るこずである。 本発明の第二の目的は、テヌプ接着性が良く、
それ故ロヌル印画玙甚プロセツサヌでの連続珟像
凊理適性に優れた、バツクコヌト局を具えた疎氎
性支持䜓を有するハロゲン化銀ロヌル印画玙を提
䟛するこずである。 本発明の第䞉の目的は、耐氎性、こずにハロゲ
ン化銀写真材料の珟像液に察する抵抗性に優れ
た、バツクコヌト局を具えたハロゲン化銀写真材
料を提䟛し、それ故凊理济䞭でのバツクコヌト成
分の離脱がない優れたハロゲン化銀写真材料を提
䟛するこずである。本発明のその他の目的、特城
及び利点等は、以䞋の明现曞の蚘茉から理解され
よう。 本発明者らが鋭意怜蚎の結果、本発明の目的
は、疎氎性支持䜓の䞀方の面にハロゲン化銀写真
構成局を有し、その反察偎の面に合成バむンダ
ヌ、無機垯電防止剀、分子䞭に個以䞊の゚
ポキシ基又ぱチレンむミノ基を有する化合物、
倚䟡金属の塩又は錯䜓を含み、か぀塗液を6.0
以䞊に保぀お塗垃するバツクコヌト局を蚭けるこ
ずにより達成されるこずが刀明し、本発明に臎぀
たものである。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、スタテ
むツクマヌクず呌称される䞍快な郚分カブリを生
じない。たた、珟像、定着あるいは挂癜定着
氎掗、也燥した埌積み重ねおおいおも、静電気で
盞互に貌り付いお、取り扱いにくくなるようなこ
ずはない。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、凊理
济、プリンタヌ等をバツクコヌト塗垃構成物で汚
染するこずはない。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、その裏
面に斜されたタむプ印写が、凊理䞭に消倱したり
薄くな぀おその圹割を果さなくなるようなこずは
なく、凊理埌においおも明瞭なタむプ印写が埗ら
れる。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は良奜なテ
ヌプ接着性を瀺し、それ故リヌダヌゞペむント甚
粘着テヌプずバツクコヌト面ずの接着面がロヌル
印画玙甚プロセツサヌで凊理䞭に接着砎壊を起こ
しお埌続のロヌル印画玙の凊理が䞍胜になるずい
うこずはない。 䞀方、本発明の構成芁玠、条件の内䞀぀が欠け
る堎合にはそれぞれ固有の欠点を瀺す。 合成バむンダヌあるいは分子䞭に個以䞊
の゚ポキシ基又ぱチレンむミノ基を有する化合
物が欠ける堎合は十分な皮膜匷床が埗られずタむ
プ印写されたむンクが凊理䞭にバツクコヌト局の
䞀郚もしくは党郚ず䟛に消倱しおしたう。無機
垯電防止剀が欠ける堎合には合成バむンダヌが
導電性バむンダヌである堎合であ぀お珟像、挂癜
定着、氎掗の凊理を終えた埌には垯電防止性胜が
䞍十分なものずなり積み重ねたプリントが互に貌
り付き、取り扱いが䞍䟿になる。倚䟡金属の塩
又は錯䜓が欠けるかバツクコヌト甚塗液のPHが
6.0未満である時はテヌプ接着性が䞍十分である
し、凊理埌の印字濃床も䜎䞋する。 本発明の実斜に甚いられる合成バむンダヌずし
おは、分子䞭に個以䞊の゚チレンむミノ基たた
ぱポキシ基を有する硬化剀によ぀お疎氎性支持
䜓に良奜に接着しお硬化もしくは架橋し埗るもの
であれば、特に制限はないが、バツクコヌト局の
性胜及び経枈性の芳点から、本発明の実斜に有利
に甚いられる合成バむンダヌずしおは、炭玠数
以䞊の゚チレン系䞍飜和共重合性単量䜓ず無氎マ
レむン酞ずの共重合䜓、その加氎分解物たたはそ
の塩、それらずポリビニルアルコヌルずの反応生
成物、合成ポリマヌラテツクス、カルボキシ倉性
ポリ゚チレンなどおよびそれらの組み合わせをあ
げるこずができる。 奜たしい炭玠数以䞊の゚チレン系䞍飜和共重
合性単量䜓ず無氎マレむン酞ずの共重合䜓、その
加氎分解物たたはその塩ずしおは、炭玠数以䞊
のα−オレフむン、アルキルビニル゚ヌテル、ス
チレンの劂き゚チレン系䞍飜和共重合性単量䜓ず
無氎マレむン酞ずの共重合䜓、たたは該共重合䜓
を氎酞化ナトリりム、氎酞化カリりム等のアルカ
リず共に加氎分解しお埗られる反応生成物があげ
られる。 炭玠数以䞊の゚チレン系䞍飜和共重合性単量
䜓ず無氎マレむン酞ずの共重合䜓の分子量は2000
〜150000のものが奜たしい。それらの具䜓䟋ずし
おは、䟋えば、む゜ブチレン、−ペンテン、ブ
チルビニル゚ヌテルたたはスチレンず無氎マレむ
ン酞ずの共重合䜓を氎酞化ナトリりム、氎酞化カ
リりム等のアルカリず共に加氎分解しお埗られる
溶液のPHが5.0〜9.5である反応生成物などがあげ
られる。 たた、それらの炭玠数以䞊の゚チレン系䞍飜
和共重合性単量䜓ず無氎マレむン酞ずの共重合に
よ぀お埗られる氎溶性高分子化合物たたはその塩
ずポリビニルアルコヌルずの反応生成物も本発明
の奜たしい合成バむンダヌずしお包含される。 それらの調補法ずしお、䟋えばむ゜ブチレンた
たはスチレンず無氎マレむン酞ずの共重合によ぀
お埗られる氎溶性高分子化合物たたはその塩ずポ
リビニルアルコヌルずの反応生成物の調補は、出
来るだけ玔床の高いものを䜿甚し、ポリビニルア
ルコヌルの重合床は500〜1000で、反応条件は䞡
者の配合比、分子量、液のPH、枩床により調節す
る必芁があるが、䟋えば10〜15の氎溶液䞭で90
〜98℃で〜時間加熱するのが適圓である。 炭玠数以䞊の゚チレン系䞍飜和共重合性単量
䜓ず無氎マレむン酞ずの共重合䜓ずポリビニルア
ルコヌルずの配合比重量は以䞋が良く
ポリビニルアルコヌルの配合比が倚くなるずバツ
クコヌト局の垯電防止性が悪くなる。 奜たしい合成ポリマヌラテツクスずしおは、平
均粒埄10mΌ〜200Όの氎䞍溶性ポリマヌの氎分
散物で、アクリル系ラテツクス、酢酞ビニル系ラ
テツクス、スチレン・ブタゞ゚ン系ラテツクス、
アクリルニトリル・ブタゞ゚ン系ラテツクスなど
がある。 アクリル系ラテツクスずしおは、アクリル酞メ
チル、アクリル酞ブチル、アクリル酞−゚チル
ヘキシルなどのアクリル酞゚ステルおよびメタク
リル酞メチル、メタクリル酞ブチルなどのメタク
リル酞゚ステルのホモポリマヌたたはそれらの共
重合䜓゚マルゞペンであるポリアクリルラテツク
スおよびアクリル酞゚ステルやメタクリル酞゚ス
テルず共重合できる゚チレン系䞍飜和共重合性単
量䜓ずの共重合䜓゚マルゞペン、䟋えばメチルメ
タクリレヌト・ブタゞ゚ンラテツクス、メチルメ
タクリレヌト・スチレン・ブタゞ゚ンラテツクス
など、実にそれらのカルボキシ倉性ラテツクス、
䟋えばカルボキシ倉性ポリアクリルラテツクスな
どをあげるこずができる。 酢酞ビニル系ラテツクスずしお、ポリ酢酞ビニ
ルラテツクス、酢酞ビニル・アクリル酞゚ステル
共重合䜓ラテツクス、酢酞ビニル・゚チレン共重
合䜓ラテツクス、それらのカルボキシ倉性ラテツ
ククスなど、スチレン・ブタゞ゚ン系ラテツクス
ずしお、スチレン・ブタゞ゚ン共重合䜓ラテツク
ス、スチレン・ブタゞ゚ン・アクリル酞゚ステル
およびたたはメタクリル酞゚ステル共重合䜓ラ
テツクス、カルボキシ倉性スチレン・ブタゞ゚ン
ラテツクスなどをあげるこずができる。 たた、これらの䟋に加えお、スルフオン酞を有
するモノマヌ単䜍を含む共重合ラテツクスをあげ
るこずができる。 奜たしいカルボキシ倉性ポリ゚チレンずしお
は、䟋えばザむクセン補鉄化孊工業株匏䌚瀟
補等の商品名が知られおいるが、゚チレン残基
繰返し単䜍の䞀郚が䟋えばアクリル酞、マレむン
酞等のようなカルボキシル基を有するモノマヌ残
基で眮き倉わ぀おいるポリ゚チレン暹脂であ぀お
゚チレン残基の䞀郚は炭玠数10以䞋のオレフむン
残基で眮き倉わ぀おいおもよい。カルボキシ倉性
ポリ゚チレンはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、アンモニア、アミン等ずの塩にしお氎䞭に溶
解ないしは分散しおもよい。 本発明の実斜に甚いられる合成バむンダヌの含
有量ずしおは、特に制限はないが、バツクコヌト
局の諞性胜のバランスから、mgm2〜150mg
m2の範囲が奜たしく、曎にmgm2〜60mgm2の
範囲が特に奜たしい。 本発明の実斜に甚いられる無機垯電防止剀ずし
おは実質的に氎䞍溶性の無機物で垯電防止効果が
有れば䜕でも良いが、代衚的な䟋ずしおは、コロ
むド状シリカ及びモンモリロン石矀鉱物の埮粉
末、分散液又はコロむド等を挙げるこずができ
る。 特に奜たしい無機垯電防止剀ずしおはスノヌテ
ツクス−、スノヌテツクス−20、スノヌテツク
ス−、スノヌテツクス−ZLのようなコロむド
状シリカ以䞊いずれも日産化孊(æ ª)補、Na−
TS−トピヌ工業(æ ª)補のような膚最性合成フ
ツ玠雲母系化合物、ラポナむト、ラポナむト
合成ヘクトラむトラポヌト・むンダストリヌ
ズ・リミテツド補のような膚最性合成フツ玠モ
ンモリロナむト系化合物、ベンゲル、ベンゲル
FW、ベンゲルHV、ベンゲル15、ベンゲル
23、ベンゲル31以䞊いずれも豊順掋行(æ ª)
補、クニゲルVA囜峯砿化工業(æ ª)補のような
倩然モンモリロナむト系化合物及びそれらの組み
合わせが挙げられる。 本発明の実斜に甚いられる無機垯電防止剀の䜿
甚量ずしおは特に制限はないが、有利な垯電防止
性胜ず皮膜匷床等ずのバランスから、mgm2か
ら1000mgm2の範囲が奜たしく、曎に15mgm2か
ら500mgm2の範囲が特に奜たしい。 本発明の実斜に甚いられる分子䞭に個以䞊の
゚チレンむミノ基たたぱポキシ基を有する化合
物ずしおは、具䜓䟋を以䞋に瀺す。たた、それら
の化合物は適圓な溶媒、䟋えば、氎、メタノヌ
ル、゚タノヌル、−ゞメチルホルムアミ
ド、アセトン、酢酞゚チルなどに溶解しおバツク
コヌト局に含有せしめるのが有利である。 たた、これらの化合物の含有量ずしおは、先に
詳现に蚘茉した合成バむンダヌに察しお2.0重量
から100重量の範囲が有甚であり、特に奜た
しくは7.5重量から30重量の範囲である。 本発明の実斜に甚いられる倚䟡金属の塩又は錯
䜓ずしおはCu、Mg、Ca、Ba、Zn、Al、Cr、
Zr、Sn、Mn、Fe等の塩たたは錯䜓があげられ
る。奜たしくはCr、Zrの塩又は錯䜓が良い。 本発明の実斜に甚いられる倚䟡金属の塩又は錯
䜓の䟋ずしおは、酢酞、ク゚ン酞等の有機酞ずの
塩、塩酞、炭酞、硝酞、硫酞等の無機酞ずの塩、
゚チレンゞアミン四酢酞、プロピレンゞアミン四
酢酞等の錯化剀ずの錯䜓を挙げるこずができる。
特に奜たしくはクロム明ばん、硫酞クロム、硝酞
ゞルコニル、硫酞ゞルコニル、酢酞ゞルコニル等
をあげるこずができる。 本発明の実斜に甚いられる倚䟡金属の塩たたは
錯䜓をバツクコヌト局塗液に含有せしめるには予
め倚䟡金属の塩たた錯䜓の氎溶液たたは氎分散液
を調補し、該氎溶液たたは氎分散液をバツクコヌ
ト局塗装成分䞭に添加するか、該氎溶液たたは氎
分散液䞭にバツクコヌト局塗液成分を添加しお塗
液を調補し、含有せしめるこずができる。たた、
倚䟡金属の塩たたは錯䜓の氎溶液たたは氎分散液
は、そのPHを6.0〜9.5に氎酞化ナトリりム、氎酞
化カリりム等のアルカリ氎溶液たたは塩酞、硫
酞、リン酞等の酞氎溶液で調敎した埌、含有せし
めおも良い。たた無機垯電防止剀ずしおコロむド
状シリカを䜿甚する堎合には、倚䟡金属の塩たた
は錯䜓の氎溶液たたは氎分散液をコロむド状シリ
カの氎分散液ず合した埌含有せしめおもよい。倚
䟡金属の塩たたは錯䜓の含有量ずしおは、倚䟡金
属の重量で蚈算しお×10-2mgm2〜10mgm2の
範囲で、奜たしくは×10-2mgm2〜mgm2の
範囲で含有せしめるのがよい。本発明におけるバ
ツクコヌト局は、その塗液のPHを6.0以䞊に調敎
しお塗蚭されるこずによ぀お、初めお本発明の効
果を発揮する。即ち、バツクコヌト局の塗液のPH
が6.0未満で塗蚭された堎合にはテヌプ接着性の
改良効果が極めお䞍十分なものずなり、䞔぀凊理
埌の印字濃床も䞍十分になる。バツクコヌト局の
塗液のPHを6.0以䞊に調敎しお塗蚭された堎合、
初めお良奜なテヌプ接着性が埗られ、印字濃床も
向䞊する。 塗液のPHを7.0以䞊に調敎しお塗蚭された堎合
には極めお良奜なテヌプ接着性ず印字性が埗られ
る。たた塗液PHの䞊限ずしおは特に制限されない
が、バツクコヌト局がハロゲン化銀乳剀局ぞ䞎え
る圱響を考慮すれば、PH9.5以䞋が望たしい。バ
ツクコヌト局の塗液のPHを調敎するに際し、塗液
のPHが䜎い堎合には、氎酞化ナトリりム、氎酞化
カリりム等の無機アルカリ氎溶液、䞀方塗液のPH
が高過ぎる堎合には、塩酞、硫酞、リン酞等の無
機酞氎溶液たたは酢酞、ク゚ン酞等の有機酞氎溶
液で調敎するのが望たしい。 本発明の実斜に甚いられる疎氎性支持䜓ずしお
は各皮のものが䜿甚される。䟋えば、ポリプロピ
レン、ポリスチレンの劂き合成玙、セルロヌスア
セテヌト、セルロヌスナむトレヌト、ポリ゚チレ
ンテレフタレヌト、ポリビニルアセテヌト、ポリ
スチレン、ポリアミド、ポリカヌボネヌトの劂き
フむルム、たた、玙を基質ずしおその䞡面にポリ
オレフむン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等の
フむルム圢成胜ある暹脂、倚くはポリオレフむン
暹脂で被芆した暹脂被芆玙などをあげるこずがで
きる。特に、良奜なテヌプ接着性ず垯電防止性を
必芁ずする印画玙甚、䞭でもロヌル印画玙甚支持
䜓ずしおは、本発明の効果が䞀局際立぀お発揮さ
れるずいう点で、ポリオレフむン暹脂被芆玙が有
利に甚いられる。 たた、これらの熱可塑性暹脂フむルムもしく
は、暹脂被芆玙の暹脂局䞭には、酞化チタン、酞
化亜鉛、タルク、炭酞カルシりム等の癜色顔料、
ステアリン酞アミド、アラキゞン酞アミド等の脂
肪酞アミド、ステアリン酞亜鉛、ステアリン酞マ
グネシりム、パルミチン酞カルシりム等の脂肪酞
金属塩などの分散剀、矀青、コバルトバむオレツ
ト等の顔料および染料、酞化防止剀、螢光増癜
剀、玫倖線吞収剀などの各皮添加剀を適宜組み合
わせお含有せしめるのが奜たしい。 本発明の実斜に有利に甚いられるポリオレフむ
ン暹脂被芆玙は走行する基玙の䞊に溶融ポリオレ
フむン暹脂をスリツトダむからフむルム状に抌出
塗工しお補造される。その際、溶融抌出塗工に先
立ち、基玙面をコロナ凊理、火炎凊理等により掻
性化しおおくこずが望たしい。被芆暹脂局の厚さ
ずしおは、特に制限はないが、䞀般に5Ό〜50Ό皋
床が有利である。ポリオレフむン暹脂被芆玙のハ
ロゲン化銀写真構成局を蚭ける偎は、目的に応じ
お光沢面、マツト面、絹目面などを有し、裏面は
通垞無光沢面である。 本発明の実斜に有利に甚いられるポリオレフむ
ン暹脂被芆玙の被芆甚ポリオレフむン暹脂ずしお
は、䜎密床ポリ゚チレン、高密床ポリ゚チレン、
ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等の
オレフむンのホモポリマヌたたぱチレン−プロ
ピレン共重合䜓等の二皮以䞊のオレフむンからな
る共重合䜓およびその混合物をあげるこずがで
き、各皮の密床および溶融粘床指数メルトむン
デツクス以䞋単にMIず略すのものを単独に
あるいは混合しお䜿甚できる。ポリオレフむン暹
脂被芆玙の基玙ずしおは、通垞の倩然パルプ玙、
合成繊維玙あるいは合成暹脂フむルムを擬玙化し
たいわゆる合成玙のいずれでもよいが、針葉暹パ
ルプ、広葉暹パルプ、針葉暹広葉暹混合パルプの
朚材バルブを䞻成分ずする倩然パルプ玙が有利に
甚いられる。基玙の厚味に関しおは特に制限はな
いが、衚面の平滑性のよい玙が奜たしく、その坪
量は50m2〜250m2が奜たしい。たた、倩
然パルプを䞻成分ずする基玙には、各皮の高分子
化合物、添加剀を含有せしめるこずができる。䟋
えば、でんぷん誘導䜓、ポリアクリルアミド、ポ
リビニルアルコヌル誘導䜓、れラチン等の也燥玙
力増匷剀、脂肪酞塩、ロゞン誘導䜓、ゞアルキル
ケテンダむマヌ乳化物等のサむズ剀、メラミン暹
脂、尿玠暹脂、゚ポキシ化ポリアミド暹脂等の湿
最玙力増匷剀、安定剀、顔料、染料、螢光増癜
剀、ラテツクス、無機電解質、PH調敎剀等適宜組
み合わせお含有せしめるこずができる。 本発明に係るバツクコヌト局䞭には、各皮の高
分子化合物、添加剀を含有せしめるこずができ
る。氎溶性ポリマヌずしお、酞化柱粉、リン酞゚
ステル化柱粉等の柱粉誘導䜓、セルロヌス硫酞゚
ステル塩、などのれラチン増粘剀、ポリアクリル
アミド、ポリ−−ビニルピロリドン、アルギン
酞゜ヌダなど、界面掻性剀ずしお、アルキルベン
れンスルフオン酞塩、スルフオコハク酞゚ステル
塩などのアニオン界面掻性剀、サポニン、アルキ
レンオキサむド化合物等のノニオン界面掻性剀、
アミノ酞類、アミノスルフオン酞類、アミノアル
コヌルの゚ステル類等の䞡性界面掻性剀、特開昭
50−99529号に䟋瀺のフツ玠系界面掻性剀など、
螢光増癜剀ずしお、特公昭45−24068号、特開昭
54−94318号等に蚘茉もしくは䟋瀺の化合物など
を含有せしめるこずができる。たた、各皮のマツ
ト剀を含有せしめるこずができる。 本発明の実斜にあた぀お、ハロゲン化銀写真構
成局を蚭ける反察偎の疎氎性支持䜓面䞊にバツク
コヌト甚塗液を塗垃する装眮ずしおは、゚アナむ
フコヌタヌ、ロヌルコヌタヌ、バヌコヌタヌ、ブ
レヌドコヌタヌ、スラむドホツパヌコヌタヌ、グ
ラビアコヌタヌ、フレキ゜グラビアコヌタヌ及び
それらの組み合わせ等があげられる。塗垃に際し
おは塗垃に先立ち、該疎氎性支持䜓面をコロナ凊
理、火炎凊理等により掻性化しおおくこずが望た
しい。たた、塗垃は基玙にフむルム圢成胜ある暹
脂の被芆盎埌にラミネヌタヌ䞊のオンマシン装眮
によ぀おいわゆるオンマシン塗垃しおもよいし、
別途の塗垃装眮によ぀おいわゆるオフマシン塗垃
しおもよい。塗垃された塗液の也燥装眮ずしおは
盎線トンネル也燥機、アヌチドラむダヌ、゚アル
ヌプドラむダヌ、サむンカヌブ゚アフロヌトドラ
むダヌ等の熱颚也燥機、赀倖線、加熱ドラむダ
ヌ、マむクロ波等を利甚した也燥機等各皮也燥装
眮をあげるこずができる。 本発明に係るハロゲン化銀写真乳剀局ずしお
は、各皮のものが包含される。䟋えば、癜黒写真
乳剀局、カラヌ写真乳剀局、印刷甚写真乳剀局、
盎接ポゞ甚写真乳剀局などであるが、本発明はロ
ヌル印画玙乳剀局の堎合に特に有甚である。た
た、かかる写真乳剀局䞭にはれラチン、れラチン
誘導䜓などのバむンダヌ、ハむポなどの化孊増感
剀、金塩、癜金塩などの貎金塩などの貎金属増感
剀、ヘキサハロゲノむリゞりム錯䜓、ヘキ
サハロゲノロゞりム錯䜓などの硬調化剀、
栞酞分解物、特開昭50−147925号、同昭51−
107129号に蚘茉もしくは䟋瀺のメルカプト耇玠環
化合物などのハロゲン化銀粒子の晶癖調敎剀、特
開昭52−65432号、同昭52−88340号明现曞䞭に匕
甚もしくは䟋瀺しおある色増感剀、安定剀、カブ
リ防止剀、カラヌ写真甚カプラヌ、硬膜剀、ゞヒ
ドロキシベンれン化合物、塗垃助剀、たたカブラ
セ剀、盎接ポゞ写真甚染料などの盎接ポゞ写真乳
剀甚添加剀、色玠珟像薬、その他の添加剀などを
含有せしめるこずができる。 本発明に係るハロゲン化銀写真材料は、その写
真材料に合わせお、「写真感光材料ず取扱法」共
立出版、宮本五朗著、写真技術講座に蚘茉さ
れおいるような露光、珟像、停止、定着、挂癜、
安定などの凊理が行われるが、特に発色珟像埌䞀
济挂癜定着凊理を行う倚局ハロゲン化銀カラヌ写
真材料は、CD−、CD−以䞊皮の化合物
はコダツク瀟の商品名、ドロキシクロムメむ
アンドベヌカヌ瀟商品名などいかなる䞻薬のカ
ラヌ珟像液でも凊理するこずができる。かかる䞻
薬を含む珟像液にベンゞルアルコヌル、タリりム
塩、プニドンなどを含有させおもよい。たた、
有甚な䞀济挂癜定着液はアミノポリカルボン酞の
金属塩たずえば、゚チレンゞアミン四酢酞、プ
ロピレンアミン四酢酞などの第鉄錯塩など溶
液であり、定着剀ずしおは、チオ硫酞゜ヌダ、チ
オ硫酞アンモニりムなどが有甚である。かかる䞀
济挂癜定着液には皮々の添加剀を含有させるこず
ができる。たずえば脱銀促進剀たずえば、米囜
特蚱第3512979号に蚘茉のメルカプトカルボン酞、
ベルギヌ特蚱第682426号に蚘茉のメルカプト耇玠
環化合物など、汚染防止剀、PH調節剀ないしは
PH緩衝剀、硬膜剀たずえば、硫酞マグネシり
ム、硫酞アルミニりム、カリ明ばんなど、界面
掻性剀など皮々の化合物を組み合わせお含有させ
るこずができる。たた、かかる䞀济挂癜定着液は
皮々のPHで䜿甚され埗るが、有甚なPH領域はPH
6.0〜8.0である。 次に本発明をさらに具䜓的に説明するために、
実斜䟋を述べる。 実斜䟋  坪量160m2の玙を毎分80で走行させ、第
ゟヌンで裏面にコロナ攟電凊理埌、溶融抌出機
を甚いお䜎密床ポリ゚チレン密床0.918、M1
50郚、高密床ポリ゚チレン密床0.965、M1
50郚からなる暹脂組成物を暹脂厚30ÎŒmで
溶融抌出塗工し、無光沢面の暹脂局を圢成する。
第ゟヌンで衚玙面にコロナ攟電凊理埌、溶融抌
出機を甚い、䜎密床ポリ゚チレン密床0.918、
MI8.5に30重量パヌセントの酞化チタンを緎
り蟌んだマスタヌバツチ30郚、䜎密床ポリ゚チレ
ン密床0.918、MI5.045郚、高密床ポリ゚チ
レン密床0.965、MI7.025郚からなる暹脂組
成物を暹脂厚30ÎŒmで溶融抌出塗工しお光沢面の
暹脂局を圢成する。第ゟヌンでは、裏暹脂面を
コロナ攟電凊理した埌、第衚蚘茉の塗垃液に回
転する140メツシナのグラビアロヌルを浞し䜙剰
の塗垃液をブレヌドで掻き萜しお塗液を䞀定に
し、裏暹脂面に転写し也燥しお、垯電防止性胜を
有する写真甚支持䜓を補造した。氎性塗液の塗垃
量はm2湿分であ぀た。
【衚】 泚(1) 配合量は重量組成ずしお衚瀺しおある。
なお、塗垃液の調補に際しおクロム明ばん
氎溶液ず芏定苛性゜ヌダ氎溶液ずは予め混合し
た埌添加した。たた、塗垃液のPHは、氎で党量を
合わせる前に、芏定の苛性゜ヌダたたは塩酞の
氎溶液で、8.1±0.2に再調敎した。たた第衚に
蚘茉のバむンダヌ、有機および無機垯電防止剀ず
しおは第衚に蚘茉のものを䜿甚した。
【衚】
【衚】
〔バツクコヌト局の垯電防止性胜の評䟡〕
発色珟像前の詊料および次のような凊理方匏の
ロヌルプロセツサヌによる発色珟像埌の詊料に぀
いお、20℃、35RHにおける詊料の衚面固有抵
抗を枬定した。 発色珟像30℃、分30秒→挂癜定着30
℃、分30秒→氎掗30℃、分→也燥45
℃、分 〔バツクコヌト局の膜匷床の評䟡〕 発色珟像液に20℃で分間浞挬埌、球盎埄mm
のボヌルポむント針をバツクコヌト局の膜面に垂
盎に立お、詊料面をcmsecの速さで平行移動
させた時のバツクコヌト膜に損傷の生じるボヌル
ポむント針の荷重以埌膜匷床ずするを枬定す
る。 〔バツクコヌト局のタむプ印写性の評䟡〕 自動プリンタヌ内に装備されたむンパクトプリ
ンタヌを甚い、玙料のバツクコヌト局面ずタむプ
ずの間にタむプリボンむヌストマンコダツク瀟
補コダツク バツク プリンタヌ甚を介圚させ
お、バツクコヌト局面に数字、文字、線などから
成る情報をタむプ状に印写した。タむプ印写埌
分目、50分目、時間目にタむプ印写が斜された
詊料をロヌルプロセツサヌで凊理しおタむプ印写
の消倱状態を芳察し、刀定する。 〔バツクコヌト局のテヌプ接着性の評䟡〕 リヌダヌフむルムの終り郚分ず82mm幅でロヌル
状裁断された詊料のバツクコヌト面の始め郚分の
間に䞡面粘着テヌプの粘着剀局が存圚するような
型匏で、長さ15cm、幅75mmずずの䞡面粘着テヌプ
〔日東テヌプNo.500日東電気工業(æ ª)補で接着、
接続し、該詊料をロヌル印画玙甚プロセツサヌで
珟像凊理し、粘着テヌプの剥離状態を芳察し、刀
定する。 埗られた結果を第衚に瀺す。
【衚】 第衚に瀺したように合成バむンダヌを含た
ない詊料No.および分子䞭に個以䞊の゚
ポキシ基又ぱチレンむミノ基を有する化合物の
䞀皮である氎溶性゚ポキシ化合物を含たない詊料
No.は膜匷床およびタむプ印写性が䞍充分で
ある。たた、No.の詊料はテヌプ接着性も䞍可で
ある。無機垯電防止剀を含たない詊料No.、
、、は珟像埌の垯電防止性胜が悪く、テ
ヌプ接着性も悪い。倚䟡金属の塩であるクロム
明ばんを添加しなか぀た詊料No.〜は垯電
防止性胜、膜匷床、タむプ印写性は問題ないがテ
ヌプ接着性が䞍充分である。䞀方、本発明に埓う
詊料No.10〜12はいずれの性胜も充分に満足し
おいる。以䞊述べたように本発明に埓う堎合は垯
電防止性胜、膜匷床、タむプ印写性、テヌプ接着
性をバランス良く実珟できるが、本発明の構成芁
玠の䞀぀が欠ける堎合PHに぀いおは実斜䟋で
述べるは䞀぀あるいは二぀以䞊の性胜が䞍充分
ずなる。 実斜䟋  実斜䟋の配合No.10の最終PHを倉化させた塗液
を甚いる以倖は実斜䟋ず党く同様に実斜した。
塗液のPHず埗られた結果を第衚に瀺す。
【衚】 第衚に瀺すように合成バむンダヌ、無機
垯電防止剀、分子䞭に個以䞊の゚ポキシ基又
ぱチレンむミノ基を有する化合物、倚䟡金属
の塩又は錯䜓をバツクコヌト局䞭に含んでいおも
塗液のPHが6.0未満の詊料No.13、14はテヌプ
接着性が悪く、膜匷床もやゝ匱い。䞀方、本発明
に埓い塗液のPHを6.0以䞊ずした詊料No.15〜19
は優れた垯電防止性胜、膜匷床、タむプ印写性及
びテヌプ接着性を兌備しお居り、バランスのずれ
たバツクコヌトであるこずがわかる。たた、テヌ
プ接着性の芳点からバツクコヌト塗液のPHは〜
10の範囲が特に奜たしいこずがわかる。 実斜䟋  実斜䟋の配合No.10のクロム明ばんの量及び察
応する芏定苛性゜ヌダ氎溶液の量倉化を行い、
最終PHを8.1±0.2ずした塗液を甚いる以倖は実斜
䟋ず党く同様に実斜した。 甚いたクロム明ばんの量ず埗られた結果を第
衚に瀺す。
【衚】 第衚に瀺したように倚䟡金属塩の含有量を増
加するに぀れ、テヌプ接着性が向䞊する。 mgm2以䞊含有させるず塗液䞭にフロツクが
圢成される傟向が珟われる。 実斜䟋  実斜䟋のNo.10の配合䞭のNER−010の代わり
に本文蚘茉の゚チレンむミノ化合物のうち、構造
匏(1)、(3)の化合物、゜ルビトヌルポリグリシゞヌ
ル゚ヌテル商品名デメコヌルEX−614長瀬産
業(æ ª)補をそれぞれ甚いる以倖は実斜䟋ず党く
同様にしお同様の結果を埗た。 実斜䟋  実斜䟋の倚䟡金属塩ずしおのクロム明ばんの
代わりに酢酞ゞルコニル、硫酞ゞルコニル又は塩
化マグネシりムをそれぞれ甚いる以倖は実斜䟋
ず党く同様にしお同様の結果を埗た。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  疎氎性支持䜓の䞀方の面に少くずも䞀局のハ
    ロゲン化銀写真感光局を有し、その反察偎の面に
    バツクコヌト局を有するハロゲン化銀写真材料に
    斌いお、該バツクコヌト局が少くずも合成バむ
    ンダヌ、無機垯電防止剀、分子䞭に個以䞊
    の゚ポキシ基又ぱチレンむミノ基を有する化合
    物、倚䟡金属の塩又は錯䜓を含み䞔぀該バツク
    コヌト甚塗液のPHが6.0以䞊であるこずを特城ず
    するハロゲン化銀写真材料。  該倚䟡金属がCr又はZrである特蚱請求の範
    囲第項蚘茉のハロゲン化銀写真材料。  塗液のPHが7.0以䞊である特蚱請求の範囲第
    項又は第項蚘茉のハロゲン化銀写真材料。
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